JPH07928A - 種々の対象物をクリーニングする方法及び装置 - Google Patents

種々の対象物をクリーニングする方法及び装置

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JPH07928A
JPH07928A JP5343308A JP34330893A JPH07928A JP H07928 A JPH07928 A JP H07928A JP 5343308 A JP5343308 A JP 5343308A JP 34330893 A JP34330893 A JP 34330893A JP H07928 A JPH07928 A JP H07928A
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    • H01L21/67057—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing with the semiconductor substrates being dipped in baths or vessels
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
    • B08B3/12—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration by sonic or ultrasonic vibrations

Abstract

(57)【要約】 【目的】 種々の対象物の表面から、対象物を粒子の存
在に対して敏感な引き続く種々の工程段階に直接先立っ
て使用できるようにクリーニングするための、１ミクロ
ン以下の微小粒子を効果的に除去する方法及びその装置
を提供する。 【構成】ａ）堰を備えた第１貯槽の中に入れられていて
上方液面を有する液態のクリーニング用流体の中に、上
記流体の上方液面が堰の上方に少なくとも０．５ｍｍ上
昇して上記流体が堰を越えて第２貯槽の中へ流入するこ
とをもたらすのに有効な超超音波振動を導入し、そして ｂ）堰よりも上の上記流体の上方液面を、上記流体の少
なくとも１部が堰を超えて第２貯槽の中へ流れ込むに先
立って対象物の表面と接触するように堰の上方に配置さ
れている対象物表面と接触させる

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は種々の物体をクリーニン
グする方法に関する。より特別には、本発明は、種々の
曲面や平坦面を有する物体を超超音波（megasonic)振動
の利用のもとにクリーニングする方法及び装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】例えばラップトップ型コンピュータ、高
精細度テレビション及びコンピュータブラウン管等にお
いて用いられる平坦パネルディスプレー、例えばレン
ズ、色フィルタ及び鏡等の光学機器類、ハイブリッド回
路板、シリコンウエハ及びゲルマニウムウエハ等の種々
の製品の製造において、例えば約１０ミクロン以下のよ
うな薄い薄層塗膜の塗装がますます重要な工程段階にな
ってきている。
【０００３】このような塗装の厚さが例えば約１ミクロ
ン又はそれ以下に低下するにつれてその対象物の表面は
その塗装に最低の欠陥を保証するために極めて清浄にな
るように塗装されることが必要である。例えば或種の活
性ディスプレーパネルは、それぞれが約５００オングス
トロームないし５ミクロンの厚さを有している１０ない
し１５層の塗装を有する。或種のウエハは約０．５ミク
ロンのオーダーの導電性線間隔を有している。従って約
１ミクロン以下と言うような小さな粒子でさえこれらの
極端に薄い塗装を阻害し、また塗装内に欠陥を生ずるこ
とができる。
【０００４】超音波トランスジューサがクリーニング用
溶液の中に振動を導入して対象物の表面から粒子を除去
