JPH0813199A - クロムめっき方法 - Google Patents

クロムめっき方法

Info

Publication number
JPH0813199A
JPH0813199A JP6144431A JP14443194A JPH0813199A JP H0813199 A JPH0813199 A JP H0813199A JP 6144431 A JP6144431 A JP 6144431A JP 14443194 A JP14443194 A JP 14443194A JP H0813199 A JPH0813199 A JP H0813199A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
chromium
anode
electrode
chromium plating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP6144431A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3188361B2 (ja
Inventor
Masao Sekimoto
正生 関本
Yukie Matsumoto
幸英 松本
Kyohei Kuroda
恭平 黒田
Takanobu Hayashi
貴信 林
Akio Nishi
秋男 西
Mitsuo Shibata
光男 柴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KANINGU JAPAN KK
De Nora Permelec Ltd
Original Assignee
KANINGU JAPAN KK
Permelec Electrode Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=15362043&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0813199(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by KANINGU JAPAN KK, Permelec Electrode Ltd filed Critical KANINGU JAPAN KK
Priority to JP14443194A priority Critical patent/JP3188361B2/ja
Priority to DE19523307A priority patent/DE19523307A1/de
Priority to GB9513112A priority patent/GB2290553B/en
Priority to US08/495,110 priority patent/US5560815A/en
Publication of JPH0813199A publication Critical patent/JPH0813199A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3188361B2 publication Critical patent/JP3188361B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/04Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
    • C25D3/06Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium from solutions of trivalent chromium

