JPH08119620A - 微細シリカの精製法 - Google Patents
微細シリカの精製法Info
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- JPH08119620A JPH08119620A JP28899894A JP28899894A JPH08119620A JP H08119620 A JPH08119620 A JP H08119620A JP 28899894 A JP28899894 A JP 28899894A JP 28899894 A JP28899894 A JP 28899894A JP H08119620 A JPH08119620 A JP H08119620A
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
- C01B33/181—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process
- C01B33/183—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by a dry process by oxidation or hydrolysis in the vapour phase of silicon compounds such as halides, trichlorosilane, monosilane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
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- C01—INORGANIC CHEMISTRY
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- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 微細シリカと、空気と、水蒸気とを空気１に
対し水蒸気を０．５以上の容量比となるように流動層形
成用管の下部から上部に向けて連続的に導入し、この管
内にガス線速が１〜１０ｃｍ／秒で温度が２５０〜６０
０℃の流動層を形成し、この流動層内で上記微細シリカ
に存在するハロゲン化物を水蒸気により脱離すると共
に、このハロゲン化物が脱離された微細シリカを上記管
の上部から取り出すことを特徴とする微細シリカの精製
法。 【効果】 本発明によれば、簡便な装置を用い、低エネ
ルギーコストでハロゲン化物が確実に脱離した精製微細
シリカを容易に得ることができる。また、本発明による
脱酸方法によれば、脱酸と同時に上部排出口に到達しな
い粗粒子と、排出管より流出する微細粒子が分離される
という利点も有する。
対し水蒸気を０．５以上の容量比となるように流動層形
成用管の下部から上部に向けて連続的に導入し、この管
内にガス線速が１〜１０ｃｍ／秒で温度が２５０〜６０
０℃の流動層を形成し、この流動層内で上記微細シリカ
に存在するハロゲン化物を水蒸気により脱離すると共
に、このハロゲン化物が脱離された微細シリカを上記管
の上部から取り出すことを特徴とする微細シリカの精製
法。 【効果】 本発明によれば、簡便な装置を用い、低エネ
ルギーコストでハロゲン化物が確実に脱離した精製微細
シリカを容易に得ることができる。また、本発明による
脱酸方法によれば、脱酸と同時に上部排出口に到達しな
い粗粒子と、排出管より流出する微細粒子が分離される
という利点も有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ヒュームドシリカ等の
微細シリカに存在するハロゲン化物を脱離して精製する
微細シリカの精製法に関する。
微細シリカに存在するハロゲン化物を脱離して精製する
微細シリカの精製法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、ヒュームドシリカはシリコーンエラストマー等の充
