JPS63171621A - 廃ガスの浄化方法 - Google Patents

廃ガスの浄化方法

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JPS63171621A JP62326607A JP32660787A JPS63171621A JP S63171621 A JPS63171621 A JP S63171621A JP 62326607 A JP62326607 A JP 62326607A JP 32660787 A JP32660787 A JP 32660787A JP S63171621 A JPS63171621 A JP S63171621A
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    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J15/00—Arrangements of devices for treating smoke or fumes
    • F23J15/02—Arrangements of devices for treating smoke or fumes of purifiers, e.g. for removing noxious material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は廃ガスの浄化方法に関し、特に、ダストの他に
、例えばｓｏｗ　、ｓｏ、　、ＨＣＩ　ＳＩＦ及び窒素
酸化物等のガス状汚染物質を含有した廃ガスを、吸収剤
をガス流内に添加し、汚染物質を吸収したこの吸収剤を
ダストと共に乾式分離することによって浄化する方法に
関する。
〔従来の技術とその問題点〕
例えばガラスの融解処理プロセスに際して生ずるような
この種の廃ガスは、用いられる原料及び燃料の種類と組
成とに応じて、Ｎｍ３当り２００〜１０００ｍｇのダス
ト、５００〜３０００ｍｇのＳＯＷ及びＳＯ２（そのう
ちＳ０３が占める割合は５〜１０％）、約１００＋ｗｇ
のＨＣＩ　、　２０〜５０ｍｇのＨＦ及び１５００〜３
０００ｍｇの窒素酸化物を含有している。ダストを分離
する為には、特に布フィルタ及び静電式の集塵装置が用
いられるが、ガス状汚染物質の分離は、吸収剤及び反応
物質を添加することにより、且つ場合によっては触媒の
助けを借りて、実施することができる。吸収剤の添加方
法には、乾式、湿式及び準乾式がある。
乾式法においては、粉末状の吸収剤がガス流に添加され
、汚染物質との反応後若しくは汚染物質の吸着後に、ダ
ストと共にガス流から分離される。
この分離された物質は、屡々ガス流内に再導入されるが
、これは、吸収剤の作用を十二分に利用する一方、ガス
流内での高い固体濃度を維持することにより固体粒子と
汚染物質分子との出会う確立を高める為である。この乾
式法の利点は、廃ガスの温度に実質的な影響を及ぼさな
いところにある。
一方、湿式法においては、吸収剤が溶液又は懸濁液とし
てガス流内に導入され、従ってその反応及び汚染物質の
分離はいずれもかなり改善されるが、その反面、廃ガス
流は必然的に著しく冷却されることになる。この為に著
しい熱損失が生ずるので、廃ガス流をその浄化後に煙突
内での最低許容温度に迄再加熱する措置を講じなければ
ならない。更にこの湿式法では、費用の嵩む洗浄液処理
を行う必要がある。
準乾式法は乾式法と湿式法とを組み合せたものであり、
この場合の吸収剤は、湿式法におけるのと同じように溶
液又は懸濁液として添加されるが、その液体量は、液が
廃ガス流内で完全に蒸発し且つ汚染物質の摂取後に吸収
剤とダストとが共に乾式分離され得るように調整される
。この準乾式法では洗浄液処理をしなくても済むが、廃
ガス温度の著しい低下とそれに伴う熱損失とを免れるこ
とはできない。
冒頭に述べたような汚染物質を含むガラス融解タンクか
らの廃ガスの場合、上記の湿式法は種々の理由から採用
することができない。実際、特に望ましくないこととし
て忌避されるのは、汚水を屡々別の化学工場で処理しな
ければならないことで、その運転コスト並びに予期でき
ない問題点の生じることである。
一方、乾式法を採用した場合には、ダスト、ＳＯ，、Ｓ
ｏｗ及びＩＰの分離が申し分なく行われはするものの、
ＨＣＩの分離は十分には達成されない。
更に、準乾式法を採用した場合には、ＨＦを除いた全て
の汚染物質はかなり安価な費用で規定の残留濃度値に迄
廃ガスから分離し得るが、ＩＰのみは除去することがで
きない。
そこで、本発明の課題とするところは、この種の廃ガス
を申し分なく処理し、その際、上述した各欠点が除かれ
、且つ浄化されたガス中における法的に規定された限界
値を経済的に妥当な費用によって達成することのできる
方法を提供することである。
〔問題点を解決するための手段〕
上述の課題を解決すべく提案された本発明の方法によれ
ば、必要な吸収剤全量の７０〜９０％を乾燥粉末として
ガス流に導入し、その後、ガス流に乱流を生ぜしめ、こ
の乱流中に、必要な吸収剤全量の１０〜３０％を溶液又
は懸濁液として導入する。
乾燥粉末としては、炭酸ナトリウム及び水酸化カルシウ
ムの少なくとも一方を用いるのが好ましい。
また、溶液状の吸収剤としては、水酸化ナトリウム水溶
液又は炭酸ナトリウム水溶液を用いるのが好ましい。
一方、吸収剤の懸濁液としては水酸化カルシウム懸濁水
を用いるのが好ましい。
溶液又は懸濁液として導入する吸収剤の量は、廃ガス中
のＨＣＩ含有量に応じて調節するのが好ましい。
