JP2637337B2 - シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム - Google Patents
シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルムInfo
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- H05K1/02—Details
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- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
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- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/24—Acids; Salts thereof
- C08K3/26—Carbonates; Bicarbonates
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- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2325/00—Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Derivatives of such polymers
- C08J2325/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08J2325/04—Homopolymers or copolymers of styrene
- C08J2325/06—Polystyrene
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシンジオタクチックポリ
スチレン系二軸延伸フィルム、さらに詳しく言えばフィ
ルム表面が平滑で、且つフィルム厚みに関係なくハンド
リング特性が良好なシンジオタクチックポリスチレン系
二軸延伸フィルムに関するものである。
スチレン系二軸延伸フィルム、さらに詳しく言えばフィ
ルム表面が平滑で、且つフィルム厚みに関係なくハンド
リング特性が良好なシンジオタクチックポリスチレン系
二軸延伸フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】シンジオタクチックポリスチレン系二軸
延伸フィルムは耐熱性、電気特性、透明性などに優れ、
磁気テープ用、写真・製版用、コンデンサー用、包装用
等、各種のフィルム用途に展開が期待されてる。これら
のフィルム用として用いられる場合、フィルム表面の平
滑化や薄手化の要求がある。しかし、シンジオタクチッ
クポリスチレン系二軸延伸フィルムにおいては、単に表
面を平滑にし、更に薄手化したのでは、フィルムの製造
時及び加工時のハンドリング特性が不良となる。すべり
性の良好なフィルムとして、無機粒子を添加し、表面粗
さRaが特定の範囲にあり、静摩擦係数が限定されたもの
が知られている（特開平3-74437 号）。
延伸フィルムは耐熱性、電気特性、透明性などに優れ、
磁気テープ用、写真・製版用、コンデンサー用、包装用
等、各種のフィルム用途に展開が期待されてる。これら
のフィルム用として用いられる場合、フィルム表面の平
滑化や薄手化の要求がある。しかし、シンジオタクチッ
クポリスチレン系二軸延伸フィルムにおいては、単に表
面を平滑にし、更に薄手化したのでは、フィルムの製造
時及び加工時のハンドリング特性が不良となる。すべり
性の良好なフィルムとして、無機粒子を添加し、表面粗
さRaが特定の範囲にあり、静摩擦係数が限定されたもの
が知られている（特開平3-74437 号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のす
べり性良好なフィルムでは、低速作業時には良好なハン
ドリング特性が得られるが、作業が高速になるとハンド
リング特性が急激に悪化するという問題があった。ま
た、シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィル
ムにおいては、特にフィルムの厚みが薄くなるとハンド
リング特性が悪化する傾向が大きく、上記の無機粒子を
添加し、表面粗さRaと静摩擦係数の範囲を規定したフィ
ルムにおいても同様の傾向を備えており、そのために良
好なハンドリング特性が得られたとしても、厚みが変わ
ると所望のハンドリング特性が得られなくなっていた。
べり性良好なフィルムでは、低速作業時には良好なハン
ドリング特性が得られるが、作業が高速になるとハンド
リング特性が急激に悪化するという問題があった。ま
た、シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィル
ムにおいては、特にフィルムの厚みが薄くなるとハンド
