JP4692080B2 - p−キシリレン−フェノール樹脂及びその製法 - Google Patents

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本発明はエポキシ樹脂硬化剤や、エポキシ樹脂の原料として有用なp−キシリレン−フェノール樹脂及びその製造方法に関する。
p−キシリレン−フェノール樹脂の製法としては、フェノール化合物を50〜200℃に加熱溶融し、無触媒下これに芳香族ビスハロゲノメチル化合物を分割添加することが開示されている(特許文献1参照)。この方法に従うと、p−キシリレン−フェノール樹脂を製造する場合、溶融状態のフェノールに無触媒下高融点結晶(mp.98℃)であるα,α’−ジクロロ−p−キシレンを分割添加しなければならない。この場合、添加したα,α’−ジクロロ−p−キシレン結晶はフェノールに溶解しつつ、液−液および液−固相で、塩化水素ガスを発生しながら反応が開始、進行するので、反応熱のスムーズな除去等の反応コントロールは難しい。また発生する塩化水素ガスは反応の触媒にもなり得、系内に蓄積し加速度的に反応を促進する恐れがあるので、反応中、減圧下塩化水素を除去しつつ行っており、工業的製法としては満足するものではない。
この発生塩化水素ガスによる反応の暴走防止の為、アルカリ物質を共存させて製造を行う方法が提案されている。(特許文献2参照)。しかし、この方法では、アルカリ物質は発生塩化水素と等モル量必要でありコスト的には問題が残る。
また、同様の方法で、フェノールと4,4’−(クロロメチル)ビフェニルから4,4’−ビフェニルジイルジメチレン−フェノール樹脂を製造する場合、反応溶媒として低級アルコールをフェノールの10〜50重量%共存させることで、反応の流動性を増し、急激な発熱が起きても還流による反応熱の除去を行う方法も提案されている(特許文献3参照)。しかし、この反応溶媒を用いる方法を、p−キシリレン−フェノール樹脂製造に適用するとしても、溶媒の回収、再使用という煩雑な工程が必要になる。
特開平06−100667号公報 特開平10−130352号公報 特開2001−040053号公報
本発明は、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)とフェノールとの縮合反応を工業的に行うに際し、急激な発熱等を抑制し、反応を制御した状態で進行させる方法を得ること、及び難燃性、耐酸化性,耐熱性等に優れ、再現性の良い品質のそろったp−キシリレン−フェノール樹脂を得ること、を目的としたものである。
本発明者らは前記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)中に含まれる微量の亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素がフェノール化合物との縮合反応の開始に深く関与すること、およびその量を制御することで、再現性よく安全に縮合反応が進行する事を見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)とフェノール(原料B)を触媒存在下反応させることによりp−キシリレン−フェノール樹脂を製造する方法において、原料Aに含有される亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素の含有量を10ppm〜0.01ppmに制御することを特徴とするp−フェニレン−フェノール樹脂の製造方法により解決される。
本発明により、半導体封止剤用硬化剤、接着剤、成形材料、塗料等として有用な化合物であるp−キシリレン−フェノール樹脂を、急激な発熱、激しい塩化水素ガスの発生なく、再現性よく品質を揃え、かつ安全に製造する方法を提供できる。
以下本発明を詳細に説明する。本発明のp−キシリレン−フェノール樹脂は、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)とフェノール(原料B)とを縮合反応させて得られる下記式に示す化合物である。
Figure 0004692080

(式中nは繰り返し数を表し、1〜15の整数)
本発明において使用される原料Aは一般に、p−キシレンと塩素の光反応(特許文献4参照)、またはベンゼンあるいは塩化ベンジルのクロロメチル化反応(特許文献5、非特許文献1参照)によって合成される。p−キシレンの塩素化の場合、高圧ランプで光照射が必要であり、装置的制約に加え、p−クロロメチルトルエン、p−ジクロロメチルトルエン等の副生物の生成が避けられず、必ずしも高選択率で目的物が得られないのが現状である。一方、クロロメチル化反応の場合、簡便な装置で高選択率で目的物が得られる利点を有している。クロロメチル化反応では、反応触媒として遷移金属元素化合物または典型金属元素化合物が使用されることが多い。従って原料A中には微量ではあるが、これら遷移金属元素または典型金属元素が含まれていることが一般的である。
欧州特許391696号明細書 特開平03−188029号公報 工業化学雑誌(1968),71(6),869
