JPH0778900A - 電力素子用プラスチックパッケージ構造及びその組立方法 - Google Patents
電力素子用プラスチックパッケージ構造及びその組立方法Info
- Publication number
- JPH0778900A JPH0778900A JP6159894A JP15989494A JPH0778900A JP H0778900 A JPH0778900 A JP H0778900A JP 6159894 A JP6159894 A JP 6159894A JP 15989494 A JP15989494 A JP 15989494A JP H0778900 A JPH0778900 A JP H0778900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor chip
- lead
- lead frame
- power device
- metal cap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/42—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
- H01L23/433—Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
- H01L23/4334—Auxiliary members in encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/60—Protection against electrostatic charges or discharges, e.g. Faraday shields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/64—Impedance arrangements
- H01L23/66—High-frequency adaptations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/2612—Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29111—Tin [Sn] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
- H01L2224/29116—Lead [Pb] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/29144—Gold [Au] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/2919—Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48257—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/49105—Connecting at different heights
- H01L2224/49109—Connecting at different heights outside the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49175—Parallel arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/91—Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
- H01L2224/92—Specific sequence of method steps
- H01L2224/922—Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
- H01L2224/9222—Sequential connecting processes
- H01L2224/92242—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
- H01L2224/92247—Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01032—Germanium [Ge]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0105—Tin [Sn]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01051—Antimony [Sb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01058—Cerium [Ce]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01061—Promethium [Pm]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01075—Rhenium [Re]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/0132—Binary Alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/06—Polymers
- H01L2924/0665—Epoxy resin
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/102—Material of the semiconductor or solid state bodies
- H01L2924/1025—Semiconducting materials
- H01L2924/1026—Compound semiconductors
- H01L2924/1032—III-V
