JPH0691749A - 写真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム - Google Patents
写真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムInfo
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- JPH0691749A JPH0691749A JP24346292A JP24346292A JPH0691749A JP H0691749 A JPH0691749 A JP H0691749A JP 24346292 A JP24346292 A JP 24346292A JP 24346292 A JP24346292 A JP 24346292A JP H0691749 A JPH0691749 A JP H0691749A
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- syndiotactic polystyrene
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- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は写真・製版用シンジオタクチックポ
リスチレン系二軸延伸フィルム、さらに詳しく言えば透
明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性及び耐熱性に優れた
写真・ 製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延
伸フィルムに関するものである。 【構成】 表面ヘーズと内部ヘーズ（10μ当たり）の和
が５％以下であり、少なくとも片面の三次元表面粗さS
Δa が0.004 以上 0.04 以下であり、且つ150 ℃におけ
る熱収縮率が１％以下であることを特徴とする、写真・
製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィ
ルム。
リスチレン系二軸延伸フィルム、さらに詳しく言えば透
明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性及び耐熱性に優れた
写真・ 製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延
伸フィルムに関するものである。 【構成】 表面ヘーズと内部ヘーズ（10μ当たり）の和
が５％以下であり、少なくとも片面の三次元表面粗さS
Δa が0.004 以上 0.04 以下であり、且つ150 ℃におけ
る熱収縮率が１％以下であることを特徴とする、写真・
製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィ
ルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は写真・製版用シンジオタ
クチックポリスチレン系二軸延伸フィルム、さらに詳し
く言えば透明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性及び耐熱
性に優れた写真・製版用シンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムに関するものである。
クチックポリスチレン系二軸延伸フィルム、さらに詳し
く言えば透明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性及び耐熱
性に優れた写真・製版用シンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シンジオタクチックポリスチレン系二軸
延伸フィルムは写真・製版フィルムベースに必要な耐熱
性、透明性、機械特性が良好で、乳剤、水、アルカリ液
等に対して安定である等の要求を満足している。しか
し、シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィル
ムにおいては、単に透明化したのでは、フィルムの製造
時及び加工時の走行性・ 耐摩耗性が不良となる。また、
走行性・耐摩耗性を良好にするために滑剤を添加した場
合、使用する滑剤によっては、走行性が良好になったと
しても、シンジオタクチックポリスチレン系重合体は脆
いため、延伸工程において滑剤とポリマーの間隙に生じ
るボイドによって内部ヘーズが高くなり、全体としての
透明性が低下したり、ボイドが発生した滑剤が削れ耐摩
耗性が低下したりした。更に、耐熱性を良くするために
は熱固定温度を高くする必要があるが、その結果、脆さ
が増し、走行時に擦り傷や削れによる白紛の発生が生じ
やすくなる。すべり性の良好なフィルムとして、無機粒
子を添加し、表面粗さRaが特定の範囲にあり、静摩擦係
数が限定されたものが知られている（特開平3-74437
号）。また、シンジオタクチックポリスチレン系二軸延
伸フィルムを用いた透明性、耐熱性の優れたフィルムが
知られている（特開平1-316246、特開平1-168709、特開