リング特性が悪化する傾向が大きく、上記の無機粒子を
添加し、表面粗さRaと静摩擦係数の範囲を規定したフィ
ルムにおいても同様の傾向を備えており、そのために良
好なハンドリング特性が得られたとしても、厚みが変わ
ると所望のハンドリング特性が得られなくなっていた。
【０００４】本発明は、フィルム表面の平滑性に優れ、
且つフィルムの厚みに関係なくハンドリング特性に優れ
たシンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム
を提供することを目的とする。
且つフィルムの厚みに関係なくハンドリング特性に優れ
たシンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム
を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも片
面の三次元表面粗さS Δa が0.004 以上 0.04 以下であ
り且つ空気抜け速さが900 秒以下であることを特徴とす
る、フィルム表面の平滑性に優れ、フィルムの厚みに関
係なくハンドリング特性が良好な粒子系のばらつき度が
２５％以下で面積形状係数が６０％以上の不活性な粒子
を含有したシンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸
フィルムを提供するものである。本発明に用いられる立
体規則性がシンジオタクチック構造であるポリスチレン
共重合体は、側鎖であるフェニル基又は置換フェニル基
が核磁共鳴法により定量されるテクテイシテイがダイア
ッド（構成単位が二個）で８５％以上、ペンタッド（構
成単位が５個）で50％以上のシンジオタクチック構造で
あることが望ましい。
面の三次元表面粗さS Δa が0.004 以上 0.04 以下であ
り且つ空気抜け速さが900 秒以下であることを特徴とす
る、フィルム表面の平滑性に優れ、フィルムの厚みに関
係なくハンドリング特性が良好な粒子系のばらつき度が
２５％以下で面積形状係数が６０％以上の不活性な粒子
を含有したシンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸
フィルムを提供するものである。本発明に用いられる立
体規則性がシンジオタクチック構造であるポリスチレン
共重合体は、側鎖であるフェニル基又は置換フェニル基
が核磁共鳴法により定量されるテクテイシテイがダイア
ッド（構成単位が二個）で８５％以上、ペンタッド（構
成単位が５個）で50％以上のシンジオタクチック構造で
あることが望ましい。
【０００６】該ポリスチレン系重合体としては、ポリス
チレン、ポリ（p-、m-又はo-メチルスチレン）、ポリ
（2,4-、2,5-、3,4-又は3,5-ジメチルスチレン）、ポリ
（p-ターシャリーブチルスチレン）などのポリ（アルキ
ルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-クロロスチレン）、
ポリ（p-、m-又はo-ブロモスチレン）、ポリ（p-、m-又
はo-フルオロスチレン）、ポリ（o-メチル-p- フルオロ
スチレン）などのポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ
（p-、m-又はo-クロロメチルスチレン）などのポリ（ハ
ロゲン置換アルキルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-メ
トキシスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-エトキシスチレ
ン）などのポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（p-、m-
又はo-カルボキシメチルスチレン）などのポリ（カルボ
キシアルキルスチレン）ポリ（p-ビニルベンジルプロピ
ル）などのポリ（アルキルエーテルスチレン）、ポリ
（p-トリメチルシリルスチレン）などのポリ（アルキル
シリルスチレン）、さらにはポリ（ビニルベンジルジメ
トキシホスファイド）などが挙げられる。
チレン、ポリ（p-、m-又はo-メチルスチレン）、ポリ
（2,4-、2,5-、3,4-又は3,5-ジメチルスチレン）、ポリ
（p-ターシャリーブチルスチレン）などのポリ（アルキ
ルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-クロロスチレン）、
ポリ（p-、m-又はo-ブロモスチレン）、ポリ（p-、m-又
はo-フルオロスチレン）、ポリ（o-メチル-p- フルオロ
スチレン）などのポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ
（p-、m-又はo-クロロメチルスチレン）などのポリ（ハ
ロゲン置換アルキルスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-メ
トキシスチレン）、ポリ（p-、m-又はo-エトキシスチレ