するのを促進するためにしばしば用いられる。超音波ト
ランスジューサは約１０から約４０キロヘルツ（ＫＨ
ｚ）の振動数で振動する。超音波クリーニングは比較的
大きな粒子を動かすのに有効であるけれども、これは約
１ミクロン以下の粒度を有する粒子の除去には実際上無
効である。
【０００５】超超音波クリーニングは超音波クリーニン
グと類似の方法であるが、これは約８００ＫＨｚから
１．８メガヘルツ（ＭＨｚ）の振動周波数を用いる。超
超音波クリーニングは約１ミクロン以下の粒度を有する
粒子の除去に極めて有効であることがある。
【０００６】超音波クリーニング法及び超超音波クリー
ニング法は通常、各対象物を液態クリーニング用流体の
浴液の中に浸漬し、そしてその超音波振動又は超超音波
振動をそのクリーニング用流体を通して導入し、それに
よりその対象物の表面に付着している粒子を脱落させる
ことを含む。このようなクリーニング方法は通常、バッ
チ式の方法で行われ、それにより各対象物のクリーニン
グの後及び次の、例えば塗装等の工程段階に先立ってロ
ボット又は人手による処理を必要とする。従って小さな
粒子はそのような処理の間に容易にそれらの表面に付着
できる。
【０００７】種々の対象物に薄い塗装を施すための特に
有効な方法の１つが、１９８３年１月２５日に発行され
た米国特許第４，３７０，３７６号公報に記述されてい
る。その特許権者は公報第１欄、４１ないし５７行に次
のように記述している：「本発明によれば基材のような
対象物のメニスカス塗装が、塗装材料を透過性で傾斜し
た表面を通して、その傾斜した表面の外側の上で塗装材
料の下向きの層流が作り出されるように流すことにより
行われる。塗装されるべき表面を有する対象物は、その
塗装されるべき表面がその流れている塗装材料の傾斜し
た透過性表面のメニスカスの頂部のところで塗装材料の
層流をさえぎるようにその塗装材料の下向きの層流に対
して切線方向へ前進させられ、そしてその塗装されるべ
き表面と接触している塗装材料の先行端及び末尾端のと
ころでともに支持される。その塗装された表面からの沈
着した過剰の塗装材料の均一な分離及び抜き出しはそれ
ぞれの一様なメニスカス及びその傾斜面の外側上での塗
装材料の定常的な下向きの層流によって確保される。」
【０００８】その特許権者は更に、対象物の表面を塗装
に先立ってクリーニングしておいてもよいと述べてい
る。この特許権者はまたその第６欄、３８ないし４６行
において次のように述べている：「各クリーニング法は
ブラシ、超音波スクラッビング及び／又は他の機械的な
スクラッビング法による溶剤洗浄を含むことができる。
次に基材は溶剤の乾燥と除去とに先立って高純水及び／
又は溶剤によりすすぎを行うことができる。また多孔質
円筒状のアプリケータをその基材を溶剤でクリーニング
し、すすぐために用いてもよい。溶剤の乾燥は、制御さ
れたガスの流れ及び／又は真空法による蒸発的操作を含
むことができる。」
【０００９】しかしながら、このようなクリーニング方
法は例えば約１ミクロンよりも大きな比較的大きな粒子
を除去するには典型的に有効ではあるけれども、それら
の方法はしばしば約１ミクロンよりも小さな粒度を有す
る粒子を除去するには無効である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】従って、例えば約１ミ
クロンよりも小さな微小粒子を除去するためにそれら対
象物の表面をクリーニングするための方法と装置とが望
まれる。加えて、そのような対象物を粒子の存在に対し
て敏感な引き続く種々の工程段階に直接先立って使用で
きるようにクリーニングするための方法及び装置が望ま
れる。
【００１１】本発明によれば、例えば約１ミクロンより
も小さな微小粒子を除くために対象物の表面をクリーニ
ングする方法と装置とが提供される。本発明により、い
まや例えば塗装等のような粒子の存在に対して敏感な工
程段階に先立って対象物を中間的に処理する必要なくそ