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 3価クロム浴中において安定しためっきを行
う。 【構成】 チタン等の薄膜形成性金属の基体上に、酸化
イリジウムからなる電極触媒の被覆を形成した電極を陽
極とすることによって、めっき浴中での6価クロムの生
成等がなく長期にわたり安定したクロムめっき、バレル
クロムめっきが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、クロムめっき方法に関
し、とくに3価クロムを用いた硬質クロムめっき方法、
および複雑な形状のものを多数処理することができる3
価クロムを用いたバレルめっき方法に関する。
【0002】
【従来の技術】クロムめっきは、一般には6価クロムを
含有するめっき浴から行われている。近年、6価クロム
が環境等に悪影響を及ぼすことから、3価クロムめっき
浴に関する研究が進められている。3価クロムめっき浴
を用いたクロムめっきは古くから提案されているが、3
価クロムめっき浴を使用しためっきでは、6価クロムを
使用した場合のように、めっき被膜に変色を生じたり、
めっき被膜の密着性不良が生じることはなく、めっきの
付き回りが良いという特徴を有しているものの、めっき
可能な条件が限られており、実用には至っていない。
【0003】3価クロムめっき浴では、陽極酸化反応に
よる6価クロムイオンの生成に伴いめっき液の安定性が
悪くなり、めっき品質が低下する等の問題を有してい
る。そこで、イオン交換膜を用いて陽極室と陰極室に区
画することで6価クロムイオンの生成を防止したクロム
めっき方法が提案されている。クロムめっきでは、陽極
には、安価な鉛あるいは鉛合金が一般には使用されてい
る。しかしながら、鉛含有電極を使用した場合には、鉛
化合物のスラッジが大量に生成するために、スラッジの
処理に手数を要し、めっき浴中に溶解した鉛成分が品質
低下の原因ともなっているが、イオン交換膜を用いた場
合でも、6価クロムの発生は避けられるものの、鉛化合
物の生成を防止することはできなかった。
【0004】そこで、クロムめっき用陽極として、チタ
ン基体に白金を被覆した電極を使用することが、特開昭
54−134038号公報において記載されているが、
充分な耐久性を有しておらず、比較的短期間にめっき電
圧が上昇するという問題があった。
【0005】また、陽極での6価クロムの生成を防止す
るために、特公昭56−43119号公報には、陽極と
して、鉄又はニッケルの合金及びそれらの酸化物からな
る電極を使用し、特公昭61−22037号公報には、
フェライト陽極を使用することが記載されている。しか
しながら、これらの電極を陽極とした場合には、電極を
構成している触媒成分の溶出に伴うスラッジの発生、ま
たは溶出成分のめっき物表面への付着によってめっきの
品質低下、あるいはめっき効率の低下が著しい。 ま
た、特開昭61−23783号公報、特開昭61−26
797号公報は、いずれもイオン交換膜を用いて陽極室
と陰極室を分割し、陰極室に3価のクロム塩を溶解した
水溶液を供給し、陽極室には3価のクロム塩と同一のア
ニオン種の酸溶液を供給し、陽極としては、硫酸溶液の
場合は鉛、あるいはチタンに貴金属、貴金属酸化物を被
覆した電極等が用いられ、塩化物溶液の場合は黒鉛、チ
タンに貴金属或いは貴金属酸化物を被覆した電極等が用
いられるとの記載がなされているが、黒鉛電極を用いた
実施例が示されているのみで、貴金属、あるいは貴金属
酸化物の被覆を有する電極としていかなるものを用いる
かについては記載されていない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、3価のクロ
ムを用いたクロムめっき方法において、陽極において6
価クロムの生成量が小さく、陽極の溶出が少なく陽極で
のスラッジの生成あるいは、めっき層への不純物の析出
を防止することができるクロムめっき方法およびバレル
めっき方法を提供することを課題とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、3価クロムか
らなるめっき浴を用いてクロムめっきを行う方法におい
て、陽極として酸化イリジウムからなる電極触媒の被覆
を電極基体上に設けた電極を用いたクロムめっき方法で
ある。陽極がクロムめっき浴中あるいはクロムめっき浴
とはイオン交換膜で区画した陽極室に設けたものである
前記のクロムめっき方法である。電極触媒が、酸化イリ
ジウムとともに、チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニ
ウム、錫、アンチモン、ルテニウム、白金、コバルト、
モリブテン、タングステンからなる金属又はその酸化物
の少なくとも1種以上を含有し、電極基体がチタン、タ
ンタル、ジルコニウム、ニオブ又はこれらの合金からな
る前記のクロムめっき方法である。クロムめっきがバレ
ルめっきである前記のクロムめっき方法である。
【0008】すなわち、本発明は、3価クロムからなる
めっき浴において使用可能であり、6価クロムの生成を
防止し、スラッジの発生もなく長期に安定したクロムめ
っきが可能な陽極として、チタン、タンタル、ジルコニ
ウム、ニオブから選ばれる電極基体上に酸化イリジウム
を有する電極触媒を形成した電極が極めて優れているこ
とを見いだしたものである。
【0009】電極触媒には、酸化イリジウムとともにチ
タン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、錫、アンチモ
ン、ルテニウム、白金、コバルト、モリブデン、タング
ステンの金属もしくは酸化物から選ばれた少なくとも1
種を含んでいることが好ましく、電極触媒中の酸化イリ
ジウムの組成は、30〜90モル%が好ましい。酸化イ
リジウムのみからなる電極触媒は、耐久性の面でやや劣
るので、前記のような金属もしくは金属酸化物からなる
組成物とすることが好ましい。また被覆量は、イリジウ
ムの金属に換算して20〜60g/m2 であることが好
ましい。被覆量を多くすると耐久性も大きくなるもの
の、経済性の面では好ましくないので、60g/m2
りも小さくすることが好ましい。
【0010】酸化イリジウムを含有する電極触媒をチタ
ン、タンタル、ジルコニウム、ニオブから選ばれる薄膜
形成性金属からなる電極基体上へ被覆するには、電極触
媒の成分の金属であるイリジウムの塩類等を含有する溶
液を塗布して、酸素含有雰囲気において加熱分解した
り、スパッタリング、蒸着、プラズマ溶射等の方法で行
うことができる。
【0011】また、電極基体上に、チタン、タンタル、
ニオブ、ジルコニウム、モリブデン、タングステン、
錫、アンチモン、白金等の金属又はそれらの酸化物の少
なくとも1種以上を含有する中間層を形成した後に、酸
化イリジウムを含有する電極触媒の被覆を形成すること
により、中間層を形成しない場合よりも耐久性の大きな
電極を得ることができるので好ましい。
【0012】本発明のクロムめっき方法において、3価
クロムからなるめっき浴は、硫酸クロム、塩化クロム、
シュウ酸クロム、炭酸クロム、水酸化クロム等の水溶性
の3価クロムを用いることが好ましい。めっき浴中にお
いて3価クロムを安定に存在させたり、電流効率を改善
する各種の有機配位子、光沢剤等のめっきの品質を高め
る各種の添加剤を含有しているので、陽極において酸化
等を受けて、これらの物質が分解したり、タール状の物
質を生成することが起こる場合がある。このような反応
が起こると、めっき液が不安定化したり、得られるめっ
きの品質が不良となる。そこで、こうした問題が起きる
場合には、陽極が直接にクロムめっき浴とは接触しない
ように、隔膜でめっき槽を区画して陰極室と陽極室を設
け、陽極液には、めっき液の支持電解質として使用され
ている塩の水溶液あるいは酸を用いることが好ましい。
隔膜には、中性膜、陽イオン交換膜、陰イオン交換膜を
用いることができる。
【0013】
【作用】本発明のクロムめっき方法は、3価クロムから
なるめっき浴において、チタン、タンタル、ジルコニウ
ム、ニオブから選ばれる薄膜形成性の金属からなる電極
基体上に酸化イリジウムを有する電極触媒を形成した電
極を陽極として使用するものであり、6価クロムの生成
を防止し、めっき浴中からのスラッジの発生もなく長期
にわたり安定したクロムめっきが可能である。
【0014】
【実施例】以下に本発明の実施例を示し、本発明を説明
する。 実施例1 熱シュウ酸の溶液で酸洗したチタン板に塩化イリジウ
ム、塩化錫をそれぞれ金属換算で40モル%、60モル
%を溶解した塩酸溶液を刷毛にて塗布し、室温にて乾燥
後、550℃のマッフル炉内で20分間熱処理を行い、
酸化イリジウムと酸化錫からなる複合酸化物の層を形成
した。被覆は、該操作を20回繰り返し行い、イリジウ
ムとして25g/m2 を被覆した電極を作製した。得ら
れた電極を陽極として3価クロムめっき浴(カニング社
製 エンバイロ90)を用い、ニッケルめっきを施した
軟鋼へ無隔膜で連続的にめっきを行った。めっき浴中の
3価クロムの濃度は硫酸クロムを補給して一定に保持し
た。めっき浴の温度は40℃、pH5.0で電流密度6