ン）などのポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（p-、m-
又はo-カルボキシメチルスチレン）などのポリ（カルボ
キシアルキルスチレン）ポリ（p-ビニルベンジルプロピ
ル）などのポリ（アルキルエーテルスチレン）、ポリ
（p-トリメチルシリルスチレン）などのポリ（アルキル
シリルスチレン）、さらにはポリ（ビニルベンジルジメ
トキシホスファイド）などが挙げられる。
【０００７】本発明においては、前記ポリスチレン系重
合体のなかで、特にポリスチレンが好適である。また、
本発明で用いるシンジオタクチック構造を有するポリス
チレン系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はな
く、シンジオタクティシティが前記範囲内であればアタ
クチック構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系
重合体との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でも
よい。
合体のなかで、特にポリスチレンが好適である。また、
本発明で用いるシンジオタクチック構造を有するポリス
チレン系重合体は、必ずしも単一化合物である必要はな
く、シンジオタクティシティが前記範囲内であればアタ
クチック構造やアイソタクチック構造のポリスチレン系
重合体との混合物や、共重合体及びそれらの混合物でも
よい。
【０００８】また本発明に用いるポリスチレン系重合体
は、重量平均分子量が10,000以上、更に好ましくは50,0
00以上である。重量平均分子量が10,000未満のもので
は、強伸度特性や耐熱性に優れた二軸延伸フィルムを得
ることができない。重量平均分子量の上限について特に
限定されるものではないが、1500,000以上では延伸張力
の増大に伴う破断の発生等が生じることもあり、余り好
ましくない。
は、重量平均分子量が10,000以上、更に好ましくは50,0
00以上である。重量平均分子量が10,000未満のもので
は、強伸度特性や耐熱性に優れた二軸延伸フィルムを得
ることができない。重量平均分子量の上限について特に
限定されるものではないが、1500,000以上では延伸張力
の増大に伴う破断の発生等が生じることもあり、余り好
ましくない。
【０００９】更に、本発明のシンジオタクチックポリス
チレン系二軸延伸フィルムは、公知の方法、例えば、縦
延伸及び横延伸を順に行なう逐次二軸延伸方法のほか、
横・縦・縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸
法などの延伸方法を採用することができ、要求される強
度や寸法安定性などの諸特性に応じて選択される。な
お、必要に応じて、熱固定処理、縦弛緩処理、横弛緩処
理などを施してもよい。そして、前記の三次元表面粗さ
S Δa 、空気抜け速さは、フィルムの製膜条件及び滑剤
粒子によって調整される。滑剤粒子の種類及び添加量は
三次元表面粗さＳΔａ及び空気抜け速さが所定の範囲内
に入るならば特に限定されるものではないが、シリカ、
二酸化チタン、タルク、カオリナイト等の金属酸化物、
炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウムなど
の金属の塩または有機ポリマーからなる粒子等のシンジ
オタクチックポリスチレン系ポリマーに対し不活性な粒
子が例示される。そして、これらの滑剤は、いずれか一
種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用してもよ
いが、使用する滑剤の平均粒子系は0.01μｍ以上2.0μ
ｍ以下、特に0.05μｍ以上1.5 μｍ以下が好ましく、粒
子径のばらつき度（標準偏差と平均粒子径との比率）が
２５％以下が好ましく、添加量はシンジオタクチックポ
リスチレン系ポリマー100 重量％に対し0.005 重量％以
上2.0 重量％以下含有することが好ましく、特に0.1 重
量％以上1.0 重量％以下が好ましい。また、滑剤粒子の
形状は、面積形状係数が60％以上のものが１種類以上含
まれていることが好ましい。この面積形状係数は次式に
よって求められる。 面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子に外接する円
の面積）× 100（％） 本発明に用いられるポリスチレン系重合体には必要に応
じて、公知の酸化防止剤、帯電防止剤などを適量配合し
たものを用いることができる。配合量は、ポリスチレン
系重合体100 重量％に対して、10重量％以下が望まし
い。10重量％を越えると延伸時に破断が起こり易くな
り、生産安定性が不良となる。本発明のシンジオタクチ
ックポリスチレン系二軸延伸フィルムの少なくとも片面
の三次元表面粗さSΔaは0.004 以上0.04以下の範囲内に
ある事が必要である。S Δa が0.004未満ではハンドリ
