JPH079379Y2 - Icウエハ試験用自動プローバ - Google Patents
Icウエハ試験用自動プローバInfo
- Publication number
- JPH079379Y2 JPH079379Y2 JP7647889U JP7647889U JPH079379Y2 JP H079379 Y2 JPH079379 Y2 JP H079379Y2 JP 7647889 U JP7647889 U JP 7647889U JP 7647889 U JP7647889 U JP 7647889U JP H079379 Y2 JPH079379 Y2 JP H079379Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- test
- prober
- point
- testing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案はICウエハを試験するプローバの動作に関する
ものである。
ものである。
従来のプローバはICウエハ上の各チツプの試験を実施す
る方法としてウエハの端チツプより始まり、X軸あるい
はY軸方向一方向に動き、ウエハ上のチツプ1ラインの
試験を終了した時点で次のラインを試験していた。例え
ば第4図に示す様に図示矢印の方向に動いていた。
る方法としてウエハの端チツプより始まり、X軸あるい
はY軸方向一方向に動き、ウエハ上のチツプ1ラインの
試験を終了した時点で次のラインを試験していた。例え
ば第4図に示す様に図示矢印の方向に動いていた。
〔考案が解決しようとする課題〕 従来のプローバは以上のように構成されていたので、ウ
エハ上に発生しやすい同心円不良(以下リング不良と略
す)を検出する為には、1枚のウエハ上の全てのチツプ
を試験した後でなければ発見することができなかった。
又、ウエハ上の不良は周辺に多く発生することから、周
辺から中央また周辺と試験する従来技術では連続する良
品又は不良品の数のデータは統計上あまり意味の無いデ
ータになつていた。さらに、ウエハの周辺チツプだけを
試験する場合にも、全てのチツプの上を通過しなくては
ならず無駄な時間が多いという問題点があつた。
エハ上に発生しやすい同心円不良(以下リング不良と略
す)を検出する為には、1枚のウエハ上の全てのチツプ
を試験した後でなければ発見することができなかった。
又、ウエハ上の不良は周辺に多く発生することから、周
辺から中央また周辺と試験する従来技術では連続する良
品又は不良品の数のデータは統計上あまり意味の無いデ
ータになつていた。さらに、ウエハの周辺チツプだけを
試験する場合にも、全てのチツプの上を通過しなくては
ならず無駄な時間が多いという問題点があつた。
この考案は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ウエハ上のチツプを試験する順序つまりプロ
ーバの動作にある特徴を持たせ、リング不良をテスト中
に検出できるとともに、良品、不良品の連続した数が統
計的に有効なものとなり、ウエハの周辺チツプだけを試
験する場合にも短時間で行うことを目的とする。
たもので、ウエハ上のチツプを試験する順序つまりプロ
ーバの動作にある特徴を持たせ、リング不良をテスト中
に検出できるとともに、良品、不良品の連続した数が統
計的に有効なものとなり、ウエハの周辺チツプだけを試
験する場合にも短時間で行うことを目的とする。
この考案に係るウエハプローバは、試験順序を渦巻状に
動くようにしたものである。
動くようにしたものである。
この考案におけるウエハプローバの動作は、動きを渦巻
状にすることによりリング不良を試験中にリアルタイム
に観測できる。又、そのデータを用いて統計的に処理を
行うことができる。
状にすることによりリング不良を試験中にリアルタイム
に観測できる。又、そのデータを用いて統計的に処理を
行うことができる。
以下、この考案の一実施例を図について説明する。第1
図において、(1)はプローバのステージ上に置かれた
ICウエハ、(2)はICチツプ、(3)はICウエハ(1)
上のICチツプ(2)の試験を行う順序の軌跡を示すもの
で、外周より渦巻状に試験を実施していく状態を示して
いる。
図において、(1)はプローバのステージ上に置かれた
ICウエハ、(2)はICチツプ、(3)はICウエハ(1)
上のICチツプ(2)の試験を行う順序の軌跡を示すもの
で、外周より渦巻状に試験を実施していく状態を示して
いる。
今、ICウエハ(1)の周辺部分だけを試験する場合に、
この実施例では第1図のA点までの試験で終了すること
ができるので、A点からENDまでの移動時間を短縮出来
る。
この実施例では第1図のA点までの試験で終了すること
ができるので、A点からENDまでの移動時間を短縮出来
る。
また、上記実施例では、A点までを試験すると決めてい
たが、外周より試験を行つているので統計的に連続した
チツプの試験結果をを利用することもできる。例えば10
チツプ連続して良品が続いた場合に次からの数チツプを
試験しないでスキツプさせるなどの手法を用いた時にも
リング不良を発見することができる。これについて第2
図を基に説明する。(4)はICウエハ(1)上に発生し
たリング不良とする。まず、B点よりC点まで連続10チ
ツプ良品となつた場合にC点からD点の間5チツプを試
験しないでスキツプさせ、D点の試験でさらに良品であ
つた場合E点までスキツプさせる同様にF点まで来た時
F点はリング不良の円(4)上に乗つているので不良と
なり、G点まで不良が続きリング不良を全てリジエクト
できることになる。
たが、外周より試験を行つているので統計的に連続した
チツプの試験結果をを利用することもできる。例えば10
チツプ連続して良品が続いた場合に次からの数チツプを
試験しないでスキツプさせるなどの手法を用いた時にも
リング不良を発見することができる。これについて第2
図を基に説明する。(4)はICウエハ(1)上に発生し
たリング不良とする。まず、B点よりC点まで連続10チ
ツプ良品となつた場合にC点からD点の間5チツプを試
験しないでスキツプさせ、D点の試験でさらに良品であ
つた場合E点までスキツプさせる同様にF点まで来た時
F点はリング不良の円(4)上に乗つているので不良と
なり、G点まで不良が続きリング不良を全てリジエクト
できることになる。
また、第1図では外周より内に向けて渦巻状に移動して
きた場合を示したが、第3図に示すようにウエハの中央
より外に向けて渦巻状に移動しても同様の効果を奏す