A/dm2 、1回のめっき時間は、10分間であった。
100Ah/リットルの通電を行った後もめっきが可能
であり、100Ah/リットルの通電によって生成した
6価クロムは6ppmであった。
【0015】比較例1 実施例1の陽極に代えて表1に記載の陽極を用いた点を
除き実施例1と同様にしてめっきを行い、その結果を表
1に示す。
【0016】
【表1】
【0017】実施例2 陽イオン交換膜(デュポン社製 ナフィオン117)で
区画しためっき槽において下記の3価クロム液、陽極液
をそれぞれ満たして、陽極には実施例1で作製した電極
と同様に作製した酸化イリジウム電極を使用し、脱脂、
酸洗を行った真鍮板に電極間距離、10cm、電流密度
15A/dm2 として室温において、10分間のめっき
を行い、このめっき操作を繰り返し行った。 3価クロム液 塩化クロム 0.8mole/l アミノ酢酸 1.2mole/l 塩化アルミニウム 0.5mole/l 塩化アンモニウム 1.5mole/l 陽極液 硫酸アルミニウム 0.5mole/l 硫酸アンモニウム 1.5mole/l 3価クロムの補給は、塩化クロムによって行い、液のp
H調整は、水酸化ナトリウムよって行った。100Ah
/リットル通電後もめっきが可能であり、めっき浴は安
定し、電極の損傷もみられなかった。
【0018】比較例2 陽極液を塩酸とするとともに黒鉛を陽極とした点を除い
て実施例2と同様にめっきを行ったところ、38Ah/
リットルの通電でめっきが不能となり、20Ah/リッ
トルの通電で6価クロムが200ppm生成し、黒鉛陽
極の消耗がみられた。また、6価クロムの生成は陽極で
発生した塩素によって酸化されたものとみられる。さら
に陽極で発生する塩素は有毒であるために塩素の処理が
必要となる。
【0019】実施例3 熱シュウ酸の溶液で酸洗したチタン板に塩化イリジウ
ム、塩化タンタル及び塩化白金酸をそれぞれ金属換算で
55モル%、30モル%及び15モル%となるように溶
解した塩酸溶液を刷毛にて塗布し、室温にて乾燥後、5
50℃のマッフル炉内で20分間熱処理を行い、酸化イ
リジウム、酸化タンタル及び白金からなる複合酸化物層
を形成した。塗布、乾燥、熱処理の操作を20回繰り返
し行い、イリジウムとして40g/m2 の酸化イリジウ
ムを被覆した電極を作製した。
【0020】ついで、得られた電極を陽極として3価ク
ロムめっき浴(カニング社製 エンバイロ90)を用
い、ニッケルめっきを施した軟鋼製のネジにバレルめっ
き装置を用い平均電流密度1A/dm2 、めっき温度を
40℃、無隔膜にて5分間のバレルクロムめっきを繰り
返して行った。200回後も光沢めっきが可能であっ
た。
【0021】比較例3 実施例3の陽極に代えて表2に記載の陽極を用いた点を
除き実施例3と同様にしてバレルクロムめっきを行い、
その結果を表1に示す。
【0022】
【表2】
【0023】実施例4 陽イオン交換膜(デュポン社製 ナフィオン324)で
陰極室と陽極室に区画したバレルめっき装置を用い、下
記の3価クロムめっき液および陽極液を満たし、陽極に
は実施例3と同様に作製した電極を用い、軟鋼製のネジ
に30℃において3分間のめっきを行ったところ、10
0Ah/リットル通電後も光沢めっきが可能であり、め
っき液および電極には変化はなかった。 クロムめっき液 塩化クロム 1.0mole/l グルコール酸 1.5mole/l 塩化アンモニウム 1.0mole/l ホウ酸 0.7mole/l 陽極液 硫酸アンモニウム 1.0mole/l 比較例4 陽極としてニッケルフェライト電極(NiO・Fe
23)を用いた点を除き実施例4と同様にめっきを行っ
たところ、20Ah/リットル通電で、電極が溶出して
いた。
【0024】
【発明の効果】本発明は、薄膜形成性の金属からなる電
極基体上に酸化イリジウムを有する電極触媒を形成した
電極を陽極としたので、めっき被膜に変色を生じたり、
めっき被膜の密着性不良が生じることはなく、めっきの
付き回りが良い3価クロムからなるめっき浴において、
6価クロムの生成を防止し、めっき浴中からのスラッジ
の発生もなく長期にわたり安定したクロムめっきが可能
となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒田 恭平 神奈川県藤沢市大庭5085−10 (72)発明者 林 貴信 神奈川県藤沢市石川1406−1 ライオンズ マンション藤沢湘南台第2 304号 (72)発明者 西 秋男 神奈川県茅ヶ崎市松浪2−1−63 (72)発明者 柴田 光男 千葉県八千代市大和田新田469−364

