JPH08157614A - ポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フィルム，ｏｈｐ用フィルム - Google Patents
ポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フィルム，ｏｈｐ用フィルムInfo
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- JPH08157614A JPH08157614A JP6299253A JP29925394A JPH08157614A JP H08157614 A JPH08157614 A JP H08157614A JP 6299253 A JP6299253 A JP 6299253A JP 29925394 A JP29925394 A JP 29925394A JP H08157614 A JPH08157614 A JP H08157614A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた平面性を有し、加熱後にも、反り，筋
張り，波うち等の変形が少ない延伸フィルムを提供する
ことができる。 【構成】 高度のシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体７０〜１００重量％を含むスチレン系樹脂
組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が３５
％以上であり、厚みムラが８％以下であり、１０００cm
2 中の複屈折のバラツキが２０％以下であることを特徴
とするポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、
並びに該ポリスチレン系延伸フィルムからなる写真用フ
ィルム、製版用フィルム、ＯＨＰ用フィルム。
張り，波うち等の変形が少ない延伸フィルムを提供する
ことができる。 【構成】 高度のシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体７０〜１００重量％を含むスチレン系樹脂
組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が３５
％以上であり、厚みムラが８％以下であり、１０００cm
2 中の複屈折のバラツキが２０％以下であることを特徴
とするポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、
並びに該ポリスチレン系延伸フィルムからなる写真用フ
ィルム、製版用フィルム、ＯＨＰ用フィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はポリスチレン系延伸フィ
ルム及びその製造方法、並びに写真フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムに関し、更に詳しくは、各種
のフィルム基材として、例えばコンデンサーフィルム，
粘着テープ用フィルム，電気絶縁フィルム，包装用フィ
ルムなどの基材として有用なポリスチレン系延伸フィル
ム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムに関する。
ルム及びその製造方法、並びに写真フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムに関し、更に詳しくは、各種
のフィルム基材として、例えばコンデンサーフィルム，
粘着テープ用フィルム，電気絶縁フィルム，包装用フィ
ルムなどの基材として有用なポリスチレン系延伸フィル
ム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】シンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体は、機械的
強度，耐熱性，外観，耐溶剤性，電気特性等に優れてい
ることから、種々の用途が期待され、特に各種のフィル
ム，シートあるいは繊維などの押出技術，成形品，用途
等が提案されている。フィルム用途においては、種々の
物質を積層して実用に供される場合が多く、従って、積
層の際の加熱によって変形や歪みが少ないことが必要で
ある。このようなシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体を用いた種々の物性を有する延伸フィル
ム、その延伸フィルムの製造方法、及びその延伸フィル
ムを用いた種々の用途については、特開平１−１８２３
４８号公報，特開平１−１８２３４６号公報，特開平２
−６７３２８号公報，特開平２−１４３８５１号公報，
特開平３−７４４３７号公報，特開平３−８６７０７号
公報，特開平３−１２４７５０号公報，特開平３−１３
１８４３号公報，特開平４−２６１４８５号公報，特開
平５−２００８５８号公報，特開平６−５７０１３号公
報，特開平６−５７０１４号公報，特開平６−５７０１
５号公報，特開平６−５７０１６号公報，特開平６−５
７０１７号公報，特開平６−６４０３６号公報，特開平
６−６４０３７号公報，特開平６−６５３９９号公報，
特開平６−６５４００号公報，特開平６−６５４０１号
公報，特開平６−６５４０２号公報，特開平６−８０７
９３号公報，特開平６−９１７４８号公報，特開平６−
９１７４９号公報，特開平６−９１７５０号公報，特開
平６−９１７５０号公報，特開平６−９９４８５号公
報，特開平６−１００７１１号公報，特開平６−１０６
６１６号公報，特開平６−１０７８１２号公報，特開平
６−１０７８１３号公報，特開平６−１１４９２４号公
報，特開平６−１１４９２５号公報に開示されている。
しかしながら、従来のシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体では、熱収縮率の値は小さいにも係わ
らず、フィルムを加熱した際に、反り，筋張り，波うち
等の変形が生じることがあり、フィルムとしての平面性
は必ずしも充分とはいえず、各種のフィルム基材として
用いる際には問題となっていた。
オタクチック構造を有するスチレン系重合体は、機械的
強度，耐熱性，外観，耐溶剤性，電気特性等に優れてい
ることから、種々の用途が期待され、特に各種のフィル
ム，シートあるいは繊維などの押出技術，成形品，用途
等が提案されている。フィルム用途においては、種々の
物質を積層して実用に供される場合が多く、従って、積
層の際の加熱によって変形や歪みが少ないことが必要で
ある。このようなシンジオタクチック構造を有するスチ
レン系重合体を用いた種々の物性を有する延伸フィル
ム、その延伸フィルムの製造方法、及びその延伸フィル
ムを用いた種々の用途については、特開平１−１８２３
４８号公報，特開平１−１８２３４６号公報，特開平２
−６７３２８号公報，特開平２−１４３８５１号公報，
特開平３−７４４３７号公報，特開平３−８６７０７号
公報，特開平３−１２４７５０号公報，特開平３−１３
１８４３号公報，特開平４−２６１４８５号公報，特開
平５−２００８５８号公報，特開平６−５７０１３号公
報，特開平６−５７０１４号公報，特開平６−５７０１
５号公報，特開平６−５７０１６号公報，特開平６−５
７０１７号公報，特開平６−６４０３６号公報，特開平
６−６４０３７号公報，特開平６−６５３９９号公報，
特開平６−６５４００号公報，特開平６−６５４０１号
公報，特開平６−６５４０２号公報，特開平６−８０７
９３号公報，特開平６−９１７４８号公報，特開平６−
９１７４９号公報，特開平６−９１７５０号公報，特開
平６−９１７５０号公報，特開平６−９９４８５号公
報，特開平６−１００７１１号公報，特開平６−１０６
６１６号公報，特開平６−１０７８１２号公報，特開平
６−１０７８１３号公報，特開平６−１１４９２４号公
報，特開平６−１１４９２５号公報に開示されている。
しかしながら、従来のシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体では、熱収縮率の値は小さいにも係わ
らず、フィルムを加熱した際に、反り，筋張り，波うち
等の変形が生じることがあり、フィルムとしての平面性
は必ずしも充分とはいえず、各種のフィルム基材として
用いる際には問題となっていた。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解消すべく鋭意検討の結果、加熱の際の変形は、フ
ィルム面の熱収縮率ムラによって生じ、熱収縮率が大き
い程顕著であることを見出した。また、本発明者らは、
この熱収縮率ムラが配向ムラ（配向の面内不均一），厚
みムラ（厚みの面内不均一），結晶化度及び結晶化度の
バラツキに関係していることを見出した。本発明は、こ
のような状況に鑑みてなされたものであり、スチレン系
樹脂組成物からなる延伸フィルムにおいて、結晶化度、
厚みムラ及び複屈折のバラツキ、あるいは結晶化度のバ
ラツキ、熱収縮率が一定の範囲にあることにより、優れ
た平面性を有し、フィルムを加熱した際にも、反り，筋
張り，波うち等の変形が極めて少ないとの知見に基いて
完成されたものである。また、本発明は、延伸フィルム
製造において延伸条件を特定することにより、製造され
るフィルムの結晶化度あるいは配向の面内均一性を向上
させることができるとの知見に基いて完成されたもので
ある。すなわち、本発明は、高度のシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体７０〜１００重量％を含
むスチレン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであっ
て、結晶化度３５％以上、好ましくは３７％以上であ
り、厚みムラ８％以下、好ましくは６％以下であり、１
０００ｃｍ2 中の複屈折のバラツキが２０％以下、好ま
しくは１５％以下であることを特徴とするポリスチレン
系延伸フィルムを提供するものである。この本発明のポ
リスチレン系延伸フィルムは、結晶化度のバラツキが５
％以下であることが好ましく、フィルム厚が７０〜２５
０μｍであり、２００℃，５分間の縦方向及び横方向の
熱収縮率の和が５％以下、さらには４％以下であること
が好ましい。そして、上記スチレン重合体は、スチレン
繰返し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチレン
繰返し単位が０〜２０モル％からなるものであることが
特に好ましい。また、本発明は、高度のシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体７０〜１００重量％
を含むスチレン系樹脂組成物を溶融混練後、成形して得
られた予備成形体を縦延伸温度９５〜１３５℃、横延伸
温度１００〜１８０℃、面積延伸倍率８倍以上で延伸し
た後、固定幅で１５０〜２５０℃にて熱処理し、次いで
制限圧縮下で２００〜２６０℃にて熱処理することを特
徴とする上記ポリスチレン系延伸フィルムの製造方法を
提供するものである。さらに、本発明は、上記ポリスチ