る。
きた場合を示したが、第3図に示すようにウエハの中央
より外に向けて渦巻状に移動しても同様の効果を奏す
る。
以上のようにこの考案によれば、プローバのステージの
動作を渦巻状に移動するように構成したので、リング不
良を簡単に発見でき、統計的な手法を利用しやすくなる
ので、ウエハ全体のトータル試験時間の短縮を計れるな
どの効果が得られる。
動作を渦巻状に移動するように構成したので、リング不
良を簡単に発見でき、統計的な手法を利用しやすくなる
ので、ウエハ全体のトータル試験時間の短縮を計れるな
どの効果が得られる。
第1図はこの考案の一実施例によるICウエハ上の試験順
序を示した図、第2図はこの考案の他の実施例で統計的
手法を使い試験時間短縮を行つた時のリング不良を発見
できる例を示した図、第3図はこの考案の他の実施例で
中央より外周に向かつて渦巻状に移動する例を示した
図、第4図は従来のプローバによるICウエハ上の試験順
番を示した図である。 (1)ICウエハ、(2)ICチツプ、(3)試験順番の軌
跡、(4)リング不良を示す円。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
序を示した図、第2図はこの考案の他の実施例で統計的
手法を使い試験時間短縮を行つた時のリング不良を発見
できる例を示した図、第3図はこの考案の他の実施例で
中央より外周に向かつて渦巻状に移動する例を示した
図、第4図は従来のプローバによるICウエハ上の試験順
番を示した図である。 (1)ICウエハ、(2)ICチツプ、(3)試験順番の軌
跡、(4)リング不良を示す円。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
Claims (1)
- 【請求項1】ICウエハを試験するウエハプローバにおい
て、ステージが渦巻き状に動くことを特徴とするICウエ
ハ試験用自動プローバ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7647889U JPH079379Y2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | Icウエハ試験用自動プローバ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7647889U JPH079379Y2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | Icウエハ試験用自動プローバ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0316339U JPH0316339U (ja) | 1991-02-19 |
JPH079379Y2 true JPH079379Y2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=31617984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7647889U Expired - Lifetime JPH079379Y2 (ja) | 1989-06-29 | 1989-06-29 | Icウエハ試験用自動プローバ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH079379Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4984561B2 (ja) * | 2006-02-13 | 2012-07-25 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体基板欠陥検出方法 |
-
1989
- 1989-06-29 JP JP7647889U patent/JPH079379Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0316339U (ja) | 1991-02-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH079379Y2 (ja) | Icウエハ試験用自動プローバ | |
US8278958B2 (en) | Semiconductor test system and method | |
JPH0574878A (ja) | ウエーハの試験方法 | |
TWI220545B (en) | Test method of dynamic procedure for semiconductor chip | |
JP4063206B2 (ja) | 半導体製造方法 | |
JPH02235356A (ja) | 半導体装置 | |
JP2002313861A (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
JPS6165444A (ja) | 被検査チツプの回路パタ−ン外観検査方法並びにその装置 | |
JPS58103151A (ja) | 半導体基板の検査方法 | |
JPH04147637A (ja) | 半導体集積回路のテストプログラムによる試験方法 | |
JPS5935441A (ja) | プロ−バ装置 | |
JPH1140638A (ja) | 半導体のパターン欠陥検査装置及び方法 | |
JPS60140730A (ja) | 半導体素子製造工程における不良要因の検出法 | |
JP2765855B2 (ja) | 半導体装置の検査方法 | |
JPH0429350A (ja) | 半導体テスト方法 | |
JPH10275835A (ja) | ウエハ検査装置 | |
JPS60119747A (ja) | 半導体ウェハ− | |
JPH01116460A (ja) | 電子装置の検査方法 | |
JPH0316781B2 (ja) | ||
JPH0442825B2 (ja) | ||
JP2004281482A (ja) | 半導体ウェハ検査装置及び検査方法及び半導体装置 | |
JPS6167240A (ja) | オ−トハンドラ− | |
JPH03196542A (ja) | 半導体ウェーハのテスト方法 | |
JPS6286738A (ja) | 半導体素子特性測定方法とその装置 | |
JP2002313997A (ja) | 半導体装置の製造方法 |