平2-279731) 。
延伸フィルムは写真・製版フィルムベースに必要な耐熱
性、透明性、機械特性が良好で、乳剤、水、アルカリ液
等に対して安定である等の要求を満足している。しか
し、シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィル
ムにおいては、単に透明化したのでは、フィルムの製造
時及び加工時の走行性・ 耐摩耗性が不良となる。また、
走行性・耐摩耗性を良好にするために滑剤を添加した場
合、使用する滑剤によっては、走行性が良好になったと
しても、シンジオタクチックポリスチレン系重合体は脆
いため、延伸工程において滑剤とポリマーの間隙に生じ
るボイドによって内部ヘーズが高くなり、全体としての
透明性が低下したり、ボイドが発生した滑剤が削れ耐摩
耗性が低下したりした。更に、耐熱性を良くするために
は熱固定温度を高くする必要があるが、その結果、脆さ
が増し、走行時に擦り傷や削れによる白紛の発生が生じ
やすくなる。すべり性の良好なフィルムとして、無機粒
子を添加し、表面粗さRaが特定の範囲にあり、静摩擦係
数が限定されたものが知られている（特開平3-74437
号）。また、シンジオタクチックポリスチレン系二軸延
伸フィルムを用いた透明性、耐熱性の優れたフィルムが
知られている（特開平1-316246、特開平1-168709、特開
平2-279731) 。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のす
べり性良好なフィルムではシンジオタクチックポリスチ
レン系二軸延伸フィルムは脆さが大きいため、延伸工程
において、すべり性を良好にするために添加した滑剤の
周りに、ボイドが発生しやすく、透明性が不良となるこ
とがあった。また、このようなボイドの発生により、走
行時に削れが発生しやすくなった。一方、上記従来の透
明性、耐熱性良好なフィルムにおいては、表面が平滑に
なることにより走行時の張力が高くなり、擦り傷が発生
しやすくなり、更に耐熱性を良好にするための熱固定温
度を高くしたことにより、脆さが増し削れの増加が見ら
れた。本発明は、透明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性
及び耐熱性に優れた写真・製版用シンジオタクチックポ
リスチレン系二軸延伸フィルムを提供することを目的と
する。
べり性良好なフィルムではシンジオタクチックポリスチ
レン系二軸延伸フィルムは脆さが大きいため、延伸工程
において、すべり性を良好にするために添加した滑剤の
周りに、ボイドが発生しやすく、透明性が不良となるこ
とがあった。また、このようなボイドの発生により、走
行時に削れが発生しやすくなった。一方、上記従来の透
明性、耐熱性良好なフィルムにおいては、表面が平滑に
なることにより走行時の張力が高くなり、擦り傷が発生
しやすくなり、更に耐熱性を良好にするための熱固定温
度を高くしたことにより、脆さが増し削れの増加が見ら
れた。本発明は、透明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性
及び耐熱性に優れた写真・製版用シンジオタクチックポ
リスチレン系二軸延伸フィルムを提供することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、表面ヘーズと
内部ヘーズ（10μｍ）の和が５％以下であり、少なくと
も片面の三次元表面粗さS Δa が0.004 以上0.04以下で
あり、且つ150 ℃における熱収縮率が１％以下であるこ
とを特長とする、透明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性
及び耐熱性が良好な写真・ 製版用シンジオタクチックポ
リスチレン系二軸延伸フィルムを提供するものである。
本発明に用いられる立体規則性がシンジオタクチック構
造であるポリスチレン系重合体は、側鎖であるフェニル
基又は置換フェニル基が核磁気共鳴法により定量される
タクテイシテイがダイアッド（構成単位が二個）で85％
以上、ペンタッド（構成単位が５個）で50％以上のシン
ジオタクチック構造であることが望ましい。該ポリスチ
レン系重合体としては、ポリスチレン、ポリ（p-、m-又
はo-メチルスチレン）、ポリ（2,4-、2,5-、3,4-又は3,
5-ジメチルスチレン）、ポリ（p-ターシャリーブチルス
チレン）などのポリ（アルキルスチレン）、ポリ（p-、
m-又はo-クロロスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-ブロモ
スチレン）、ポリ（p-、m-又はo-フルオロスチレン）、
ポリ（o-メチル-p- フルオロスチレン）などのポリ（ハ
ロゲン化スチレン）、ポリ（p-、m-又はo-クロロメチル
スチレン）などのポリ（ハロゲン置換アルキルスチレ
ン）、ポリ（p-、m-又はo-メトキシスチレン）、ポリ
（p-、m-又はo-エトキシスチレン）などのポリ（アルコ
キシスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-カルボキシメチル