レン系延伸フィルムからなる写真用フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムをも提供するものである。以
下に、本発明を更に詳細に説明する。
点を解消すべく鋭意検討の結果、加熱の際の変形は、フ
ィルム面の熱収縮率ムラによって生じ、熱収縮率が大き
い程顕著であることを見出した。また、本発明者らは、
この熱収縮率ムラが配向ムラ（配向の面内不均一），厚
みムラ（厚みの面内不均一），結晶化度及び結晶化度の
バラツキに関係していることを見出した。本発明は、こ
のような状況に鑑みてなされたものであり、スチレン系
樹脂組成物からなる延伸フィルムにおいて、結晶化度、
厚みムラ及び複屈折のバラツキ、あるいは結晶化度のバ
ラツキ、熱収縮率が一定の範囲にあることにより、優れ
た平面性を有し、フィルムを加熱した際にも、反り，筋
張り，波うち等の変形が極めて少ないとの知見に基いて
完成されたものである。また、本発明は、延伸フィルム
製造において延伸条件を特定することにより、製造され
るフィルムの結晶化度あるいは配向の面内均一性を向上
させることができるとの知見に基いて完成されたもので
ある。すなわち、本発明は、高度のシンジオタクチック
構造を有するスチレン系重合体７０〜１００重量％を含
むスチレン系樹脂組成物からなる延伸フィルムであっ
て、結晶化度３５％以上、好ましくは３７％以上であ
り、厚みムラ８％以下、好ましくは６％以下であり、１
０００ｃｍ2 中の複屈折のバラツキが２０％以下、好ま
しくは１５％以下であることを特徴とするポリスチレン
系延伸フィルムを提供するものである。この本発明のポ
リスチレン系延伸フィルムは、結晶化度のバラツキが５
％以下であることが好ましく、フィルム厚が７０〜２５
０μｍであり、２００℃，５分間の縦方向及び横方向の
熱収縮率の和が５％以下、さらには４％以下であること
が好ましい。そして、上記スチレン重合体は、スチレン
繰返し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチレン
繰返し単位が０〜２０モル％からなるものであることが
特に好ましい。また、本発明は、高度のシンジオタクチ
ック構造を有するスチレン系重合体７０〜１００重量％
を含むスチレン系樹脂組成物を溶融混練後、成形して得
られた予備成形体を縦延伸温度９５〜１３５℃、横延伸
温度１００〜１８０℃、面積延伸倍率８倍以上で延伸し
た後、固定幅で１５０〜２５０℃にて熱処理し、次いで
制限圧縮下で２００〜２６０℃にて熱処理することを特
徴とする上記ポリスチレン系延伸フィルムの製造方法を
提供するものである。さらに、本発明は、上記ポリスチ
レン系延伸フィルムからなる写真用フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムをも提供するものである。以
下に、本発明を更に詳細に説明する。
【０００４】先ず、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムの材料について説明する。本発明におけるシンジオタ
クチック構造のスチレン系重合体とは、立体化学構造が
シンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から形成
される主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニ
ル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するもの
であり、そのタクティシティーは同位体炭素による核磁
気共鳴法(13Ｃ−ＮＭＲ法）により定量される。13Ｃ−
ＮＭＲ法により測定されるタクティシティーは、連続す
る複数個の構成単位の存在割合、例えば２個の場合はダ
イアッド，３個の場合はトリアッド，５個の場合はペン
タッドによって示すことができるが、本発明にいう高度
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体と
は、通常はラセミダイアッドで７５％以上、好ましくは
８５％以上、若しくはラセミペンタッドで３０％以上、
好ましくは５０％以上のシンジオタクティシティーを有
するポリスチレン，ポリ( アルキルスチレン),ポリ( ハ
ロゲン化スチレン),ポリ( アルコキシスチレン),ポリ(
ビニル安息香酸エステル），これらの水素化重合体およ
びこれらの混合物、あるいはこれらの構造単位を含む共
重合体を指称する。なお、ここでポリ( アルキルスチレ
ン) としては、ポリ( メチルスチレン),ポリ( エチルス
チレン),ポリ( プロピルスチレン),ポリ( ブチルスチレ
ン),ポリ( フェニルスチレン),ポリ( ビニルナフタレ
ン),ポリ( ビニルスチレン),ポリ( アセナフチレン) な
どがあり、ポリ( ハロゲン化スチレン) としては、ポリ
( クロロスチレン),ポリ( ブロモスチレン),ポリ( フル
オロスチレン) などがある。また、ポリ( アルコキシス
チレン) としては、ポリ( メトキシスチレン),ポリ( エ
トキシスチレン) などがある。これらのうち特に好まし
いスチレン系重合体としては、スチレンとｐ−メチルス
チレンとの共重合体，ポリスチレン，ポリ( ｐ−メチル
スチレン),ポリ( ｍ−メチルスチレン),ポリ( ｐ−ター
シャリーブチルスチレン),ポリ( ｐ−クロロスチレン),
ポリ( ｍ−クロロスチレン),ポリ(ｐ−フルオロスチレ
ン) をあげることができる（特開昭６２−１８７７０８
号公報）。
ムの材料について説明する。本発明におけるシンジオタ
クチック構造のスチレン系重合体とは、立体化学構造が
シンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合から形成
される主鎖に対して側鎖であるフェニル基や置換フェニ
ル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するもの
であり、そのタクティシティーは同位体炭素による核磁
気共鳴法(13Ｃ−ＮＭＲ法）により定量される。13Ｃ−
ＮＭＲ法により測定されるタクティシティーは、連続す
る複数個の構成単位の存在割合、例えば２個の場合はダ
イアッド，３個の場合はトリアッド，５個の場合はペン
タッドによって示すことができるが、本発明にいう高度
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体と
は、通常はラセミダイアッドで７５％以上、好ましくは
８５％以上、若しくはラセミペンタッドで３０％以上、
好ましくは５０％以上のシンジオタクティシティーを有
するポリスチレン，ポリ( アルキルスチレン),ポリ( ハ
ロゲン化スチレン),ポリ( アルコキシスチレン),ポリ(
ビニル安息香酸エステル），これらの水素化重合体およ
びこれらの混合物、あるいはこれらの構造単位を含む共
重合体を指称する。なお、ここでポリ( アルキルスチレ
ン) としては、ポリ( メチルスチレン),ポリ( エチルス
チレン),ポリ( プロピルスチレン),ポリ( ブチルスチレ
ン),ポリ( フェニルスチレン),ポリ( ビニルナフタレ
ン),ポリ( ビニルスチレン),ポリ( アセナフチレン) な
どがあり、ポリ( ハロゲン化スチレン) としては、ポリ
( クロロスチレン),ポリ( ブロモスチレン),ポリ( フル
オロスチレン) などがある。また、ポリ( アルコキシス
チレン) としては、ポリ( メトキシスチレン),ポリ( エ
トキシスチレン) などがある。これらのうち特に好まし
いスチレン系重合体としては、スチレンとｐ−メチルス
チレンとの共重合体，ポリスチレン，ポリ( ｐ−メチル
スチレン),ポリ( ｍ−メチルスチレン),ポリ( ｐ−ター
シャリーブチルスチレン),ポリ( ｐ−クロロスチレン),
ポリ( ｍ−クロロスチレン),ポリ(ｐ−フルオロスチレ
ン) をあげることができる（特開昭６２−１８７７０８
号公報）。
【０００５】更に、スチレン系共重合体におけるコモノ
マーとしては、上述の如きスチレン系重合体のモノマー
のほか、エチレン，プロピレン，ブテン，ヘキセン，オ
クテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン，イソプレ
ン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリ
ル酸メチル，無水マレイン酸，アクリロニトリル等の極
性ビニルモノマー等をあげることができる。特に、スチ
レン繰返し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチ
レン繰返し単位が０〜２０モル％からなるスチレン系重
合体が好ましく用いられる。またこのスチレン系重合体
は、分子量について特に制限はないが、重量平均分子量
が10,000以上3,000,000 以下のものが好ましく、とりわ
け50,000以上 1,500,000以下のものが更に好ましい。こ
こで重量平均分子量が 10,000 未満であると、延伸が充
分にできない場合がある。さらに、分子量分布について
はその広狭は制約がなく、 様々なものを充当することが
可能であるが、重量平均分子量（Ｍw)／数平均分子量
（Ｍn)が 1. ５以上８以下のものが好ましい。なお、こ
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
は、従来のアタクチック構造のスチレン系重合体に比べ
て耐熱性が格段に優れている。上記高度のシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体は、本発明のポリ
スチレン系延伸フィルム中に７０〜１００重量％、好ま
しくは８０〜１００重量％含有される。
マーとしては、上述の如きスチレン系重合体のモノマー
のほか、エチレン，プロピレン，ブテン，ヘキセン，オ
クテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン，イソプレ
ン等のジエンモノマー、環状ジエンモノマーやメタクリ
ル酸メチル，無水マレイン酸，アクリロニトリル等の極
性ビニルモノマー等をあげることができる。特に、スチ
レン繰返し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチ
レン繰返し単位が０〜２０モル％からなるスチレン系重
合体が好ましく用いられる。またこのスチレン系重合体
は、分子量について特に制限はないが、重量平均分子量
が10,000以上3,000,000 以下のものが好ましく、とりわ
け50,000以上 1,500,000以下のものが更に好ましい。こ
こで重量平均分子量が 10,000 未満であると、延伸が充
分にできない場合がある。さらに、分子量分布について
はその広狭は制約がなく、 様々なものを充当することが
可能であるが、重量平均分子量（Ｍw)／数平均分子量
（Ｍn)が 1. ５以上８以下のものが好ましい。なお、こ
のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
は、従来のアタクチック構造のスチレン系重合体に比べ
て耐熱性が格段に優れている。上記高度のシンジオタク