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 3価クロムからなるめっき浴を用いてク
    ロムめっきを行う方法において、陽極として酸化イリジ
    ウムからなる電極触媒の被覆を基体上に設けた電極を用
    いたことを特徴とするクロムめっき方法。
  2. 【請求項2】 陽極がクロムめっき浴中あるいはクロム
    めっき浴とはイオン交換膜で区画した陽極室に設けたも
    のであることを特徴とする請求項1記載のクロムめっき
    方法。
  3. 【請求項3】 電極触媒が、酸化イリジウムとともに、
    チタン、タンタル、ニオブ、ジルコニウム、錫、アンチ
    モン、ルテニウム、白金、コバルト、モリブテン、タン
    グステンからなる金属又はその酸化物の少なくとも1種
    以上を含有し、電極基体がチタン、タンタル、ジルコニ
    ウム、ニオブ又はこれらの合金からなることを特徴とす
    る請求項1〜3記載のクロムめっき方法。
  4. 【請求項4】 クロムめっきがバレルめっきであること
    を特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のクロムめ
    っき方法。
JP14443194A 1994-06-27 1994-06-27 クロムめっき方法 Expired - Lifetime JP3188361B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14443194A JP3188361B2 (ja) 1994-06-27 1994-06-27 クロムめっき方法
DE19523307A DE19523307A1 (de) 1994-06-27 1995-06-27 Verchromungsverfahren unter Verwendung von trivalentem Chrom
GB9513112A GB2290553B (en) 1994-06-27 1995-06-27 Chromium plating method using trivalent chromium
US08/495,110 US5560815A (en) 1994-06-27 1995-06-27 Electrolytic chromium plating method using trivalent chromium