スチレン）などのポリ（カルボキシアルキルスチレン）
ポリ（p-ビニルベンジルプロピル）などのポリ（アルキ
ルエーテルスチレン）、ポリ（p-トリメチルシリルスチ
レン）などのポリ（アルキルシリルスチレン）、さらに
はポリ（ビニルベンジルジメトキシホスファイド）など
が挙げられる。
内部ヘーズ（10μｍ）の和が５％以下であり、少なくと
も片面の三次元表面粗さS Δa が0.004 以上0.04以下で
あり、且つ150 ℃における熱収縮率が１％以下であるこ
とを特長とする、透明性に優れ、且つ走行性・耐摩耗性
及び耐熱性が良好な写真・ 製版用シンジオタクチックポ
リスチレン系二軸延伸フィルムを提供するものである。
本発明に用いられる立体規則性がシンジオタクチック構
造であるポリスチレン系重合体は、側鎖であるフェニル
基又は置換フェニル基が核磁気共鳴法により定量される
タクテイシテイがダイアッド（構成単位が二個）で85％
以上、ペンタッド（構成単位が５個）で50％以上のシン
ジオタクチック構造であることが望ましい。該ポリスチ
レン系重合体としては、ポリスチレン、ポリ（p-、m-又
はo-メチルスチレン）、ポリ（2,4-、2,5-、3,4-又は3,
5-ジメチルスチレン）、ポリ（p-ターシャリーブチルス
チレン）などのポリ（アルキルスチレン）、ポリ（p-、
m-又はo-クロロスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-ブロモ
スチレン）、ポリ（p-、m-又はo-フルオロスチレン）、
ポリ（o-メチル-p- フルオロスチレン）などのポリ（ハ
ロゲン化スチレン）、ポリ（p-、m-又はo-クロロメチル
スチレン）などのポリ（ハロゲン置換アルキルスチレ
ン）、ポリ（p-、m-又はo-メトキシスチレン）、ポリ
（p-、m-又はo-エトキシスチレン）などのポリ（アルコ
キシスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-カルボキシメチル
スチレン）などのポリ（カルボキシアルキルスチレン）
ポリ（p-ビニルベンジルプロピル）などのポリ（アルキ
ルエーテルスチレン）、ポリ（p-トリメチルシリルスチ
レン）などのポリ（アルキルシリルスチレン）、さらに
はポリ（ビニルベンジルジメトキシホスファイド）など
が挙げられる。
【０００５】本発明においては、前記ポリスチレン系重
合体のなかで、特にポリスチレンが好適である。また、
本発明で用いるシンジオタクチック構造を有するポリス
チレン系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はな
く、シンジオタクティシティが前記範囲内であればアタ
クチック構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系
重合体との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でも
よい。また本発明に用いるポリスチレン系重合体は、重
量平均分子量が10,000以上、更に好ましくは50,000以上
である。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強伸
度特性や耐熱性に優れた二軸延伸フィルムを得ることが
できない。重量平均分子量の上限について特に限定され
るものではないが、1500,000以上では延伸張力の増大に
伴う破断の発生等が生じることもあり、余り好ましくな
い。更に、本発明のシンジオタクチックポリスチレン系
二軸延伸フィルムは、公知の方法、例えば、縦延伸及び
横延伸を順に行なう逐次二軸延伸方法のほか、横・縦・
縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法などの
延伸方法を採用することができる。本発明におけるシン
ジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムは高温
における耐熱性の優れたフィルムを要求されることがあ
り、その場合には、これらの延伸方式の選択のほかに、
延伸の条件が大きく影響し、また特に150 ℃の熱収縮率
が１％以下、更に好ましくは0.5 ％以下というような優
れた耐熱性とするためには、熱固定処理、縦弛緩処理、
横弛緩処理などを施すことが好ましい。そして、前記の
ヘーズ、三次元表面粗さS Δa 、走行性・ 耐摩耗性、お
よび耐熱性は、フィルムの製膜条件及び滑剤粒子によっ
て調整される。滑剤粒子の種類及び添加量はヘーズ、三
次元表面粗さＳΔａ及び走行性・ 耐摩耗性が所定の範囲
内に入るならば特に限定されるものではないが、シリ
カ、二酸化チタン、タルク、カオリナイト等の金属酸化
物、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム
などの金属の塩または有機ポリマーからなる粒子等のシ
ンジオタクチックポリスチレン系ポリマーに対し不活性
な粒子が例示される。そして、これらの滑剤は、いずれ
か一種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用して
もよいが、使用する滑剤の平均粒子系は0.01μｍ以上3.