チック構造を有するスチレン系重合体は、本発明のポリ
スチレン系延伸フィルム中に７０〜１００重量％、好ま
しくは８０〜１００重量％含有される。
【０００６】本発明のポリスチレン系延伸フィルムに
は、その目的を阻害しない範囲で滑剤、他の熱可塑性樹
脂、酸化防止剤、無機充填剤、ゴム、相溶化剤、着色
剤、架橋剤、架橋助剤、核剤、可塑剤などを添加するこ
ともできる。滑剤としては、例えば無機微粒子を用いる
ことができる。ここで、無機微粒子とは、ＩＡ族，IIＡ
族，IVＡ族，VIＡ族，VII Ａ族，VIII族，ＩＢ族，IIＢ
族，III Ｂ族，IVＢ族元素の酸化物，水酸化物，硫化
物，窒素化物，ハロゲン化物，炭酸塩，硫酸塩，酢酸
塩，燐酸塩，亜燐酸塩，有機カルボン酸塩，珪酸塩，チ
タン酸塩，硼酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中
心とする複合化合物，天然鉱物粒子を示す。
は、その目的を阻害しない範囲で滑剤、他の熱可塑性樹
脂、酸化防止剤、無機充填剤、ゴム、相溶化剤、着色
剤、架橋剤、架橋助剤、核剤、可塑剤などを添加するこ
ともできる。滑剤としては、例えば無機微粒子を用いる
ことができる。ここで、無機微粒子とは、ＩＡ族，IIＡ
族，IVＡ族，VIＡ族，VII Ａ族，VIII族，ＩＢ族，IIＢ
族，III Ｂ族，IVＢ族元素の酸化物，水酸化物，硫化
物，窒素化物，ハロゲン化物，炭酸塩，硫酸塩，酢酸
塩，燐酸塩，亜燐酸塩，有機カルボン酸塩，珪酸塩，チ
タン酸塩，硼酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中
心とする複合化合物，天然鉱物粒子を示す。
【０００７】具体的には、弗化リチウム，硼砂( 硼酸ナ
トリウム含水塩) 等のＩＡ族元素化合物、炭酸マグネシ
ウム，燐酸マグネシウム，酸化マグネシウム( マグネシ
ア),塩化マグネシウム，酢酸マグネシウム，弗化マグネ
シウム，チタン酸マグネシウム，珪酸マグネシウム，珪
酸マグネシウム含水塩( タルク),炭酸カルシウム，燐酸
カルシウム，亜燐酸カルシウム，硫酸カルシウム( 石
膏),酢酸カルシウム，テレフタル酸カルシウム，水酸化
カルシウム，珪酸カルシウム，弗化カルシウム，チタン
酸カルシウム，チタン酸ストロンチウム，炭酸バリウ
ム，燐酸バリウム，硫酸バリウム，亜燐酸バリウム等の
IIＡ族元素化合物、二酸化チタン（チタニア),一酸化チ
タン，窒化チタン，二酸化ジルコニウム( ジルコニア),
一酸化ジルコニウム等のIVＡ族元素化合物、二酸化モリ
ブデン，三酸化モリブデン，硫化モリブデン等のVIＡ族
元素化合物、塩化マンガン，酢酸マンガン等のVII Ａ族
元素化合物、塩化コバルト，酢酸コバルト等のVIII族元
素化合物、沃化第一銅等のＩＢ族元素化合物、酸化亜
鉛，酢酸亜鉛等のIIＢ族元素化合物、酸化アルミニウム
(アルミナ),水酸化アルミニウム，弗化アルミニウム，
アルミノシリケート( 珪酸アルミナ，カオリン，カオリ
ナイト) 等のIII Ｂ族元素化合物、酸化珪素( シリカ，
シリカゲル),石墨, カーボン，グラファイト，ガラス等
のIVＢ族元素化合物、カーナル石，カイナイト，雲母(
マイカ, キンウンモ),バイロース鉱等の天然鉱物の粒子
が挙げられる。ここで用いる無機微粒子の平均粒径は、
特に制限はないが、好ましくは 0. ０１〜３μｍ、成形
品中の含量は 0. ００１〜５重量％、好ましくは 0. ０
０５〜３重量％である。この無機微粒子は最終的な成形
品に含有されるが、含有される方法に限定はない。例え
ば、重合中の任意の過程で添加あるいは析出させる方
法、溶融押出する任意の過程で添加する方法が挙げられ
る。
トリウム含水塩) 等のＩＡ族元素化合物、炭酸マグネシ
ウム，燐酸マグネシウム，酸化マグネシウム( マグネシ
ア),塩化マグネシウム，酢酸マグネシウム，弗化マグネ
シウム，チタン酸マグネシウム，珪酸マグネシウム，珪
酸マグネシウム含水塩( タルク),炭酸カルシウム，燐酸
カルシウム，亜燐酸カルシウム，硫酸カルシウム( 石
膏),酢酸カルシウム，テレフタル酸カルシウム，水酸化
カルシウム，珪酸カルシウム，弗化カルシウム，チタン
酸カルシウム，チタン酸ストロンチウム，炭酸バリウ
ム，燐酸バリウム，硫酸バリウム，亜燐酸バリウム等の
IIＡ族元素化合物、二酸化チタン（チタニア),一酸化チ
タン，窒化チタン，二酸化ジルコニウム( ジルコニア),
一酸化ジルコニウム等のIVＡ族元素化合物、二酸化モリ
ブデン，三酸化モリブデン，硫化モリブデン等のVIＡ族
元素化合物、塩化マンガン，酢酸マンガン等のVII Ａ族
元素化合物、塩化コバルト，酢酸コバルト等のVIII族元
素化合物、沃化第一銅等のＩＢ族元素化合物、酸化亜
鉛，酢酸亜鉛等のIIＢ族元素化合物、酸化アルミニウム
(アルミナ),水酸化アルミニウム，弗化アルミニウム，
アルミノシリケート( 珪酸アルミナ，カオリン，カオリ
ナイト) 等のIII Ｂ族元素化合物、酸化珪素( シリカ，
シリカゲル),石墨, カーボン，グラファイト，ガラス等
のIVＢ族元素化合物、カーナル石，カイナイト，雲母(
マイカ, キンウンモ),バイロース鉱等の天然鉱物の粒子
が挙げられる。ここで用いる無機微粒子の平均粒径は、
特に制限はないが、好ましくは 0. ０１〜３μｍ、成形
品中の含量は 0. ００１〜５重量％、好ましくは 0. ０
０５〜３重量％である。この無機微粒子は最終的な成形
品に含有されるが、含有される方法に限定はない。例え
ば、重合中の任意の過程で添加あるいは析出させる方
法、溶融押出する任意の過程で添加する方法が挙げられ
る。
【０００８】本発明において上記のスチレン系重合体
に、添加できる他の熱可塑性樹脂としては各種のものが
あるが、例えば、アタクチック構造のスチレン系重合
体，アイソタクチック構造のスチレン系重合体，ポリフ
ェニレンエーテル等が、挙げられる。これらの樹脂は前
述のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体と相溶
しやすく、延伸用予備成形体を作成するときの結晶化の
制御に有効で、その後の延伸性が向上し、延伸条件の制
御が容易で、且つ力学物性に優れたフィルムを得ること
ができる。このうち、アタクチック構造および／または
アイソタクチック構造のスチレン系重合体を含有させる
場合は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と
同様の単量体からなるものが好ましい。また、これら相
溶性樹脂成分の含有割合は１〜７０重量％、特に２〜５
０重量％とすればよい。ここで相溶性樹脂成分の含有割
合が７０重量％を超えると、シンジオタクチック構造の
スチレン系重合体の長所である耐熱性等が損なわれるこ
とがあるため好ましくない。
に、添加できる他の熱可塑性樹脂としては各種のものが
あるが、例えば、アタクチック構造のスチレン系重合
体，アイソタクチック構造のスチレン系重合体，ポリフ
ェニレンエーテル等が、挙げられる。これらの樹脂は前
述のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体と相溶
しやすく、延伸用予備成形体を作成するときの結晶化の
制御に有効で、その後の延伸性が向上し、延伸条件の制
御が容易で、且つ力学物性に優れたフィルムを得ること
ができる。このうち、アタクチック構造および／または
アイソタクチック構造のスチレン系重合体を含有させる
場合は、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と
同様の単量体からなるものが好ましい。また、これら相
溶性樹脂成分の含有割合は１〜７０重量％、特に２〜５
０重量％とすればよい。ここで相溶性樹脂成分の含有割
合が７０重量％を超えると、シンジオタクチック構造の
スチレン系重合体の長所である耐熱性等が損なわれるこ
とがあるため好ましくない。
【０００９】また、本発明で用いられる上記のスチレン
系重合体に添加し得る他の樹脂であって、非相溶性樹脂
としては、例えば、ポリエチレン，ポリプロピレン，ポ
リブテン，ポリペンテン等のポリオレフィン、ポリエチ
レンテレフタレート，ポリブチレンテレフタレート，ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−
６やナイロン６，６等のポリアミド、ポリフェニレンス
ルフィド等のポリチオエーテル、ポリカーボネート，ポ
リアリレート，ポリスルホン，ポリエーテルエーテルケ
トン，ポリエーテルスルホン，ポリイミド，テフロン等
のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上記
相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶性
の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、
本発明に用いられるシンジオタクチック構造のスチレン
系重合体と非相溶であるため、少量含有する場合、シン
ジオタクチック構造のスチレン系重合体中に島のように
分散させることができ、延伸後に程良い光沢を与えた
り、表面のすべり性を改良するのに有効である。これら
非相溶性樹脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合
は２〜５０重量％、表面性の制御を目的とする場合は0.
００１〜５重量％が好ましい。また、製品として使用す
る温度が高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂
を用いることが好ましい。
系重合体に添加し得る他の樹脂であって、非相溶性樹脂
としては、例えば、ポリエチレン，ポリプロピレン，ポ
リブテン，ポリペンテン等のポリオレフィン、ポリエチ
レンテレフタレート，ポリブチレンテレフタレート，ポ
リエチレンナフタレート等のポリエステル、ナイロン−
６やナイロン６，６等のポリアミド、ポリフェニレンス
ルフィド等のポリチオエーテル、ポリカーボネート，ポ
リアリレート，ポリスルホン，ポリエーテルエーテルケ
トン，ポリエーテルスルホン，ポリイミド，テフロン等
のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチル
等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上記
相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶性
の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は、
本発明に用いられるシンジオタクチック構造のスチレン
系重合体と非相溶であるため、少量含有する場合、シン
ジオタクチック構造のスチレン系重合体中に島のように
分散させることができ、延伸後に程良い光沢を与えた
り、表面のすべり性を改良するのに有効である。これら
非相溶性樹脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合
は２〜５０重量％、表面性の制御を目的とする場合は0.
