JPH04156920A - 排ガス中の水銀分除去方法 - Google Patents
排ガス中の水銀分除去方法Info
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- JPH04156920A JPH04156920A JP2279387A JP27938790A JPH04156920A JP H04156920 A JPH04156920 A JP H04156920A JP 2279387 A JP2279387 A JP 2279387A JP 27938790 A JP27938790 A JP 27938790A JP H04156920 A JPH04156920 A JP H04156920A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は燃焼炉、加熱炉等の排ガス中に含有する水銀及
び水銀化合物の除去方法に関する。
び水銀化合物の除去方法に関する。
従来、水銀及び水銀化合物含有排ガス、例えば、都市ご
み焼却排ガスの場合は排ガス中に含まれるｔｌｃＩ、
ＳＯｘ等の酸性排ガスを処理するために設置される湿式
スクラバーに水銀除去剤を注入する湿式法が主として採
用されていた。また活性炭の固定層及び移動層に水銀含
有排ガスを１５０℃以下で通過させる乾式法が提案され
ていた。
み焼却排ガスの場合は排ガス中に含まれるｔｌｃＩ、
ＳＯｘ等の酸性排ガスを処理するために設置される湿式
スクラバーに水銀除去剤を注入する湿式法が主として採
用されていた。また活性炭の固定層及び移動層に水銀含
有排ガスを１５０℃以下で通過させる乾式法が提案され
ていた。
従来の湿式法に排水中の水銀を除去して固定化するため
の大がかりな排水処理設備が必要であった。本発明が排
水処理設備を不要とし、排ガス中の水銀及び水銀化合物
を安定した化合物として除去することができる乾式の処
理方法を提供しようとするものである。
の大がかりな排水処理設備が必要であった。本発明が排
水処理設備を不要とし、排ガス中の水銀及び水銀化合物
を安定した化合物として除去することができる乾式の処
理方法を提供しようとするものである。
また従来の活性炭吸着法は粒状の活性炭の充填層に排ガ
スを通過させるために煤塵を多く含む排ガスの場合は活
性炭層に煤塵が蓄積、圧損が上昇するために定期的に活
性炭を系外へ取出し、活性炭に付着した煤塵を除去する
必要があった。
スを通過させるために煤塵を多く含む排ガスの場合は活
性炭層に煤塵が蓄積、圧損が上昇するために定期的に活
性炭を系外へ取出し、活性炭に付着した煤塵を除去する
必要があった。
本発明は上記技術水準に鑑み、従来法におけるような不
具合のない排ガス中の水銀分（水銀及び水銀化合物）の
除去方法を提供しようとするものである。
具合のない排ガス中の水銀分（水銀及び水銀化合物）の
除去方法を提供しようとするものである。
本発明は水銀及び水銀化合物を含有する排ガス中に、該
排ガス中に水銀分子量に対し５０〜３００倍の重量の１
００〜３００メツンユに調整された活性炭及び水を噴射
して、排ガス温度を１２０〜１８０℃に調整した後、ろ
過速度０．３〜３ｍ／分でバグフィルタを通過させるこ
とを特徴とする排ガス中の水銀分の除去方法である。
排ガス中に水銀分子量に対し５０〜３００倍の重量の１
００〜３００メツンユに調整された活性炭及び水を噴射
して、排ガス温度を１２０〜１８０℃に調整した後、ろ
過速度０．３〜３ｍ／分でバグフィルタを通過させるこ
とを特徴とする排ガス中の水銀分の除去方法である。
本発明で使用される活性炭は１００〜３００メツシュの
ものである。排ガスとの接触面積を大きくするためには
粒径は小さい方がよいが、バグフィルタ上に粉体層を形
成するのに好適な粒度であるからである。すわなち、粒
径がこれより大きいとバグフィルタ上に堆積しないので
落下してしまい、粒径が小さすぎるとバグフィルタの目
詰りをおこして圧損上昇を招くからである。
ものである。排ガスとの接触面積を大きくするためには
粒径は小さい方がよいが、バグフィルタ上に粉体層を形
成するのに好適な粒度であるからである。すわなち、粒
径がこれより大きいとバグフィルタ上に堆積しないので
落下してしまい、粒径が小さすぎるとバグフィルタの目
詰りをおこして圧損上昇を招くからである。
水銀分除去性能は排ガス温度が低くなるほど向上し、排
ガス温度１８０℃以上では活性炭による水銀骨除去効果