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14443194A JP3188361B2 (ja) 1994-06-27 1994-06-27 クロムめっき方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0813199A true JPH0813199A (ja) 1996-01-16
JP3188361B2 JP3188361B2 (ja) 2001-07-16

Family

ID=15362043

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP14443194A Expired - Lifetime JP3188361B2 (ja) 1994-06-27 1994-06-27 クロムめっき方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5560815A (ja)
JP (1) JP3188361B2 (ja)
DE (1) DE19523307A1 (ja)
GB (1) GB2290553B (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008106302A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Organ Needle Co Ltd 針類への3価クロムメッキ方法及び針類
JP2009545669A (ja) * 2006-08-01 2009-12-24 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. 硬質クロムメッキとしてのクロム層の析出方法、電気メッキ浴槽、および硬質クロム表面層
WO2011083700A1 (ja) * 2010-01-08 2011-07-14 上村工業株式会社 クロムめっき方法
JP2012082475A (ja) * 2010-10-12 2012-04-26 Okuno Chemical Industries Co Ltd バレルめっきによる3価クロムめっき方法
JP2012511099A (ja) * 2008-10-30 2012-05-17 マクダーミッド インコーポレーテッド 三価クロムめっき浴からのクロムめっき方法
JP2014234524A (ja) * 2013-05-31 2014-12-15 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき用アノードの再生処理方法
JP2014240506A (ja) * 2013-06-11 2014-12-25 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき用アノードの再生処理方法
JP2016528378A (ja) * 2013-06-20 2016-09-15 タタ、スティール、アイモイデン、ベスローテン、フェンノートシャップTata Steel Ijmuiden Bv クロム−酸化クロム被覆基板を製造する方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3929513B2 (ja) * 1995-07-07 2007-06-13 ローム株式会社 誘電体キャパシタおよびその製造方法
US6099714A (en) * 1996-08-30 2000-08-08 Sanchem, Inc. Passification of tin surfaces
JP3810043B2 (ja) * 1998-09-30 2006-08-16 ペルメレック電極株式会社 クロムめっき用電極
JP2001316843A (ja) * 2000-02-24 2001-11-16 Ngk Spark Plug Co Ltd クロメート皮膜付き金属部材の製造方法、クロメート皮膜付き金属部材、及びスパークプラグ
DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
US7052592B2 (en) * 2004-06-24 2006-05-30 Gueguine Yedigarian Chromium plating method
US9138776B2 (en) * 2005-07-19 2015-09-22 Sidasa Engineering, S.L. Process for applying coatings with metallic chromium
US8022004B2 (en) * 2008-05-24 2011-09-20 Freeport-Mcmoran Corporation Multi-coated electrode and method of making
DE102008050034B4 (de) * 2008-10-01 2013-02-21 Voestalpine Stahl Gmbh Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden von Chrom und Chromlegierungen
CN102400203B (zh) * 2011-11-09 2014-06-18 广东达志环保科技股份有限公司 一种三价铬氯化物体系镀铬阳极
BR112014023972B1 (pt) 2012-03-30 2020-12-22 Tata Steel Ijmuiden Bv substrato revestido para aplicações de embalagem e seu processo para a produção
CN103060875B (zh) * 2013-01-30 2015-06-03 昆明理工大学 一种铜基SnO2-Sb2O5-CeO2-TiO2惰性复合阳极材料的制备方法
CN103898561A (zh) * 2013-06-03 2014-07-02 无锡市锡山区鹅湖镇荡口青荡金属制品厂 一种在镁合金压铸件表面镀铬的电镀溶液
DK3146092T3 (da) * 2014-05-21 2019-09-16 Tata Steel Ijmuiden Bv Fremgangsmåde til plettering af et metalbånd i bevægelse
CN105063676A (zh) * 2015-08-17 2015-11-18 内蒙古第一机械集团有限公司 一种三价铬电镀硬铬的方法
KR101687378B1 (ko) * 2015-08-27 2016-12-16 (주)메디칼드림 종아리 스트레칭 안마장치
CN105386089B (zh) * 2015-12-25 2018-04-24 武汉迪赛环保新材料股份有限公司 一种三价铬硬铬电镀溶液及其在硬铬电镀中的应用
CN115216815A (zh) * 2017-04-04 2022-10-21 安美特德国有限公司 用于在至少一个基底上沉积铬或铬合金层的受控方法
JP7095867B2 (ja) * 2018-01-15 2022-07-05 国立大学法人京都大学 金属または金属塩の溶解用溶液およびその利用
AT520829B1 (de) 2018-10-19 2019-08-15 Andritz Ag Maschf Verfahren zum Verchromen von Metallbändern