5 μｍ以下が好ましく、粒子径のばらつき度（標準偏差
と平均粒子径との比率）が２５％以下が好ましく、添加
量はシンジオタクチックポリスチレン系ポリマー100 重
量％に対し0.005 重量％以上2.0 重量％以下含有するこ
とが好ましく、特に1.0 重量％以下が好ましい。また、
滑剤粒子の形状は、面積形状係数が60％以上のものが１
種類以上含まれていることが好ましい。この面積形状係
数は次式によって求められる。 面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子に外接する円
の面積）× 100（％）
合体のなかで、特にポリスチレンが好適である。また、
本発明で用いるシンジオタクチック構造を有するポリス
チレン系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はな
く、シンジオタクティシティが前記範囲内であればアタ
クチック構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系
重合体との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でも
よい。また本発明に用いるポリスチレン系重合体は、重
量平均分子量が10,000以上、更に好ましくは50,000以上
である。重量平均分子量が10,000未満のものでは、強伸
度特性や耐熱性に優れた二軸延伸フィルムを得ることが
できない。重量平均分子量の上限について特に限定され
るものではないが、1500,000以上では延伸張力の増大に
伴う破断の発生等が生じることもあり、余り好ましくな
い。更に、本発明のシンジオタクチックポリスチレン系
二軸延伸フィルムは、公知の方法、例えば、縦延伸及び
横延伸を順に行なう逐次二軸延伸方法のほか、横・縦・
縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸法などの
延伸方法を採用することができる。本発明におけるシン
ジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムは高温
における耐熱性の優れたフィルムを要求されることがあ
り、その場合には、これらの延伸方式の選択のほかに、
延伸の条件が大きく影響し、また特に150 ℃の熱収縮率
が１％以下、更に好ましくは0.5 ％以下というような優
れた耐熱性とするためには、熱固定処理、縦弛緩処理、
横弛緩処理などを施すことが好ましい。そして、前記の
ヘーズ、三次元表面粗さS Δa 、走行性・ 耐摩耗性、お
よび耐熱性は、フィルムの製膜条件及び滑剤粒子によっ
て調整される。滑剤粒子の種類及び添加量はヘーズ、三
次元表面粗さＳΔａ及び走行性・ 耐摩耗性が所定の範囲
内に入るならば特に限定されるものではないが、シリ
カ、二酸化チタン、タルク、カオリナイト等の金属酸化
物、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム
などの金属の塩または有機ポリマーからなる粒子等のシ
ンジオタクチックポリスチレン系ポリマーに対し不活性
な粒子が例示される。そして、これらの滑剤は、いずれ
か一種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用して
もよいが、使用する滑剤の平均粒子系は0.01μｍ以上3.
5 μｍ以下が好ましく、粒子径のばらつき度（標準偏差
と平均粒子径との比率）が２５％以下が好ましく、添加
量はシンジオタクチックポリスチレン系ポリマー100 重
量％に対し0.005 重量％以上2.0 重量％以下含有するこ
とが好ましく、特に1.0 重量％以下が好ましい。また、
滑剤粒子の形状は、面積形状係数が60％以上のものが１
種類以上含まれていることが好ましい。この面積形状係
数は次式によって求められる。 面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子に外接する円
の面積）× 100（％）
【０００６】本発明に用いられるポリスチレン系重合体
には必要に応じて、公知の酸化防止剤、帯電防止剤など
を適量配合したものを用いることができる。配合量は、
ポリスチレン系重合体100 重量％に対して、10重量％以
下が望ましい。10重量％を越えると延伸時に破断が起こ
り易くなり、生産安定性が不良となる。本発明における
シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムの
表面ヘーズと内部ヘーズ（10μｍ当たり）の和は5%以下
であることが必要である。更に好ましくは4%以下であ
る。特に写真製版用途においては表面ヘーズと内部ヘー
ズ（10μｍ当たり）が５％を越えることは好ましくな
い。またここで、表面ヘーズは４％以下であることが好
ましい。更に、本発明のシンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムの少なくとも片面の三次元表面粗
さS Δa は0.004 以上0.04以下の範囲内にある事が必要