００１〜５重量％が好ましい。また、製品として使用す
る温度が高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂
を用いることが好ましい。
【００１０】酸化防止剤としてはリン系酸化防止剤，フ
ェノール系酸化防止剤又は硫黄系酸化防止剤を用いるこ
とができる。このような酸化防止剤を用いることによ
り、熱安定性のよいポリスチレン系樹脂組成物が得られ
る。ここでリン系酸化防止剤としては種々のものが挙げ
られ、モノホスファイトやジホスファイト等であること
を問わない。モノホスファイトとしてはトリス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト；トリス（モ
ノおよびジ−ノニルフェニル）ホスファイト等が挙げら
れる。またジホスファイトとしては、一般式
ェノール系酸化防止剤又は硫黄系酸化防止剤を用いるこ
とができる。このような酸化防止剤を用いることによ
り、熱安定性のよいポリスチレン系樹脂組成物が得られ
る。ここでリン系酸化防止剤としては種々のものが挙げ
られ、モノホスファイトやジホスファイト等であること
を問わない。モノホスファイトとしてはトリス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト；トリス（モ
ノおよびジ−ノニルフェニル）ホスファイト等が挙げら
れる。またジホスファイトとしては、一般式
【００１１】
【化１】
【００１２】〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は同一でも異なって
いてもよく、それぞれ炭素数１〜２０のアルキル基，炭
素数３〜２０のシクロアルキル基あるいは炭素数６〜２
０のアリール基を示す。〕で表わされるホスファイトが
用いられ、具体例としては、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスファイト；ジオクチルペンタエリスリト
ールジホスファイト；ジフェニルペンタエリスリトール
ジホスファイト；ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト；ビス（２，
６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト；ジシクロヘキシルペンタエ
リスリトールジホスファイト；トリス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ホスファイト；テトラキス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ホスフォナイトなどが挙げられる。これらの中でもビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト；ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト；テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンホスフォナイトが好まし
く用いられる。
いてもよく、それぞれ炭素数１〜２０のアルキル基，炭
素数３〜２０のシクロアルキル基あるいは炭素数６〜２
０のアリール基を示す。〕で表わされるホスファイトが
用いられ、具体例としては、ジステアリルペンタエリス
リトールジホスファイト；ジオクチルペンタエリスリト
ールジホスファイト；ジフェニルペンタエリスリトール
ジホスファイト；ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト；ビス（２，
６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリ
スリトールジホスファイト；ジシクロヘキシルペンタエ
リスリトールジホスファイト；トリス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェニル）ホスファイト；テトラキス（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン
ホスフォナイトなどが挙げられる。これらの中でもビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリト
ールジホスファイト；ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−
４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト；テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４’−ビフェニレンホスフォナイトが好まし
く用いられる。
【００１３】また、フェノール系酸化防止剤としては種
々のものを使用することができるが、具体的には、ジア
ルキルフェノール，トリアルキルフェノール，ジフェニ
ルモノアルコキシフェノール，テトラアルキルフェノー
ル等が用いられる。ジアルキルフェノールとしては、
２，２' −メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチル
フェノール）；１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン；２，２' −メ
チレンビス( ４−メチル−６−シクロヘキシルフェノー
ル）；４，４’−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフェノール）；２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシル
メルカプト−ブタンなどが挙げられる。トリアルキルフ
ェノールとしては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノール；２，２'−メチレンビス（６−ｔ−ブチ
ル−４−エチルフェノール）；２，２' −メチレンビス
〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェ
ノール〕；２，２' −メチレンビス（４−メチル−６−
ノニルフェノール）；１，１，３−トリス−（５−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン；エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス（３−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕；１
−１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−３−（ｎ−ドデシルチオ）−ブタン；１，３，５
−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン；２，２−
ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）マロン酸ジオクタデシルエステル；ｎ−オクタデシ
ル−３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）プロピオネート；テトラキス〔メチレン（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシハイドロシンナメ
ート）〕メタン；３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−（β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ）エチル−２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン；
トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレイト等が挙げられる。また、ジフ
ェニルモノアルコキシフェノールとしては２，６−ジフ
ェニル−４−メトキシフェノール等が挙げられ、テトラ
アルキルフェノールとしてはトリス−（４−ｔ−ブチル
−２，６−ジ−メチル−３−ヒドロキシベンジル）−イ
ソシアヌレイト等が挙げられる。
々のものを使用することができるが、具体的には、ジア
ルキルフェノール，トリアルキルフェノール，ジフェニ
ルモノアルコキシフェノール，テトラアルキルフェノー
ル等が用いられる。ジアルキルフェノールとしては、
２，２' −メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチル
フェノール）；１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン；２，２' −メ
チレンビス( ４−メチル−６−シクロヘキシルフェノー
ル）；４，４’−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフェノール）；２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシル
メルカプト−ブタンなどが挙げられる。トリアルキルフ
ェノールとしては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチ
ルフェノール；２，２'−メチレンビス（６−ｔ−ブチ
ル−４−エチルフェノール）；２，２' −メチレンビス
〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェ
ノール〕；２，２' −メチレンビス（４−メチル−６−
ノニルフェノール）；１，１，３−トリス−（５−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン；エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス（３−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕；１
−１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニ
ル）−３−（ｎ−ドデシルチオ）−ブタン；１，３，５
−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン；２，２−
ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）マロン酸ジオクタデシルエステル；ｎ−オクタデシ
ル−３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）プロピオネート；テトラキス〔メチレン（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシハイドロシンナメ
ート）〕メタン；３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−（β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）プロピオニルオキシ）エチル−２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン；
トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）イソシアヌレイト等が挙げられる。また、ジフ
ェニルモノアルコキシフェノールとしては２，６−ジフ
ェニル−４−メトキシフェノール等が挙げられ、テトラ
アルキルフェノールとしてはトリス−（４−ｔ−ブチル
−２，６−ジ−メチル−３−ヒドロキシベンジル）−イ
ソシアヌレイト等が挙げられる。
【００１４】更に硫黄系酸化防止剤としては、チオエー
テル系のものが好ましく、具体的にはジラウリル−３，
３’−チオジプロピオネート；ジミリスチル−３，３’
−チオジプロピオネート；ジステアリル−３，３’−チ
オジプロピオネート；ペンタエリスリトール−テトラキ
ス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）；ビス〔２
−メチル−４−（３−ｎ−アルキルチオプロピオニルオ
キシ）−５−ｔ−ブチルフェニル〕スルフィド；２−メ
ルカプトベイゾイミダゾール等が挙げられる。これらの
中でも特にペンタエリスリトール−テトラキス−（β−
ラウリル−チオプロピオネート）が好ましい。
テル系のものが好ましく、具体的にはジラウリル−３，
３’−チオジプロピオネート；ジミリスチル−３，３’
−チオジプロピオネート；ジステアリル−３，３’−チ
オジプロピオネート；ペンタエリスリトール−テトラキ
ス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）；ビス〔２
−メチル−４−（３−ｎ−アルキルチオプロピオニルオ
キシ）−５−ｔ−ブチルフェニル〕スルフィド；２−メ
ルカプトベイゾイミダゾール等が挙げられる。これらの
中でも特にペンタエリスリトール−テトラキス−（β−
ラウリル−チオプロピオネート）が好ましい。
【００１５】また、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ム中には、必要に応じて、−ＮＨ−基を有しかつ１0,０
００未満の分子量を有する有機化合物が含有する。この
ような有機化合物としては、−ＮＨ−基に電子吸引基が
隣接しているものが好ましくこのような電子吸引基とし
ては、ベンゼン環，ナフタレン環，アントラセン環，ピ
リジン環，トリアジン環，インデニル環及びこれらの誘
導体等の芳香族環又はカルボニル構造を含むことが好ま
しい。また、上記有機化合物としては熱分解温度が２６
０℃以上のものが特に好ましい。具体的には以下の化合
物、例えば、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６
−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリ
ノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチ
レンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
ヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕
ヒドラジン、３−（Ｎ−サリチロイル）アミノ−１，
２，４−トリアゾール、デカメチレンジカルボン酸ジサ
リチロイルヒドラジド、イソフタル酸（２−フェノキシ