れらの表面をクリーニングすることが可能である。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の様相（アスペク
ト）の１つにおいて、対象物をクリーニングするための
方法が提供される。この方法は ａ）堰を備えた第１貯槽の中に入れられていて上方液面
を有する液態のクリーニング用流体の中に、上記流体の
上方液面が堰の上方に少なくとも０．５ｍｍ上昇して上
記流体が堰を越えて第２貯槽の中へ流入することをもた
らすのに有効な超超音波振動を導入し、そして ｂ）堰よりも上の流体の上方液面を、この流体の少なく
とも１部が堰を超えて第２貯槽の中へ流れ込むに先立っ
て対象物の表面と接触するように堰の上方に配置されて
いる対象物表面と接触させる各工程段階を含む。
【００１３】本発明のもう一つのアスペクトにおいては
対象物をクリーニングするための装置が提供される。こ
の装置は ａ）少なくとも部分的に開放している上側端と、少なく
とも部分的に閉じている底部端と、少なくとも１つの側
壁と、及び上側端に配置された堰とを有する第１貯槽、 ｂ）少なくとも部分的に開放している上側端と、少なく
とも部分的に閉じている底部端と、及び少なくとも１つ
の側壁とを有する第２貯槽〔但しこの第２貯槽はこのも
のの上側端が第１貯槽の上側端よりも下方にあって、第
１貯槽から堰を超えて流れる液態のクリーニング用流体
を受け取るように整列して配置されている〕、及び ｃ）第１貯槽の底部端に配置され、そしてこの底部から
第１貯槽の上側端へ向かい一般に垂直の方向へ超超音波
振動を発生させることのできるトランスジューサを含
む。
【００１４】
【作用】クリーニングされる個々の対象物は本発明にと
っては重要ではない。典型的にはクリーニングは、例え
ば種々の塗装操作における前処理段階として、又は或る
表面の接着特性を改善するための前処理段階として、或
いは或る対象物の表面濡れ特性を改善するための前処理
段階として必要である。本発明の方法及び装置は中で
も、必ずしもそれに限定されるものではないが、平坦
な、又は弯曲した種々の表面を有する対象物をクリーニ
ングするのに適している。このような対象物の例は、必
ずしもそれらに限定されるものではないが、例えばラッ
プトップ型コンピュータ、高精細度テレビジョン及びコ
ンピュータブラウン管等において用いられる平坦なパネ
ルディスプレー、例えばレンズ、色フィルター及び鏡の
ような光学機器類、ハイブリッド回路板、シリコーンや
ゲルマニウムのウエハ（その技術分野で半導体とも呼ば
れている）及びメモリーディスク等を包含する。加え
て、それら対象物の表面は例えばガラス板のように平滑
であるか、又は例えばシリコンウエハやゲルマニウムウ
エハのように段差のある形状を有して不規則な場合があ
る。それら対象物の典型的な材料は、例えばガラス、セ
ラミック、金属、プラスチック及びそれらの組み合わせ
を含む。
【００１５】以下において「粒子物質」とも呼ばれる微
粒子は一般に約１０ミクロン以下の粒度を有する。好ま
しくはこの粒度は約１ミクロン以下であり、そして最も
好ましくは約０．１ないし１ミクロンである。このよう
な粒子物質はしばしばその製造工程が実施されていると
ころの大気の中に、またクリーンルームの環境内でさえ
存在する。このような粒子物質の発生源は例えば、塵
埃、微生物及び有機性蒸気を包含する。
【００１６】個々の液態クリーニング用流体は本発明に
とって重要ではない。典型的なクリーニング用流体は、
例えば種々の溶剤及び洗浄剤を含む。しかしながら溶剤
類が一般に好ましく、と言うのはそれらは水性洗浄剤よ
りも一般に揮発性が高く、従ってそれら溶剤を蒸発させ
るために要する時間が少なくて済むからである。例えば
１ないし４個の炭素原子を有するもののような低級アル
コールは溶剤の好ましい１群である。エタノールやイソ
プロピルアルコールは本発明に従い使用するのに特に好
