CN102891078A - 用于衬底圆片的单面湿处理的装置和方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于对衬底圆片进行湿处理的装置，该装置具有多个池，各池分别具有用于引入工艺液体的至少一个第一入口和平坦的水平定向的上边缘。设置用于运输衬底圆片经过沿该运输单元的运输方向相继设置的至少两个池的运输单元，其中运输单元具有多个位于池之外的衬底运送元件，这些衬底运送元件从下面与待运送的衬底接触并运送衬底。此外还涉及一种用于对衬底圆片进行湿处理的方法，在该方法中，衬底圆片经由运输单元沿运输方向经过沿运输方向相继设置的至少两个池运输。在运输过程中，衬底圆片置于至少两个衬底运送元件上面，这些运送元件设置在池外面并从下面与衬底圆片接触，其中工艺液体分别如此引入池中，以使工艺液体至少局部地越过池的上边缘，并且其中衬底圆片被如此运输，以使工艺液体与衬底圆片的底面接触。

Description

用于衬底圆片的单面湿处理的装置和方法

技术领域

本发明涉及一种用于衬底圆片，特别是用于半导体和/或光伏工业的半导体圆片的湿处理的装置和方法。

背景技术

在制造例如储存芯片、微处理器的电子部件时但也在光伏工业(Photovoltaik)或平面显示器领域中，用于制造终端产品的不同制造步骤是必要的。在此，例如在制造产品时将用于构成电子部件的不同层放置到对应的衬底圆片上。这时，对衬底圆片进行湿处理总是必要的。在此有必要有针对性地仅使衬底圆片的一面和如必要使衬底圆片的侧边暴露于工艺液体。相应湿处理的常见例子是蚀刻处理，在蚀刻处理时仅衬底圆片的一面经受蚀刻液体。

例如在EP 1733418A1中描述了能对衬底圆片进行单面湿处理的装置和方法。特别是，在该出版物中描述了这样一种装置和方法，即，设置在工艺液体中的运输辊子上的晶片越过工艺液体运输。蚀刻液体被认为是一种可能的工艺液体。通过晶片起初的翻转运动，该晶片应浸入工艺液体中并随后又被抬高。抬高后，在充分利用工艺液体的表面张力的情况下，在液体表面和晶片的晶片底面之间形成弯月面(Meniskus)。由此，在后续运输晶片经过工艺液体时，实现晶片底面的完全湿润，而没有工艺液体到达晶片的顶面。在此，用于保持工艺液体的工艺池的尺寸设计为大于待处理的晶片，以使得晶片可以完全设置在工艺池和位于工艺池内的工艺液体上方。

对于这种装置和方法，存在与工艺液体接触的运输元件(辊子、轴承等)会将污染带入工艺液体中并由此影响该工艺的可能性。这些元件本身也会由于与工艺液体的持续接触受到损坏。此外，对于上述的装置和方法存在这样的危险：工艺液体不期望地到达不需处理的晶片顶面。当例如运输系统未被精确校准时，这可能尤其在最初浸入时发生。尤其在沿运动方向的前边缘浸入工艺液体时，会产生溅洒。工艺液体也会由于蚀刻液体中不期望的涡旋和蚀刻液体的物理特性(例如蚀刻液体的粘度或密度)的变化而到达晶片顶面上。通过表面上小通道的毛细作用，工艺液体可快速分布，这些小通道例如在太阳能电池衬底的情况下因先前的表面纹路而可能已出现，或者通过电子部件的结构而形成。

此外，由于工艺池的较大表面积而使工艺液体的蒸发较多，这种蒸发可沉积到不需处理的晶片顶面并在此导致不期望的气相反应。因为工艺区域内较强的抽吸会产生不利的气流，所以较难进行相应的大面积的抽吸。

发明内容

从现有技术出发，本发明的任务在于提供用于对衬底进行单面湿处理的装置和方法，该装置和方法克服上述问题中的至少一个问题。

根据本发明提供根据权利要求1的装置和根据权利要求10的方法。在从属权利要求中可得出本发明的其它构造。

特别是，该装置具有多个池，以及运输单元，这些池分别具有用于引入工艺液体的至少一个入口和平坦的水平定向的上边缘，并且该运输单元用于运输衬底圆片经过这些池中沿运输单元的运输方向相继设置的至少两个池。运输单元具有多个位于池外的衬底运送元件，这些运送元件从下面与要运送的衬底接触并运送这些衬底。