ング特性が不良になり0.04を越えると、例えば磁気テー
プ用途では電磁変換特性が不良になり、写真、製版用途
では透明性が減少するため好ましくなく、フィルムコン
デンサー用途では耐電圧特性の低下の問題を生じる。ま
た、本発明のシンジオタクチックポリスチレン系二軸延
伸フィルムの空気抜け速さは900 秒以下である必要があ
る。更に好ましくは700 秒以下である。即ち、空気抜け
速さを900 秒以下、更に好ましくは700 秒以下にするこ
とにより、高速作業時においても、フィルムの厚みや強
度とは無関係にハンドリング特性が良好なシンジオタク
チックポリスチレン系二軸延伸フィルムが得られる。反
対に、空気抜け速さが900 秒を越えた場合、高速作業時
のハンドリング特性が不良となり、例えばフィルムを高
速でロール状に巻き取る場合にフィルムと巻き取りロー
ルの間に空気が取り込まれしわが生じやすく、巻姿が不
良になったり、フィルムが巻き込む空気層の潤滑効果に
よってフィルムが幅方向に蛇行してロールの端面の不揃
いが生じたりする。
チレン系二軸延伸フィルムは、公知の方法、例えば、縦
延伸及び横延伸を順に行なう逐次二軸延伸方法のほか、
横・縦・縦延伸法、縦・横・縦延伸法、縦・縦・横延伸
法などの延伸方法を採用することができ、要求される強
度や寸法安定性などの諸特性に応じて選択される。な
お、必要に応じて、熱固定処理、縦弛緩処理、横弛緩処
理などを施してもよい。そして、前記の三次元表面粗さ
S Δa 、空気抜け速さは、フィルムの製膜条件及び滑剤
粒子によって調整される。滑剤粒子の種類及び添加量は
三次元表面粗さＳΔａ及び空気抜け速さが所定の範囲内
に入るならば特に限定されるものではないが、シリカ、
二酸化チタン、タルク、カオリナイト等の金属酸化物、
炭酸カルシウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウムなど
の金属の塩または有機ポリマーからなる粒子等のシンジ
オタクチックポリスチレン系ポリマーに対し不活性な粒
子が例示される。そして、これらの滑剤は、いずれか一
種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用してもよ
いが、使用する滑剤の平均粒子系は0.01μｍ以上2.0μ
ｍ以下、特に0.05μｍ以上1.5 μｍ以下が好ましく、粒
子径のばらつき度（標準偏差と平均粒子径との比率）が
２５％以下が好ましく、添加量はシンジオタクチックポ
リスチレン系ポリマー100 重量％に対し0.005 重量％以
上2.0 重量％以下含有することが好ましく、特に0.1 重
量％以上1.0 重量％以下が好ましい。また、滑剤粒子の
形状は、面積形状係数が60％以上のものが１種類以上含
まれていることが好ましい。この面積形状係数は次式に
よって求められる。 面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子に外接する円
の面積）× 100（％） 本発明に用いられるポリスチレン系重合体には必要に応
じて、公知の酸化防止剤、帯電防止剤などを適量配合し
たものを用いることができる。配合量は、ポリスチレン
系重合体100 重量％に対して、10重量％以下が望まし
い。10重量％を越えると延伸時に破断が起こり易くな
り、生産安定性が不良となる。本発明のシンジオタクチ
ックポリスチレン系二軸延伸フィルムの少なくとも片面
の三次元表面粗さSΔaは0.004 以上0.04以下の範囲内に
ある事が必要である。S Δa が0.004未満ではハンドリ
ング特性が不良になり0.04を越えると、例えば磁気テー
プ用途では電磁変換特性が不良になり、写真、製版用途
では透明性が減少するため好ましくなく、フィルムコン
デンサー用途では耐電圧特性の低下の問題を生じる。ま
た、本発明のシンジオタクチックポリスチレン系二軸延
伸フィルムの空気抜け速さは900 秒以下である必要があ
る。更に好ましくは700 秒以下である。即ち、空気抜け
速さを900 秒以下、更に好ましくは700 秒以下にするこ
とにより、高速作業時においても、フィルムの厚みや強
度とは無関係にハンドリング特性が良好なシンジオタク
チックポリスチレン系二軸延伸フィルムが得られる。反
対に、空気抜け速さが900 秒を越えた場合、高速作業時
のハンドリング特性が不良となり、例えばフィルムを高
速でロール状に巻き取る場合にフィルムと巻き取りロー
ルの間に空気が取り込まれしわが生じやすく、巻姿が不
良になったり、フィルムが巻き込む空気層の潤滑効果に
よってフィルムが幅方向に蛇行してロールの端面の不揃
いが生じたりする。
【００１０】実施例 以下に実施例にて本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、
フィルムの評価方法を以下に示す。 （１）三次元表面粗さS Δa 、SRa フィルム表面を触針式３次元表面粗さ計（SE-3AK, 株式
会社小坂研究所社製）を用いて、針の半径２μｍ、荷重
30mgの条件化に、フィルムの長手方向にカットオフ値0.