填剤などとして広く使用されている。このヒュームドシ
リカは、珪素含有ハロゲン化合物を火炎加水分解するこ
とによって製造されているが、ヒュームドシリカは高い
表面活性を有すると共に、比表面積が大きいことから、
火炎加水分解時に副生するハロゲン化水素を多量に吸着
しており、また、反応が不完全な場合には、化学的に結
合したハロゲンが存在することになる。このようなハロ
ゲン化物が多量に存在するヒュームドシリカは、そのま
ま充填剤等として使用することは好ましくないので、通
常ハロゲン化物を脱離する脱酸処理を施してから使用に
供することが行われている。
り、ヒュームドシリカはシリコーンエラストマー等の充
填剤などとして広く使用されている。このヒュームドシ
リカは、珪素含有ハロゲン化合物を火炎加水分解するこ
とによって製造されているが、ヒュームドシリカは高い
表面活性を有すると共に、比表面積が大きいことから、
火炎加水分解時に副生するハロゲン化水素を多量に吸着
しており、また、反応が不完全な場合には、化学的に結
合したハロゲンが存在することになる。このようなハロ
ゲン化物が多量に存在するヒュームドシリカは、そのま
ま充填剤等として使用することは好ましくないので、通
常ハロゲン化物を脱離する脱酸処理を施してから使用に
供することが行われている。
【０００３】従来、このようなヒュームドシリカの脱酸
方法としては、鋼製無端ベルト上にヒュームドシリカを
沈降させたり、移送装置を備えた回転管を用いたりし
て、ヒュームドシリカを２００〜５００℃で湿潤空気と
接触させて脱酸する方法が採用されている（特公昭４７
−４６２７４号公報）。
方法としては、鋼製無端ベルト上にヒュームドシリカを
沈降させたり、移送装置を備えた回転管を用いたりし
て、ヒュームドシリカを２００〜５００℃で湿潤空気と
接触させて脱酸する方法が採用されている（特公昭４７
−４６２７４号公報）。
【０００４】しかしながら、この方法は比較的低温で脱
酸することができるが、装置が機械的可動部分を有して
いるため、高温でしかも酸性腐食雰囲気での使用上故障
し易いという問題がある。
酸することができるが、装置が機械的可動部分を有して
いるため、高温でしかも酸性腐食雰囲気での使用上故障
し易いという問題がある。
【０００５】一方、ヒュームドシリカと湿潤空気を向流
接触させて脱酸する方法も知られている（特公昭４８−
１３８３２号公報）。しかし、この方法は機械的可動部
分が高温・酸性腐食雰囲気中に設けられることがなく、
装置的にも簡便なものであるが、この方法では脱酸と同
時に粗粒分離ができず、効率的でない上、処理温度もや
や高いという問題がある。この場合、上記特公昭４８−
１３８３２号公報には並流渦動層を用いた例が比較例と
して挙げられているが、この並流渦動層の温度は６００
〜８００℃とされており、非常な高温を必要とするもの
であり、装置の材質や熱源も限られ、実用的でない。
接触させて脱酸する方法も知られている（特公昭４８−
１３８３２号公報）。しかし、この方法は機械的可動部
分が高温・酸性腐食雰囲気中に設けられることがなく、
装置的にも簡便なものであるが、この方法では脱酸と同
時に粗粒分離ができず、効率的でない上、処理温度もや
や高いという問題がある。この場合、上記特公昭４８−
１３８３２号公報には並流渦動層を用いた例が比較例と
して挙げられているが、この並流渦動層の温度は６００
〜８００℃とされており、非常な高温を必要とするもの
であり、装置の材質や熱源も限られ、実用的でない。
【０００６】本発明は上記事情を改善するためになされ
たもので、装置的に簡便な流動層方式を用い、順流の流
動層内で比較的低温において脱酸することができ、しか
も同時に粗粒分離を行うことも可能な微細シリカの精製
法を提供することを目的とする。
たもので、装置的に簡便な流動層方式を用い、順流の流
動層内で比較的低温において脱酸することができ、しか
も同時に粗粒分離を行うことも可能な微細シリカの精製