本発明において使用される原料A中に含有される亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素は、10ppm〜0.01ppm、好ましくは5ppm〜0.01ppmであり、さらに好ましくは2ppm〜0.01ppmである。亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素の含有量10ppmを超えると縮合開始温度の低下、縮合速度の向上が起こり、縮合反応を制御しつつ開始し、反応を続行することが困難になり、縮合度合い或いは縮合位置選択性等にバラツキが生じる。また、これら含有量が0.01ppm以下の場合は反応自体に悪影響はないが、原料Aをそこまで精製するには煩雑な精製操作が必要となり経済的とは言えない。
原料Aに亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素が10ppm〜0.01ppm含有されるが、上記元素が混在している場合においても、各遷移金属元素及び典型金属元素の総含有量は一般に20ppm以下、0.01ppm以上が望ましい。好ましくは、10ppm以下、0.01ppm以上であり、さらに好ましくは5ppm以下、0.01ppm以上である。
上記原料Aに亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素としての形態は、原料Aの製造方法からして、塩化物が考えられる。具体的には塩化亜鉛、塩化アルミニウム、塩化錫(IV)などが含有されていると推定される。
上記の亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素の含有量を10ppm以下に制御する方法としては、溶媒抽出や晶析等有機化合物の通常の精製方法が挙げられる。
このような方法で上記元素を除去した原料A中の元素含有量は、通常誘導プラズマ発光分析法或いは誘導結合プラズマ質量分析法により測定される。
α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)とフェノール(原料B)の縮合反応に当たっては、原料Bの使用量は原料A1モルに対して通常1.3〜5モル、好ましくは1.4から4.7モルである。
本発明では、反応溶媒は通常使用しないが、反応を円滑にする目的で溶媒を使用する場合もある。この時の溶媒としては、低級アルコール(炭素数1〜6の脂肪族アルコール)が挙げられる。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノールやシクロヘキサノールも挙げられる。溶媒の使用量については特に制限はないが、溶媒の回収コストや回収率からしてフェノールに対し50重量%以下共存させることが好ましく、10重量%未満がさらに好ましい。
反応温度は通常40〜180℃、好ましくは50〜160℃である。反応時間は0.5〜20時間、好ましくは1〜15時間である。反応時間がこれらより短いと縮合が十分完結しない。また反応時間がこれ以上長くなっても生成するp−キシリレン−フェノール樹脂に悪影響は与えないが、縮合は完結しておりなんらメリットはない。反応は全原料を一括投入したのち、決められた反応温度まで徐々に昇温すればよく、途中激しい発熱、塩化水素の激しい発生もなく、簡便に行うことが出来る。
本発明で得られるp−キシリレン−フェノール樹脂は、エポキシ樹脂の原料として、エポキシ樹脂硬化剤、半導体封止剤用硬化剤、接着剤、成形材料、塗料、ポリアミド添加剤、ブタジエンポリマーの改質材等として用いることができる。
以下に実施例を示し、本発明の内容を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
実施例1
300mlセパラブル3つ口フラスコにフェノール99.50g(1057.4mmol)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)75.00g(427.9mmol)および35%塩酸0.5gを採り、窒素ガスを50ml/分で導入した。油浴を30分かけて60℃に加熱昇温し、30分間その温度を保った。この間フェノールが溶解した時点で200rpmで攪拌を開始した。ついで1時間かけて100℃に昇温し、この温度で1時間保持した後、1時間かけてさらに160℃に昇温した。この温度で3時間保持した後95℃まで冷却、150mlの水で2回洗浄した。その後再び180℃まで昇温し、常圧水蒸気を60g/hで3.5時間導入し、水蒸気蒸留で反応液中に残存するフェノールを除去した。ついで減圧下乾燥し、97.67gのp−キシリレン−フェノール樹脂を得た。
反応中に発生する塩化水素は、同伴する窒素ガスで反応系外に追い出し、アルカリ水溶液にトラップし、一定温度範囲内ごとに測定した。
反応中塩化水素の発生量を表1に示すが、特別急激な発熱もなく、安定して反応が進行した。
なお、使用した原料Aの物性値は以下のとおりである。