プロピオニルヒドラジド）、２，２−オギザミド−ビス
〔エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕、オギザリル−ビス
（ベンジリデン−ヒドラジド）、Ｎ−ホルミル−Ｎ’−
サリシロイルヒドラジン、２−メルカプトベンツイミダ
ゾール、Ｎ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレン
ジアミン、４，４’−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）ジフェニルアミン、２−メルカプトメチルベンツイ
ミダゾール，スチレン化ジフェニルアミン、オクチル化
ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、ポリ（２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ
キノリン）、６−エトキシ−１，２−ジヒドロ−２，
２，４−トリメチルキノリン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（１，
３−ジメチルブチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−
フェニル−Ｎ’−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）−ｐ−フェニレンジアミン、チオジフェ
ニルアミン、ｐ−アミノジフェニルアミン、Ｎ−サリシ
ロイル−Ｎ’−アルデヒドヒドラジン、Ｎ−サリシロイ
ル−Ｎ’−アセチルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
−オキサミド、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシフェニ
ル）オキサミド、６−エトキシ−２，２，４−トリメチ
ル−１，２−ジヒドロキノリン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−
イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられ
る。上記−ＮＨ−基を有しかつ１0,０００未満の分子量
を有する有機化合物は、本発明のポリスチレン系延伸フ
ィルム中に、必要に応じて、３０重量％未満の量で含有
される。
ム中には、必要に応じて、−ＮＨ−基を有しかつ１0,０
００未満の分子量を有する有機化合物が含有する。この
ような有機化合物としては、−ＮＨ−基に電子吸引基が
隣接しているものが好ましくこのような電子吸引基とし
ては、ベンゼン環，ナフタレン環，アントラセン環，ピ
リジン環，トリアジン環，インデニル環及びこれらの誘
導体等の芳香族環又はカルボニル構造を含むことが好ま
しい。また、上記有機化合物としては熱分解温度が２６
０℃以上のものが特に好ましい。具体的には以下の化合
物、例えば、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６
−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリ
ノ）−１，３，５−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチ
レンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
ヒドロシンナミド）、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕
ヒドラジン、３−（Ｎ−サリチロイル）アミノ−１，
２，４−トリアゾール、デカメチレンジカルボン酸ジサ
リチロイルヒドラジド、イソフタル酸（２−フェノキシ
プロピオニルヒドラジド）、２，２−オギザミド−ビス
〔エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオネート〕、オギザリル−ビス
（ベンジリデン−ヒドラジド）、Ｎ−ホルミル−Ｎ’−
サリシロイルヒドラジン、２−メルカプトベンツイミダ
ゾール、Ｎ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレン
ジアミン、４，４’−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）ジフェニルアミン、２−メルカプトメチルベンツイ
ミダゾール，スチレン化ジフェニルアミン、オクチル化
ジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、ポリ（２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロ
キノリン）、６−エトキシ−１，２−ジヒドロ−２，
２，４−トリメチルキノリン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（１，
３−ジメチルブチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−
フェニル−Ｎ’−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロ
キシプロピル）−ｐ−フェニレンジアミン、チオジフェ
ニルアミン、ｐ−アミノジフェニルアミン、Ｎ−サリシ
ロイル−Ｎ’−アルデヒドヒドラジン、Ｎ−サリシロイ
ル−Ｎ’−アセチルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル
−オキサミド、Ｎ，Ｎ’−ジ（２−ヒドロキシフェニ
ル）オキサミド、６−エトキシ−２，２，４−トリメチ
ル−１，２−ジヒドロキノリン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−
イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン等が挙げられ
る。上記−ＮＨ−基を有しかつ１0,０００未満の分子量
を有する有機化合物は、本発明のポリスチレン系延伸フ
ィルム中に、必要に応じて、３０重量％未満の量で含有
される。
【００１６】次に、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムの物性について説明する。本発明のポリスチレン系延
伸フィルムは、結晶化度（ＸC）３５％以上、好ましく
は３７％以上である。結晶化度が３５％未満では、熱収
縮率が大きくなり、加熱による変形が大きくなるので好
ましくない。また、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムは、厚みムラが８％以下、好ましくは６％以下であ
り、１０００ｃｍ2 中の複屈折（Δｎ）のバラツキが２
０％以下、好ましくは１５％以下である。厚みムラが８
％を超える場合、あるいは１０００ｃｍ2 中の複屈折の
バラツキが２０％を超える場合には、該延伸フィルムの
加熱後に波うちが生じるので好ましくない。本発明のポ
リスチレン系延伸フィルムは、結晶化度（ＸC）のバラ
ツキが５％以下であることが好ましい。結晶化度
（ＸC）のバラツキが５％を超える場合には、該延伸フ
ィルムの加熱後に波うちが生じるので望ましくない。ま
た、本発明のポリスチレン系延伸フィルムは、フィルム
厚が７０〜２５０μｍであり、２００℃，５分間の縦方
向及び横方向の熱収縮率の和が５％以下、さらには４％
以下であることが好ましい。熱処理後の縦方向及び横方
向の熱収縮率の和が５％を超える場合には、該延伸フィ
ルムの熱収縮率が大きくなり、加熱による変形が大きく
なるので望ましくない。なお、延伸フィルムについての
上記物性値は、例えば下記の評価、計算式により測定で
きる。 （１）複屈折（Δｎ）のバラツキ ： １０００ｃｍ2
中の１０ｃｍ間隔の格子点において、ベレックのコンペ
ンセーサー付き偏光顕微鏡等で測定する。 バラツキ（％）＝｛（最大Δｎ−最小Δｎ）／平均Δ
ｎ｝×１００ （２）厚みムラ ： １０００ｃｍ2 中の１０ｃｍ間隔
の格子点において、厚み計にて測定する。 厚みムラ（％）＝｛（最大厚み−最小厚み）／平均厚
み｝×１００ （３）結晶化度（ＸC）： １０００ｃｍ2 中の１０ｃ
ｍ間隔の格子点よりサンプリングし、示差走査熱量計等
にて測定する。 結晶化度(%) ＝｛（融解エンタルピー(J/g) −冷結晶化
エンタルピー(J/g）)／53(J/g) ｝×１００ 結晶化度のバラツキ(%) ＝｛（最大ＸC −最小ＸC ）／
平均ＸC ｝×１００ なお、結晶化度１００％の場合の融解エンタルピーとし
て、シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
では５３Ｊ／ｇを用いて計算した。 （４）熱収縮率 ： 縦、横方向の幅５ｃｍ、長さ３０
ｃｍの試験片を２００℃のオーブン中に一定の時間放置
し、冷却後、長手方向の寸法変化よりそれぞれの熱収縮
率を求める。 このような物性を有する本発明に係るポリスチレン系延
伸フィルムは、優れた平面性を有し、該延伸フィルムを
加熱した際にも、反り，筋張り，波うち等の変形が極め
て少ないという優れた性能を有する。
ムの物性について説明する。本発明のポリスチレン系延
伸フィルムは、結晶化度（ＸC）３５％以上、好ましく
は３７％以上である。結晶化度が３５％未満では、熱収
縮率が大きくなり、加熱による変形が大きくなるので好
ましくない。また、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムは、厚みムラが８％以下、好ましくは６％以下であ
り、１０００ｃｍ2 中の複屈折（Δｎ）のバラツキが２
０％以下、好ましくは１５％以下である。厚みムラが８
％を超える場合、あるいは１０００ｃｍ2 中の複屈折の
バラツキが２０％を超える場合には、該延伸フィルムの
加熱後に波うちが生じるので好ましくない。本発明のポ
リスチレン系延伸フィルムは、結晶化度（ＸC）のバラ
ツキが５％以下であることが好ましい。結晶化度
（ＸC）のバラツキが５％を超える場合には、該延伸フ
ィルムの加熱後に波うちが生じるので望ましくない。ま
た、本発明のポリスチレン系延伸フィルムは、フィルム
厚が７０〜２５０μｍであり、２００℃，５分間の縦方
向及び横方向の熱収縮率の和が５％以下、さらには４％
以下であることが好ましい。熱処理後の縦方向及び横方
向の熱収縮率の和が５％を超える場合には、該延伸フィ
ルムの熱収縮率が大きくなり、加熱による変形が大きく
なるので望ましくない。なお、延伸フィルムについての
上記物性値は、例えば下記の評価、計算式により測定で
きる。 （１）複屈折（Δｎ）のバラツキ ： １０００ｃｍ2
中の１０ｃｍ間隔の格子点において、ベレックのコンペ
ンセーサー付き偏光顕微鏡等で測定する。 バラツキ（％）＝｛（最大Δｎ−最小Δｎ）／平均Δ
ｎ｝×１００ （２）厚みムラ ： １０００ｃｍ2 中の１０ｃｍ間隔
の格子点において、厚み計にて測定する。 厚みムラ（％）＝｛（最大厚み−最小厚み）／平均厚
み｝×１００ （３）結晶化度（ＸC）： １０００ｃｍ2 中の１０ｃ
ｍ間隔の格子点よりサンプリングし、示差走査熱量計等
にて測定する。 結晶化度(%) ＝｛（融解エンタルピー(J/g) −冷結晶化
エンタルピー(J/g）)／53(J/g) ｝×１００ 結晶化度のバラツキ(%) ＝｛（最大ＸC −最小ＸC ）／
平均ＸC ｝×１００ なお、結晶化度１００％の場合の融解エンタルピーとし
て、シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
では５３Ｊ／ｇを用いて計算した。 （４）熱収縮率 ： 縦、横方向の幅５ｃｍ、長さ３０
ｃｍの試験片を２００℃のオーブン中に一定の時間放置
し、冷却後、長手方向の寸法変化よりそれぞれの熱収縮
率を求める。 このような物性を有する本発明に係るポリスチレン系延
伸フィルムは、優れた平面性を有し、該延伸フィルムを
加熱した際にも、反り，筋張り，波うち等の変形が極め
て少ないという優れた性能を有する。
【００１７】次に、本発明のポリスチレン系延伸フィル
ムの製造方法について説明する。上記本発明のポリスチ
レン系延伸フィルムは、従来の熱可塑性樹脂に用いられ
ている種々の方法により製造することができるが、加熱
後にも優れた平面性を有する延伸フィルムを得るには、
以下の方法によることが好ましい。本発明のポリスチレ
ン系延伸フィルムの製造方法では、まず、高度のシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体７０〜１０
０重量％を含むスチレン系樹脂組成物を溶融混練後、成
形して延伸用予備成形体を得る。すなわち、高度のシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を成形素
材として、これを通常は押出成形して、延伸用予備成形
体（フィルム，シート又はチューブ）とする。この成形
にあっては、上記成形素材の加熱溶融したものを押出成
形機にて所定形状に成形する。ここで用いる押出成形機
は、一軸押出成形機，二軸押出成形機のいずれでもよ
く、またベント付き，ベント無しのいずれでもよい。な
お、押出機には適当なメッシュやフィルターを使用すれ
ば、夾雑物や異物を除去することができる。またメッシ
ュやフィルターの形状は、平板状，円筒状等適当に選定
して使用することができる。またここで押出条件は、特
に制限はなく、種々の状況に応じて適宜選定すればよい
が、好ましくは温度を成形素材の融点〜分解温度より５
０℃高い温度の範囲で選定し、剪断応力を５×１０6 dy
ne／cm2 以下とする。用いるダイはＴ−ダイ，円環ダイ
等をあげることができる。本発明においては、延伸用予
備成形体の厚みムラを小さくすることが必要であり、該
厚みムラを好ましくは１０％未満、より好ましくは５％
未満である。延伸用予備成形体の厚みムラを小さくする
には、上記スチレン系重合体の溶融粘度及びその剪断速
度，温度依存性を勘案し、ダイスを調整する方法等が採
用される。また、押出装置内の滞留時間、温度変動を小
さくする方法も望ましい。
ムの製造方法について説明する。上記本発明のポリスチ
レン系延伸フィルムは、従来の熱可塑性樹脂に用いられ
ている種々の方法により製造することができるが、加熱
後にも優れた平面性を有する延伸フィルムを得るには、
以下の方法によることが好ましい。本発明のポリスチレ
ン系延伸フィルムの製造方法では、まず、高度のシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体７０〜１０