在衬底圆片经过注有工艺液体的多个池的运动过程中，该装置使衬底圆片底面可以单面润湿。与单个池相比，具有多个相继的池的构造总体上减小工艺液体表面和与之相联系的关于工艺液体蒸发的缺点。此外，工艺液体体积总体大幅减小。还可以在各池之间无问题地向下抽吸空气，以在工艺液体蒸发时防止工业液体上升并沉积到衬底圆片顶面上。

在本发明的一个实施形式中，从运输单元的运输方向看，至少在每个池前面和后面设置至少一个衬底运送元件，以确保可靠的运输。在此，除了用于运送衬底的直线运动之外还可提供衬底的向上和向下运动的类型的衬底运送元件的至少一部分。由此，在经过池的运动时可避免衬底圆片的沿衬底圆片的运输方向的前边缘浸入工艺液体中或者与其接触并由此导致不受控制的溅洒。特别是，这些衬底运送元件可以是具有至少一个凸轮凸角的运输辊子。衬底运送元件的至少一部分还可以是运输杆，这些运输杆沿椭圆形轨道进行循环运动。

在一个实施方式中，在至少一个池中设置至少一个第二入口，该第二入口适于使工艺液体垂直向上流动。这种流动能够提供局部的或持续性或周期性的液位局部升高。在此，第二入口较佳地高度上在第一入口上方。此外，还可设置一个控制单元，该控制单元能够经由至少一个第二入口将工艺液体如此引入具有至少一个第一和第二入口的池中，以使得已流经工艺池的上边缘的工艺液体的液位被抬高到第二入口上方。在运动经过池时可通过第二入口的相应控制避免衬底圆片的沿衬底圆片的运输方向的前边缘浸入工艺液体或者与其接触并由此导致不受控制的溅洒。

较佳地，第二入口具有水平延伸的管道部，该管道部至少在池的一半宽度上延伸并具有至少一个朝向上的排出口。

在本发明的一个实施方式中，该装置具有至少一个抽气单元，该抽气单元与至少一个池相邻并具有抽气口，该抽气口位于池的上边缘下方。该抽气单元使池区域内的气流能够基本上从上向下流动。

池可沿运输单元的运输方向具有这样的长度，即该长度与待处理的衬底圆片沿运输方向的长度的最多一半一样长，较佳为最多三分之一一样长。

在一个实施方式中，该装置具有至少一个收集槽(Auffangbecken)，该收集槽关于池如此设置，以使得从池中溢出的工艺液体被收集起来。这使装置能够在溢出模式下运行且溢出的工艺液体能进行循环。

在用于对衬底圆片进行湿处理的方法中，衬底圆片经由运输单元沿运输方向运输经过沿运输方向相继设置的至少两个池。在运输过程中，衬底圆片置于至少两个衬底运送元件上面，这些运送元件设置在池外面并从下面与衬底圆片接触。工艺液体分别如此引入池中，以使得工艺液体至少局部地越过池的上边缘，且衬底圆片被如此运输，以使工艺液体与衬底圆片的底面接触。通过这些方法可以实现已在上面提及的优点。

在一个实施方式中，在运输过程中，衬底圆片的沿运输方向的前边缘在其与工艺液体的至少局部越过池的上边缘的那部分接触之前被抬高，然后，衬底圆片从上面被降低到工艺液体的至少局部越过池的上边缘的那部分上。由此还可避免衬底圆片的沿衬底圆片的运输方向的前边缘浸入工艺液体或与其接触并由此导致不受控制的溅洒。

替代地或者附加地，工艺液体可以如此被引入池中，即提供局部限制的、垂直向上的工艺液体的流动，以使得在这种流动区域内的工艺液体局部越过它通常的液位。由此可实现与衬底圆片底面的良好接触。特别是，周期性地采用这种流动。

较佳地，工艺液体被如此引入池中，以使得它经池的上边缘溢出。

该方法可以被如此控制，以使得一旦衬底圆片前边缘位于工艺液体的入口上方，工艺液体就经由该入口如此引入池中，从而在工艺液体中产生垂直向上的流动，这种流动将工艺液体的液位抬高到入口上方，以使得衬底圆片在其底面处与工艺液体相接触。由此可选择性地调节工艺液体的较高的表面水平。