法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者は、上
記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、水蒸気の
割合を多くして順流の流動層を形成することにより、比
較的低温で脱酸し得ること、より詳細には、水蒸気単独
又は空気と水蒸気とを前者１に対して後者０．５以上の
容量比で使用すると共に、ガス線速を１〜１０ｃｍ／秒
として微細シリカと順流の流動層を形成した場合、流動
層の温度を２５０〜６００℃としても良好な脱酸処理が
行われ、流動層でのシリカ凝集がみかけ上小さくなり、
シリカ表面からの脱酸用ガス（水蒸気）へのハロゲン化
物の拡散が促進され、効率のよい処理が行われることを
知見し、本発明をなすに至ったものである。
記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、水蒸気の
割合を多くして順流の流動層を形成することにより、比
較的低温で脱酸し得ること、より詳細には、水蒸気単独
又は空気と水蒸気とを前者１に対して後者０．５以上の
容量比で使用すると共に、ガス線速を１〜１０ｃｍ／秒
として微細シリカと順流の流動層を形成した場合、流動
層の温度を２５０〜６００℃としても良好な脱酸処理が
行われ、流動層でのシリカ凝集がみかけ上小さくなり、
シリカ表面からの脱酸用ガス（水蒸気）へのハロゲン化
物の拡散が促進され、効率のよい処理が行われることを
知見し、本発明をなすに至ったものである。
【０００８】従って、本発明は、微細シリカと、空気
と、水蒸気とを空気１に対し水蒸気を０．５以上の容量
比となるように流動層形成用管の下部から上部に向けて
連続的に導入し、この管内にガス線速が１〜１０ｃｍ／
秒で温度が２５０〜６００℃の流動層を形成し、この流
動層内で上記微細シリカに存在するハロゲン化物を水蒸
気により脱離すると共に、このハロゲン化物が脱離され
た微細シリカを上記管の上部から取り出すことを特徴と
する微細シリカの精製法、及び、微細シリカと、水蒸気
とを流動層形成用管の下部から上部に向けて連続的に導
入し、この管内にガス線速が１〜１０ｃｍ／秒で温度が
２５０〜６００℃の流動層を形成し、この流動層内で上
記微細シリカに存在するハロゲン化物を水蒸気により脱
離すると共に、このハロゲン化物が脱離された微細シリ
カを上記管の上部から取り出すことを特徴とする微細シ
リカの精製法を提供する。
と、水蒸気とを空気１に対し水蒸気を０．５以上の容量
比となるように流動層形成用管の下部から上部に向けて
連続的に導入し、この管内にガス線速が１〜１０ｃｍ／
秒で温度が２５０〜６００℃の流動層を形成し、この流
動層内で上記微細シリカに存在するハロゲン化物を水蒸
気により脱離すると共に、このハロゲン化物が脱離され
た微細シリカを上記管の上部から取り出すことを特徴と
する微細シリカの精製法、及び、微細シリカと、水蒸気
とを流動層形成用管の下部から上部に向けて連続的に導
入し、この管内にガス線速が１〜１０ｃｍ／秒で温度が
２５０〜６００℃の流動層を形成し、この流動層内で上
記微細シリカに存在するハロゲン化物を水蒸気により脱
離すると共に、このハロゲン化物が脱離された微細シリ
カを上記管の上部から取り出すことを特徴とする微細シ
リカの精製法を提供する。
【０００９】以下、本発明につき更に詳述すると、本発
明の微細シリカの精製法は、例えば図１に示した流動層
形成用管１を使用し、その下部からヒュームドシリカ等
の微細シリカＡと、空気Ｂ及び水蒸気Ｃ又は水蒸気Ｃと
を上方に向うように導入し、上記管１内に順流の流動層
２を形成し、管１の上部から処理（脱酸）された微細シ
リカＡ’を取り出すようにしたものである。
明の微細シリカの精製法は、例えば図１に示した流動層
形成用管１を使用し、その下部からヒュームドシリカ等
の微細シリカＡと、空気Ｂ及び水蒸気Ｃ又は水蒸気Ｃと
を上方に向うように導入し、上記管１内に順流の流動層
２を形成し、管１の上部から処理（脱酸）された微細シ
リカＡ’を取り出すようにしたものである。