- H01L2924/10329—Gallium arsenide [GaAs]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13063—Metal-Semiconductor Field-Effect Transistor [MESFET]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/157—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2924/15738—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950 C and less than 1550 C
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/157—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2924/15738—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950 C and less than 1550 C
- H01L2924/1576—Iron [Fe] as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3011—Impedance
- H01L2924/30111—Impedance matching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/301—Electrical effects
- H01L2924/3025—Electromagnetic shielding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49117—Conductor or circuit manufacturing
- Y10T29/49121—Beam lead frame or beam lead device
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
- Die Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 素子の高周波特性を向上させるとともに、大
量生産に適するように組立工程の規格化を図り、その素
子の組立費用を節減することができるパッケージ構造、
および、素子組立方法を提供する。 【構成】 リードフレーム1に放熱板7を付着する工程
と、電力素子チップ9と熱膨脹係数の差違から発生され
る熱応力を除去する工程と、高周波特性の向上のために
リードをインピーダンス整合されるように製造し、ノイ
ズ遮蔽をするための工程と、エポキシを利用してプラス
チックモールディングをする工程等を有する。
量生産に適するように組立工程の規格化を図り、その素
子の組立費用を節減することができるパッケージ構造、
および、素子組立方法を提供する。 【構成】 リードフレーム1に放熱板7を付着する工程
と、電力素子チップ9と熱膨脹係数の差違から発生され
る熱応力を除去する工程と、高周波特性の向上のために
リードをインピーダンス整合されるように製造し、ノイ
ズ遮蔽をするための工程と、エポキシを利用してプラス
チックモールディングをする工程等を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路パッケ
ージ構造及びその組立方法に関するもので、特に、電力
素子用プラスチックパッケージの構造及びその組立(e
ncapsulating in package;p
ackaging)方法に関するものである。
ージ構造及びその組立方法に関するもので、特に、電力
素子用プラスチックパッケージの構造及びその組立(e
ncapsulating in package;p
ackaging)方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の電力素子の組立において、一般的
に、低電力用素子、例えば、消費電力が0.5W以下で
ある素子の半導体チップ(semiconductor
chip)は、プラスチックで組立られる。消費電力
が0.5W以上の素子の半導体チップは、発生された高
熱の速い放出のため、セラミック基板と金属フレームで
組立られる。
に、低電力用素子、例えば、消費電力が0.5W以下で
ある素子の半導体チップ(semiconductor
chip)は、プラスチックで組立られる。消費電力
が0.5W以上の素子の半導体チップは、発生された高
熱の速い放出のため、セラミック基板と金属フレームで
組立られる。
【0003】プラスチックパッケージを有する上記素子
では、半導体チップと封止材の境界部分が剥離され、半
導体チップと封止材の間の熱膨脹係数の差違に起因する
応力によって、素子に亀裂がしばしば発生する。なお、
このような方式によれば、組立られた素子の高周波特性
が劣悪になる欠点が生じる。
では、半導体チップと封止材の境界部分が剥離され、半
導体チップと封止材の間の熱膨脹係数の差違に起因する
応力によって、素子に亀裂がしばしば発生する。なお、
このような方式によれば、組立られた素子の高周波特性
が劣悪になる欠点が生じる。
【0004】プラスチックパッケージを有する電力素子
の高周波特性の向上のためには、パッケージ自体のノイ
ズ遮蔽(noise shielding)のための下
部セラミック部分の側面に、金属が蒸着されなければな
らないし、金属蓋(metal lid:メタルリッ
ド)が用いられなければならない。
の高周波特性の向上のためには、パッケージ自体のノイ
ズ遮蔽(noise shielding)のための下
部セラミック部分の側面に、金属が蒸着されなければな
らないし、金属蓋(metal lid:メタルリッ
ド)が用いられなければならない。
【0005】しかし、このようにすると、素子の組立工
程が複雑になり、製造費用が増加するという、また他の
問題点が生じることになる。
程が複雑になり、製造費用が増加するという、また他の