が著しく低下し、一方排ガス温度が１．２０ を以下と
なると酸露点以下となり、バグフィルタケーンツク及び
ダクトが腐食するので、処理温度は１２０〜１８０℃と
すべきである。
ガス温度１８０℃以上では活性炭による水銀骨除去効果
が著しく低下し、一方排ガス温度が１．２０ を以下と
なると酸露点以下となり、バグフィルタケーンツク及び
ダクトが腐食するので、処理温度は１２０〜１８０℃と
すべきである。
また、バグフィルタろ過速度は排ガス流速が遅いほど水
銀分除去率は向上するが、余り遅くすると必要ろ過面積
が大きくなり経済的ではない。又、ろ過速度はハタフィ
ルタでＨＣＩ、 ＳＯｘを同時に処理する場合の処理性
能を考慮すると０．２〜２ｍ／分とするのがよい。
銀分除去率は向上するが、余り遅くすると必要ろ過面積
が大きくなり経済的ではない。又、ろ過速度はハタフィ
ルタでＨＣＩ、 ＳＯｘを同時に処理する場合の処理性
能を考慮すると０．２〜２ｍ／分とするのがよい。
バグフィルタ上に形成される粉体層は排ガス中の煤塵と
粉１だ活性炭によって構成される。排ガス中の水銀分以
外の有害成分、例えば排ガス中のＨ［：Ｌ ＳＯＸ等を
同時に除去するシステムにおいては、バグフィルタ人口
で噴射されたアルカリ性粉体及びＨＣＩ、 ＳＯＸとア
ルカリ性粉体との反応生成物が上記粉体層の構成物質に
加えられる。
粉１だ活性炭によって構成される。排ガス中の水銀分以
外の有害成分、例えば排ガス中のＨ［：Ｌ ＳＯＸ等を
同時に除去するシステムにおいては、バグフィルタ人口
で噴射されたアルカリ性粉体及びＨＣＩ、 ＳＯＸとア
ルカリ性粉体との反応生成物が上記粉体層の構成物質に
加えられる。
これらの粉体層中に１００〜３００メツシュの活性炭を
分散させ、バグフィルタろ過流速を０．３〜２ｍ／分に
て排ガスを接触させると、従来の粒状活性炭層を流通さ
せる場合と比べると除去効率が著しく向上し、同じ除去
効率を得るた約に必要な活性炭量を著しく低減すること
が可能となった。
分散させ、バグフィルタろ過流速を０．３〜２ｍ／分に
て排ガスを接触させると、従来の粒状活性炭層を流通さ
せる場合と比べると除去効率が著しく向上し、同じ除去
効率を得るた約に必要な活性炭量を著しく低減すること
が可能となった。
本発明の一実施例を第１図に示す。
都市ごみ焼却炉１より排出される水銀分（ＨｇＣ］ｚ
： ８０〜８５％、Ｈｇ：１５〜２０％）を０、１〜０
．８ ｍｇ／Ｎｍ３含有する排ガスＧを減温塔２へ導入
した。減温塔２ヘタンク３に貯蔵された水Ａをポンプ４
によって噴射し、排ガス温度を１５５℃に調整した。排
ガス中のＨＣＩ及びＳＯｘを中和するための消石灰Ｂに
、１００〜２００メツシュに調整したヤシガラ活性炭Ｃ
を一定量混合し、ホッパー５に貯留した。これらを定量
フィーダ６によって定量的に切出し、圧送用ファン７に
よって排ガス中に噴射し、排ガスをバグフィルタ８にろ
過流速１．０ｍ／分で通過させた。
： ８０〜８５％、Ｈｇ：１５〜２０％）を０、１〜０
．８ ｍｇ／Ｎｍ３含有する排ガスＧを減温塔２へ導入
した。減温塔２ヘタンク３に貯蔵された水Ａをポンプ４
によって噴射し、排ガス温度を１５５℃に調整した。排
ガス中のＨＣＩ及びＳＯｘを中和するための消石灰Ｂに
、１００〜２００メツシュに調整したヤシガラ活性炭Ｃ
を一定量混合し、ホッパー５に貯留した。これらを定量
フィーダ６によって定量的に切出し、圧送用ファン７に
よって排ガス中に噴射し、排ガスをバグフィルタ８にろ
過流速１．０ｍ／分で通過させた。
排ガス中の水銀排出量が２２ｇ／時間の時、活性炭を３
，０００ｇ／ｈの速度で供給したところ、水銀除去率は
９１．５％であった。
，０００ｇ／ｈの速度で供給したところ、水銀除去率は
９１．５％であった。
実施例に示すように、水銀及び水銀化合物を含有する排
ガスを１２０〜１８０℃に調整し、１００〜３００メツ
シュに粒度調整した活性炭を排ガス中に噴射した後、排
ガスをバグフィルタに導入することによって９０％以上
の水銀分除去率が得られる。
ガスを１２０〜１８０℃に調整し、１００〜３００メツ
シュに粒度調整した活性炭を排ガス中に噴射した後、排
ガスをバグフィルタに導入することによって９０％以上
の水銀分除去率が得られる。
本発明は従来の湿式法と異なり、排水処理を全く必要と
しない経済的に優れた水銀及び水銀化合物を含有する排
ガス乾式処理を行なうことができる。
しない経済的に優れた水銀及び水銀化合物を含有する排
ガス乾式処理を行なうことができる。