原料Aの純度:99.9%(液体クロマトグラフィーでの面積百分率)
原料Aが含有する遷移金属および典型金属化合物:
Al<0.3ppm、Ca<0.2ppm、Fe0.1ppm、Zn<1ppm
得られたp−キシリレン−フェノール樹脂の物性:
ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)分析より、Mn=585、Mw=952、n=1の存在比23.0%であった。
実施例2
300mlセパラブル3つ口フラスコにフェノール99.54g(1057.7mmo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)75.01g(428.5mmol
)および35%塩酸0.5gを採り、窒素ガスを50ml/分で導入した。ついで実施例
1と同様に昇温、反応、後処理を行い97.92gのp−キシリレン−フェノール樹脂を
得た。
反応中塩化水素の発生量を表1に示すが、特別急激な発熱もなく、安定して反応が進行
した。
なお、使用した原料Aの物性値は以下のとおりである。
原料Aの純度:99.5%(液体クロマトグラフィーでの面積百分率)
原料Aが含有する遷移金属および典型金属化合物:
Al2.2ppm、Ca3.7ppm、Fe1.9ppm、Zn1.4ppm
得られたp−キシリレン−フェノール樹脂の物性:
ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)分析より、Mn=586、Mw=954、n=1の存在比22.9%であった。
比較例1
300mlセパラブル3つ口フラスコにフェノール99.56g(1057.9mmo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)75.03g(428.6mmol
)および35%塩酸0.5gを採り、窒素ガスを50ml/分で導入した。ついで実施例
1と同様に昇温、反応、後処理を行い95.57gのp−キシリレン−フェノール樹脂を
得た。
反応中塩化水素の発生量を表1に示すが、90℃付近で激しい発熱、塩化水素の急激な
発生がみられた。
使用した原料Aの物性値は以下のとおりである。
原料Aの純度:99.9%(液体クロマトグラフィーでの面積百分率)
原料Aが含有する遷移金属および典型金属化合物:
Al<0.3ppm、Ca<0.2ppm、Fe0.1ppm、Zn76.0ppm
得られたp−キシリレン−フェノール樹脂の物性:
ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)分析より、Mn=584、Mw=950、n=1の存在比23.1%であった。
比較例2
300mlセパラブル3つ口フラスコにフェノール99.56g(1057.9mmo
l)、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)75.10g(429.0mmol
)および35%塩酸0.5gを採り、窒素ガスを50ml/分で導入した。ついで実施例
1と同様に昇温、反応、後処理を行い99.54gのp−キシリレン−フェノール樹脂を
得た。反応中塩化水素の発生量を表1に示すが、90℃付近で激しい発熱、塩化水素の急
激な発生がみられた。
なお、使用した原料Aの物性値は以下のとおりである。
原料Aの純度:99.9%(液体クロマトグラフィーでの面積百分率)
原料Aが含有する遷移金属および典型金属化合物:
Al<0.3ppm、Fe<0.2ppm、Ca0.1ppm、Zn35.0ppm
得られたp−キシリレン−フェノール樹脂の物性:
ゲル浸透クロマトグラフ(GPC)分析より、Mn=585、Mw=955、n=1の存在比23.0%であった。
表1.昇温過程における塩化水素発生量
Figure 0004692080


得られたp−キシリレン−フェノール樹脂の他の物性値を表2にまとめて示した。
各物性の測定方法は、以下の通りである。
(1)含有金属元素:誘導プラズマ発光分析法或いは誘導結合プラズマ質量分析法にて測
定した。
(2)軟化点:環球法(昇温4℃/分)にて測定した。
(3)ICP粘度:ICP粘度計(150℃)にて測定した。
(4)pH測定前処理:試料8g、純水80mlを採り、95℃で20時間加熱後水溶液
を測定した。
(5)電気伝導度:試料8g、純水80mlを採り、95℃で20時間加熱後水溶液を測
定した。
(6)水分:カールフィシャー法にて測定した。
Figure 0004692080

Claims (5)

  1. α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)とフェノール(原料B)を触媒存在下反応させることによりp−キシリレン−フェノール樹脂を製造する方法において、原料Aに亜鉛、アルミニウム、鉛、錫から選ばれる少なくとも1元素が10ppm〜0.01ppm含有されることを特徴とするp−キシリレン−フェノール樹脂の製造方法。
  2. 原料Aが亜鉛を10ppm〜0.01ppm含有する請求項1に記載のp−キシリレン−フェノール樹脂の製造方法。
