JPH03196542A - 半導体ウェーハのテスト方法 - Google Patents

半導体ウェーハのテスト方法

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Publication number
JPH03196542A
JPH03196542A JP33745289A JP33745289A JPH03196542A JP H03196542 A JPH03196542 A JP H03196542A JP 33745289 A JP33745289 A JP 33745289A JP 33745289 A JP33745289 A JP 33745289A JP H03196542 A JPH03196542 A JP H03196542A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
testing
chips
items
wafer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33745289A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Yamaguchi
晶大 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP33745289A priority Critical patent/JPH03196542A/ja
Publication of JPH03196542A publication Critical patent/JPH03196542A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェーハの試験方法、特にウェーハに形
成されたチップの電気特性の試験方法に関する。
〔従来の技術〕
半導体製造工程中、ウェーノ\段階の最後において、形
成されたチップの良/不良の判定を行なう、この判定は
、通常複数個の項目について行ない、すべての項目に合
格すれば、そのチップを良品とする。ただし判定の工数
を減少するために、以下に説明するように全数・全項目
の測定をしないで省略化をはかつている0例えば4項目
;テス)1〜テスト4の試験を行なう場合において、1
0ット30枚のウェーノ\を試験するとすれば、先ず5
枚のテストを行ない、不良数が0であるテスト項目があ
り、その項目がテスト2だとすると、6枚目以降のウェ
ーノーについてはそのテストを省略し、テストl、テス
ト3.テスト4の順にテストをするだけとする。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記に述べた方法は、ウェー/\がロットとして均一に
生産されるものと仮定し、テスト項目について最初の数
枚のウェー/\につし)て不良品が生じないならば、他
のウェー/\につl、%ても同様にその項目については
不良品が生じなし)と緑1う予想に基づいている。
しかし、現実にはロフトの均一性が保たれない場合には
、上記方法では、テスト項目の省略があるので不良チッ
プが良品として分類される欠点がある。最初の基準とす
る枚数を例えば5枚を10枚と数を多くすれば、不良チ
ップが混在する危険は少なくなるが、省力化の効果は少
ない。
本発明は、現実のロフトの均一性あるいは不均一性に着
目して、テストにより不良チップが混入することがなく
、シかも工数を減少することのできる半導体ウェーハの
テスト方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の方法は、ウェーハを複数個の領域に分類し、各
領域におけるテスト項目別のチップ不良数分布の推定を
少数のウェーハについて行なう段階と、#記推定から各
領域につきチップのテスト順を不良数の多い項目順に定
めて、チップのテストを行ない良/不良の判定を行なう
段階とからなるものである。
〔作用〕
半導体装置製造においては、alo枚のウェーハをまと
めて、10ツトとして各種工程を経て、最終のウェーハ
処理段階として、ウェーハ上のチップの良/不良の判定
を行なうのが一般である。したがって、ウェーハ間での
バラツキが少ないことが予想される。しかしウェーハの
ウェーハ面の位置において特定のテスト項目について、
不良がかたよって発生する傾向が多い0本発明では、ウ
ェーハの各領域ごとに、あらかじめチップ不良数分布を
推定し、不良品を早く判定するように、テスト項目順を
定める。
〔実施例〕
以下、図面を参照して1本発明の一実施例につき説明す
る。テストは4つのテスト項目に行なうものとし、10
ット30枚のウェーハ上のチップのテストを行なう、1
枚目のウェー/\は第2図に示すように、テストl、テ
スト2.テスト3.テスト4の順番でテストを行なう6
次にウェーハ上を第1図に示すように同心円状の4つの
領域に分割し、各テスト項目で不良と判定されたチップ