問題点が生じることになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】一方、電力素子がセラ
ミック基板と金属フレームにより組立られる方式におい
ては、その半導体チップで発生された熱が、金属フレー
ムと放熱板を通じて放出されるように素子が組立られる
ので、素子の組立工程が複雑で、パッケージから高周波
信号の共振が発生され、プラスチックパッケージを採用
する素子に比べて、組立に所要される費用が増加される
ことにより、素子の製作単価が高くなるような欠点等が
ある。
ミック基板と金属フレームにより組立られる方式におい
ては、その半導体チップで発生された熱が、金属フレー
ムと放熱板を通じて放出されるように素子が組立られる
ので、素子の組立工程が複雑で、パッケージから高周波
信号の共振が発生され、プラスチックパッケージを採用
する素子に比べて、組立に所要される費用が増加される
ことにより、素子の製作単価が高くなるような欠点等が
ある。
【0007】このような組立方式において、パッケージ
から発生される高周波信号による共振(resonan
ce)を除去するために、最近、金属フレーム(fra
me)型パッケージに素子を組立てる方式が開発され
た。しかし、この方式によれば、パッケージの電気的性
能は向上されるが、素子の組立が困難である。
から発生される高周波信号による共振(resonan
ce)を除去するために、最近、金属フレーム(fra
me)型パッケージに素子を組立てる方式が開発され
た。しかし、この方式によれば、パッケージの電気的性
能は向上されるが、素子の組立が困難である。
【0008】特に、高周波用電力素子である場合には、
電力利得及び雑音指数が非常に重要であるので、その素
子の高周波性能を向上させるためにインピーダンス整合
を考慮した多層セラミックパッケージに対する研究も、
最近、活発に進められている。
電力利得及び雑音指数が非常に重要であるので、その素
子の高周波性能を向上させるためにインピーダンス整合
を考慮した多層セラミックパッケージに対する研究も、
最近、活発に進められている。
【0009】本発明の目的は、高周波用電力素子を組立
てるにおいて、素子の高周波特性を向上させるととも
に、大量生産に適するように組立工程の規格化を図り、
その素子の組立費用を節減することができるパッケージ
構造、および、素子組立方法を提供することにある。
てるにおいて、素子の高周波特性を向上させるととも
に、大量生産に適するように組立工程の規格化を図り、
その素子の組立費用を節減することができるパッケージ
構造、および、素子組立方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、次のような特
徴を有する。
徴を有する。
【0011】本発明による、ソース電極とドレイン電極
及びゲート電極を有する電力半導体素子のパッケージ構
造は、電力半導体チップの装着のためのリードフレーム
(lead frame)を備える。この上記リードフ
レームは、ソース電極用リードと、ドレイン電極用リー
ドと、ゲート電極用リードと、連結部材として機能する
タイバー(tie bars)により支持され、二つの
面を有し、この二つの面の中で上記半導体チップが装着
される何れかの一面の背面方向に陥没される載置部とし
て機能する部分であるパドル(paddle)とを含
む。
及びゲート電極を有する電力半導体素子のパッケージ構
造は、電力半導体チップの装着のためのリードフレーム
(lead frame)を備える。この上記リードフ
レームは、ソース電極用リードと、ドレイン電極用リー
ドと、ゲート電極用リードと、連結部材として機能する
タイバー(tie bars)により支持され、二つの
面を有し、この二つの面の中で上記半導体チップが装着
される何れかの一面の背面方向に陥没される載置部とし
て機能する部分であるパドル(paddle)とを含
む。
【0012】又、本発明のパッケージ構造は、上記パド
ルの上記背面に付着される放熱板と、上記パドルの二つ
の面の中で上記半導体チップが装着される何れかの一面
上に付着され、上記半導体チップの熱膨脹係数と類似す
る熱膨脹係数を有するコバル(Kovar)基板と、上
記半導体チップに所定の厚さに塗布されるポリイミド
(polyimide)層と、半田づけにより、上記パ
ドル上に付着される金属キャップ(metal ca
p)と、上記金属キャップを塗布するエポキシ樹脂層と
を含む。
ルの上記背面に付着される放熱板と、上記パドルの二つ
の面の中で上記半導体チップが装着される何れかの一面
上に付着され、上記半導体チップの熱膨脹係数と類似す
る熱膨脹係数を有するコバル(Kovar)基板と、上
記半導体チップに所定の厚さに塗布されるポリイミド
(polyimide)層と、半田づけにより、上記パ
ドル上に付着される金属キャップ(metal ca
p)と、上記金属キャップを塗布するエポキシ樹脂層と
を含む。
【0013】上記半導体チップは、半田づけにより、上
記コバル基板上に接着される。又、上記半導体チップの
上記電極各々は、半田づけにより、上記リードフレーム
のリード各々にワイヤ(wire)を通じて接続され
る。
記コバル基板上に接着される。又、上記半導体チップの
上記電極各々は、半田づけにより、上記リードフレーム
のリード各々にワイヤ(wire)を通じて接続され
る。
【0014】本発明の好ましい実施例において、上記タ
イバーは、上記半導体チップのソース電極用リードとし
て用いられる。
イバーは、上記半導体チップのソース電極用リードとし
て用いられる。
【0015】本発明の好ましい実施例において、上記半
導体チップの上記ソース電極は、上記タイバーを通じて
アースされる。
導体チップの上記ソース電極は、上記タイバーを通じて
アースされる。
【0016】本発明による電力素子の組立方法は、半導
体チップを装着するためのパドルと、ゲート電極用リー
ドと、ドレイン電極用リードと、上記パドルを支持する
ためのタイバーを含み、上記パドルは二つの面を有し、
この二つの面の中の上記半導体チップが装着される何れ
かの一面の背面方向に陥没されるリードフレームを準備
する段階と、クラッディング(cladding)方法
により、上記パドルの上記背面に放熱板を接合する段階