在该方法的一个实施方式中，与至少一个池相邻的空气被抽吸到池的上边缘下方，以在池的区域内产生从上向下的气流。

附图说明

下面，参见附图进一步阐释本发明，在附图中示出：

图1是用于对衬底圆片进行湿处理的装置的示意俯视图；

图2是根据图1的装置的一部分沿图1中II-II线剖切的示意剖视图；

图3是根据图1的装置的一部分沿III-III线剖切的示意剖视图；

图4是在衬底圆片的湿处理时的不同工序阶段过程中类似于图3的A、B和C示意剖视图；

图5是另一工艺池的立体图，如该池可用于根据图1的装置中那样；

图6是根据图1的装置的另一实施方式的示意侧视图；

图7是用于衬底圆片的湿处理的另一装置的示意侧视图，其中，图6A-H示出衬底圆片的湿处理时不同的工艺阶段；

图8是用于衬底圆片的湿处理的另一装置的示意俯视图。

在下述说明中使用的相对概念，例如左、右、上和下是指图并应当不限制本申请，即使它们可以指较佳的布置。

具体实施方式

图1示出用于衬底圆片3的湿处理的装置1的示意俯视图。在根据图1描绘时仅用虚线表明衬底圆片。

装置1具有多个池5和经过多个池5直线运输衬底圆片的运输单元7。

在根据图1的俯视图中，装置1总共有十二个池5，其中，每三个池5侧向相邻设置，而沿运输单元7的运输方向A相继设置四个池，如下面还将作进一步阐释那样。装置1不限于所述池数和所示布置。更确切地说，装置1具有至少两个池5，这两个池沿运输单元7的运输方向A相继设置。由此确保衬底圆片通过运输单元7运动经过至少两个池5。

在图2和3中可清楚看出不同的剖视图的池5分别具有带有底部9、侧壁10、第一液体入口11和第二液体入口12的构造。在根据图1的视图中，仅示出池5中的一个池的第一和第二液体入口11、12。

底部9和侧壁10形成长方体形向上开口的液体容纳室15。

第一液体入口11延伸穿过池5的底部9并在液体容纳室15的下部区域中开口。第一液体入口11能以合适的方式与工艺液体的供给单元连接，以使液体容纳室15能够注有工艺液体。虽然在图1和图2中仅示出一个第一液体入口11，但是应注意到为了均匀地引入液体还可设置多个第一液体入口11，这些第一液体入口例如还可侧向设置在池5处。

第二液体入口12具有一个第一管道部17及一个第二管道部18。第一管道部17同样延伸穿过池5的底部9并基本上位于中心并且是沿垂直方向的。第一管道部17具有位于池5外的接口端，该接口端能以合适的方式与工艺液体的供给单元连接。第一管道部17的上接口端与第二管道部18流体连通。第二管道部18沿水平方向在液体容纳室15中延伸。在此，第二管道部18设置在液体容纳室15的上半部分中并在池5中横向于运输单元7的运送方向A延伸，如在根据图1的俯视图中清楚可见的那样。在此，第二管道部基本上在液体容纳室15的整个宽度上(横向于运输方向A)延伸。较佳地，第二管道部在池的至少一半宽度上延伸，以提供工艺液体的侧向分布。第二管道部18具有多个排出口19，这些排出口向上，即朝向池5中的开口延伸。也可以设置单个槽开口来代替多个单独的排出口19。

第一液体入口和第二液体入口可以如所述与工艺液体的供给单元连接并可通过合适的但未进一步示出的控制单元彼此独立地用工艺液体来加载。

运输单元7由多个运输辊子22构成，这些辊子分别容纳于对应的驱动轴23上。如在根据图1的俯视图中清楚所示，在装置1中，六个运输辊子22分别容纳于驱动轴23上且总共设置五根驱动轴23。当然，运输辊子22和驱动轴23的数目取决于池5的数目及其布置。

在根据图1的装置中，沿运输单元7的运输方向A分别在池5的前面和后面设置一根运输轴23。因此沿运输方向A，在相邻各池5之间各设置一根驱动轴23。当然，可以在池前面、后面和之间设置附加的驱动轴。

运输辊子22设置成在根据图1的俯视图中分别位于池5的左侧和右侧并且它们沿运输单元7的运输方向A至少部分重叠。

如在根据图1的俯视图中清楚可见，池5沿运输单元7的运输方向A分别具有基本上比待处理的衬底3(沿运输方向)的长度小的长度尺寸。特别是，每个池沿运输单元7的运输方向A具有比衬底圆片的一半长度，较佳比其长度的三分之一小的长度。横向于运输方向A，池5分别具有比待处理的衬底圆片3的相应宽度的一半大，但比衬底圆片3的宽度小的宽度。