０重量％を含むスチレン系樹脂組成物を溶融混練後、成
形して延伸用予備成形体を得る。すなわち、高度のシン
ジオタクチック構造を有するスチレン系重合体を成形素
材として、これを通常は押出成形して、延伸用予備成形
体（フィルム，シート又はチューブ）とする。この成形
にあっては、上記成形素材の加熱溶融したものを押出成
形機にて所定形状に成形する。ここで用いる押出成形機
は、一軸押出成形機，二軸押出成形機のいずれでもよ
く、またベント付き，ベント無しのいずれでもよい。な
お、押出機には適当なメッシュやフィルターを使用すれ
ば、夾雑物や異物を除去することができる。またメッシ
ュやフィルターの形状は、平板状，円筒状等適当に選定
して使用することができる。またここで押出条件は、特
に制限はなく、種々の状況に応じて適宜選定すればよい
が、好ましくは温度を成形素材の融点〜分解温度より５
０℃高い温度の範囲で選定し、剪断応力を５×１０6 dy
ne／cm2 以下とする。用いるダイはＴ−ダイ，円環ダイ
等をあげることができる。本発明においては、延伸用予
備成形体の厚みムラを小さくすることが必要であり、該
厚みムラを好ましくは１０％未満、より好ましくは５％
未満である。延伸用予備成形体の厚みムラを小さくする
には、上記スチレン系重合体の溶融粘度及びその剪断速
度，温度依存性を勘案し、ダイスを調整する方法等が採
用される。また、押出装置内の滞留時間、温度変動を小
さくする方法も望ましい。
【００１８】本発明のポリスチレン系延伸フィルムの製
造方法では、上記押出成形後、得られた延伸用予備成形
体を冷却固化する。この際の冷媒は、気体，液体，金属
ロール等各種のものを使用することができる。金属ロー
ル等を用いる場合、エアナイフ，エアチャンバー，タッ
チロール，静電ピニング等の方法によると、厚みムラや
波うち防止に効果的である。冷却固化の温度は、通常は
０℃〜延伸用予備成形体のガラス転移温度より３０℃高
い温度の範囲、好ましくはガラス転移温度より７０℃低
い温度〜ガラス転移温度の範囲である。また冷却速度は
２００〜３℃／秒の範囲で適宜選択する。
造方法では、上記押出成形後、得られた延伸用予備成形
体を冷却固化する。この際の冷媒は、気体，液体，金属
ロール等各種のものを使用することができる。金属ロー
ル等を用いる場合、エアナイフ，エアチャンバー，タッ
チロール，静電ピニング等の方法によると、厚みムラや
波うち防止に効果的である。冷却固化の温度は、通常は
０℃〜延伸用予備成形体のガラス転移温度より３０℃高
い温度の範囲、好ましくはガラス転移温度より７０℃低
い温度〜ガラス転移温度の範囲である。また冷却速度は
２００〜３℃／秒の範囲で適宜選択する。
【００１９】冷却，固化した予備成形体は二軸延伸され
るが、この際、縦方向及び横方向に同時に延伸してもよ
いが、連続延伸することが好ましい。テーブルストレッ
チャー等のバッチ延伸では、厚み及び配向の不均一性が
大きくなる場合があるので好ましくない。この延伸倍率
は面積比で８倍以上、好ましくは９倍以上である。延伸
倍率が面積比で８倍未満の場合には、延伸の均一性が不
十分となり好ましくない。ここで延伸方法としては、テ
ンターによる方法，ロール間で延伸する方法，気体圧力
を利用してバブリングによる方法，圧延による方法など
種々のものが使用でき、これらを適当に選定あるいは組
み合わせて適用すればよい。延伸温度は、縦延伸温度は
９５〜１３５℃、好ましくは１００〜１３５℃の範囲で
あり、横延伸温度は１００〜１８０℃、好ましくは１０
０〜１５０℃の範囲で行う。延伸温度が縦延伸温度で９
５℃未満の場合、横延伸温度で１００℃未満の場合に
は、それぞれ延伸が困難であり好ましくない。延伸温度
が縦延伸温度で１３５℃を超える場合、横延伸温度で１
８０℃を超える場合には、それぞれ延伸の均一性が不十
分となり好ましくない。また、延伸速度は、通常は１×
１０〜１×１０5 ％／分、好ましくは１×１０ 3 〜１×
１０5 ％／分である。さらに、本発明においては延伸時
に、延伸用予備成形体の温度分布を均一にすることが好
ましい。即ち、延伸時には、加熱ロール等に接触した延
伸用予備成形体は、厚み方向あるいは幅方向等に温度ム
ラを生じやすい。そこで、例えば赤外線加熱装置などの
非接触型加熱装置を用いることによって、延伸時の上記
成形体の温度むらを抑えることが効果的である。
るが、この際、縦方向及び横方向に同時に延伸してもよ
いが、連続延伸することが好ましい。テーブルストレッ
チャー等のバッチ延伸では、厚み及び配向の不均一性が
大きくなる場合があるので好ましくない。この延伸倍率
は面積比で８倍以上、好ましくは９倍以上である。延伸
倍率が面積比で８倍未満の場合には、延伸の均一性が不
十分となり好ましくない。ここで延伸方法としては、テ
ンターによる方法，ロール間で延伸する方法，気体圧力
を利用してバブリングによる方法，圧延による方法など
種々のものが使用でき、これらを適当に選定あるいは組
み合わせて適用すればよい。延伸温度は、縦延伸温度は
９５〜１３５℃、好ましくは１００〜１３５℃の範囲で
あり、横延伸温度は１００〜１８０℃、好ましくは１０
０〜１５０℃の範囲で行う。延伸温度が縦延伸温度で９
５℃未満の場合、横延伸温度で１００℃未満の場合に
は、それぞれ延伸が困難であり好ましくない。延伸温度
が縦延伸温度で１３５℃を超える場合、横延伸温度で１
８０℃を超える場合には、それぞれ延伸の均一性が不十
分となり好ましくない。また、延伸速度は、通常は１×
１０〜１×１０5 ％／分、好ましくは１×１０ 3 〜１×
１０5 ％／分である。さらに、本発明においては延伸時
に、延伸用予備成形体の温度分布を均一にすることが好
ましい。即ち、延伸時には、加熱ロール等に接触した延
伸用予備成形体は、厚み方向あるいは幅方向等に温度ム
ラを生じやすい。そこで、例えば赤外線加熱装置などの
非接触型加熱装置を用いることによって、延伸時の上記
成形体の温度むらを抑えることが効果的である。
【００２０】本発明のポリスチレン系延伸フィルムの製
造方法では、上述の如き条件で延伸して得られた延伸フ
ィルムに、さらに熱固定を行う。熱固定は、通常行われ
ている方法で行うことができるが、この延伸フィルムを
緊張状態，弛緩状態あるいは制限収縮状態の下で行えば
よい。即ち熱固定は、条件を変えて二回以上行うことが
可能であるが、好ましくは熱処理条件として固定幅で１
５０〜２５０℃にて熱処理し、次いで制限圧縮下２００
〜２６０℃にて熱処理する。この熱固定はアルゴンガ
ス，窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行っても良
い。また、本発明においては、延伸熱処理後の端部のト
リミングは、両端よりそれぞれ２０ｃｍ幅以上とするこ
とが好ましい。このような本発明のポリスチレン系延伸
フィルムの製造方法によれば、加熱後の平面性等の性能
に優れたポリスチレン系延伸フィルムを効率的に製造す
ることができる。
造方法では、上述の如き条件で延伸して得られた延伸フ
ィルムに、さらに熱固定を行う。熱固定は、通常行われ
ている方法で行うことができるが、この延伸フィルムを
緊張状態，弛緩状態あるいは制限収縮状態の下で行えば
よい。即ち熱固定は、条件を変えて二回以上行うことが
可能であるが、好ましくは熱処理条件として固定幅で１
５０〜２５０℃にて熱処理し、次いで制限圧縮下２００
〜２６０℃にて熱処理する。この熱固定はアルゴンガ
ス，窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行っても良
い。また、本発明においては、延伸熱処理後の端部のト
リミングは、両端よりそれぞれ２０ｃｍ幅以上とするこ
とが好ましい。このような本発明のポリスチレン系延伸
フィルムの製造方法によれば、加熱後の平面性等の性能
に優れたポリスチレン系延伸フィルムを効率的に製造す
ることができる。
【００２１】本発明の上記ポリスチレン系延伸フィルム
は、各使用時における熱の付加によっても、フィルムの
平面性が害されることが少なく、写真用フィルム，製版
用フィルム，ＯＨＰ用フィルム等の用途に好適である。
は、各使用時における熱の付加によっても、フィルムの
平面性が害されることが少なく、写真用フィルム，製版
用フィルム，ＯＨＰ用フィルム等の用途に好適である。
【００２２】
【実施例】以下に、本発明を実施例によりさらに具体的
に説明する。 参考例１ アルゴン置換した内容積５００ミリリットルのガラス製
容器に、硫酸銅５水塩( Ｃu ＳＯ4 ・５Ｈ2 Ｏ）１７ｇ
（７１ミリモル),トルエン２００ミリリットル及びトリ
メチルアルミニウム２４ミリリットル（２５０ミリモ
ル）を入れ、４０℃で８時間反応させた。その後、固体
部分を除去して接触生成物 6. ７ｇを得た。このものの
凝固点降下法によって測定した分子量は６１０であっ
た。
に説明する。 参考例１ アルゴン置換した内容積５００ミリリットルのガラス製
容器に、硫酸銅５水塩( Ｃu ＳＯ4 ・５Ｈ2 Ｏ）１７ｇ
（７１ミリモル),トルエン２００ミリリットル及びトリ
メチルアルミニウム２４ミリリットル（２５０ミリモ
ル）を入れ、４０℃で８時間反応させた。その後、固体
部分を除去して接触生成物 6. ７ｇを得た。このものの
凝固点降下法によって測定した分子量は６１０であっ
た。
【００２３】製造例１ 〔シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体の
製造〕内容積２リットルの反応容器に、上記参考例１で
得られた接触生成物をアルミニウム原子として7.５ミリ
モル，トリイソブチルアルミニウムを７．５ミリモル，
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ドを 0. ０３８ミリモル及び精製スチレンを０.9５リッ
トル及びｐ−メチルスチレン０.0５リットルとり、９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、水酸化ナト
リウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、生成物を
メタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体４６６ｇ
を得た。得られた重合体の重量平均分子量を１，２，４
−トリクロロベンゼンを溶媒として、１３０℃でゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィーにて測定したところ
３０5,０００であり、重量平均分子量／数平均分子量は
２.6７であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲの測定により、得
られた重合体はｐ−メチルスチレンの含量が７モル％で
あることが確認された。更に融点及び13Ｃ−ＮＭＲの測
定により、得られた重合体はシンジオタクチック構造の
ポリスチレンであることが確認された。
製造〕内容積２リットルの反応容器に、上記参考例１で
得られた接触生成物をアルミニウム原子として7.５ミリ
モル，トリイソブチルアルミニウムを７．５ミリモル，
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ドを 0. ０３８ミリモル及び精製スチレンを０.9５リッ
トル及びｐ−メチルスチレン０.0５リットルとり、９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、水酸化ナト
リウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、生成物を
メタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体４６６ｇ
を得た。得られた重合体の重量平均分子量を１，２，４
−トリクロロベンゼンを溶媒として、１３０℃でゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィーにて測定したところ
３０5,０００であり、重量平均分子量／数平均分子量は
２.6７であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲの測定により、得
られた重合体はｐ−メチルスチレンの含量が７モル％で
あることが確認された。更に融点及び13Ｃ−ＮＭＲの測
定により、得られた重合体はシンジオタクチック構造の
ポリスチレンであることが確認された。
【００２４】製造例２ 〔シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体の
製造〕内容積２リットルの反応容器に、上記参考例１で
得られた接触生成物をアルミニウム原子として7.５ミリ
モル，トリイソブチルアルミニウムを７．５ミリモル，
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ドを 0. ０３８ミリモル及び精製スチレンを０.9７リッ
トル及びｐ−メチルスチレン０.0３リットルとり、９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、水酸化ナト
リウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、生成物を
メタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体４６６ｇ
を得た。得られた重合体の重量平均分子量を１，２，４
−トリクロロベンゼンを溶媒として、１３０℃でゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィーにて測定したところ
３１8,０００であり、重量平均分子量／数平均分子量は
２.5１であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲの測定により、得
られた重合体はｐ−メチルスチレンの含量が４モル％で
あることが確認された。更に融点及び13Ｃ−ＮＭＲの測
定により、得られた重合体はシンジオタクチック構造の
ポリスチレンであることが確認された。
製造〕内容積２リットルの反応容器に、上記参考例１で
得られた接触生成物をアルミニウム原子として7.５ミリ
モル，トリイソブチルアルミニウムを７．５ミリモル，
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ドを 0. ０３８ミリモル及び精製スチレンを０.9７リッ
トル及びｐ−メチルスチレン０.0３リットルとり、９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、水酸化ナト
リウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、生成物を
メタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体４６６ｇ
を得た。得られた重合体の重量平均分子量を１，２，４
−トリクロロベンゼンを溶媒として、１３０℃でゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィーにて測定したところ
３１8,０００であり、重量平均分子量／数平均分子量は
２.5１であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲの測定により、得
られた重合体はｐ−メチルスチレンの含量が４モル％で
あることが確認された。更に融点及び13Ｃ−ＮＭＲの測
定により、得られた重合体はシンジオタクチック構造の
ポリスチレンであることが確認された。
【００２５】製造例３ 〔シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体の
製造〕内容積２リットルの反応容器に、上記参考例１で
得られた接触生成物をアルミニウム原子として7.５ミリ
モル，トリイソブチルアルミニウムを７．５ミリモル，
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ドを 0. ０３８ミリモル及び精製スチレンを０.9０リッ
トル及びｐ−メチルスチレン０.1０リットルとり、９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、水酸化ナト
リウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、生成物を
メタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体４６６ｇ
を得た。得られた重合体の重量平均分子量を１，２，４
−トリクロロベンゼンを溶媒として、１３０℃でゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィーにて測定したところ
３１2,０００であり、重量平均分子量／数平均分子量は
２.7３であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲの測定により、得
られた重合体はｐ−メチルスチレンの含量が１２モル％
であることが確認された。更に融点及び13Ｃ−ＮＭＲの
測定により、得られた重合体はシンジオタクチック構造
のポリスチレンであることが確認された。
製造〕内容積２リットルの反応容器に、上記参考例１で
得られた接触生成物をアルミニウム原子として7.５ミリ
モル，トリイソブチルアルミニウムを７．５ミリモル，
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ドを 0. ０３８ミリモル及び精製スチレンを０.9０リッ
トル及びｐ−メチルスチレン０.1０リットルとり、９０
℃で５時間重合反応を行った。反応終了後、水酸化ナト
リウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、生成物を
メタノールで繰り返し洗浄し、乾燥して重合体４６６ｇ
を得た。得られた重合体の重量平均分子量を１，２，４
−トリクロロベンゼンを溶媒として、１３０℃でゲルパ
ーミエーションクロマトグラフィーにて測定したところ
３１2,０００であり、重量平均分子量／数平均分子量は
２.7３であった。また、 1Ｈ−ＮＭＲの測定により、得
られた重合体はｐ−メチルスチレンの含量が１２モル％
であることが確認された。更に融点及び13Ｃ−ＮＭＲの
測定により、得られた重合体はシンジオタクチック構造
のポリスチレンであることが確認された。
【００２６】実施例１ 製造例１で得られたシンジオタクチック構造のスチレン
系重合体を３００℃で溶融押出し後、ペレットにした。
得られた材料を濾過精度５μｍの溶融フィルターを取り
付けた押出機にて、溶融押出し静電ピニング法にて５０
℃の冷却ロールに密着させ、厚さ１４００μｍの延伸用
予備成形シートを作成した。この延伸用予備成形シート
を連続的に縦方向に１１０℃で３.5倍に延伸した。なお
この時、延伸部を赤外線ヒーターで加熱した。次いで、
横方向に１１５℃で４.0倍に延伸後、固定幅で２３０℃
で熱処理し、さらに６％の制限収縮下で２４０℃にて熱
処理した。得られた幅９０ｃｍのフィルムの両端を１０
０℃で両端３０ｃｍ幅にトリミングして、中心部の厚さ
１００μｍのフィルムを得た。
系重合体を３００℃で溶融押出し後、ペレットにした。
得られた材料を濾過精度５μｍの溶融フィルターを取り
付けた押出機にて、溶融押出し静電ピニング法にて５０
℃の冷却ロールに密着させ、厚さ１４００μｍの延伸用
予備成形シートを作成した。この延伸用予備成形シート
を連続的に縦方向に１１０℃で３.5倍に延伸した。なお
この時、延伸部を赤外線ヒーターで加熱した。次いで、
横方向に１１５℃で４.0倍に延伸後、固定幅で２３０℃
で熱処理し、さらに６％の制限収縮下で２４０℃にて熱
処理した。得られた幅９０ｃｍのフィルムの両端を１０
０℃で両端３０ｃｍ幅にトリミングして、中心部の厚さ
１００μｍのフィルムを得た。
【００２７】得られたフィルムについて下記の評価、測
定を行った。 （１）複屈折（Δｎ）のバラツキ ： １０００ｃｍ2
中の１０ｃｍ間隔の格子点において、ベレックのコンペ
ンセーサー付き偏光顕微鏡で測定した。 バラツキ（％）＝｛（最大Δｎ−最小Δｎ）／平均Δ
ｎ｝×１００ （２）厚みムラ ： １０００ｃｍ2 中の１０ｃｍ間隔
の格子点において、厚み計（マーラー製；ミリトロン）
にて測定した。 厚みムラ（％）＝｛（最大厚み−最小厚み）／平均厚
み｝×１００ （３）結晶化度（ＸC）： １０００ｃｍ2 中の１０ｃ
ｍ間隔の格子点よりサンプリングし、示差走査熱量計に
て測定した。 結晶化度(%) ＝｛（融解エンタルピー(J/g) −冷結晶化
エンタルピー(J/g）)／53(J/g) ｝×１００ 結晶化度のバラツキ(%) ＝｛（最大ＸC −最小ＸC ）／
平均ＸC ｝×１００ （４）熱収縮率 ： 縦、横方向の幅５ｃｍ、長さ３０
ｃｍの試験片５枚を２００℃のオーブン中に５分間放置
し、冷却後、長手方向の寸法変化よりそれぞれの熱収縮
率を求めた。 （５）熱変形 ： ３０ｃｍ×３３ｃｍの試験片を２０
０℃のオーブン中に５分間放置し、冷却後、フィルムの
反りの高さを測定し、筋張り、波うち等の現象を目視で
観察した。 結果を第１表に示す。
定を行った。 （１）複屈折（Δｎ）のバラツキ ： １０００ｃｍ2
中の１０ｃｍ間隔の格子点において、ベレックのコンペ
ンセーサー付き偏光顕微鏡で測定した。 バラツキ（％）＝｛（最大Δｎ−最小Δｎ）／平均Δ
ｎ｝×１００ （２）厚みムラ ： １０００ｃｍ2 中の１０ｃｍ間隔
の格子点において、厚み計（マーラー製；ミリトロン）
にて測定した。 厚みムラ（％）＝｛（最大厚み−最小厚み）／平均厚
み｝×１００ （３）結晶化度（ＸC）： １０００ｃｍ2 中の１０ｃ
ｍ間隔の格子点よりサンプリングし、示差走査熱量計に
て測定した。 結晶化度(%) ＝｛（融解エンタルピー(J/g) −冷結晶化
エンタルピー(J/g）)／53(J/g) ｝×１００ 結晶化度のバラツキ(%) ＝｛（最大ＸC −最小ＸC ）／
平均ＸC ｝×１００ （４）熱収縮率 ： 縦、横方向の幅５ｃｍ、長さ３０
ｃｍの試験片５枚を２００℃のオーブン中に５分間放置
し、冷却後、長手方向の寸法変化よりそれぞれの熱収縮
率を求めた。 （５）熱変形 ： ３０ｃｍ×３３ｃｍの試験片を２０
０℃のオーブン中に５分間放置し、冷却後、フィルムの
反りの高さを測定し、筋張り、波うち等の現象を目視で
観察した。 結果を第１表に示す。
【００２８】実施例２ 製造例２で得られたスチレン系重合体を３００℃で溶融
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて５０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ８００μｍの延伸用予備成形シートを作成し
た。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１１
０℃で３.0倍に延伸した。なお、この時、延伸部を赤外
線ヒーターで加熱した。次いで、横方向に１１５℃で
３.5倍に延伸後、固定幅で２３５℃で熱処理し、さらに
４％の制限収縮下２４５℃で熱処理した。得られた幅９
０ｃｍのフィルム両端を１００℃で両端３０ｃｍ幅にト
リミングして、中心部の厚さ７５μｍのフィルムを採取
した。得られたフィルムについて実施例１と同様にして
評価、測定を行った。その結果を第１表に示す。
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて５０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ８００μｍの延伸用予備成形シートを作成し
た。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１１
０℃で３.0倍に延伸した。なお、この時、延伸部を赤外
線ヒーターで加熱した。次いで、横方向に１１５℃で
３.5倍に延伸後、固定幅で２３５℃で熱処理し、さらに
４％の制限収縮下２４５℃で熱処理した。得られた幅９
０ｃｍのフィルム両端を１００℃で両端３０ｃｍ幅にト
リミングして、中心部の厚さ７５μｍのフィルムを採取
した。得られたフィルムについて実施例１と同様にして
評価、測定を行った。その結果を第１表に示す。
【００２９】実施例３ 製造例３で得られたスチレン系重合体を３００℃で溶融
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて３０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ２３００μｍの延伸用予備成形シートを作成
した。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１
１５℃で３.5倍に延伸した。なお、この時、延伸部を赤
外線ヒーターで加熱した。次いで、横方向に１２５℃で
４.0倍に延伸後、固定幅で２２５℃で熱処理し、さらに
４％の制限収縮下２３５℃で熱処理した。得られた幅９
０ｃｍのフィルム両端を１００℃で両端３０ｃｍ幅にト
リミングして、中心部の厚さ１７５μｍのフィルムを採
取した。得られたフィルムについて実施例１と同様にし
て評価、測定を行った。その結果を第１表に示す。
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて３０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ２３００μｍの延伸用予備成形シートを作成
した。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１
１５℃で３.5倍に延伸した。なお、この時、延伸部を赤
外線ヒーターで加熱した。次いで、横方向に１２５℃で
４.0倍に延伸後、固定幅で２２５℃で熱処理し、さらに
４％の制限収縮下２３５℃で熱処理した。得られた幅９
０ｃｍのフィルム両端を１００℃で両端３０ｃｍ幅にト
リミングして、中心部の厚さ１７５μｍのフィルムを採
取した。得られたフィルムについて実施例１と同様にし
て評価、測定を行った。その結果を第１表に示す。
【００３０】比較例１ 製造例１で得られたスチレン系重合体を３００℃で溶融
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて５０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ７００μｍの延伸用予備成形シートを作成し
た。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１１
０℃で２.5倍に延伸した。なお、この時、延伸部への赤
外線ヒーターによる加熱は行わなかった。次いで、横方
向に１１５℃で２.8倍に延伸後、固定幅で２３０℃で熱
処理した。得られた幅９０ｃｍのフィルム両端を３０℃
で両端３０ｃｍ幅にトリミングして、中心部の厚さ１０
０μｍのフィルムを採取した。得られたフィルムについ
て実施例１と同様にして評価、測定を行った。その結果
を第１表に示す。
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて５０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ７００μｍの延伸用予備成形シートを作成し
た。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１１
０℃で２.5倍に延伸した。なお、この時、延伸部への赤
外線ヒーターによる加熱は行わなかった。次いで、横方
向に１１５℃で２.8倍に延伸後、固定幅で２３０℃で熱
処理した。得られた幅９０ｃｍのフィルム両端を３０℃
で両端３０ｃｍ幅にトリミングして、中心部の厚さ１０
０μｍのフィルムを採取した。得られたフィルムについ
て実施例１と同様にして評価、測定を行った。その結果
を第１表に示す。
【００３１】比較例２ 製造例１で得られたスチレン系重合体を３００℃で溶融
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて５０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ１４００μｍの延伸用予備成形シートを作成
した。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１
１０℃で３.5倍に延伸した。なお、この時、延伸部への
赤外線ヒーターによる加熱は行わなかった。次いで、横
方向に１１５℃で４.0倍に延伸後、固定幅で１４０℃で
熱処理し、さらに６％の制限収縮下１８０℃で熱処理し
た。得られた幅９０ｃｍのフィルム両端を１００℃で両
端３０ｃｍ幅にトリミングして、中心部の厚さ１００μ
ｍのフィルムを採取した。得られたフィルムについて実
施例１と同様にして評価、測定を行った。その結果を第
１表に示す。
押出し後、ペレットとした。得られた材料を濾過精度５
μｍの溶融フィルターを取り付けた押出機によって、溶
融押出し静電ピニング法にて５０℃の冷却ロールに密着
させ、厚さ１４００μｍの延伸用予備成形シートを作成
した。この延伸用予備成形シートを連続的に縦方向に１
１０℃で３.5倍に延伸した。なお、この時、延伸部への