である。S Δa が0.004 未満では走行性・ 耐摩耗性が不
良になり0.04を越えると、透明性が減少するため好まし
くない。また、本発明のシンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムの150 ℃における熱収縮率は１％
以下、更に好ましくは0.5 ％以下である。150 ℃の熱収
縮率が１％を越えると、製品の製造時及び使用時に平面
性が悪化するために好ましくない。ここで、熱収縮率を
下げるために高温にフィルムを長時間さらすと耐摩耗性
が不良になるため、縦延伸処理後に緩和処理を行うこと
や、熱固定温度及び時間を一定範囲に保つこと、更に必
要に応じて熱固定処理後に横及び／又は縦弛緩処理する
ことが好ましい。ここで、縦延伸後の縦弛緩処理は延伸
温度以上、冷結晶化温度以下で、縦弛緩処理後のフィル
ムの150 ℃の収縮率が５％以下になるように弛緩処理
し、熱固定処理は220 ℃以上、融点未満の温度で30秒以
内、好ましくは10秒以内で行い、横及び縦方向の弛緩処
理は熱固定処理の最高温度以下で平面性が乱れない程度
に弛緩処理することが好ましい。以上、本発明は写真・
製版用途に要求される透明性、走行性・耐摩耗性、耐熱
性を有する優れたフィルムを提供することができるもの
である。
には必要に応じて、公知の酸化防止剤、帯電防止剤など
を適量配合したものを用いることができる。配合量は、
ポリスチレン系重合体100 重量％に対して、10重量％以
下が望ましい。10重量％を越えると延伸時に破断が起こ
り易くなり、生産安定性が不良となる。本発明における
シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムの
表面ヘーズと内部ヘーズ（10μｍ当たり）の和は5%以下
であることが必要である。更に好ましくは4%以下であ
る。特に写真製版用途においては表面ヘーズと内部ヘー
ズ（10μｍ当たり）が５％を越えることは好ましくな
い。またここで、表面ヘーズは４％以下であることが好
ましい。更に、本発明のシンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムの少なくとも片面の三次元表面粗
さS Δa は0.004 以上0.04以下の範囲内にある事が必要
である。S Δa が0.004 未満では走行性・ 耐摩耗性が不
良になり0.04を越えると、透明性が減少するため好まし
くない。また、本発明のシンジオタクチックポリスチレ
ン系二軸延伸フィルムの150 ℃における熱収縮率は１％
以下、更に好ましくは0.5 ％以下である。150 ℃の熱収
縮率が１％を越えると、製品の製造時及び使用時に平面
性が悪化するために好ましくない。ここで、熱収縮率を
下げるために高温にフィルムを長時間さらすと耐摩耗性
が不良になるため、縦延伸処理後に緩和処理を行うこと
や、熱固定温度及び時間を一定範囲に保つこと、更に必
要に応じて熱固定処理後に横及び／又は縦弛緩処理する
ことが好ましい。ここで、縦延伸後の縦弛緩処理は延伸
温度以上、冷結晶化温度以下で、縦弛緩処理後のフィル
ムの150 ℃の収縮率が５％以下になるように弛緩処理
し、熱固定処理は220 ℃以上、融点未満の温度で30秒以
内、好ましくは10秒以内で行い、横及び縦方向の弛緩処
理は熱固定処理の最高温度以下で平面性が乱れない程度
に弛緩処理することが好ましい。以上、本発明は写真・
製版用途に要求される透明性、走行性・耐摩耗性、耐熱
性を有する優れたフィルムを提供することができるもの
である。
【０００７】実施例 以下に実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、
フィルムの評価方法を以下に示す。 （１）フィルムヘーズ JIS-K6714 に準じ、日本精密光学株式会社製ポイック積
分球式HTR メータSEP-H2D 形により表面ヘーズと内部ヘ
ーズを求めた。 （２）三次元表面粗さS Δa フィルム表面を触針式３次元表面粗さ計（SE-3AK, 株式
会社小坂研究所社製）を用いて、針の半径２μｍ、荷重
30mgの条件化に、フィルムの長手方向にカットオフ値0.
25mmで、測定長1mm にわたって測定し、２μm ピッチで
500 点に分割し、各点の高さを３次元粗さ解析装置（SP
A-11) に取り込ませた。これと同様の操作をフィルムの
幅方向について２μm 間隔で連続的に150 回、即ちフィ
ルムの幅方向0.3mm にわたって行ない、解析装置にデー
タを取り込ませた。次に、解析装置を用いて、S Δa を
求めた。
はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、
フィルムの評価方法を以下に示す。 （１）フィルムヘーズ JIS-K6714 に準じ、日本精密光学株式会社製ポイック積
分球式HTR メータSEP-H2D 形により表面ヘーズと内部ヘ
ーズを求めた。 （２）三次元表面粗さS Δa フィルム表面を触針式３次元表面粗さ計（SE-3AK, 株式
会社小坂研究所社製）を用いて、針の半径２μｍ、荷重
30mgの条件化に、フィルムの長手方向にカットオフ値0.