と、上記半導体チップと上記リードフレームとの間の熱
膨脹係数の差違により発生する応力を除去するために、
半田づけにより、上記パドル上に、上記チップの熱膨脹
係数と類似する熱膨脹係数を有するコバル基板を付着す
る段階と、半田づけにより、上記半導体チップを上記コ
バル基板上に装着する段階と、上記半導体チップのゲー
ト電極をゲート電極用リードに、ドレイン電極をドレイ
ン電極用リードに、そして、ソース電極を上記パドル
に、各々ワイヤによりボンディング(bonding)
する段階と、スピンコーティング(spin coat
ing)により、上記チップを予めポリイミドで塗布し
た後、硬化(curing)処理する段階と、金属キャ
ップが上記リードフレームの上記パドル上に装着された
半導体チップを被覆するように、上記金属キャップを半
田づけにより、上記パドルの上部に付着する段階と、プ
ラスチックモールディング(plastic mold
ing)を行った後、モールディング材料を硬化処理す
る段階とを含む。
体チップを装着するためのパドルと、ゲート電極用リー
ドと、ドレイン電極用リードと、上記パドルを支持する
ためのタイバーを含み、上記パドルは二つの面を有し、
この二つの面の中の上記半導体チップが装着される何れ
かの一面の背面方向に陥没されるリードフレームを準備
する段階と、クラッディング(cladding)方法
により、上記パドルの上記背面に放熱板を接合する段階
と、上記半導体チップと上記リードフレームとの間の熱
膨脹係数の差違により発生する応力を除去するために、
半田づけにより、上記パドル上に、上記チップの熱膨脹
係数と類似する熱膨脹係数を有するコバル基板を付着す
る段階と、半田づけにより、上記半導体チップを上記コ
バル基板上に装着する段階と、上記半導体チップのゲー
ト電極をゲート電極用リードに、ドレイン電極をドレイ
ン電極用リードに、そして、ソース電極を上記パドル
に、各々ワイヤによりボンディング(bonding)
する段階と、スピンコーティング(spin coat
ing)により、上記チップを予めポリイミドで塗布し
た後、硬化(curing)処理する段階と、金属キャ
ップが上記リードフレームの上記パドル上に装着された
半導体チップを被覆するように、上記金属キャップを半
田づけにより、上記パドルの上部に付着する段階と、プ
ラスチックモールディング(plastic mold
ing)を行った後、モールディング材料を硬化処理す
る段階とを含む。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例について、添付した図
面を参照して詳細に説明する。
面を参照して詳細に説明する。
【0018】図1は、本発明による電力素子用リードフ
レームを図示した平面図である。本発明による四つのリ
ードを有するリードフレーム1の各リードは、インピー
ダンス整合を考慮して製作される。
レームを図示した平面図である。本発明による四つのリ
ードを有するリードフレーム1の各リードは、インピー
ダンス整合を考慮して製作される。
【0019】図1を参照して、リードフレーム1は、素
子チップを装着するための載置部として機能する部分で
あるパドル(paddle)2と、ゲート電極用リード
3と、ドレイン電極用リード4と、ソース電極用リード
として用いられ、上記パドル2を支持(suporti
ng)するための連結部材として機能するタイバー(t
ie bars)5,6を含む。
子チップを装着するための載置部として機能する部分で
あるパドル(paddle)2と、ゲート電極用リード
3と、ドレイン電極用リード4と、ソース電極用リード
として用いられ、上記パドル2を支持(suporti
ng)するための連結部材として機能するタイバー(t
ie bars)5,6を含む。
【0020】上記パドル2は、半導体チップが位置する
べき面と反対になる面(即ち、放熱板が付着されるべき
面)の方向に陥没される。
べき面と反対になる面(即ち、放熱板が付着されるべき
面)の方向に陥没される。
【0021】図2〜図8は、本発明による電力素子の組
立方法を工程順序の通り示したものである。上記図5〜
上記図8においては、リードフレーム1の左側と右側
に、本発明の組立工程による縦断面図と横断面図が概略
的に図示される。これから、本発明による半導体電力素
子の組立方法が、図2〜図8を参照して詳細に説明され
る。
立方法を工程順序の通り示したものである。上記図5〜
上記図8においては、リードフレーム1の左側と右側
に、本発明の組立工程による縦断面図と横断面図が概略
的に図示される。これから、本発明による半導体電力素
子の組立方法が、図2〜図8を参照して詳細に説明され
る。
【0022】図2を参照して、まず、クラッディング
(cladding)方法により、パドル2の、半導体
チップが装着されるべき面と反対側の面上に、放熱板7
が接合される。このとき、上記放熱板7としては、銅
(Cu)で形成されたものが用いられることが好まし
い。
(cladding)方法により、パドル2の、半導体
チップが装着されるべき面と反対側の面上に、放熱板7
が接合される。このとき、上記放熱板7としては、銅
(Cu)で形成されたものが用いられることが好まし
い。
【0023】次いで、図3を参照して、ガリウム砒素
(GaAs)半導体チップとリードフレーム1との間の
熱膨脹係数の差違によって生じる応力を除去するため
に、半田づけ(soldering)により、パドル2
のチップが装着されるべき面の上部にチップの熱膨脹係
数と類似する熱膨脹係数を有するコバル(Kovar)
基板8が付着される。この工程は、温度290℃〜31
0℃で行われる。半田(solder)としては、鉛
(Pb)、インジウム(In)、銀(Ag)の比率が、
92.5:5:2.5である合金が用いられることが好
ましい。
(GaAs)半導体チップとリードフレーム1との間の
熱膨脹係数の差違によって生じる応力を除去するため
に、半田づけ(soldering)により、パドル2
のチップが装着されるべき面の上部にチップの熱膨脹係
数と類似する熱膨脹係数を有するコバル(Kovar)
基板8が付着される。この工程は、温度290℃〜31