数の総計を各領域ごとに集計する。集計結果をもとに2
枚目以降のウェーハは、各領域ごとにテスト項目の順番
を変更してテストを行なう。
1枚目が第4図に示すテスト結果であったとき、2枚目
以降は以下の手順によってテスト項目の順番を変更して
テストを行なう、領域1内のチップでテストにより不良
と判定されたもののうちテスト2で不良となったものが
最も多く、テスト2についで不良チップの多い項目は、
テスト4.テスト1.テスト3の順序である。そこで、
2枚目以降のウェーハの領域1内のチップのテストは第
3図に示すように、!枚目の測定で不良項目の多い順に
、テスト2.テスト4.テスト1.テスト3の順番でテ
ストを行なう、領域2〜4のチップも、同様にして、各
領域ごとに1枚目のテストで不良の多かったテスト項目
順により2枚目以降のテストを行なう。
チップの特性のばらつきは製造工程での処理のばらつき
によって生ずるものである。10ット30枚のウェーハ
は工程により1つの装置内で30枚まとめて、あるいは
連続的に処理されるために、ロット間で特性のばらつき
が生じてもウェーハ間で特性のばらつきは少ない、した
がって同一ロット内のウェーハであれば、チップの特性
のばらつきは同じであり、テストで不良となる項目も同
じである。そのために本実施例に示したように、1枚目
のウェーハのテスト結果のみにもとづいて2枚目以降の
テストのテスト項目の順番を決定しても、それがテスト
時間短縮のための最適な順番であることは明らかである
0以上のようにして、従来技術例と比較して本発明では
テスト項目を省略することなく、しかも、不良品は最も
早い時点で不良品と判定されるので、テスト時間短縮の
効果を得ることができる。
チップの特性のばらつきは同一ウェーハ内であっても、
チップの位置によっても生じる。特に大口径のウェーハ
では製造工程でウェーハの面内な均一に処理することが
困難であり、中心部と外周部で特性のばらつきが生じる
ことが多い、したがって第1図に示すように、各領域を
同心円に選び、テスト順序を不良数分布を基に設定する
ことによって、不良品の判定が早期にできる。
L記の実施例では、ウェーハを中心部と円周部と同心的
に領域を定めた。さらに製造条件を細かく分類する意味
で、縦横の領域に分割すれば、ウェーハの上下または左
右で特性がばらついている場合に対処できる。第5図で
は、第1図の領域lはそのままにし、領域2,3.4を
各々4つの領域にわけ、全体として13の領域とした例
である。
なお、実施例では各領域のチップ不良数分布を推定する
のに、1枚のウェーl\につl、Xて行なったが、1枚
でなく、2枚と数を増加して、推定確度を増加するよう
にしてもよI/1゜〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明は被測定チップのウェーハ
上の位置に応じてテスト項目の順番を変化させてテスト
を行なうもので、テスト項目を省略しないので、不良品
が良品と判断されることがない、しかも、ウェーハ面内
を複数の領域に分割し、各領域ごとにテスト項目の順番
を変更して不良の多いテスト項目より順番にテストする
ので、早期に不良品が判定できるので、テスト時間を短
縮できる効果が大きい、特にチップ内の素子のばらつき
が多い場合、従来方法では殆ど時間短縮が不可能であっ
たが、その場合でも本発明はテスト時間を短縮できる効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例のウェーハ領域の分類を示す
図、第2図は実施例の1枚目のウェーハのテストフロー
、第3図は2枚目以降のウェーハのテストフロー例、第
4図は1枚目のウェーハの各領域のチップ不良数分布、
第5図は別の実施例のウェーハ領域の分類を示す図であ
る。 ■〜■々勢坊゛

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェーハを複数個の領域に分類し、各領域におけるテス
    ト項目別のチップ不良数分布の推定を少数のウェーハに
    ついて行なう段階と、前記推定から各領域につきチップ
    のテスト順を不良数の多い項目順に定めて、チップのテ
    ストを行ない良/不良の判定を行なう段階とからなる半
    導体ウェーハのテスト方法。
JP33745289A 1989-12-25 1989-12-25 半導体ウェーハのテスト方法 Pending JPH03196542A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100401532B1 (ko) * 1996-12-30 2003-12-24 주식회사 하이닉스반도체 웨이퍼의 롱 사이클 테스트 장치 및 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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