25mmで、測定長1mm にわたって測定し、２μm ピッチで
500 点に分割し、各点の高さを３次元粗さ解析装置（SP
A-11) に取り込ませた。これと同様の操作をフィルムの
幅方向について２μm 間隔で連続的に150 回、即ちフィ
ルムの幅方向0.3mm にわたって行ない、解析装置にデー
タを取り込ませた。次に、解析装置を用いて、S Δa を
求めた。
【０００８】（３）150 ℃における熱収縮率 150 ℃30分でのフィルムの収縮率を求めた （４）平均粒子径 滑剤粒子を（株）日立製作所製S-５１０型走査型電子顕
微鏡で観察し、写真撮影したものを拡大して複写し、滑
剤の外形をトレースし任意に200 個の粒子を黒く塗りつ
ぶした。この像をニコレ（株）製ルーゼックス500 型画
像解析装置を用いて、それぞれの粒子の水平方向のフェ
レ径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。また、
粒子径のばらつき度は下記の式により算出した。 ばらつき度＝（粒子径の標準偏差／平均粒子径）× 10
0 （％）
微鏡で観察し、写真撮影したものを拡大して複写し、滑
剤の外形をトレースし任意に200 個の粒子を黒く塗りつ
ぶした。この像をニコレ（株）製ルーゼックス500 型画
像解析装置を用いて、それぞれの粒子の水平方向のフェ
レ径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。また、
粒子径のばらつき度は下記の式により算出した。 ばらつき度＝（粒子径の標準偏差／平均粒子径）× 10
0 （％）
【０００９】（５）面積形状係数 平均粒子径の測定に用いたトレース像から任意に２０個
の粒子を選び（４）で用いた画像解析装置を用いて、そ
れぞれの粒子の投影断面積を測定した。また、それらの
粒子に外接する円の面積を算出し、下記の式により算出
した。 面積形状係数=(粒子の投影断面積／粒子に外接する円の
面積）× 100（％） （６）フィルムの走行性・耐摩耗性 フィルムを細幅にスリットし、金属ロールにこすり付け
て走行するとき、一定の供給張力に体してガイドロール
通過後のテープの張力の大小、擦り傷の発生及び白紛の
ロールへの付着量を５段回評価し、次のランク付けで表
す。 走行性評価 １級；張力大、擦り傷多い ２級；張力やや大、擦り傷かなり多い ３級；張力中、擦り傷ややあり ４級；張力やや小、擦り傷ほとんどなし ５級；張力小、擦り傷なし ここで張力と擦り傷の得られた結果のランクが異なる場
合、悪いほうのランクを採用する。耐摩耗性評価 １級；白紛発生非常に多い ２級；白紛発生多い ３級；白紛発生ややあり ４級；白紛発生ほとんどなし ５級；白紛発生なし
の粒子を選び（４）で用いた画像解析装置を用いて、そ
れぞれの粒子の投影断面積を測定した。また、それらの
粒子に外接する円の面積を算出し、下記の式により算出
した。 面積形状係数=(粒子の投影断面積／粒子に外接する円の
面積）× 100（％） （６）フィルムの走行性・耐摩耗性 フィルムを細幅にスリットし、金属ロールにこすり付け
て走行するとき、一定の供給張力に体してガイドロール
通過後のテープの張力の大小、擦り傷の発生及び白紛の
ロールへの付着量を５段回評価し、次のランク付けで表
す。 走行性評価 １級；張力大、擦り傷多い ２級；張力やや大、擦り傷かなり多い ３級；張力中、擦り傷ややあり ４級；張力やや小、擦り傷ほとんどなし ５級；張力小、擦り傷なし ここで張力と擦り傷の得られた結果のランクが異なる場
合、悪いほうのランクを採用する。耐摩耗性評価 １級；白紛発生非常に多い ２級；白紛発生多い ３級；白紛発生ややあり ４級；白紛発生ほとんどなし ５級；白紛発生なし
【００１０】実施例 滑剤として、平均粒子径1.5 μｍ、ばらつき度20％、面
積形状係数80％の炭酸カルシウムをシンジオタクチック
ポリスチレン（重量平均分子量300000）100 重量％に対
して0.5 重量％添加したポリマーチップと、滑剤の添加
されていないポリマーチップを重量比で１対９の割合で
混合した後、乾燥し、295 ℃で溶融し、4000μｍのリッ
プギャップのT ダイから押し出し、40℃の冷却ロールに
静電印荷法により密着・冷却固化し、1320μｍの無定形
シートを得た。該無定形シートをまずロールにより90℃
に予熱し、表面温度850 ℃の赤外線加熱ヒーターを４本
使用し更に加熱し、フィルム温度140 ℃で縦方向に4.0
倍延伸した後、140 ℃のセラッミックロールと40℃の金
属ロールの間で10％縦弛緩処理を行ない、ついでテンタ
ーで、フィルムを120 ℃に予熱し、横方向に延伸温度12
0 ℃で3.3 倍延伸し、260 ℃で10秒熱固定した。その
後、230 ℃で５％横弛緩処理し、更に、160 ℃のロール
と40℃の金属ロールの間で２％縦弛緩処理した。得られ
たフィルムの厚みは100 μｍであった。
積形状係数80％の炭酸カルシウムをシンジオタクチック
ポリスチレン（重量平均分子量300000）100 重量％に対
して0.5 重量％添加したポリマーチップと、滑剤の添加
されていないポリマーチップを重量比で１対９の割合で
混合した後、乾燥し、295 ℃で溶融し、4000μｍのリッ
プギャップのT ダイから押し出し、40℃の冷却ロールに
静電印荷法により密着・冷却固化し、1320μｍの無定形
シートを得た。該無定形シートをまずロールにより90℃
に予熱し、表面温度850 ℃の赤外線加熱ヒーターを４本
使用し更に加熱し、フィルム温度140 ℃で縦方向に4.0
倍延伸した後、140 ℃のセラッミックロールと40℃の金
属ロールの間で10％縦弛緩処理を行ない、ついでテンタ
ーで、フィルムを120 ℃に予熱し、横方向に延伸温度12
0 ℃で3.3 倍延伸し、260 ℃で10秒熱固定した。その
後、230 ℃で５％横弛緩処理し、更に、160 ℃のロール
