JPH0790038A - フェノール樹脂の製造方法 - Google Patents
フェノール樹脂の製造方法Info
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- JPH0790038A JPH0790038A JP23961793A JP23961793A JPH0790038A JP H0790038 A JPH0790038 A JP H0790038A JP 23961793 A JP23961793 A JP 23961793A JP 23961793 A JP23961793 A JP 23961793A JP H0790038 A JPH0790038 A JP H0790038A
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Abstract
料として、タンタル、ハフニウム、ジルコニウム、ニオ
ブ、チタンから選ばれた金属材料及び/又はそれらの合
金材料を用いた反応装置を使用することを特徴とするフ
ェノール樹脂の製造方法。 【効果】 得られたフェノール樹脂に含有するナトリウ
ム、カルシウム、鉄、銅、カリウム、錫、マグネシウ
ム、珪素、マンガン、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、亜鉛等の金属不純物は極めて低く、より細密化を要
求される電子材料用フェノール樹脂としての使用が可能
となり、電子材料の発展に寄与することが期待される。
Description
属不純物を低減することを可能とするフェノール樹脂の
製造方法に関するものであり、本発明で得られたフェノ
ール樹脂は、より細密化を要求される電子材料用フェノ
ール樹脂として有用である。
樹脂は、ナトリウム、カルシウム、鉄、銅、カリウム、
錫、マグネシウム、珪素、マンガン、アルミニウム、ニ
ッケル、クロム、亜鉛等の金属不純物含有量を低減する
ことが要求されている。従来工業用フェノール樹脂の製
造において反応設備材料としては、ステンレス材が使用
されている。ステンレス材は、一般に鉄・クロム・ニッ
ケルでできており、水の共存下における反応中にフェノ
ール樹脂の触媒で一般に使用されている酸により金属
(主に鉄)が溶出し、製造されるフェノール樹脂中に数
ppmの金属不純物が含有する問題点がある。
減するため、ガラスライニング材、テフロンライニング
材及びニッケル系合金などが検討されてきたが、ガラス
ライニング材においては材料中のナトリウムが溶出し、
製品中に多量のナトリウム分を含有する欠点がある。ま
た、200℃以上の高温では亀裂破損する可能性が高い
という欠点もある。テフロンライニング材は、200℃
以上の高温では変形を発生する問題点がある。ニッケル
系合金(ハステロイなど)は、フェノール樹脂の合成反
応中にニッケルが溶出し、製品中に多量のニッケル分が
含有される欠点がある。
ところは、フェノール樹脂中の金属不純物を低減するこ
とにより電子材料用に好適なフェノール樹脂の製造方法
を提供するにある。
脂の製造において、タンタル、ハフニウム、ジルコニウ
ム、ニオブ、チタンから選ばれた金属材料及び/又はそ
れらの合金材料を反応設備材料として用いた装置を使用
することを特徴とするフェノール樹脂の製造方法であ
る。
カルシウム、鉄、銅、カリウム、錫、マグネシウム、珪
素、マンガン、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛
等の金属不純物の含有量を低減するためにその原因調査
を行った結果、水の共存下における反応中において、フ
ェノール樹脂の触媒で一般に使用されている酸により反
応設備材料として使用されている金属材料(ステンレス
など)から金属が溶出することをつきとめた。そこで、
反応設備材料について鋭意検討した結果、タンタル、ハ
フニウム、ジルコニウム、ニオブ、チタンから選ばれた
金属材料及び/又はそれらの合金材料を反応設備材料と
して用いることが極めて有用であることを見出した。
ェノール類、アルデヒド類、触媒などを仕込んだ後加熱
し、フェノール類とアルデヒド類を縮合反応させた後、
減圧下で蒸留し、水及び遊離モノマーなどを除去する一
般的方法により得ることができる。反応は、反応効率、
分子量、特性などのバランスにより適宜選択される。使
用されるフェノール類としては、フェノール、クレゾー
ル、ジメチルフェノール、トリメチルフェノール、エチ
ルフェノール、ブチルフェノール、オクチルフェノー
ル、ノニルフェノール、レゾルシノール、カテコール、
ハイドロキノンなどであるが、特に限定されることはな
く、製造されるフェノール樹脂の特性により、1種又は
2種以上を選択、混合して使用することが出来る。
ド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、グリオキザ
ール、パラホルムアルデヒド、サリチルアルデヒド、ブ
チルアルデヒドなどを使用することが出来るが、特に限
定されることはなく、製造されるフェノール樹脂の特性
により、1種又は2種以上を選択、混合して使用するこ
とが出来る。
成に用いられているものが使用可能であり、有機酸で
は、蓚酸、酢酸、パラトルエンスルホン酸、キシレンス