0℃で行われる。半田(solder)としては、鉛
(Pb)、インジウム(In)、銀(Ag)の比率が、
92.5:5:2.5である合金が用いられることが好
ましい。
【0024】次には、ダイボンディング(die bo
nding)工程が行われる。即ち、この工程では、図
4を参照して、半田づけにより、ガリウム砒素半導体チ
ップ9が、コバル基板8上に装着される。この工程は、
温度280℃〜290℃で行われる。ダイボンダー(d
ie bonder)としては、金(Au)、錫(S
n)の比率が、80:20である合金が用いられること
が好ましい。
nding)工程が行われる。即ち、この工程では、図
4を参照して、半田づけにより、ガリウム砒素半導体チ
ップ9が、コバル基板8上に装着される。この工程は、
温度280℃〜290℃で行われる。ダイボンダー(d
ie bonder)としては、金(Au)、錫(S
n)の比率が、80:20である合金が用いられること
が好ましい。
【0025】次には、ワイヤボンディング工程が行われ
る。この工程では、図5を参照して、上記半導体チップ
9のゲート電極(図示されていない)をゲート電極用リ
ード3に、ドレイン電極(図示されていない)をドレイ
ン電極用リード4に、そして、ソース電極(図示されて
いない)をパドル2に、各々ワイヤ10によりボンディ
ングする。
る。この工程では、図5を参照して、上記半導体チップ
9のゲート電極(図示されていない)をゲート電極用リ
ード3に、ドレイン電極(図示されていない)をドレイ
ン電極用リード4に、そして、ソース電極(図示されて
いない)をパドル2に、各々ワイヤ10によりボンディ
ングする。
【0026】上記ソース電極は、パドル2にワイヤボン
ディングされることによりアースされる。従って、パド
ル2のタイバー5,6は、ソース電極用リードとして機
能することになる。
ディングされることによりアースされる。従って、パド
ル2のタイバー5,6は、ソース電極用リードとして機
能することになる。
【0027】上記のようなワイヤボンディング後には、
次に行われるプラスチックモールディング工程で、半導
体チップ9とモールディング材料との反応を防ぎ、高周
波性を向上させるために、スピンコーティングにより、
上記チップ9が予めイミド化された(pre−imid
ized)ポリイミド(polyimide)で塗布さ
れ(図面に図示されていない)、次いで硬化(curi
ng)処理が行られる。この工程は、スピン速度300
0rpm、塗布厚さ5μm、キューアリング温度220
℃の工程条件で行われる。
次に行われるプラスチックモールディング工程で、半導
体チップ9とモールディング材料との反応を防ぎ、高周
波性を向上させるために、スピンコーティングにより、
上記チップ9が予めイミド化された(pre−imid
ized)ポリイミド(polyimide)で塗布さ
れ(図面に図示されていない)、次いで硬化(curi
ng)処理が行られる。この工程は、スピン速度300
0rpm、塗布厚さ5μm、キューアリング温度220
℃の工程条件で行われる。
【0028】次に、図6を参照して、金属キャップ11
が、リードフレーム1のパドル2上に装着された半導体
チップ9を被覆するように、半田づけにより上記パドル
2の上部に付着される。この工程は、温度240℃〜2
50℃で行われる。半田としては、錫、アンチモンの比
率が95:5である合金が用いられる。
が、リードフレーム1のパドル2上に装着された半導体
チップ9を被覆するように、半田づけにより上記パドル
2の上部に付着される。この工程は、温度240℃〜2
50℃で行われる。半田としては、錫、アンチモンの比
率が95:5である合金が用いられる。
【0029】以上で説明された如く、リードフレーム1
のパドル2にワイヤボンディングされた上記ソース電極
と金属キャップ11が、電気的に共にアースされること
により、インピーダンス整合を考慮したリードフレーム
1とこの金属キャップ11とは、上記半導体チップ9の
高周波特性を向上させるため、大いに寄与することにな
る。
のパドル2にワイヤボンディングされた上記ソース電極
と金属キャップ11が、電気的に共にアースされること
により、インピーダンス整合を考慮したリードフレーム
1とこの金属キャップ11とは、上記半導体チップ9の
高周波特性を向上させるため、大いに寄与することにな
る。
【0030】終りに、図7を参照して、プラスチックモ
ールディング工程が行われた後、熱処理による硬化工程
が行われることにより、図8に図示された如く、電力素
子の組立が完了する。この時、素子モールディング工程
は、金型により行われ、モールディング材料としてはエ
ポキシ樹脂が用いられる。上記硬化工程は、約175℃
〜200℃の温度で行われる。
ールディング工程が行われた後、熱処理による硬化工程
が行われることにより、図8に図示された如く、電力素
子の組立が完了する。この時、素子モールディング工程
は、金型により行われ、モールディング材料としてはエ
ポキシ樹脂が用いられる。上記硬化工程は、約175℃
〜200℃の温度で行われる。
【0031】以上で詳細に記述された如く、本発明の実
施例の電力素子組立方法によれば、インピーダンス整合
を考慮したリードフレーム1を利用して電力素子用パッ
ケージをプラスチックモールディング方式で製造するこ
とにより、従来のプラスチックパッケージ製造工程をそ
のまま用いることができるようにして、従来のセラミッ
ク電力素子用パッケージの製造単価を低めることができ
るようにする。
施例の電力素子組立方法によれば、インピーダンス整合
を考慮したリードフレーム1を利用して電力素子用パッ
ケージをプラスチックモールディング方式で製造するこ
とにより、従来のプラスチックパッケージ製造工程をそ
のまま用いることができるようにして、従来のセラミッ
ク電力素子用パッケージの製造単価を低めることができ
るようにする。
【0032】なお、金属キャップ11を用いてノイズを
遮蔽(noise shielding)することによ
り、電力素子の高周波特性の向上を計ることができ、ワ
イヤボンディングの後、ポリイミドを塗布してプラスチ
ックパッケージの信頼性を向上させて、工程の単純化が
達成される。