と40℃の金属ロールの間で２％縦弛緩処理した。得られ
たフィルムの厚みは100 μｍであった。
【００１１】比較例 押し出し速度を変え無定形シートの厚みを1000μｍと
し、縦方向の延伸において、ロールによりフィルム温度
を108 ℃に加熱し、3.0 倍延伸し、熱固定を270℃で30
秒おかない、熱固定処理後の弛緩処理を行わなかった以
外はは実施例と同様の操作を行なった。得られたフィル
ムの厚みは100 μｍであった。
し、縦方向の延伸において、ロールによりフィルム温度
を108 ℃に加熱し、3.0 倍延伸し、熱固定を270℃で30
秒おかない、熱固定処理後の弛緩処理を行わなかった以
外はは実施例と同様の操作を行なった。得られたフィル
ムの厚みは100 μｍであった。
【００１２】
【発明の効果】以上、記載のとおり、本発明は前記特許
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、透明性、走行性・耐摩耗性、耐熱性に極めて優れ
た、写真・製版用フィルムとして有用なシンジオタクチ
ックポリスチレン系二軸延伸フィルムであると言うこと
ができる。
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、透明性、走行性・耐摩耗性、耐熱性に極めて優れ
た、写真・製版用フィルムとして有用なシンジオタクチ
ックポリスチレン系二軸延伸フィルムであると言うこと
ができる。
【００１３】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｌ 7:00 4Ｆ (72)発明者 奥平 正 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 表面ヘーズと内部ヘーズ（10μ当たり）
の和が５％以下であり、少なくとも片面の三次元表面粗
さS Δa が0.004 以上 0.04 以下であり、且つ150 ℃に
おける熱収縮率が１％以下であることを特徴とする、写
真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸
フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24346292A JPH0691749A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 写真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24346292A JPH0691749A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 写真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0691749A true JPH0691749A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17104251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24346292A Pending JPH0691749A (ja) | 1992-09-11 | 1992-09-11 | 写真・製版用シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0691749A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996017004A1 (fr) * | 1994-12-02 | 1996-06-06 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Film de polystyrene etire, procede pour produire ce film, et procede et films ohp photographiques |
| JPH08323877A (ja) * | 1995-05-29 | 1996-12-10 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JP2011088387A (ja) * | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Idemitsu Kosan Co Ltd | フレキシブルプリント基盤製造用積層体 |
-
1992
- 1992-09-11 JP JP24346292A patent/JPH0691749A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996017004A1 (fr) * | 1994-12-02 | 1996-06-06 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Film de polystyrene etire, procede pour produire ce film, et procede et films ohp photographiques |
| JPH08323877A (ja) * | 1995-05-29 | 1996-12-10 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JP2011088387A (ja) * | 2009-10-23 | 2011-05-06 | Idemitsu Kosan Co Ltd | フレキシブルプリント基盤製造用積層体 |
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