ルホン酸、フェノールスルホン酸などが適用され、無機
酸では、塩酸、硫酸、スルファミン酸、3フッ化ホウ素
錯体などが適用され、アルカリでは、アンモニア、トリ
エチルアミン、トリエタノールアミンなどのアミン類が
適用されるが、特に限定されることはなく、製造される
フェノール樹脂の特性により、1種又は2種以上を選
択、混合して使用することが出来る。また、溶媒は、メ
タノール、エタノール、イソプロパノール、トルエン、
キシレン、メシチレン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、ジオキサン、塩化メチレ
ンなどを使用されるが、特に限定されることはなく、フ
ェノール樹脂の特性及び製造安定性の面から使用しても
しなくてもよい。
施例中の「部」及び「%」は、すべて「重量部」及び
「重量%」を示すものである。また、本発明は実施例に
限定されるものではない。 《実施例1》タンタル製3L反応フラスコ中に、メタク
レゾール500部、パラクレゾール500部、37%ホ
ルムアルデヒド525部、蓚酸10部を仕込んだ後加熱
して還流温度で3時間反応させ、その後40torrの減圧
下で蒸留し、水及び遊離モノマーを除去して目的とする
フェノール樹脂を980部得た。得られたフェノール樹
脂の融点は80℃であった。 《実施例2》タンタル製3L反応フラスコ中に、オルソ
クレゾール300部、メタクレゾール500部、パラク
レゾール200部、37%ホルムアルデヒド525部、
硫酸2部を仕込んだ後加熱して還流温度で5時間反応さ
せ、その後20torrの減圧下で蒸留し、水及び遊離モノ
マーを除去して目的とするフェノール樹脂を990部得
た。得られたフェノール樹脂の融点は83℃であった。
中に、3,5−キシレノール200部、メタクレゾール
500部、パラクレゾール300部、37%ホルムアル
デヒド450部、パラトルエンスルホン酸10部を仕込
んだ後加熱して還流温度で6時間反応させ、その後30
torrの減圧下で蒸留し、水及び遊離モノマーを除去して
目的とするフェノール樹脂を900部得た。得られたフ
ェノール樹脂の融点は110℃であった。 《実施例4》ハフニウム製3L反応フラスコ中に、パラ
ターシャリーブチルフェノール100部、メタクレゾー
ル400部、パラクレゾール500部、37%ホルムア
ルデヒド450部、塩酸2部を仕込んだ後加熱して還流
温度で6時間反応させ、その後30torrの減圧下で蒸留
し、水及び遊離モノマーを除去して目的とするフェノー
ル樹脂を905部得た。得られたフェノール樹脂の融点
は109℃であった。
中に、メタクレゾール400部、パラクレゾール400
部、フェノール200部、37%ホルムアルデヒド45
0部、塩酸10部を仕込んだ後加熱して還流温度で6時
間反応させ、その後30torrの減圧下で蒸留し、水及び
遊離モノマーを除去して目的とするフェノール樹脂を9
10部得た。得られたフェノール樹脂の融点は116℃
であった。 《実施例6》ハフニウム製3L反応フラスコ中に、メタ
クレゾール400部、パラクレゾール400部、オルソ
クレゾール200部、37%ホルムアルデヒド450
部、スルファミン酸2部を仕込んだ後加熱して還流温度
で6時間反応させ、その後30torrの減圧下で蒸留し、
水及び遊離モノマーを除去して目的とするフェノール樹
脂を900部得た。得られたフェノール樹脂の融点は1
03℃であった。
スコ中に、パラノニルフェノール200部、メタクレゾ
ール500部、パラクレゾール200部、フェノール1
00部、37%ホルムアルデヒド450部、キシレンス
ルホン酸2部を仕込んだ後加熱して還流温度で4時間反
応させ、その後30torrの減圧下で蒸留し、水及び遊離
モノマーを除去して目的とするフェノール樹脂を910
部得た。得られたフェノール樹脂の融点は111℃であ
った。 《実施例8》ニオブ製3L反応フラスコ中に、メタクレ
ゾール400部、パラクレゾール400部、3,5−キ
シレノール200部、37%ホルムアルデヒド450
部、蓚酸10部を仕込んだ後加熱して還流温度で6時間
反応させ、その後30torrの減圧下で蒸留し、水及び遊
離モノマーを除去して目的とするフェノール樹脂を91
0部得た。得られたフェノール樹脂の融点は100℃で
あった。
に、メタクレゾール500部、パラクレゾール400
部、パラターシャリーブチルフェノール100部、37
%ホルムアルデヒド450部、酢酸10部を仕込んだ後
加熱して還流温度で6時間反応させ、その後30torrの
減圧下で蒸留し、水及び遊離モノマーを除去して目的と
するフェノール樹脂を920部得た。得られたフェノー
ル樹脂の融点は112℃であった。 《実施例10》ジルコニウムとハフニウムの合金製3L
反応フラスコ中に、メタクレゾール500部、パラクレ
ゾール500部、37%ホルムアルデヒド450部、蓚
酸10部を仕込んだ後加熱して還流温度で6時間反応さ
せ、その後30torrの減圧下で蒸留し、水及び遊離モノ
マーを除去して目的とするフェノール樹脂を910部得
た。得られたフェノール樹脂の融点は110℃であっ
た。
フラスコ中に、メタクレゾール500部、パラクレゾー
ル500部、37%ホルムアルデヒド525部、蓚酸1
0部を仕込んだ後加熱して、還流温度で6時間反応さ
せ、その後30torrの減圧下で蒸留し、水及び遊離モノ