ましいクリーニング用流体である。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を添付の図面の参照のもとに更
に詳細に記述するが、これらは説明のためにのみあげて
あるものであって、この出願の特許請求の範囲を制限し
ようとするものではない。当業者にはこれらの図面が単
純化された形で示されており、そして例えば弁類、スイ
ッチ類、プロセス制御手段、結線、加熱要素等のような
当業者によく知られたものを示していないことが認めら
れるであろう。
【００１８】図１は本発明に従うクリーニング方法を図
式的に説明するものである。好ましくは第１貯槽１２の
中に入れられている液態のクリーニング用流体１１の中
へ約８００ＫＨｚから１．８ＭＨｚまでの振動周波数を
有する超超音波振動を導入するためにトランスジューサ
１０が用いられている。超超音波振動の導入に先立って
この流体は第１貯槽内で「水準１」のところに上方液面
を有している。
【００１９】トランスジューサ１０を賦勢させると超超
音波振動が流体を通して上向きに進み、そして上方液面
を堰１３の上方の「水準２」まで押しあげる。典型的に
は上方液面すなわち「水準２」と堰との間の高さの差は
少なくとも約０．５ｍｍ、好ましくは約１ないし１０ｍ
ｍ、そして最も好ましくは約２ないし５ｍｍである。好
ましくはこの超超音波振動の発生は第１貯槽の或る低い
位置からであり、そしてその音波は流体を通して第１貯
槽の底部端から上側端へ向かい、一般に垂直の方向へ進
行する。流体の移動を達成するのに必要な入力エネルギ
ーの水準は第１貯槽内の流体の容積に依存し、そして当
業者によって決定することができる。例えば、約２リッ
トルのオーダーの流体容積に対しては、典型的な入力エ
ネルギー水準は約２０から１００ワットまでの範囲であ
る。
【００２０】液面が堰１３の上方へ上昇したならば、流
体１４の１部は堰を越えて第２貯槽１５の中に流入し、
そしてこの溢流はこれに捕集される。流体の上方液面、
すなわち堰の上方の流体は次にそのクリーニングされる
べき対象物１６の表面と接触するに至るが、このものは
一般にその流体の少なくとも１部が堰１３を越えて第２
貯槽１５の中に流入するに先立って上記表面と接触する
ように堰の上方に配置されている。対象物１６の向きは
好ましくはクリーニング用流体の上方液面に対して逆向
きであるのがよい。接触は、例えば第１貯槽１２を流体
の上方液面が対象物と接触する水準まで持ちあげるか、
又はその代わりに対象物のその表面を流体の上方液面と
接触するまで下降させることによって行なうことができ
る。好ましくはこの接触は第１貯槽を堰１３がほとんど
その対象物１６の表面と接触し、そしてメニスカス１７
が形成されるのに充分な水準まで上昇させるようにして
行なわれるが、このメニスカスは対象物１６の表面と第
１貯槽１２の上側端との間の、例えば約１ないし５ｍｍ
の高さの液柱を含む。次に第１貯槽１２を、メニスカス
１７はなお維持されるけれども堰１３の上方で流体１４
の実質的に自由な流れが存在するような高さまで降下さ
せる。典型的には第１貯槽の上側端、すなわち堰１３と
対象物１６の表面との間の距離は、第１貯槽１２を下降
させてしまった後で約１ｍｍよりも大きく、そして好ま
しくは約２ないし１０ｍｍである。
【００２１】クリーニングは或る静止位置において行な
ってもよく、又はそのかわりに対象物１６を第１貯槽１
２に対して前進させてもよい。対象物１６か、又は第１
貯槽１２か、或いはその両者を物理的に移動させてこの
前進を行なうことができる。対象物１６を一般に水平の
方向へ、第１貯槽１２に対して前進させるのが好まし
い。しかしながら対象物１６の向きは所望の場合には傾
斜させてもよい。典型的な前進速度は１分間当り約１０
ないし１０００ｍｍであり、そしてより典型的には１分
間当り約２５ないし２５０ｍｍである。対象物１６は矢
印の方向へ前進させて溶剤１８の液膜を提供するように
し、この溶剤は好ましくは対象物１６の前進速度に対応
するか、又はそれよりも速く蒸発する。所望の場合、溶