【００１０】この場合、流動層２を形成するためのガス
は、水蒸気のみでもよいが、通常は空気と水蒸気が用い
られる。
は、水蒸気のみでもよいが、通常は空気と水蒸気が用い
られる。
【００１１】微細シリカを上記管１の下部に導入する方
法としては、気流輸送などの公知の方法が採用し得る
が、通常空気Ｂに搬送して導入する方法が採用される。
微細シリカの導入量は適宜選定されるが、流動層２中に
０．０００２〜０．０２ｇ−シリカ／ｃｃ、特に０．０
０１〜０．０１ｇ−シリカ／ｃｃ存在するように導入す
ることが、効率のよい処理を達成する点から推奨され
る。
法としては、気流輸送などの公知の方法が採用し得る
が、通常空気Ｂに搬送して導入する方法が採用される。
微細シリカの導入量は適宜選定されるが、流動層２中に
０．０００２〜０．０２ｇ−シリカ／ｃｃ、特に０．０
０１〜０．０１ｇ−シリカ／ｃｃ存在するように導入す
ることが、効率のよい処理を達成する点から推奨され
る。
【００１２】一方、流動層２を形成し、微細シリカを処
理するためのガスとして、図１に示したように、空気と
水蒸気とを管１の下部から導入する。この場合、本発明
においては、水蒸気の割合を多くするもので、水蒸気の
量は、上記微細シリカを搬送、導入するために空気を用
いた場合は、この空気をも含めた全空気１容量に対し、
全水蒸気量を０．５容量以上、好ましくは０．８容量以
上、更に好ましくは１容量以上、最も好ましくは１容量
を越えた値とする。即ち、空気：水蒸気＝１：０．５以
上の容量比のガスで流動層２を形成するものである。水
蒸気量が上記割合より少ないと、脱酸処理が良好に行わ
れず、また流動層の温度を高温にする必要が生じる。
理するためのガスとして、図１に示したように、空気と
水蒸気とを管１の下部から導入する。この場合、本発明
においては、水蒸気の割合を多くするもので、水蒸気の
量は、上記微細シリカを搬送、導入するために空気を用
いた場合は、この空気をも含めた全空気１容量に対し、
全水蒸気量を０．５容量以上、好ましくは０．８容量以
上、更に好ましくは１容量以上、最も好ましくは１容量
を越えた値とする。即ち、空気：水蒸気＝１：０．５以
上の容量比のガスで流動層２を形成するものである。水
蒸気量が上記割合より少ないと、脱酸処理が良好に行わ
れず、また流動層の温度を高温にする必要が生じる。
【００１３】流動層２は、水蒸気又は空気と水蒸気とか
らなる流動層形成用ガスの線速（後者の場合、空気と水
蒸気とを合せた線速）が１〜１０ｃｍ／秒、好ましくは
３〜５ｃｍ／秒となるように形成される。線速が上記範
囲より小さいと十分な流動状態が得られず、上記範囲よ
り速いと微細シリカの飛散が生じ、好ましくない。
らなる流動層形成用ガスの線速（後者の場合、空気と水
蒸気とを合せた線速）が１〜１０ｃｍ／秒、好ましくは
３〜５ｃｍ／秒となるように形成される。線速が上記範
囲より小さいと十分な流動状態が得られず、上記範囲よ
り速いと微細シリカの飛散が生じ、好ましくない。
【００１４】また、流動層２は、その温度を２５０〜６
００℃、好ましくは２５０〜５００℃の範囲に維持す
る。２５０℃より低温であると、脱酸速度が非常に遅
く、処理に長時間必要となって、実用に耐えない。
００℃、好ましくは２５０〜５００℃の範囲に維持す
る。２５０℃より低温であると、脱酸速度が非常に遅
く、処理に長時間必要となって、実用に耐えない。
【００１５】６００℃より高温であると、流動層形成用
管１の材質や熱源、更にエネルギーコスト上の支障が生
じる。
管１の材質や熱源、更にエネルギーコスト上の支障が生
じる。
【００１６】即ち、例えば流動層形成用管の材質として
アルミニウムを用いる場合、アルミニウムの融点は６６
０℃であるため、６００℃、特に局部的なスーパーヒー
トを考慮すれば５００℃で運転し得ることが求められ
る。また、３５０℃以下で脱酸できれば炭化水素系の熱
媒体を使用し得、これは無機塩類を熱媒体に用いたり電
気加熱を行うよりも、操作上の面倒もなく、設備費も低