25mmで、測定長1mm にわたって測定し、２μm ピッチで
500 点に分割し、各点の高さを３次元粗さ解析装置（SP
A-11) に取り込ませた。これと同様の操作をフィルムの
幅方向について2 μm 間隔で連続的に150 回、即ちフィ
ルムの幅方向0.3mm にわたって行ない、解析装置にデー
タを取り込ませた。次に、解析装置を用いて、SΔaおよ
びSRaを求めた。 （２）空気抜け速度 図１に示す測定装置を用意する。即ち、台盤１の上面に
円形の孔１a を設け、この孔1a内に直径70mmのガラス平
板２を固定してガラス平板２を固定してガラス平板２の
外周と孔壁１b との間に溝を形成し、更に上記の孔1bを
囲むリング状の溝孔1cを明け、この溝孔1cを上記ガラス
平板２の外周の溝と連通させ、溝孔1cにパイプ３を介し
て真空ポンプ４の吸引口を接続する。そして、台盤１の
上面に、ガラス平板２を覆う大きさのフィルム試料５を
重ね、その外周を粘着テープ６で台盤１状に密封状に固
定し、真空ポンプ４を駆動し、ガラス平板２の外周部に
干渉縞が出現してからガラス平板２の全面に干渉縞が広
がり、その動きが止るまでの時間（秒）を測定し、この
時間（秒）をもって空気抜け速さとする。
はこれら実施例のみに限定されるものではない。なお、
フィルムの評価方法を以下に示す。 （１）三次元表面粗さS Δa 、SRa フィルム表面を触針式３次元表面粗さ計（SE-3AK, 株式
会社小坂研究所社製）を用いて、針の半径２μｍ、荷重
30mgの条件化に、フィルムの長手方向にカットオフ値0.
25mmで、測定長1mm にわたって測定し、２μm ピッチで
500 点に分割し、各点の高さを３次元粗さ解析装置（SP
A-11) に取り込ませた。これと同様の操作をフィルムの
幅方向について2 μm 間隔で連続的に150 回、即ちフィ
ルムの幅方向0.3mm にわたって行ない、解析装置にデー
タを取り込ませた。次に、解析装置を用いて、SΔaおよ
びSRaを求めた。 （２）空気抜け速度 図１に示す測定装置を用意する。即ち、台盤１の上面に
円形の孔１a を設け、この孔1a内に直径70mmのガラス平
板２を固定してガラス平板２を固定してガラス平板２の
外周と孔壁１b との間に溝を形成し、更に上記の孔1bを
囲むリング状の溝孔1cを明け、この溝孔1cを上記ガラス
平板２の外周の溝と連通させ、溝孔1cにパイプ３を介し
て真空ポンプ４の吸引口を接続する。そして、台盤１の
上面に、ガラス平板２を覆う大きさのフィルム試料５を
重ね、その外周を粘着テープ６で台盤１状に密封状に固
定し、真空ポンプ４を駆動し、ガラス平板２の外周部に
干渉縞が出現してからガラス平板２の全面に干渉縞が広
がり、その動きが止るまでの時間（秒）を測定し、この
時間（秒）をもって空気抜け速さとする。
【００１１】（３）フィルムのハンドリング特性 広幅のスリットロールを高速でスリットし、小幅のロー
ルに巻直すに際しロール端部の巻ずれ、しわ、バルブ等
を生じないで問題のないロールが得られるかどうかを４
段階評価し、次のランク付けで評価した。 １級；問題のないスリットロールを得ることは極めて困
難 ２級；低速で問題のないスリットロールが得られる ３級；中速で問題のないスリットロールが得られる ４級；高速で問題のないスリットロールが得られる （４）平均粒子径 滑剤粒子を（株）日立製作所製S-５１０型走査型電子顕
微鏡で観察し、写真撮影したものを拡大して複写し、滑
剤の外形をトレースし任意に200 個の粒子を黒く塗りつ
ぶした。この像をニコレ（株）製ルーゼックス500 型画
像解析装置を用いて、それぞれの粒子の水平方向のフェ
レ径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。また、
粒子径のばらつき度は下記の式により算出した。 ばらつき度＝（粒子径の標準偏差／平均粒子径）× 10
0 （％）
ルに巻直すに際しロール端部の巻ずれ、しわ、バルブ等
を生じないで問題のないロールが得られるかどうかを４
段階評価し、次のランク付けで評価した。 １級；問題のないスリットロールを得ることは極めて困
難 ２級；低速で問題のないスリットロールが得られる ３級；中速で問題のないスリットロールが得られる ４級；高速で問題のないスリットロールが得られる （４）平均粒子径 滑剤粒子を（株）日立製作所製S-５１０型走査型電子顕
微鏡で観察し、写真撮影したものを拡大して複写し、滑
剤の外形をトレースし任意に200 個の粒子を黒く塗りつ
ぶした。この像をニコレ（株）製ルーゼックス500 型画
像解析装置を用いて、それぞれの粒子の水平方向のフェ
レ径を測定し、その平均値を平均粒子径とした。また、
粒子径のばらつき度は下記の式により算出した。 ばらつき度＝（粒子径の標準偏差／平均粒子径）× 10
0 （％）
【００１２】（５）面積形状係数 平均粒子径の測定に用いたトレース像から任意に２０個
の粒子を選び（４）で用いた画像解析装置を用いて、そ
れぞれの粒子の投影断面積を測定した。また、それらの
粒子に外接する円の面積を算出し、下記の式により算出
した。 面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子に外接する円
の面積）× 100（％）
の粒子を選び（４）で用いた画像解析装置を用いて、そ
れぞれの粒子の投影断面積を測定した。また、それらの
粒子に外接する円の面積を算出し、下記の式により算出
した。 面積形状係数＝（粒子の投影断面積／粒子に外接する円
の面積）× 100（％）
【００１３】実施例 滑剤として、平均粒子径0.2 μｍ、ばらつき度15％、面
積形状係数95％のシリカをシンジオタクチックポリスチ
レン（重量平均分子量300000）100 重量％に対して2.0
重量％添加したポリマーチップと、滑剤の添加されてい
ないポリマーチップを重量比で１対９の割合で混合した
後、乾燥し、295 ℃で溶融し、200 μｍのリップギャッ
プのT ダイから押し出し、40℃の冷却ロールに静電印荷
法により密着・ 冷却固化し、79μｍの無定形シートを得
た。該無定形シートをまずロールにより100 ℃に予熱
し、表面温度700 ℃の赤外線加熱ヒーターを４本使用更