  3. 反応溶媒を用いず、40〜180℃で、α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)とフェノール(原料B)とを反応させる請求項1又は2に記載のp−キシリレン−フェノール樹脂の製造方法。
  4. α,α’−ジクロロ−p−キシレン(原料A)の1.3〜5倍モルのフェノール(原料B)を添加して反応させる請求項1〜3のいずれか1項に記載のp−キシリレン−フェノール樹脂の製造方法。
  5. 触媒としてプロトン酸を用いる請求項1〜4のいずれか1項に記載のp−キシリレン−フェノール樹脂の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008024879A (ja) * 2006-07-25 2008-02-07 Ube Ind Ltd 芳香族ジメチレン−フェノール化合物樹脂及びその製造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4997818B2 (ja) * 2006-04-25 2012-08-08 宇部興産株式会社 芳香族ジメチレン−フェノール樹脂及びその製造方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06100667A (ja) * 1990-12-21 1994-04-12 Mitsui Toatsu Chem Inc フェノール重合体の製造方法
JPH0790038A (ja) * 1993-09-27 1995-04-04 Sumitomo Durez Co Ltd フェノール樹脂の製造方法
JPH0934108A (ja) * 1995-07-14 1997-02-07 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物
JPH10130352A (ja) * 1996-10-28 1998-05-19 Nippon Kayaku Co Ltd ノボラック型化合物の製造方法
JPH115832A (ja) * 1997-06-17 1999-01-12 Sumikin Chem Co Ltd フェノールアラルキル樹脂の製造法
JP2001040053A (ja) * 1999-07-26 2001-02-13 Nippon Kayaku Co Ltd 4,4’−ビフェニルジイルジメチレン−フェノール樹脂及びその製造法
JP2001261840A (ja) * 2000-03-17 2001-09-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd フェノール樹脂の製造方法
JP2006206732A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Ube Ind Ltd 4,4’−ビフェニルジイルジメチレン−フェノール樹脂及びその製法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06100667A (ja) * 1990-12-21 1994-04-12 Mitsui Toatsu Chem Inc フェノール重合体の製造方法
JPH0790038A (ja) * 1993-09-27 1995-04-04 Sumitomo Durez Co Ltd フェノール樹脂の製造方法
JPH0934108A (ja) * 1995-07-14 1997-02-07 Mitsui Toatsu Chem Inc 感光性樹脂組成物
JPH10130352A (ja) * 1996-10-28 1998-05-19 Nippon Kayaku Co Ltd ノボラック型化合物の製造方法
JPH115832A (ja) * 1997-06-17 1999-01-12 Sumikin Chem Co Ltd フェノールアラルキル樹脂の製造法
JP2001040053A (ja) * 1999-07-26 2001-02-13 Nippon Kayaku Co Ltd 4,4’−ビフェニルジイルジメチレン−フェノール樹脂及びその製造法
JP2001261840A (ja) * 2000-03-17 2001-09-26 Sumitomo Bakelite Co Ltd フェノール樹脂の製造方法
JP2006206732A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Ube Ind Ltd 4,4’−ビフェニルジイルジメチレン−フェノール樹脂及びその製法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008024879A (ja) * 2006-07-25 2008-02-07 Ube Ind Ltd 芳香族ジメチレン−フェノール化合物樹脂及びその製造方法

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