減するものであるが、本発明においては、３５０℃以下
の運転が可能であるため、これらの点の効果も大きく、
またエネルギーコストを低減できるものである。
アルミニウムを用いる場合、アルミニウムの融点は６６
０℃であるため、６００℃、特に局部的なスーパーヒー
トを考慮すれば５００℃で運転し得ることが求められ
る。また、３５０℃以下で脱酸できれば炭化水素系の熱
媒体を使用し得、これは無機塩類を熱媒体に用いたり電
気加熱を行うよりも、操作上の面倒もなく、設備費も低
減するものであるが、本発明においては、３５０℃以下
の運転が可能であるため、これらの点の効果も大きく、
またエネルギーコストを低減できるものである。
【００１７】なお、上記流動層温度を維持するため、上
記管１の少なくとも流動層２形成部分は上記温度に加
熱、保持することが推奨され、またこの管１内に導入す
る空気及び水蒸気も予熱しておくことが推奨される。こ
こで、図１において、３は予熱器を示す。
記管１の少なくとも流動層２形成部分は上記温度に加
熱、保持することが推奨され、またこの管１内に導入す
る空気及び水蒸気も予熱しておくことが推奨される。こ
こで、図１において、３は予熱器を示す。
【００１８】本発明においては、上記のようにして形成
された流動層２内で微細シリカの脱酸処理が行われ、微
細シリカに吸着されているハロゲン化水素等のハロゲン
化物が水蒸気で捕捉される。この場合、処理時間は０．
５〜１２０分、特に１〜２０分であることが好ましい。
本発明では、かかる処理により、ハロゲン量が２０ｐｐ
ｍ以下の精製シリカを容易かつ確実に製造することがで
きる。
された流動層２内で微細シリカの脱酸処理が行われ、微
細シリカに吸着されているハロゲン化水素等のハロゲン
化物が水蒸気で捕捉される。この場合、処理時間は０．
５〜１２０分、特に１〜２０分であることが好ましい。
本発明では、かかる処理により、ハロゲン量が２０ｐｐ
ｍ以下の精製シリカを容易かつ確実に製造することがで
きる。
【００１９】このようにして処理されて得られた脱酸・
精製シリカＡ’は、上記管１の上部より取り出され、ま
た水蒸気又は空気と水蒸気を主体とする排気ガスＤは管
１の上端部より排出される。
精製シリカＡ’は、上記管１の上部より取り出され、ま
た水蒸気又は空気と水蒸気を主体とする排気ガスＤは管
１の上端部より排出される。
【００２０】この場合、シリカの飛散を防止し、粉体面
を安定化させるため、図示したように、管１の流動層２
形成部より上方を大径に形成して脱塵部４を形成するこ
とが好ましい。
を安定化させるため、図示したように、管１の流動層２
形成部より上方を大径に形成して脱塵部４を形成するこ
とが好ましい。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、簡便な装置を用い、低
エネルギーコストでハロゲン化物が確実に脱離した精製
微細シリカを容易に得ることができる。
エネルギーコストでハロゲン化物が確実に脱離した精製
微細シリカを容易に得ることができる。
【００２２】また、本発明による脱酸方法によれば、脱
酸と同時に上部排出口に到達しない粗粒子と、排出管よ
り流出する微細粒子が分離されるという利点も有する。
酸と同時に上部排出口に到達しない粗粒子と、排出管よ
り流出する微細粒子が分離されるという利点も有する。
【００２３】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【００２４】〔実施例１〕内径８ｃｍの流動層形成部を
有する図１に示す如き管を使用し、該流動層形成部を３
００℃に保持した。この管内の下部から、火炎加水分解
して得られたヒュームドシリカ（比表面積１９５ｍ2／
ｇ，Ｃｌ含有量１１６２ｐｐｍ）を１４０ｇ／ｈ、３０
０℃に予熱した空気、０．１５Ｎｍ3／ ｈ、３００℃に
予熱した水蒸気０．１５Ｎｍ3／ ｈを連続的に導入し、
上記管内に線速度３．４ｃｍ／秒、温度３００℃の流動
層を形成し、ヒュームドシリカの脱酸処理を行った。な
お、上記空気の一部はヒュームドシリカの管内への導入