に加熱し、フィルム温度139 ℃で縦方向に4.0 倍延伸
し、ついでテンターで、フィルムを120 ℃に予熱し、横
方向に延伸温度120 ℃で3.3 倍延伸し、260 ℃で熱固定
した。得られたフィルムの厚みは6 μｍであった。その
結果を表に示す。
積形状係数95％のシリカをシンジオタクチックポリスチ
レン（重量平均分子量300000）100 重量％に対して2.0
重量％添加したポリマーチップと、滑剤の添加されてい
ないポリマーチップを重量比で１対９の割合で混合した
後、乾燥し、295 ℃で溶融し、200 μｍのリップギャッ
プのT ダイから押し出し、40℃の冷却ロールに静電印荷
法により密着・ 冷却固化し、79μｍの無定形シートを得
た。該無定形シートをまずロールにより100 ℃に予熱
し、表面温度700 ℃の赤外線加熱ヒーターを４本使用更
に加熱し、フィルム温度139 ℃で縦方向に4.0 倍延伸
し、ついでテンターで、フィルムを120 ℃に予熱し、横
方向に延伸温度120 ℃で3.3 倍延伸し、260 ℃で熱固定
した。得られたフィルムの厚みは6 μｍであった。その
結果を表に示す。
【００１４】比較例 添加した滑剤粒子のシリカの面積形状係数を50％にした
以外は実施例と同様に行なった。その結果を表に示す。
以外は実施例と同様に行なった。その結果を表に示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】
【発明の効果】以上、記載のとおり、本発明は前記特許
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、フィルムの表面が平滑で、且つフィルムの厚みに関
係なくハンドリング特性に極めて優れたシンジオタクチ
ックポリスチレン系二軸延伸フィルムが提供され、従っ
て、本発明の工業的価値は大である。
請求の範囲に記載のとおりの構成を採用することによ
り、フィルムの表面が平滑で、且つフィルムの厚みに関
係なくハンドリング特性に極めて優れたシンジオタクチ
ックポリスチレン系二軸延伸フィルムが提供され、従っ
て、本発明の工業的価値は大である。
【図１】この発明の空気抜け速さを測定するための装置
の断面図である。
の断面図である。
１：台盤 ２ ガラス平板 ３ 吸引パイプ ４ 真空ポンプ ５ フィルム試料 ６ 粘着テープ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−74437（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−263025（ＪＰ，Ａ) 特公 昭59−29610（ＪＰ，Ｂ２)
Claims (1)
- 【請求項１】 実質的にシンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体と粒子系のばらつき度が２５％以下
で面積形状係数が６０％以上の不活性な粒子から成り、
少なくとも片面の三次元表面粗さS Δa が0.004 以上
0.04 以下であり且つ空気抜け速さが900 秒以下である
ことを特徴とするシンジオタクチックポリスチレン系二
軸延伸フィルム。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4223985A JP2637337B2 (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| DE19934327293 DE4327293A1 (de) | 1992-08-24 | 1993-08-13 | Orientierte Folie des syndiotaktischen Polystyrol-Typs |
| TW83101175A TW302380B (ja) | 1992-08-24 | 1994-02-15 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4223985A JP2637337B2 (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0665402A JPH0665402A (ja) | 1994-03-08 |
| JP2637337B2 true JP2637337B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=16806777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4223985A Expired - Fee Related JP2637337B2 (ja) | 1992-08-24 | 1992-08-24 | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2637337B2 (ja) |
| DE (1) | DE4327293A1 (ja) |
| TW (1) | TW302380B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0691750A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-05 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06100711A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH0699485A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06106616A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06107812A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06107813A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH0724911A (ja) * | 1993-07-08 | 1995-01-27 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系フィルム |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08157614A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-06-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリスチレン系延伸フィルム及びその製造方法、並びに写真用フィルム，製版用フィルム，ｏｈｐ用フィルム |