如在图2和3中清楚可见，驱动轴3和运输辊子22设置成可以沿运输方向A在池5的各上边缘之上隔开一定距离地运送衬底圆片。在此，运输辊子22之间沿运输方向A的距离被选择成衬底圆片3可被平稳地，即不翻转地运送，这是因为它们总是置于沿运输方向A彼此相继的至少两个或三个运输辊子22上方。

下面将根据图4A-C进一步阐释如图1至3中所示装置中的衬底圆片3的湿处理。

图4A示出衬底圆片3如何在池5的区域内从左向右被运送。池5经由第一入口11(和如必要还经由第二入口12)如此注有工艺液体，以使得工艺液体越过池5的上边缘并溢出。由此，工艺液体的上边缘位于池5的上边缘上面。但如图4A中可看出，工艺液体的顶面还在衬底圆片3的运动路径之下。由此，衬底圆片3无须其它措施就运动越过工艺液体，而不触碰到工艺液体。

当衬底圆片3的前边缘位于池5的中部时，后续的工艺液体经由第二液体入口12引入池5。在此，调节足够大的流动，以使得在排出口19上面产生工艺液体的液位的局部升高。这种升高现在高到与衬底圆片3的底面接触，如图4B中所示。通过工艺液体的表面张力和衬底圆片3的底面的吸水特性，衬底圆片3的底面处的液体分布在整个宽度上。此外，液体还沿(和逆着)运动方向A分布，其中在工艺池5的前边缘和后边缘的区域内分别可形成弯月面，如图4C中所示。衬底圆片可完全越过池5运输，由此衬底圆片3的整个底面与工艺液体接触。

当衬底圆片3被引导经过沿运输方向A相继设置的各个池5时，一再重复该过程。

与上述实施方式不同之处在于，可以仅设置第二液体入口12以及代替第一液体入口11设置与抽吸泵连接的出口。在相应地操纵第二液体入口12和该出口时，可以将工艺液体的液位总体大致保持在池的上边缘区域内并局部升高到第二液体入口12上面，从而液位超出池的上边缘。

如前所述，衬底圆片3具有比池5的宽度尺寸大的宽度尺寸。尽管如此，由于底面的吸水特性可以实现衬底圆片3的底面的完全润湿。但还有必要将池构造得更宽，如下面例如参见图8进一步说明。

以上述方式方法，衬底圆片3可沿运输方向A运动经过多个池。在此，可以在各个池内设置不同的工艺液体，尤其是可以例如在最前面两个池的内部设置蚀刻液体，在第三个池中设置中和液体并在第四个池中设置洗涤液体。本领域技术人员可认识到在装置1的在其中衬底圆片被运送经过多个池5的上述构造中能以更快的依次顺序进行不同的工艺和工艺流程，其中可以确保对衬底圆片的单面处理。

虽然这未进一步示出，但在池5下面可设置用于如上所述会从工艺池中溢出的工艺液体的收集槽。对此，至少可以为在其中设置有同样的工艺液体的池5设置一个共同的收集槽。在收集槽中收集的工艺液体如必要可以经由过滤和/或净化单元引回该工艺，如技术人员所认识的那样。替代地，特别是在池中使用不同的工艺液体时，可以为每个池5设置各自的收集池。本领域技术人员可根据不同的构造可能性认识到这点。

图5示出另一池5的示意立体图，如其可用于根据图1的装置1那样。在根据图5的视图中，可看到设置在用于运输辊子22的两根驱动轴23之间的工艺池5。该池5基本上具有相同的构造，即如前所述具有底部9和侧壁10。同样在池5的底部9中还设置第一液体入口11。还设置第二液体入口12，但该入口仅具有带有垂直向上延伸的喷嘴的垂直延伸的管道部。这种喷嘴会在池5中的工艺液体表面内产生点状升高，如本领域技术人员可识别出的那样。尽管如此，由于衬底圆片的吸水特性，可以完全润湿衬底圆片底面。工艺液体会由于其与衬底圆片衬底底面的点状或线状的接触而传开。