剤の蒸発速度の上昇のために加熱及び／又は例えば窒素
ガスのような不活性ガスによるパージングを用いること
ができる。このような技術は当業者によく知られてい
る。
【００２２】流体は第２貯槽１５からライン１９を介し
て抜き出され、そしてこの流体を第１貯槽１２へ戻して
再循環するためにポンプ２０へ送られる。好ましくはこ
の再循環は第１貯槽１２の中の流体１１が堰１３を超え
て第２貯槽１５の中へ流れ込むことをもたらす。これが
超超音波振動のクリーニング作用を高めると信じられ
る。従って好ましくはポンプ２０を通る流量は堰１３を
越える流体の流れを作り出すのに充分であるのがよい。
循環速度は一般に１００分間当り約１容積の流体から１
分間当り約１容積の流体までの範囲である。クリーニン
グ用流体の容積は本発明にとっては重要ではないけれど
も、典型的には約１０ｍｌから約１０リットルまでであ
る。再循環段階は好ましくは超超音波振動の導入及びそ
の流体の対象物１６表面との接触の各段階の間に連続的
に行なわれる。ライン２１内の流体の圧力は典型的には
濾過装置の空孔の大きさ及びそのクリーニング用流体の
粘度に依存して約２ないし６ｐｓｉｇである。なお、ｐ
ｓｉは0.０７ｋｇ／ｃｍ2 として大略換算する。以下の
記載についても同様である。
【００２３】第２貯槽１５から抜き出された流体はしば
しば粒子物質を含んでいる。従ってこの抜き出された流
体をポンプ２０からライン２１を経て濾過装置２２へ送
り込むのが好ましい。典型的にはその濾過段階はライン
２１中の約０．１ミクロンよりも大きな粒度を有する粒
子物質の少なくとも約９０％、そしてより好ましくは少
なくとも約９９％を除去するのに有効であるのがよい。
濾過されて加圧された流体は濾過装置２２からライン２
３を介して抜き出され、加熱−冷却用要素２４を通過
し、そしてライン２５を介して第１貯槽１２の中に導入
される。
【００２４】本発明のクリーニング方法は各対象物の表
面から約１ミクロンよりも小さな粒度を有する粒子を除
去するのに有効であることができる。好ましくはクリー
ニングの後でその対象物の表面上の約９０％よりも少な
く、そしてより好ましくは約９９％よりも少ない粒子が
約０．１ミクロンよりも大きな粒度を有する。クリーニ
ングの後でその表面の上に残留する粒子の量及び粒度の
測定方法は当業者に知られている。
【００２５】クリーニングの実施される温度は本発明に
とって重要ではないが、一般にその方法をクリーニング
用流体の沸点以下の温度において実施するのが好まし
い。典型的な実施温度は約６０ないし１５０度Ｆの範囲
である。好ましくはクリーニングをほぼ外気温度、すな
わち室温ないし外気温度よりも約１５度Ｆ高い温度で実
施し、それにより周囲の大気中から水分が対象物の表面
上に凝縮するのを防ぐのが好ましい。本発明の利点の１
つは、超超音波振動がしばしばその対象物の表面温度を
約１５度Ｆまで上昇させるのに有効であると言うことで
ある。この温度上昇はクリーニングの後でその表面の上
に残留しているクリーニング用流体の蒸発速度を高める
ことが見出されている。上述した加熱−冷却要素２４は
そのクリーニング用流体の温度を所望の温度に制御する
のに有用である。なお、°Ｆは9/5×℃＋32℃によって
換算する。以下の記載においても同様である。
【００２６】クリーニングの実施される圧力も本発明に
とっては重要ではない。大気圧以上の圧力及び真空圧力
を使用することもできるが、典型的にはこの方法はほぼ
大気圧の圧力において実施される。例えばクリーニング
段階をパージガスを用い、窒素、ヘリウム又はアルゴン
のような不活性雰囲気中で例えば２ないし５ｐｓｉｇの
僅かに大気圧以上の圧力において実施するのが好ましい
ことがある。同様に、このクリーニング段階を、その蒸
発している溶剤の流れを所望の位置へ指向させるために
例えば約１ｐｓｉｇよりも低い僅かな真空の条件のもと
で実施するのも好ましい場合がある。
【００２７】本発明の方法は対象物の表面を引き続く例