| JPH08157615A (ja) * | 1994-12-02 | 1996-06-18 | Idemitsu Petrochem Co Ltd | ポリスチレン系延伸フィルム及びポリスチレン系延伸フィルムの製造方法 |
| KR100390695B1 (ko) * | 1995-05-29 | 2004-06-16 | 도요 보세키 가부시키가이샤 | 신디오택틱 구조를 갖는 배향성 폴리스티렌계 필름 |
| DE19940163A1 (de) * | 1999-07-23 | 2001-01-25 | Nagel M | Streifenleitung für Mikrowellenanwendungen |
| US8288036B2 (en) | 2009-05-18 | 2012-10-16 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Secondary battery and method of making the secondary battery |
| KR101136254B1 (ko) * | 2010-05-20 | 2012-04-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 이차전지 |
| US8062787B2 (en) | 2009-09-11 | 2011-11-22 | Samsung Sdi Co., Ltd | Secondary battery and method of manufacturing the secondary battery |
| US8802281B2 (en) | 2010-08-05 | 2014-08-12 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Secondary battery with movement prevention tape |
| JP5172002B1 (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-27 | 和気 清弘 | 袋入り抗菌剤 |
| US9879128B2 (en) | 2016-03-09 | 2018-01-30 | International Business Machines Corporation | Multiple-function filler materials |
| DE102017114647A1 (de) | 2017-06-30 | 2019-01-03 | Brückner Maschinenbau GmbH & Co. KG | Biaxial verstreckte Kunststofffolie für Folienkondensatoren, insbesondere für Hochtemperaturkondensatoren |
| WO2021126152A1 (en) * | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Three-dimensional printed polymer objects |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2898018B2 (ja) * | 1989-08-14 | 1999-05-31 | 出光興産株式会社 | 易滑性フィルム |
-
1992
- 1992-08-24 JP JP4223985A patent/JP2637337B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-08-13 DE DE19934327293 patent/DE4327293A1/de not_active Ceased
-
1994
- 1994-02-15 TW TW83101175A patent/TW302380B/zh not_active IP Right Cessation
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH06100711A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH0699485A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06106616A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06107812A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH06107813A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
| JPH0724911A (ja) * | 1993-07-08 | 1995-01-27 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW302380B (ja) | 1997-04-11 |
| JPH0665402A (ja) | 1994-03-08 |
| DE4327293A1 (de) | 1994-03-03 |
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