图6示出用于对衬底圆片3的单面湿处理的另一装置1的示意侧视图。在下面的说明中，只要是描述相同或相似的元件，就如前应用相同的附图标记。

该装置1也具有大量池5及运输单元7。池5可分别具有如上所述的相同构造，且因此不对池5作进一步描述。

但根据图6的实施例与在前所述的实施例的不同之处在于运输单元7的构造。运输单元7同样具有分别安置于各驱动轴23上的多个运输辊子22。

与根据图1的实施例相反，在根据图6的实施例中，每个池5分配有一对驱动轴23，并且沿运输方向A(在图6中从左向右)，一根驱动轴在对应的池5之前，而一根驱动轴在在对应的池5之后。因此，在沿运输方向A相邻的两个池5之间分别有两根驱动轴23。

此外，在此实施方式中，运输辊子22构成凸轮表面，这是因为每个运输辊子22分别具有一个凸轮凸角22a。运输辊子22的凸轮凸角22a对于所有运输辊子22都是相同定向的，即，它们都指向相同方向。当装置运行时，驱动轴23被同步驱动，从而凸轮凸角22a的这个定向被保持下来。

如本领域技术人员所理解地，运输辊子22通过凸轮形状来起作用，从而使位于其上的衬底圆片3在沿运输方向A运送时向上和向下运动。由此可实现衬底圆片3的底面在沿运输方向运动时朝向池5的上边缘运动和远离上边缘运动。

由此，衬底圆片的前边缘在运输时可以不浸入工艺液体中。更确切地说，前边缘被抬高到工艺液体的液位之上，以便随后将衬底圆片的底面从上方置于工艺液体上。由此可确保仅衬底圆片的底面被接触。

这可与相应的来流无关地经由第二入口12进行或者与其结合。通过抬高衬底圆片的前边缘，尤其可以经由第二入口持续引入工艺液体并提供液位的局部升高。在此，运输辊子22应如此定位和驱动，以使得它们在与工艺液体接触之前分别抬高衬底圆片3的前边缘。

虽然在图6中所有运输辊子22的凸轮凸角是同向的，但也可以不设置成同向，以使衬底圆片实现不均匀的运动。所有运输辊子22都具有一个凸轮凸角也不一定是必要的。

如果始终周期性地供给工艺液体，则当衬底圆片直接位于液体表面上时，所有运输辊子不必具有凸轮凸角。在这种情况下，衬底圆片的运输在单个运输平面中进行。

图7示出用于对衬底圆片3进行湿处理的装置1的另一实施方式的示意侧视图。只要是描述相同或相似的元件，同样使用与前述实施例中相同的附图标记。特别是，图7在子图a到h中示出通过装置1运输的衬底圆片的不同位置，如下进一步描述。

装置1同样具有工艺池5，这些工艺池可具有与前述工艺池相同的构造。工艺池5可任选地没有第二液体入口或者也具有该第二液体入口。

运输单元7同样具有多个运输辊子22，这些运输辊子同样位于对应的驱动轴23上。但设置较多数目的运输辊子22和驱动轴23。特别是，沿运输单元7的驱动方向A在每个池5之前或之后安置有多根驱动轴23。在此，分别沿运输方向A在池5前面的驱动轴同样承载具有凸轮凸角22A的运输辊子22。

沿运输方向A在池5后面的运输辊子22却不具有凸轮凸角。如在图7h中可见，在沿运输方向A相继的池5之间总共有四个驱动辊子23，其中(位于第一个池5后面的)三个驱动辊子承载正常的运输辊子，而位于下一个池5前面的驱动轴23又承载具有凸轮凸角22A的运输辊子22。通过相应的辊子布置，可得到在图7a到h中所示的衬底圆片3的运动。

在此注意到，池5分别注有工艺液体，且在池5的上边缘上方形成由工艺液体构成的弯月面。衬底圆片3通过驱动轴23的相应转动首先平缓地被运送到工艺池5的区域内。如在图7a中可见，衬底圆片在进一步平缓运送时进入通过池5上面的工艺液体构成的弯月面内。

特别是，衬底圆片的前边缘碰到弯月面，这会导致不受控制的溅洒。为了防止溅洒，在前边缘到达弯月面之前，在前部区域内的衬底圆片23通过直接位于池5前面的运输辊子22的凸轮凸角22A来抬高。在此，抬高的高度高到使前边缘步不进入通过工艺液体构成的弯月面中(参见，图7b)。