えば塗装、接着促進又は濡れ特性改善のような処理段階
に先立ってクリーニングするのに用いることができる。
それらの方法はそのクリーニング段階を後続の工程段階
に直接先立って実施するように１つの工程に総合した場
合に特に有用である。本発明のクリーニング方法を実施
するのに、その塗装段階が逆向きにされた或る対象物の
上で実施されるので例えば前に引用した米国特許第４，
３７０，３５６号に記述されている塗装方法を容易に適
合させることができる。すなわち本発明の方法はその塗
装段階に直接先立ってインライン（in line)において実
施することができる。その塗装段階が直立した表面上
で、例えばスピン塗装、スプレー塗装又はローラ塗装等
により行われるような他の種々のプロセスにおいてさ
え、本発明の方法は対象物を保持するための回転チャッ
クを用いることによって容易に組み入れ、総合化するこ
とができる。このような回転チャックについての詳細は
当業者に知られている。
【００２８】図２は本発明に従う装置を図式的に示すも
のである。この装置は少なくとも部分的に開放されてい
る上側端３１を有する第１貯槽３０と、少なくとも部分
的に閉じられている底部端３２と、少なくとも１つの側
壁３３と、及び上記上側端に配置された堰３４とを含
む。好ましくは上側端３１は完全に開放されている。好
ましくは底部端３２はライン４６を介しての流体の移送
を許容する通路を除いて閉じられており、その供給源は
後で記述する。これと異なって、底部端３２が完全に閉
じられていてライン４６のための開口が側壁内に存在す
るようにすることもできる。側壁３３の数は第１貯槽の
断面形状に依存する。上方から見て第１貯槽は例えば円
形、正方形、矩形、三角形又は楕円形の断面を有するこ
とができるが、もちろん他の断面形状も本発明の技術範
囲内にある。好ましくは例えば円形断面の１つの側壁が
存在するか、又は例えば矩形断面で４つの側壁が存在す
る。好ましくは１つ又はいくつかの側壁の上側端が堰を
形成する。すなわち例えば第１貯槽３０が矩形の断面を
有している場合は、各側壁の上側端がその堰を形成す
る。例えばもし第１貯槽３０が円形断面を有している場
合は、連続した１つの側壁が存在し、これがその上側端
において堰を形成している。これと異なって、その堰は
例えば１つの側壁に取りつけられた別個の要素として存
在していることもできる。
【００２９】この装置はまた、少なくとも部分的に開放
している上側端３６と、少なくとも部分的に閉じている
底部端３７と、及び少なくとも１つの側壁とを有する第
２貯槽３５をも含む。好ましくは上側端３６は完全に閉
じられているのがよい。好ましくは底部端３７はライン
４０を介しての流体の移送を許容するための通路を除い
て閉じられているのがよく、その供給源は後述する。こ
れと異なって、底部端３７が完全に閉じられていてライ
ン４０のための開口が側壁内に存在するようにすること
もできる。側壁３３の数は第１貯槽３０と同様にその断
面形状に依存する。好ましくは第２貯槽３５は第１貯槽
３０と同じ断面形状を有し、その際第１貯槽３０は第２
貯槽３５内に一般に同心的に配置されているのがよい。
好ましくは第２貯槽３５は、その上側端３６が第１貯槽
３０の上側端３１よりも低い位置に配置されて、第１貯
槽３０から堰３４を越えて流入する液態クリーニング用
流体を受けるために整列しているように配置されている
のがよい。第２貯槽３５は第１貯槽３０と物理的に分離
された要素であるか、又はそれに取りつけられている
か、或いは例えば鋳造されたもののようにこのものの一
体化された部分であることができる。当業者は第２貯槽
３５が第１貯槽３０からのクリーニング用流体の第２貯
槽３５への流れを許容するために種々の態様で第１貯槽
３０とともに形成されていることができるのを認めるで
あろう。
【００３０】第１貯槽３０及び第２貯槽３５を構成する
材料は本発明にとっては重要ではない。典型的な構造材
は例えば金属、ガラス、セラミック、プラスチック及び