遮蔽(noise shielding)することによ
り、電力素子の高周波特性の向上を計ることができ、ワ
イヤボンディングの後、ポリイミドを塗布してプラスチ
ックパッケージの信頼性を向上させて、工程の単純化が
達成される。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、高周波用電力素子を組
立てるにおいて、素子の高周波特性を向上させるととも
に、大量生産に適するように組立工程の規格化を図り、
その素子の組立費用を節減することができる
立てるにおいて、素子の高周波特性を向上させるととも
に、大量生産に適するように組立工程の規格化を図り、
その素子の組立費用を節減することができる
【図1】本発明によるリードフレームを図示した平面
図。
図。
【図2】本発明による素子組立工程のうち、パドルに放
熱板を接合する工程を示す端面図。
熱板を接合する工程を示す端面図。
【図3】本発明による素子組立工程のうち、パドルのチ
ップが装着されるべき面の上部にコバル基板を付着する
工程を示す端面図。
ップが装着されるべき面の上部にコバル基板を付着する
工程を示す端面図。
【図4】本発明による素子組立工程のうち、ダイボンデ
ィング工程を示す端面図。
ィング工程を示す端面図。
【図5】本発明による素子組立工程のうち、ワイヤボン
ディング工程を示す平面図および端面図。
ディング工程を示す平面図および端面図。
【図6】本発明による素子組立工程のうち、金属キャッ
プをパドルの上部に付着する工程を示す平面図および端
面図。
プをパドルの上部に付着する工程を示す平面図および端
面図。
【図7】本発明による素子組立工程のうち、プラスチッ
クモールディング工程を示す平面図。
クモールディング工程を示す平面図。
【図8】本発明による素子組立が完了した電力素子を示
す平面図および端面図。
す平面図および端面図。
1 リードフレーム 2 パドル 3 ゲート電極用リード 4 ドレイン電極用リード 5,6 ソース電極用リード(パドル用タイバー) 7 放熱板 8 コバル(Kovar)基板 9 電力素子チップ 10 ボンディングワイヤ 11 金属キャップ(cap) 12 プラスチックモールディング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 姜 承求 大韓民国大田直轄市大徳区邑▲内▼洞54, ヒュンダイアパート108−1406 (72)発明者 尹 亨鎭 大韓民国大田直轄市中区太平洞サンブーア パート407−156 (72)発明者 朴 亨茂 大韓民国大田直轄市儒城区新城洞ハヌルア パート109−501
Claims (7)
- 【請求項1】 ソース電極とドレイン電極及びゲート電
極を有する電力半導体素子のパッケージ構造において、 電力半導体チップ(9)の装着のためのリードフレーム
(1)を備え、このリードフレーム(1)は、ソース電
極用リードと、ドレイン電極用リードと、ゲート電極用
リードと、連結部材(5,6)により支持されて、二つ
の面を有し、この二つの面の中で上記半導体チップ
(9)が装着される何れかの一面の背面方向に陥没され
る載置部(2)とを含むものであり、 さらに、 上記載置部(2)の上記背面に付着される放熱板(7)
と、 上記載置部(2)の二つの面の中で上記半導体チップ
(9)が装着される何れかの一面上に付着され、上記半
導体チップ(9)の熱膨脹係数と類似する熱膨脹係数を
有するコバル基板(8)と、 上記半導体チップ(9)に所定の厚さに塗布されるポリ
イミド層と、 半田づけにより上記載置部(2)上に付着される金属キ
ャップ(11)と、 上記金属キャップを塗布するエポキシ樹脂層とを含み、 上記半導体チップ(9)は、半田づけにより上記コバル
基板(8)上に接着され、 上記半導体チップ(9)の上記電極各々は、半田づけに
より上記リードフレーム(1)のリード各々にワイヤを
通じて接続されることを特徴とする電子素子用プラスチ
ックパッケージ構造。 - 【請求項2】 請求項1において、上記連結部材(5,
6)は、上記半導体チップ(9)のソース電極用リード
として用いられることを特徴とする電力素子用プラスチ
ックパッケージ構造。 - 【請求項3】 請求項1において、上記半導体チップ
(9)の上記ソース電極は、上記連結部材(5,6)を
通じてアースされることを特徴とする電力素子用プラス
チックパッケージ構造。 - 【請求項4】 電力素子の組立方法において、 半導体チップ(9)を装着するための載置部(2)と、
ゲート電極用リード(3)と、ドレイン電極用リード
(4)と、上記載置部(2)を支持するための連結部材
(5,6)を含み、上記載置部(2)は、二つの面を有
し、この二つの面の中で上記半導体チップ(9)が装着
される何れかの一面の背面方向に陥没されるリードフレ
ーム(1)を準備する段階と、 クラッディング方法により、上記載置部(2)の上記背
面に放熱板(7)を接合する段階と、 上記半導体チップと上記リードフレーム(1)との間の
熱膨脹係数の差違によって発生される応力を除去するた
めに、半田づけにより、上記載置部(2)上に上記チッ
プ(9)の熱膨脹係数と類似した熱膨脹係数を有するコ
バル基板(8)を付着する段階と、 半田づけにより、上記半導体チップ(9)を上記コバル
基板(8)上に装着する段階と、 上記半導体チップ(9)のゲート電極をゲート電極用リ
ード(3)に、ドレイン電極をドレイン電極用リード
(4)に、そして、ソース電極を上記載置部(2)に、
各々ワイヤ(10)によりボンディングする段階と、 スピンコーティングにより、上記チップ(9)に予めポ
リイミドを塗布した後、硬化処理する段階と、 金属キャップ(11)が上記リードフレーム(1)の上
記載置部(2)上に装着された半導体チップ(9)を被
覆するように、上記金属キャップ(11)を半田づけに
より上記載置部(2)の上部に付着する段階と、 プラスチックモールディングを行った後、モールディン
グ材料を硬化処理する段階とを含むことを特徴とする電
力素子用プラスチックパッケージ組立方法。 - 【請求項5】 請求項4において、上記コバル基板
(8)は、310℃〜320℃で、鉛(Pb)、インジ
ウム(In)と銀(Ag)の比率が92.5:5:2.