在进一步运送时，衬底圆片现在又被降低并平缓运送，由此衬底圆片的底面现在与工艺液体接触。由于工艺液体和衬底圆片底面的特性，可以在进一步运输过程中实现衬底圆片的完全浸润。衬底圆片首先继续平缓地经池5运送走(参见图7c和d)。

当衬底圆片3的大部分已穿过池5时，端部区域再次通过位于池前面的运输辊子22的凸轮凸角22A被抬高和降低(参见图7e和f)。在被抬高过程中，工艺液体继续保持与衬底圆片底面接触，这是因为在该底面与工艺液体表面之间已构成弯月面。

接着，衬底圆片2又平缓地完全经池5运送走并运送到下一个池5的区域内，在该区域中，然后进行相应的运动。

在根据图7的构造中可防止衬底圆片在经过池运动时其前边缘进入在池5上面构成的工艺液体弯月面内。这与池5内的第二液体喷嘴的间歇式加载类似，越过池的上边缘延伸的工艺液体的弯月面可通过这种结构而局部升高，如参照图4a到c中所述那样。如本领域技术人员所理解地，根据图4的工艺流程还可与如它在图7中所述的工艺流程组合。当然，与通过根据图6的装置产生的运动进行相应组合也是可以的。

图8示出用于对衬底圆片3进行湿处理的装置1的另一实施方式的示意俯视图。同样采用与前述相同的附图标记。装置1同样具有多个池5和运输单元7。池5具有与前述相同的基本构造，即，具有底部和侧壁。但池5沿宽度方向(即，横向于运输单元7的运送方向A)分别具有向外渐缩的结构。

运输单元7可具有与参照第一实施例所述的构造相同的构造，具有运输辊子22和驱动轴23。当然，运输单元可具有如在图6或7中所示的构造。

池5沿宽度方向的渐缩允许与运输辊子22的侧向重叠，如在根据图8的俯视图中可见那样。替代地，将池5构造成足够窄当然也是可以的，从而池5可在沿运输方向A相继的运输辊子22之间延伸。在这种情况下，也可以代替多个侧向相邻的池5而设置一个连续的池5，该池例如在图8中从左向右在整个宽度上延伸。在此，然后各衬底圆片3可侧向间隔地运动经过单一长距离池5。

池5的内部构造可具有单个入口11或者也可以具有两个入口11、12或者还可以是如前所述具有由至少一个入口和一个出口构成的组合。

如果池5仅具有一个入口，则该入口构造成允许液体周期性或以变化的压力进入池。然后，该入口较佳地定向成构成垂直朝向上的工艺液体流动，这种流动能够使同样已经高于工艺池的上边缘流动的工艺液体的液位进一步局部提高。因此，当尚未与液体接触的衬底在池5上方时，液体流入的压力例如总是暂时升高，从而衬底底面与液体接触并因此能在池和衬底底面之间形成液体弯月面。替代地也可设想，只有当衬底在池上方时液体才流入池中。当衬底圆片水平地运动经过池时，以此方式形成的弯月面与圆片接触。流入压力可直接在与圆片接触之后又减小。替代地，还可结束液体的进入。圆片继续运动且当衬底圆片不再至少部分位于池上面时弯月面才破开。然后，下一个衬底可运动经过池，且一旦该衬底位于池上面，就重复该过程。

在衬底圆片经过多个注有工艺液体的池的过程中，该装置和方法使衬底圆片底面能够单面润湿。每次经过池时可避免衬底圆片的沿衬底圆片的运输方向的前边缘浸入工艺液体中，或者与工艺液体接触并由此引起不受控制的溅洒。

与单个池相比，具有多个相继设置的池的构造总体上减小工艺液体表面积和由此相联系的关于工艺液体蒸发的缺点。此外，工艺液体体积总体大幅减少。在各池5之间没有问题地向下抽吸空气也是可以的，以在工艺液体蒸发时升高工艺液体并避免下降到衬底圆片上顶面。总的来说，能以简单方式在池5区域内实现向下的气流。

之前根据具体实施例进一步阐释了本发明，但不限制于这些实施例。特别是本领域的技术人员可认识到，本发明不限于所示数目的池和运输辊子和驱动辊子。同样还得出池和运输辊子的具体构造及其布置的不同实施方式，而本文仅说明这些实施方式中的几种。

Claims (18)