赤外線ヒーターによる加熱は行わなかった。次いで、横
方向に１１５℃で４.0倍に延伸後、固定幅で１４０℃で
熱処理し、さらに６％の制限収縮下１８０℃で熱処理し
た。得られた幅９０ｃｍのフィルム両端を１００℃で両
端３０ｃｍ幅にトリミングして、中心部の厚さ１００μ
ｍのフィルムを採取した。得られたフィルムについて実
施例１と同様にして評価、測定を行った。その結果を第
１表に示す。
【００３２】
【表１】
【００３３】
【発明の効果】以上詳細に述べたように、本発明のポリ
スチレン系延伸フィルムは、優れた平面性を有し、フィ
ルムを加熱した際にも、反り，筋張り，波うち等の変形
が極めて少ないものである。また、本発明のポリスチレ
ン系延伸フィルムの製造方法によれば、優れた性能を有
するポリスチレン系延伸フィルムを効率的に製造するこ
とができる。さらに、本発明の写真フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムは、その使用に際して、フィ
ルムが反り，筋張り，波うち等の変形をすることがな
く、有利に使用することができる。従って、本発明のポ
リスチレン系延伸フィルム，写真用フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムの工業的利用価値は極めて大
きい。
スチレン系延伸フィルムは、優れた平面性を有し、フィ
ルムを加熱した際にも、反り，筋張り，波うち等の変形
が極めて少ないものである。また、本発明のポリスチレ
ン系延伸フィルムの製造方法によれば、優れた性能を有
するポリスチレン系延伸フィルムを効率的に製造するこ
とができる。さらに、本発明の写真フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムは、その使用に際して、フィ
ルムが反り，筋張り，波うち等の変形をすることがな
く、有利に使用することができる。従って、本発明のポ
リスチレン系延伸フィルム，写真用フィルム，製版用フ
ィルム，ＯＨＰ用フィルムの工業的利用価値は極めて大
きい。
Claims (8)
- 【請求項１】 高度のシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体７０〜１００重量％を含むスチレン系
樹脂組成物からなる延伸フィルムであって、結晶化度が
３５％以上であり、厚みムラが８％以下であり、１００
０ｃｍ2 中の複屈折のバラツキが２０％以下であること
を特徴とするポリスチレン系延伸フィルム。 - 【請求項２】 前記スチレン系重合体が、スチレン繰返
し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチレン繰返
し単位が０〜２０モル％からなるものである請求項１記
載のポリスチレン系延伸フィルム。 - 【請求項３】 結晶化度のバラツキが５％以下であるこ
とを特徴とする請求項１記載のポリスチレン系延伸フィ
ルム。 - 【請求項４】 フィルム厚が７０〜２５０μｍであり、
２００℃で５分間の縦方向及び横方向の熱収縮率の和が
５％以下であることを特徴とする請求項１〜３記載のポ
リスチレン系延伸フィルム。 - 【請求項５】 高度のシンジオタクチック構造を有する
スチレン系重合体７０〜１００重量％を含むスチレン系
樹脂組成物を溶融混練後、成形して得られた予備成形体
を縦延伸温度９５〜１３５℃、横延伸温度１００〜１８
０℃、面積延伸倍率８倍以上で延伸した後、固定幅で１
５０〜２５０℃にて熱処理し、次いで制限圧縮下で２０
０〜２６０℃にて熱処理することを特徴とする請求項１
〜４記載のポリスチレン系延伸フィルムの製造方法。 - 【請求項６】 請求項１〜４記載のポリスチレン系延伸
フィルムからなる写真用フィルム。 - 【請求項７】 請求項１〜４記載のポリスチレン系延伸
フィルムからなる製版用フィルム。 - 【請求項８】 請求項１〜４記載のポリスチレン系延伸
フィルムからなるＯＨＰ用フィルム。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6299253A JPH08157614A (ja) | 1994-12-02 | 1994-12-02 | ポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フィルム，ｏｈｐ用フィルム |
| US08/682,567 US5753354A (en) | 1994-12-02 | 1995-11-29 | Polystyrenic stretched film, process for producing said film, photographic film, process film for printing, and film for over-head projectors |
| CN95191467A CN1139941A (zh) | 1994-12-02 | 1995-11-29 | 聚苯乙烯拉伸膜、所述薄膜的生产方法、照相软片、印刷制版膜和高架投影仪用薄膜 |
| EP95938603A EP0748833A4 (en) | 1994-12-02 | 1995-11-29 | STRETCHED POLYSTYRENE FILM, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND PHOTOGRAPHIC OHP FILM PROCESS |
| PCT/JP1995/002429 WO1996017004A1 (fr) | 1994-12-02 | 1995-11-29 | Film de polystyrene etire, procede pour produire ce film, et procede et films ohp photographiques |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6299253A JPH08157614A (ja) | 1994-12-02 | 1994-12-02 | ポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フィルム，ｏｈｐ用フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08157614A true JPH08157614A (ja) | 1996-06-18 |
Family
ID=17870144
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6299253A Pending JPH08157614A (ja) | 1994-12-02 | 1994-12-02 | ポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フィルム，ｏｈｐ用フィルム |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5753354A (ja) |
| EP (1) | EP0748833A4 (ja) |
| JP (1) | JPH08157614A (ja) |
| CN (1) | CN1139941A (ja) |
| WO (1) | WO1996017004A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000044745A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Nippon Polystyrene Kk | スチレン系樹脂組成物からなるインフレーションフィルム |
| JP2003326599A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-19 | Toyobo Co Ltd | 熱収縮性ポリスチレン系樹脂フィルム、これを用いたラベル、及び容器 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6451917B1 (en) | 1998-10-29 | 2002-09-17 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Styrene resin material |
| ATE452741T1 (de) * | 2001-08-17 | 2010-01-15 | Toyo Boseki | Wärmesschrumpfbare harzfilmrolle auf polystyrolbasis und herstellungsverfahren dafür sowie wärmeschrumpfbares etikett |
| KR101153758B1 (ko) * | 2004-01-29 | 2012-06-13 | 데이진 듀폰 필름 가부시키가이샤 | 2 축 배향 필름 |
| DE102009036311B4 (de) | 2009-08-06 | 2021-10-28 | Te Connectivity Corporation | Selbstschmierende Beschichtung, selbstschmierendes Bauteil, Beschichtungselektrolyt und Verfahren zur Herstellung einer selbstschmierenden Beschichtung |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA663166A (en) * | 1963-05-14 | Newman Seymour | Biaxially oriented crystalline polystyrene | |
| US5004649A (en) * | 1988-04-13 | 1991-04-02 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Resin laminates and a process for production thereof |
| US5286762A (en) * | 1988-07-23 | 1994-02-15 | Idemitsu Kosan Company Limited | Styrene-based polymer moldings and process for production thereof |
| US5145950A (en) * | 1988-08-31 | 1992-09-08 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Method of storing food or plant materials by wrapping with a stretched syndiotactic polystyrene film |
| JP2790636B2 (ja) * | 1988-08-31 | 1998-08-27 | 出光興産株式会社 | 食品包装用延伸フイルム |
| US5357014A (en) * | 1991-08-09 | 1994-10-18 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Styrenic resin molding and process for producing same |
| JP2637337B2 (ja) * | 1992-08-24 | 1997-08-06 | 東洋紡績株式会社 | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH0687158A (ja) * | 1992-09-04 | 1994-03-29 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムの製造方法 |
| JPH0691749A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-05 | Toyobo Co Ltd | 写真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH0691748A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-05 | Toyobo Co Ltd | オーバーヘッドプロジェクター用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
-
1994
- 1994-12-02 JP JP6299253A patent/JPH08157614A/ja active Pending
-
1995
- 1995-11-29 CN CN95191467A patent/CN1139941A/zh active Pending
- 1995-11-29 US US08/682,567 patent/US5753354A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-29 WO PCT/JP1995/002429 patent/WO1996017004A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1995-11-29 EP EP95938603A patent/EP0748833A4/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000044745A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Nippon Polystyrene Kk | スチレン系樹脂組成物からなるインフレーションフィルム |
| JP2003326599A (ja) * | 2002-05-15 | 2003-11-19 | Toyobo Co Ltd | 熱収縮性ポリスチレン系樹脂フィルム、これを用いたラベル、及び容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1996017004A1 (fr) | 1996-06-06 |
| US5753354A (en) | 1998-05-19 |
| EP0748833A4 (en) | 1999-01-13 |
| EP0748833A1 (en) | 1996-12-18 |
| CN1139941A (zh) | 1997-01-08 |
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