に使用した。また、精製されたヒュームドシリカは、管
上部で排ガスと分離して抜き出された。
有する図１に示す如き管を使用し、該流動層形成部を３
００℃に保持した。この管内の下部から、火炎加水分解
して得られたヒュームドシリカ（比表面積１９５ｍ2／
ｇ，Ｃｌ含有量１１６２ｐｐｍ）を１４０ｇ／ｈ、３０
０℃に予熱した空気、０．１５Ｎｍ3／ ｈ、３００℃に
予熱した水蒸気０．１５Ｎｍ3／ ｈを連続的に導入し、
上記管内に線速度３．４ｃｍ／秒、温度３００℃の流動
層を形成し、ヒュームドシリカの脱酸処理を行った。な
お、上記空気の一部はヒュームドシリカの管内への導入
に使用した。また、精製されたヒュームドシリカは、管
上部で排ガスと分離して抜き出された。
【００２５】上記脱酸処理の時間は７分であり、この処
理によりヒュームドシリカのＣｌ含有量は１４ｐｐｍと
なり、十分脱酸されていることが認められる。
理によりヒュームドシリカのＣｌ含有量は１４ｐｐｍと
なり、十分脱酸されていることが認められる。
【００２６】〔実施例２〕流動層を５００℃に保持し、
ヒュームドシリカの導入量を２８０ｇ／ｈ、空気を０．
１５Ｎｍ3／ ｈ、水蒸気を０．１５Ｎｍ3／ ｈとし、処理
時間を３分とした以外は実施例１と同様に操作した。そ
の結果、精製されたヒュームドシリカのＣｌ含有量は６
ｐｐｍに低減した。
ヒュームドシリカの導入量を２８０ｇ／ｈ、空気を０．
１５Ｎｍ3／ ｈ、水蒸気を０．１５Ｎｍ3／ ｈとし、処理
時間を３分とした以外は実施例１と同様に操作した。そ
の結果、精製されたヒュームドシリカのＣｌ含有量は６
ｐｐｍに低減した。
【００２７】〔比較例〕流動層を３００℃に保持し、ヒ
ュームドシリカの導入量を１４０ｇ／ｈ、空気を０．２
５Ｎｍ3／ ｈ、水蒸気を０．０５Ｎｍ3／ ｈとし、処理時
間を７分とした以外は実施例１と同様に操作した。その
結果、精製されたヒュームドシリカのＣｌ含有量は６８
ｐｐｍであり、脱酸が十分でないことが認められた。
ュームドシリカの導入量を１４０ｇ／ｈ、空気を０．２
５Ｎｍ3／ ｈ、水蒸気を０．０５Ｎｍ3／ ｈとし、処理時
間を７分とした以外は実施例１と同様に操作した。その
結果、精製されたヒュームドシリカのＣｌ含有量は６８
ｐｐｍであり、脱酸が十分でないことが認められた。
【図１】本発明の実施に用いる装置の該略図である。
１ 流動層形成用管 ２ 流動層 ３ 予熱器 ４ 脱塵部 Ａ 微細シリカ Ａ’ 脱酸された微細シリカ Ｂ 空気 Ｃ 水蒸気 Ｄ 排ガス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白砂 潔 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社群馬事業所内 (72)発明者 上野 進 群馬県安中市磯部２丁目13番１号 信越化 学工業株式会社群馬事業所内
Claims (2)
- 【請求項１】 微細シリカと、空気と、水蒸気とを空気
１に対し水蒸気を０．５以上の容量比となるように流動
層形成用管の下部から上部に向けて連続的に導入し、こ
の管内にガス線速が１〜１０ｃｍ／秒で温度が２５０〜
６００℃の流動層を形成し、この流動層内で上記微細シ
リカに存在するハロゲン化物を水蒸気により脱離すると
共に、このハロゲン化物が脱離された微細シリカを上記
管の上部から取り出すことを特徴とする微細シリカの精
製法。 - 【請求項２】 微細シリカと、水蒸気とを流動層形成用
管の下部から上部に向けて連続的に導入し、この管内に
ガス線速が１〜１０ｃｍ／秒で温度が２５０〜６００℃
の流動層を形成し、この流動層内で上記微細シリカに存
在するハロゲン化物を水蒸気により脱離すると共に、こ
のハロゲン化物が脱離された微細シリカを上記管の上部
から取り出すことを特徴とする微細シリカの精製法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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