1.一种用于对衬底圆片(3)进行湿处理的装置(1)，所述装置具有如下部分：

多个池(5)，所述池分别具有用于引入工艺液体的至少一个第一入口(11)和平坦的水平方向的上边缘；以及

运输单元(7)，所述运输单元用于运输所述衬底圆片(3)经过沿所述运输单元(7)的运输方向(A)相继设置的至少两个所述池(5)，其中所述运输单元(7)具有多个位于所述池(5)之外的衬底运送元件(22)，所述衬底运送元件从下面与待运送的衬底(3)接触并运送所述衬底。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，从所述运输单元的运输方向看，至少在每个所述池的前面和后面设置至少一个衬底运送元件。

3.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，至少一部分衬底运送元件是除了用于被运送的衬底的直线运动之外还提供所述衬底的向上和向下运动的类型。

4.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，至少一部分衬底运送元件是运输辊子，所述运输辊子具有至少一个凸轮凸角。

5.如权利要求1至3中任一项所述的装置，其特征在于，至少一部分衬底运送元件是运输杆，所述运输杆沿椭圆形轨道进行循环运动。

6.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，在至少一个所述池(5)中设置至少一个第二入口，所述第二入口适合于使所述工艺液体垂直向上流动。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述第二入口在高度上位于所述第一入口上方。

8.如权利要求6或7所述的装置，其特征在于，所述装置具有控制单元，所述控制单元能够经由所述至少一个第二入口将工艺液体引入具有所述至少一个第一和第二入口的池中，以使得已经过所述工艺池的所述上边缘流动的工艺流体的液位被抬高到所述第二入口上方。

9.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述第二入口具有水平延伸的管道部，所述管道部至少在所述池的一半宽度上延伸并具有至少一个朝向上的排出口。

10.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有至少一个抽气单元，所述抽气单元在与至少一个所述池相邻处具有抽气口，所述抽气口位于所述池的所述上边缘下方。

11.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述池沿所述运输单元(7)的所述运输方向(A)具有这样的长度，即所述长度与待处理的衬底圆片(3)沿所述运动单元(7)的所述运输方向(A)的长度的最多一半一样长，较佳为最多三分之一一样长。

12.如前述权利要求中任一项所述的装置，其特征在于，所述装置具有至少一个收集槽，所述收集槽关于所述池(5)如此设置，以使得从所述池(5)中溢出的工艺液体被收集起来。

13.一种用于对衬底圆片(3)进行湿处理的方法(1)，在所述方法中，衬底圆片经由运输单元(7)沿运输方向(A)运输经过沿运输方向(A)相继设置的至少两个池(5)，

其中在运输过程中，所述衬底圆片置于至少两个衬底运送元件(22)上面，所述衬底运送元件设置在所述池(5)外面并从下面与所述衬底圆片(3)接触，其中工艺液体分别如此引入所述池(5)中，以使得所述工艺液体至少局部地越过所述池的上边缘，

并且其中所述衬底圆片(3)被如此运输，以使所述工艺液体与所述衬底圆片(3)的底面接触。

14.如权利要求13所述的方法，其特征在于，在运输过程中，所述衬底圆片(3)的沿所述运输方向(A)的前边缘在其与所述工艺液体的至少局部越过所述池的上边缘的那部分接触之前被抬高，然后，所述衬底圆片从上面被降低到所述工艺液体的所述至少局部越过所述池的所述上边缘的那部分上。

15.如权利要求13或14所述的方法，其特征在于，所述工艺液体被引入所述池中，从而提供所述工艺液体的局部限制的、垂直向上的流动，以使得在这种流动区域内的所述工艺液体局部越过它通常的液位。

16.如权利要求13至15中任一项所述的方法，其特征在于，所述工艺液体被引入所述池中，以使得所述工艺液体经所述池的上边缘溢出。

17.如权利要求13至16中任一项所述的方法，其特征在于，一旦衬底圆片前边缘位于工艺液体的入口上方，工艺液体就经由此入口引入所述池中，从而在所述工艺液体中产生垂直向上的流动，所述流动将所述工艺液体的液位如此抬高到所述入口上方，以使得所述衬底圆片在其底面处与所述工艺液体相接触。

18.如权利要求13至17中任一项所述的方法，其特征在于，在所述方法中，与至少一个所述池相邻的空气被抽吸到所述池的所述上边缘下方，以在所述池的区域内产生从上向下的气流。

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