マーを除去してフェノール樹脂を980部得た。得られ
たフェノール樹脂の融点は80℃であった。 《比較例2》ステンレス316製3L反応フラスコ中
に、パラターシャリーブチルフェノール200部、メタ
クレゾール500部、パラクレゾール300部、37%
ホルムアルデヒド450部、蓚酸10部を仕込んだ後加
熱して還流温度で6時間反応させ、その後30torrの減
圧下で蒸留し、水及び遊離モノマーを除去してフェノー
ル樹脂を900部得た。得られたフェノール樹脂の融点
は111℃であった。
フラスコ中に、メタクレゾール500部、パラクレゾー
ル500部、37%ホルムアルデヒド450部、蓚酸1
0部を仕込んだ後加熱して還流温度で6時間反応させ、
その後30torrの減圧下で蒸留し、水及び遊離モノマー
を除去してフェノール樹脂を910g得た。得られたフ
ェノール樹脂の融点は108℃であった。 《比較例4》ハステロイ製3L反応フラスコ中に、メタ
クレゾール500部、パラクレゾール500部、37%
ホルムアルデヒド450部、蓚酸10部を仕込んだ後加
熱して還流温度で6時間反応させ、その後30torrの減
圧下で蒸留し、水及び遊離モノマーを除去してフェノー
ル樹脂を900部得た。得られたフェノール樹脂の融点
は109℃であった。
いて得られたフェノール樹脂に含有するナトリウム、カ
ルシウム、鉄、カリウム、錫、ニッケル、マグネシウ
ム、珪素の含有量を発光分光分析により測定し、その結
果を表1に示す。
タル、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、チタンから
選ばれた金属材料及び/又はそれらの合金材料を反応設
備材料として用いた装置を使用した製造方法によって得
られたフェノール樹脂に含有するナトリウム、カルシウ
ム、鉄、銅、カリウム、錫、マグネシウム、珪素、マン
ガン、アルミニウム、ニッケル、クロム、亜鉛等の金属
不純物は極めて低く、より細密化を要求される電子材料
用フェノール樹脂としての使用が可能となり、電子材料
の発展に寄与することが期待される。
Claims (1)
- 【請求項1】 フェノール樹脂の製造において、タンタ
ル、ハフニウム、ジルコニウム、ニオブ、チタンから選
ばれた金属材料及び/又はそれらの合金材料を反応設備
材料として用いた装置を使用することを特徴とするフェ
ノール樹脂の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5239617A JP3020780B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 電子材料用フェノール樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5239617A JP3020780B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 電子材料用フェノール樹脂の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0790038A true JPH0790038A (ja) | 1995-04-04 |
JP3020780B2 JP3020780B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=17047398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5239617A Expired - Lifetime JP3020780B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | 電子材料用フェノール樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3020780B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335841A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Ube Ind Ltd | p−キシリレン−フェノール樹脂及びその製法 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP5239617A patent/JP3020780B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006335841A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Ube Ind Ltd | p−キシリレン−フェノール樹脂及びその製法 |
JP4692080B2 (ja) * | 2005-06-01 | 2011-06-01 | 宇部興産株式会社 | p−キシリレン−フェノール樹脂及びその製法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3020780B2 (ja) | 2000-03-15 |
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