それらの組み合わせを含む。好ましくは濡れを生じない
材料、すなわちクリーニング用流体に対して非親和性
の、すなわち「疎液性」の材料が第１貯槽３０の内側上
方部分において用いられてこの流体の逆転メニスカス又
は負のメニスカスを作り出すようにするのがよく、それ
によってその第１貯槽３０が流体で満たされたときにこ
の流体は堰３４の上方へ盛り上がる。
【００３１】この装置はまたトランスジューサ３９をも
含んでいるが、これは前述したように超超音波振動を放
射することのできる装置である。トランスジューサ３９
の断面形状は本発明にとって重要ではないけれども、一
般にこのトランスジューサは第１貯槽３０と同じ断面形
状を有しているのが好ましい。このような超超音波トラ
ンスジューサについての詳細は当業者に知られている。
本発明の装置において用いるのに適した超超音波トラン
スジューサは例えばコネチカット州ダムバリーのＢｒａ
ｎｓｏｎ Ｕｌｔｒｓｏｎｉｃｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉ
ｏｎから入手できる。トランスジューサは底部端３２か
ら上側端３１へ向けて一般に垂直方向への超超音波振動
を生ずるように第１貯槽３０の底部端３２に配置され
る。トランスジューサ３９はまた例えば底部端３２の下
方に取りつけることもでき、そしてこの底部端３２は超
超音波振動に対して透過性の、例えば石英のような物質
よりなることができる。
【００３２】好ましくはこの装置は更に、第２貯槽３５
から流体を抜き出してこの抜き出された流体を第１貯槽
３２へ再循環するための手段を含む。この装置は更に、
その抜き出された流体を濾過して粒子物質を除去するた
めの手段をも含んでいるのが好ましい。第１導管４０が
設けられていて、これは第２貯槽３５の底部端３７に連
結され、かつ第２貯槽３５の内部と連通している第１端
部及びポンプ４１の入口に連結された第２端部を有して
いる。第２導管４２が設けられており、これはポンプ４
１の出口と連結された第１端部及び濾過装置４３の入口
と連結された第２端部を有している。第３導管４４が設
けられており、これは濾過装置４３の出口に連結されて
いる第１端部及び加熱−冷却要素４５の入口と連結され
ている第２端部を有している。第４導管４６は加熱−冷
却要素４５の出口端部に連結された第１端部及び第１貯
槽３０の底部端３２に連結されかつ第１貯槽３０の内部
に連通している第２端部を有している。
【００３３】本発明の装置において使用するのに適した
ポンプ、濾過装置及び加熱−冷却要素についての詳細は
当業者に知られており、そして市販において入手するこ
とができる。本発明に従って用いられる好ましい濾過装
置は約０．１ないし１０ミクロンの範囲の粒度を有する
深層フィルタである。このような深層フィルタは例えば
マサチューセッツ州ベッドフォードの Ｍｉｌｌｉｐｏ
ｒｅ Ｃｏｒｐ．から市販で入手することができる。粒
子物質を除去するための他の手段としては、膜濾過によ
るものがあり、それらの詳細は当業者に知られている。
【００３４】好ましくは、装置を使用しないときにクリ
ーニング用流体の蒸発を最小限に抑えるために蓋４７が
設けられているのがよい。
【００３５】装置の全体の大きさは本発明にとって重要
ではない。クリーニングはその対象物のクリーニング用
溶液に対する相対的な運動によって引き起こされ得るの
で、この装置は対象物自身よりも小さくてもよい。本発
明に従う典型的な装置は第１及び第２貯槽を収容するた
めに約１から６インチまでの長さ、すなわち図２のＡ点
からＢ点までの距離、を有する。幅は典型的には塗装さ
れる対象物の幅に依存するが、これはしばしば約６ない
し２４インチの範囲である（図２には示されていな
い）。なお、インチは2.５４ｃｍとして大略換算する。
【００３６】以上、本発明はいくつかの特別なアスペク
トについて詳細に説明したが、当業者には本発明の技術
的範囲内において多くの変更が可能であることは明らか