また、溶液又は懸濁液としての吸収剤の添加は、廃ガス
の温度が好ましくは１５℃以上、更に好ましくは１０℃
以上低下しないように制限される。
添加する吸収剤の全量は、浄化後の廃ガスが、その標準
状態において、１ｍ３当り、夫々４００＋ｍｇ以上のｓ
ｏｗ　、５ｍｇ以上の５０ｓ　、３０ｍｇ以上のＨＣＩ
、５＋＋ｇ以上のＩＦを含まないように調節されるのが
好ましい。
汚染物質を吸収した吸収剤及びダストの分離は静電集塵
装置によって行われるのが好ましい。
〔実施例〕
第１図は本発明による方法の一実施例を概略的に示した
ものである。
反応容器１は、ガス流を乱流化する為の組込部品を有し
ており、容器寸法は廃ガス処理に要する所定の時間に合
わせて設定されている。この場合、容器横断面がガス流
速度を、また容器高さがガス滞留時間若しくは処理時間
を夫々規定する。浄化しようとするガスは、導管２を通
じてこの反応容器１内に導入されるが、その際、予め成
る程度のガス乱流化を達成してお（為に、この導管２を
反応容器１の接線方向から接続することが可能である。
処理されたガスは導管３を通じて静電式の集塵装置４に
導入される。なお図では、単に集塵装置４の入口部分と
ダスト回収装置５とのみが示されている。
必要な吸収剤全量の７０〜９０％は、導管６から反応容
器１の手前で廃ガス流内に乾式投入され、残りの１０〜
３０％は溶液又は懸濁液として導管７から反応容器ｌ内
に噴入せしめられる。
必要な場合には、静電式の集塵装置４内で分離されたダ
ストと汚染物質を吸収した吸収剤とから成る混合物を、
導管８を通じて部分的に反応容器１内にフィードバック
し、これによって反応容器１内の固体濃度を高め、ひい
ては吸収剤を十分に利用しつくすことができる。
〔発明の効果〕
本発明による方法の利点は、全ての汚染物質を廃ガスか
ら分離してその残留濃度を許容値に迄低下させることが
可能であると同時に、汚水の化学的湿式プロセス等を必
要とせず、しかも大きな熱損失を甘受しなくてもよいこ
とにある。一般に３５０〜４５０℃で生ずる廃ガスは僅
か１０〜１５℃しか冷却されないので、後続工程として
の触媒による窒素酸化物の除去を、付加的な措置を講す
ることなく有効な温度範囲で実施することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の方法の一実施例を概略的に示す工程図
である。 なお図面に用いた符号において、 １−・−−−−−−−−−−−−一−−−−−反応容器
４・−−−−−−−−−−・−ｍ＝−〜−−・集塵装置
５・・・−・・・−・−・・・−・−・・−・ダスト回
収装置である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、ダスト及びガス状汚染物質を含有した廃ガスを浄化
    する為の方法であって、吸収剤をガス流に添加し、汚染
    物質を吸収したこの吸収剤をダストと共に乾式分離する
    方法において、 必要な吸収剤全量の７０〜９０％を乾燥粉末としてガス
    流に導入し、 その後、ガス流に乱流を生ぜしめ、 この乱流中に、必要な吸収剤全量の１０〜３０％を溶液
    又は懸濁液として導入することを特徴とする方法。 ２、前記乾燥粉末として炭酸ナトリウム及び水酸化カル
    シウムの少なくとも一方を用いることを特徴とする特許
    請求の範囲第１項に記載の方法。 ３、前記溶液として水酸化ナトリウム水溶液又は炭酸ナ
    トリウム水溶液を用いることを特徴とする特許請求の範
    囲第１項又は第２項に記載の方法。 ４、前記懸濁液として水酸化カルシウム懸濁水を用いる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項に記
    載の方法。 ５、前記溶液又は前記懸濁液として導入する吸収剤の量
    を、廃ガス中のＨＣｌ含有量に応じて調節することを特
    徴とする特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項
    に記載の方法。 ６、前記溶液又は前記懸濁液としての吸収剤の添加を、
    廃ガスの温度が１５℃以上低下しないように制限するこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第４項のいずれ
    か１項に記載の方法。 ７、添加する吸収剤の全量を、浄化後の廃ガスが、その
    標準状態において、１ｍ＾３当り、夫々４００ｍｇ以上
    のＳＯ＿２、５ｍｇ以上のＳＯ＿３、３０ｍｇ以上のＨ
    Ｃｌ５ｍｇ以上のＨＦを含まないように調節することを
    特徴とする特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１
    項に記載の方法。 ８、汚染物質を吸収した吸収剤及びダストの分離を静電
    集塵装置によって行うことを特徴とする特許請求の範囲
    第１項〜第７項のいずれか１項に記載の方法。 ９、ガスから分離した物質をフィードバックして、浄化
    しようとする廃ガス流内に再導入することを特徴とする
    特許請求の範囲第１項〜第８項のいずれか１項に記載の
    方法。 １０、浄化した廃ガスを触媒により窒化物除去処理する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第９項のいず
    れか１項に記載の方法。
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