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49113731A (ja) * 1973-03-02 1974-10-30
JPS534732A (en) * 1976-07-02 1978-01-17 Mitsui Mining & Smelting Co Anode for electroplating of trivalent chromium
JPS5487643A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Mitsui Mining & Smelting Co Additive to three valency chromium plating solution
JPS54134038A (en) * 1978-04-06 1979-10-18 Ibm Electroplating solution and anode device thereof
JPS6123783A (ja) * 1984-07-10 1986-02-01 Toyo Soda Mfg Co Ltd イオン交換膜を用いるクロムメツキ法
JPS6126797A (ja) * 1984-07-13 1986-02-06 Toyo Soda Mfg Co Ltd イオン交換膜を用いるクロム合金メツキ法
JPS63270490A (ja) * 1987-04-27 1988-11-08 Permelec Electrode Ltd クロムメツキ法
JPH03260097A (ja) * 1990-03-09 1991-11-20 Japan Carlit Co Ltd:The 不溶性陽極を用いるクロムメッキ方法
JPH062194A (ja) * 1992-06-16 1994-01-11 Daiso Co Ltd 電気メッキ方法
JPH06146091A (ja) * 1992-11-02 1994-05-27 Nippon Steel Corp 亜鉛−クロム合金電気めっき方法
JPH06146047A (ja) * 1992-11-05 1994-05-27 Daiso Co Ltd 酸素発生用陽極及びその製法
JPH07278812A (ja) * 1994-04-07 1995-10-24 Nippon Steel Corp 不溶性酸化イリジウム被覆電極の製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4466865A (en) * 1982-01-11 1984-08-21 Omi International Corporation Trivalent chromium electroplating process
FR2529581A1 (fr) * 1982-06-30 1984-01-06 Armines Bain d'electrolyse a base de chrome trivalent
ES2029851T3 (es) * 1986-04-17 1992-10-01 Eltech Systems Corporation Electrodo con catalizador de platino en una pelicula superficial y utilizacion del mismo.
JPH01132789A (ja) * 1987-11-19 1989-05-25 Japan Carlit Co Ltd:The 電解用樹脂成型電極及びその製造方法
GB8903322D0 (en) * 1989-02-14 1989-04-05 Ici Plc Electrolytic process
JP2713788B2 (ja) * 1989-12-22 1998-02-16 ティーディーケイ株式会社 酸素発生用電極及びその製造方法
JP2885913B2 (ja) * 1990-09-04 1999-04-26 ペルメレック電極株式会社 クロムめっき用陽極およびその製造方法
JP3149629B2 (ja) * 1993-06-22 2001-03-26 ダイソー株式会社 酸素発生用電極
JPH0711497A (ja) * 1993-06-25 1995-01-13 Daiso Co Ltd 酸素発生用電極及びその製法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49113731A (ja) * 1973-03-02 1974-10-30
JPS534732A (en) * 1976-07-02 1978-01-17 Mitsui Mining & Smelting Co Anode for electroplating of trivalent chromium
JPS5487643A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Mitsui Mining & Smelting Co Additive to three valency chromium plating solution
JPS54134038A (en) * 1978-04-06 1979-10-18 Ibm Electroplating solution and anode device thereof
JPS6123783A (ja) * 1984-07-10 1986-02-01 Toyo Soda Mfg Co Ltd イオン交換膜を用いるクロムメツキ法
JPS6126797A (ja) * 1984-07-13 1986-02-06 Toyo Soda Mfg Co Ltd イオン交換膜を用いるクロム合金メツキ法
JPS63270490A (ja) * 1987-04-27 1988-11-08 Permelec Electrode Ltd クロムメツキ法
JPH03260097A (ja) * 1990-03-09 1991-11-20 Japan Carlit Co Ltd:The 不溶性陽極を用いるクロムメッキ方法
JPH062194A (ja) * 1992-06-16 1994-01-11 Daiso Co Ltd 電気メッキ方法
JPH06146091A (ja) * 1992-11-02 1994-05-27 Nippon Steel Corp 亜鉛−クロム合金電気めっき方法
JPH06146047A (ja) * 1992-11-05 1994-05-27 Daiso Co Ltd 酸素発生用陽極及びその製法
JPH07278812A (ja) * 1994-04-07 1995-10-24 Nippon Steel Corp 不溶性酸化イリジウム被覆電極の製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009545669A (ja) * 2006-08-01 2009-12-24 フラウンホッファー−ゲゼルシャフト・ツァー・フォデラング・デル・アンゲワンテン・フォーシュング・エー.ファウ. 硬質クロムメッキとしてのクロム層の析出方法、電気メッキ浴槽、および硬質クロム表面層
JP2008106302A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Organ Needle Co Ltd 針類への3価クロムメッキ方法及び針類
JP2012511099A (ja) * 2008-10-30 2012-05-17 マクダーミッド インコーポレーテッド 三価クロムめっき浴からのクロムめっき方法
WO2011083700A1 (ja) * 2010-01-08 2011-07-14 上村工業株式会社 クロムめっき方法
JP2011140700A (ja) * 2010-01-08 2011-07-21 C Uyemura & Co Ltd クロムめっき方法
JP2012082475A (ja) * 2010-10-12 2012-04-26 Okuno Chemical Industries Co Ltd バレルめっきによる3価クロムめっき方法
JP2014234524A (ja) * 2013-05-31 2014-12-15 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき用アノードの再生処理方法
JP2014240506A (ja) * 2013-06-11 2014-12-25 奥野製薬工業株式会社 3価クロムめっき用アノードの再生処理方法
JP2016528378A (ja) * 2013-06-20 2016-09-15 タタ、スティール、アイモイデン、ベスローテン、フェンノートシャップTata Steel Ijmuiden Bv クロム−酸化クロム被覆基板を製造する方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5560815A (en) 1996-10-01
JP3188361B2 (ja) 2001-07-16
GB2290553A (en) 1996-01-03
DE19523307A1 (de) 1996-01-11
GB9513112D0 (en) 1995-09-27
GB2290553B (en) 1998-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3188361B2 (ja) クロムめっき方法
KR950011405B1 (ko) 전해용 음극 및 이의 제조방법
US6251254B1 (en) Electrode for chromium plating
JP2003503598A (ja) 銅箔の製造法
MXPA01003960A (es) Catodo utilizable para la elctrolisis de soluciones acuosas.
JPH08296079A (ja) 活性陰極及びその製造法
KR910000916B1 (ko) 금속 전해 처리 방법
US4233340A (en) Process for preparing insoluble electrode
EP0475914B1 (en) Anode for chromium plating and processes for producing and using the same
JPH0841671A (ja) ジスルフィド化合物の電解還元方法
US3630768A (en) Chemical deposition formation of anodes
US6979392B2 (en) Method for forming Re—Cr alloy film or Re-based film through electroplating process
US3412000A (en) Cathodic protection of titanium surfaces
US4230543A (en) Cathode for electrolysis of aqueous solution of alkali metal halide
JP3507278B2 (ja) 電気めっき方法
JPH10287991A (ja) 酸素発生用電極とその製造方法
US5827413A (en) Low hydrogen over voltage cathode and process for production thereof
JPH01100291A (ja) クロムメッキ方法
JP2021519866A (ja) 電気分解用還元電極およびその製造方法
JP3658823B2 (ja) 電解用電極およびその製造方法
JPH0419310B2 (ja)
JP2908540B2 (ja) クロムめっき方法
JPH07316874A (ja) クロムめっき方法
JP4667670B2 (ja) 合金めっき装置、それを用いた合金めっき方法
JP2004323955A (ja) 電解用電極及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511

Year of fee payment: 8

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511

Year of fee payment: 8

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090511

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100511

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

S202 Request for registration of non-exclusive licence

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R315201

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110511

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120511

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130511

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140511

Year of fee payment: 13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term