5である合金により付着されることを特徴とする電力素
子用パッケージ組立方法。 - 【請求項6】 請求項4において、上記ポリイミドは、
3000rpmのスピン速度、5μmの塗布厚さで塗布
されて、220℃温度で硬化されることを特徴とする電
力素子用プラスチックパッケージ組立方法。 - 【請求項7】 請求項4において、上記金属キャップ
(11)は、240℃〜250℃で、錫とアンチモン
(Sb)の比率が95:5である合金により付着される
ことを特徴とする電力素子用プラスチックパッケージ製
造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019930013085A KR960000706B1 (ko) | 1993-07-12 | 1993-07-12 | 전력소자용 플라스틱 패키지 구조 및 그 제조방법 |
KR93-13085 | 1993-07-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0778900A true JPH0778900A (ja) | 1995-03-20 |
JP2560205B2 JP2560205B2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=19359142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6159894A Expired - Lifetime JP2560205B2 (ja) | 1993-07-12 | 1994-07-12 | 電力素子用プラスチックパッケージ構造及びその組立方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5446959A (ja) |
JP (1) | JP2560205B2 (ja) |
KR (1) | KR960000706B1 (ja) |
DE (1) | DE4424549C2 (ja) |
FR (1) | FR2707798B1 (ja) |
GB (1) | GB2280062B (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000223634A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US7332757B2 (en) | 1999-01-28 | 2008-02-19 | Renesas Technology Corp. | MOSFET package |
US9601408B2 (en) | 2012-10-25 | 2017-03-21 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2907104B2 (ja) * | 1996-03-27 | 1999-06-21 | 日本電気株式会社 | 時間ダイバーシティ通信方法及び通信装置 |
JP2781783B2 (ja) * | 1996-07-30 | 1998-07-30 | 山形日本電気株式会社 | 半導体装置用パッケージ |
DE19638669A1 (de) * | 1996-09-20 | 1998-04-02 | Siemens Components A T | Herstellungsverfahren von Kunststoffgehäusen für auf Trägerrahmen befestigten Chips |
JPH10247713A (ja) * | 1997-03-05 | 1998-09-14 | Toshiba Corp | 半導体素子、半導体装置及びこれらの製造方法 |
JP2907186B2 (ja) * | 1997-05-19 | 1999-06-21 | 日本電気株式会社 | 半導体装置、その製造方法 |
JP2959521B2 (ja) * | 1997-05-21 | 1999-10-06 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法、リードフレーム |
US5889318A (en) | 1997-08-12 | 1999-03-30 | Micron Technology, Inc. | Lead frame including angle iron tie bar and method of making the same |
US6166411A (en) * | 1999-10-25 | 2000-12-26 | Advanced Micro Devices, Inc. | Heat removal from SOI devices by using metal substrates |
US6552395B1 (en) | 2000-01-03 | 2003-04-22 | Advanced Micro Devices, Inc. | Higher thermal conductivity glass for SOI heat removal |
DE10014804A1 (de) * | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Swoboda Gmbh Geb | Leuchtenmodul |
KR100699746B1 (ko) * | 2000-11-07 | 2007-03-27 | 페어차일드코리아반도체 주식회사 | 열전달 특성이 개선된 전력용 모듈 패키지 |
US6818477B2 (en) * | 2001-11-26 | 2004-11-16 | Powerwave Technologies, Inc. | Method of mounting a component in an edge-plated hole formed in a printed circuit board |
US7211887B2 (en) * | 2004-11-30 | 2007-05-01 | M/A-Com, Inc. | connection arrangement for micro lead frame plastic packages |
US7951698B2 (en) * | 2006-12-05 | 2011-05-31 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Method of fabricating electronic device using nanowires |
US7812430B2 (en) * | 2008-03-04 | 2010-10-12 | Powertech Technology Inc. | Leadframe and semiconductor package having downset baffle paddles |
US8324025B2 (en) | 2010-04-22 | 2012-12-04 | Team Pacific Corporation | Power semiconductor device packaging |
TWI489607B (zh) * | 2010-11-23 | 2015-06-21 | 登豐微電子股份有限公司 | 封裝結構 |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5026292Y1 (ja) * | 1968-01-29 | 1975-08-06 | ||
GB1318821A (en) * | 1971-03-26 | 1973-05-31 | Ferranti Ltd | Construction of packages for semiconductor devices |
US3922712A (en) * | 1974-05-01 | 1975-11-25 | Gen Motors Corp | Plastic power semiconductor flip chip package |
DE2543968A1 (de) * | 1975-10-02 | 1977-04-07 | Licentia Gmbh | Integrierte schaltungsanordnung |
JPS52120768A (en) * | 1976-04-05 | 1977-10-11 | Nec Corp | Semiconductor device |
US4079511A (en) * | 1976-07-30 | 1978-03-21 | Amp Incorporated | Method for packaging hermetically sealed integrated circuit chips on lead frames |
CA1083263A (en) * | 1977-06-29 | 1980-08-05 | Norman Hascoe | Prefabricated composite metallic heat-transmitting plate unit |
JPS55156343A (en) * | 1979-05-25 | 1980-12-05 | Hitachi Ltd | Manufacture of semiconductor device |
JPS5623759A (en) * | 1979-08-01 | 1981-03-06 | Hitachi Ltd | Resin-sealed semiconductor device and manufacture thereof |
FR2488445A1 (fr) * | 1980-08-06 | 1982-02-12 | Efcis | Boitier plastique pour circuits integres |
DE3040867C2 (de) * | 1980-10-30 | 1985-01-17 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung |
JPS5972748A (ja) * | 1982-10-20 | 1984-04-24 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置 |
US5476970A (en) * | 1984-02-16 | 1995-12-19 | Velsicol Chemical Corporation | Method for preparing aryl ketones |
US4811166A (en) * | 1986-07-02 | 1989-03-07 | Texas Instruments Incorporated | Heat dissipating member for mounting a semiconductor device and electrical circuit unit incorporating the member |
DE3635375A1 (de) * | 1986-10-17 | 1988-04-28 | Heraeus Gmbh W C | Systemtraeger fuer elektronische bauelemente |