第１図は本発明の一実施例を実施する装置の説明図であ
る。
る。
Claims (1)
- 水銀及び水銀化合物を含有する排ガス中に、該排ガス
中に水銀分重量に対し５０〜３００倍の重量の１００〜
３００メッシュに調整された活性炭及び水を噴射して、
排ガス温度を１２０〜１８０℃に調整した後、ろ過速度
０．３〜３ｍ／分でバグフィルタを通過させることを特
徴とする排ガス中の水銀分の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2279387A JPH04156920A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 排ガス中の水銀分除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2279387A JPH04156920A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 排ガス中の水銀分除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04156920A true JPH04156920A (ja) | 1992-05-29 |
Family
ID=17610429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2279387A Pending JPH04156920A (ja) | 1990-10-19 | 1990-10-19 | 排ガス中の水銀分除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04156920A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6534024B2 (en) | 1999-12-10 | 2003-03-18 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Exhaust gas treatment process |
| JP2007130565A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Mitsubishi Materials Corp | セメント焼成プラントにおける有価元素の回収方法および回収システム |
| JP2008540081A (ja) * | 2005-05-02 | 2008-11-20 | ピロルブ エス．アール．エル． | 熱分解及び関連プラントによる廃棄物処理のための統合プロセス |
| US8562724B2 (en) | 2011-03-01 | 2013-10-22 | General Electric Company | Methods and systems for removing pollutants from fluid stream |
-
1990
- 1990-10-19 JP JP2279387A patent/JPH04156920A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6534024B2 (en) | 1999-12-10 | 2003-03-18 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Exhaust gas treatment process |
| JP2008540081A (ja) * | 2005-05-02 | 2008-11-20 | ピロルブ エス．アール．エル． | 熱分解及び関連プラントによる廃棄物処理のための統合プロセス |
| JP2007130565A (ja) * | 2005-11-10 | 2007-05-31 | Mitsubishi Materials Corp | セメント焼成プラントにおける有価元素の回収方法および回収システム |
| US8562724B2 (en) | 2011-03-01 | 2013-10-22 | General Electric Company | Methods and systems for removing pollutants from fluid stream |
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