であろう。例えばここに記述したそれぞれの塗装方法に
加えて、当業者には、例えば金属化のように基材に金属
被覆を施す前、又はその後におけるクリーニング段階等
のように本発明を他の種々のプロセスに適用できること
は明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に従うクリーニング方法の図式説明図。
【図２】本発明に従うクリーニング装置の図式説明図。
【符号の説明】 １０ トランスジューサ １１ クリーニング用流体 １２ 第１貯槽 １３ 堰 １４ 流体 １５ 第２貯槽 １６ 対象物 １７ メニスカス １８ 溶剤膜 ２０ ポンプ ２２ 濾過装置 ２４ 加熱−冷却要素 ３０ 第１貯槽 ３１ 上側端 ３２ 底部端 ３３ 側壁 ３４ 堰 ３５ 第２貯槽 ３６ 上側端 ３７ 底部端 ３８ 側壁 ３９ トランスジューサ ４０ 第１導管 ４１ ポンプ ４２ 第２導管 ４３ 濾過装置 ４４ 第３導管 ４５ 加熱−冷却要素 ４６ 第４導管 ４７ 蓋

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 種々の対象物をクリーニングする方法に
    おいて、 ａ）堰を備えた第１貯槽の中に入れられていて上方液面
    を有する液態のクリーニング用流体の中に、上記流体の
    上方液面が堰の上方に少なくとも０．５ｍｍ離れて上昇
    して上記流体が堰を越えて第２貯槽の中へ流入すること
    をもたらすのに有効な超超音波振動を導入し、そして ｂ）堰よりも上の上記流体の上方液面を、上記流体の少
    なくとも１部が堰を超えて第２貯槽の中へ流れ込むに先
    立って対象物の表面と接触するように堰の上方に配置さ
    れている対象物表面と接触させることを含む方法。
  2. 【請求項２】 更に、堰に対してその対象物の上記表面
    をだいたい水平の方向へ前進させることを含む、請求項
    １の方法。
  3. 【請求項３】 更に、上記流体を第２貯槽から抜き出し
    てこの抜き出された流体を第１貯槽へ導入することによ
    り上記流体を循環させることを含む、請求項１の方法。
  4. 【請求項４】 上記振動が、上記流体の上方液面を堰の
    上方へ約１から１０ミクロンの高さまで上昇させるのに
    有効である、請求項１の方法。
  5. 【請求項５】 約８００ＫＨｚから１．８ＭＨｚまでの
    振動数で超超音波振動を導入する、請求項１の方法。
  6. 【請求項６】 種々の対象物をクリーニングする装置に
    おいて、 ａ）少なくとも部分的に開放している上側端と、少なく
    とも部分的に閉じている底部端と、少なくとも１つの側
    壁と、及び上側端に配置された堰とを有する第１貯槽、 ｂ）少なくとも部分的に開放している上側端と、少なく
    とも部分的に閉じている底部端と、及び少なくとも１つ
    の側壁とを有する第２貯槽〔但しこの第２貯槽はこのも
    のの上側端が第１貯槽の上側端よりも下方にあって、第
    １貯槽から堰を超えて流れる液態のクリーニング用流体
    を受け取るように整列して配置されている〕、及び ｃ）第１貯槽の底部端に配置され、そしてこの底部から
    第１貯槽の上側端へ向かいだいたい垂直の方向へ超超音
    波振動を発生させることのできるトランスジューサを含
    む装置。
  7. 【請求項７】 上記少なくとも１つの側壁が上記堰を含
    む上側端を有する、請求項６の装置。
  8. 【請求項８】 第１貯槽が４つの側壁を有し、そして各
    側壁の上側端が上記堰を形成する、請求項７の装置。
  9. 【請求項９】 第１貯槽が円形の断面を形成する１つの
    連続側壁を有し、その際この側壁の上側端が堰を形成し
    ている、請求項７の装置。
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