US4829403A (en) * | 1987-01-20 | 1989-05-09 | Harding Ade Yemi S K | Packaging arrangement for energy dissipating devices |
US4855868A (en) * | 1987-01-20 | 1989-08-08 | Harding Ade Yemi S K | Preformed packaging arrangement for energy dissipating devices |
US4783428A (en) * | 1987-11-23 | 1988-11-08 | Motorola Inc. | Method of producing a thermogenetic semiconductor device |
US4953002A (en) * | 1988-03-31 | 1990-08-28 | Honeywell Inc. | Semiconductor device housing with magnetic field protection |
JPH0364033A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-19 | Hitachi Ltd | 半導体装置およびその製造に用いるリードフレーム |
JPH03136338A (ja) * | 1989-10-23 | 1991-06-11 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造のためのロウ付け方法 |
US5079618A (en) * | 1990-06-12 | 1992-01-07 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor device structures cooled by Peltier junctions and electrical interconnect assemblies |
DE69128464T2 (de) * | 1990-09-10 | 1998-04-16 | Fujitsu Ltd | Halbleiteranordnung und ihr herstellungsverfahren |
US5270262A (en) * | 1991-02-28 | 1993-12-14 | National Semiconductor Corporation | O-ring package |
US5362680A (en) * | 1992-08-18 | 1994-11-08 | Texas Instruments Incorporated | Technique for enhancing adhesion capability of heat spreaders in molded packages |
US5378924A (en) * | 1992-09-10 | 1995-01-03 | Vlsi Technology, Inc. | Apparatus for thermally coupling a heat sink to a lead frame |
-
1993
- 1993-07-12 KR KR1019930013085A patent/KR960000706B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-07-06 US US08/268,104 patent/US5446959A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-08 GB GB9413867A patent/GB2280062B/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-11 FR FR9408824A patent/FR2707798B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1994-07-12 JP JP6159894A patent/JP2560205B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-12 DE DE4424549A patent/DE4424549C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-01-31 US US08/381,304 patent/US5612853A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000223634A (ja) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US7332757B2 (en) | 1999-01-28 | 2008-02-19 | Renesas Technology Corp. | MOSFET package |
US7342267B2 (en) | 1999-01-28 | 2008-03-11 | Renesas Technology Corp. | MOSFET package |
US7394146B2 (en) | 1999-01-28 | 2008-07-01 | Renesas Tehcnology Corp. | MOSFET package |
US7400002B2 (en) | 1999-01-28 | 2008-07-15 | Renesas Technology Corp. | MOSFET package |
US7985991B2 (en) | 1999-01-28 | 2011-07-26 | Renesas Electronics Corporation | MOSFET package |
US8183607B2 (en) | 1999-01-28 | 2012-05-22 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
US8455986B2 (en) | 1999-01-28 | 2013-06-04 | Renesas Electronics Corporation | Mosfet package |
US8816411B2 (en) | 1999-01-28 | 2014-08-26 | Renesas Electronics Corporation | Mosfet package |
US9601408B2 (en) | 2012-10-25 | 2017-03-21 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2560205B2 (ja) | 1996-12-04 |
DE4424549A1 (de) | 1995-01-19 |
GB2280062A (en) | 1995-01-18 |
DE4424549C2 (de) | 1996-10-17 |
KR950004507A (ko) | 1995-02-18 |
FR2707798B1 (fr) | 1996-06-14 |
US5446959A (en) | 1995-09-05 |
GB2280062B (en) | 1997-04-09 |
FR2707798A1 (fr) | 1995-01-20 |
GB9413867D0 (en) | 1994-08-24 |
US5612853A (en) | 1997-03-18 |
KR960000706B1 (ko) | 1996-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2560205B2 (ja) | 電力素子用プラスチックパッケージ構造及びその組立方法 | |
KR100287414B1 (ko) | 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조방법 | |
KR100552353B1 (ko) | 리이드프레임및그것을사용한반도체집적회로장치와그제조방법 | |
JP2895920B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2586835B2 (ja) | 半導体集積回路 | |
JPS58207645A (ja) | 半導体装置 | |
JP2501953B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH0384958A (ja) | マルチチップパッケージの製造方法 | |
US5361970A (en) | Method of producing a semiconductor integrated circuit device having terminal members provided between semiconductor element and leads | |
JPH08236665A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JP3529507B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3454192B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP3528711B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP2986661B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH1116939A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH11274360A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2841822B2 (ja) | 混成集積回路の製造方法 | |
JP3541751B2 (ja) | リードフレームとそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびその製造方法 | |
JP2646988B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JP2570123B2 (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH0536863A (ja) | 半導体装置 | |
JPH08316376A (ja) | 放熱部材及び該放熱部材を備えた半導体装置 | |
JPH09275176A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
JPH08306849A (ja) | 放熱部材及び該放熱部材を備えた半導体装置 | |
JPH0685115A (ja) | 電子部品搭載用基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960618 |