JPH0744014Y2 - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH0744014Y2 JPH0744014Y2 JP14088789U JP14088789U JPH0744014Y2 JP H0744014 Y2 JPH0744014 Y2 JP H0744014Y2 JP 14088789 U JP14088789 U JP 14088789U JP 14088789 U JP14088789 U JP 14088789U JP H0744014 Y2 JPH0744014 Y2 JP H0744014Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- rotary
- cradle
- closed
- lid
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- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔概要〕 半導体ウエハの純水洗浄／乾燥を行うリンサ／ドライヤ
等の半導体製造装置に関し， 回転クレードルの回転軸を両持ち支持にして且つ回転ク
レードルの片側からキャリアの着脱が可能な構造を提供
し，ウエハの破損を防止することを目的とし， 内部にノズルを持った配管（４）が設けられ一端が閉止
され他端が開放可能なチャンバ（１）と，該チャンバ
（１）の開放可能な端部に設けられた蓋（３）と，該チ
ャンバ（１）の内部に設けられ一端が閉止され他端が開
放可能な回転クレードル（２）と，該回転クレードル
（２）の閉止端に固定された回転軸（６）と，該チャン
バ（１）の閉止端に設けられ該回転軸（６）を支持する
軸受（７）と，該回転軸（６）を回転させる手段（５）
と，該チャンバ（１）に設けられた排出口（９）と，該
蓋（３）の内面に取りつけられ該蓋を閉じたときに該回
転クレードル（２）の開放可能な端部に嵌合する回転軸
受（８）を有するように構成する。
等の半導体製造装置に関し， 回転クレードルの回転軸を両持ち支持にして且つ回転ク
レードルの片側からキャリアの着脱が可能な構造を提供
し，ウエハの破損を防止することを目的とし， 内部にノズルを持った配管（４）が設けられ一端が閉止
され他端が開放可能なチャンバ（１）と，該チャンバ
（１）の開放可能な端部に設けられた蓋（３）と，該チ
ャンバ（１）の内部に設けられ一端が閉止され他端が開
放可能な回転クレードル（２）と，該回転クレードル
（２）の閉止端に固定された回転軸（６）と，該チャン
バ（１）の閉止端に設けられ該回転軸（６）を支持する
軸受（７）と，該回転軸（６）を回転させる手段（５）
と，該チャンバ（１）に設けられた排出口（９）と，該
蓋（３）の内面に取りつけられ該蓋を閉じたときに該回
転クレードル（２）の開放可能な端部に嵌合する回転軸
受（８）を有するように構成する。
本考案は半導体ウエハの純水洗浄／乾燥を行うリンサ／
ドライヤ等の半導体製造装置に関する。
ドライヤ等の半導体製造装置に関する。
半導体装置の製造工程において，多数枚のウエハをキャ
リアに入れてエッチング等の工程が終わった後，キャリ
アに入れられたままのウエハの純水洗浄（リンス）／乾
燥を行うリンサ／ドライヤ等に利用できる。
リアに入れてエッチング等の工程が終わった後，キャリ
アに入れられたままのウエハの純水洗浄（リンス）／乾
燥を行うリンサ／ドライヤ等に利用できる。
第２図は従来例を説明する断面図である。
図において，チャンバ１の中に回転クレードル２が設け
られ，チャンバ１の一方側に開閉扉式の蓋３が取りつけ
られている。
られ，チャンバ１の一方側に開閉扉式の蓋３が取りつけ
られている。
回転クレードル２の一端は回転軸６に固定され，回転軸
６はチャンバ１の反対側に設けられた軸受７により支持
され，チャンバ１の外側よりモータ５により回転する。
６はチャンバ１の反対側に設けられた軸受７により支持
され，チャンバ１の外側よりモータ５により回転する。
チャンバ１の内部には多数のノズルを持った配管４が設
けられて，ノズルより純水を噴出して，クレードル２に
入れたキャリア10に装着されたウエハ11を洗浄する。
けられて，ノズルより純水を噴出して，クレードル２に
入れたキャリア10に装着されたウエハ11を洗浄する。
洗浄後，ノズルより乾燥窒素を噴出してウエハを乾燥す
る。洗浄／乾燥後の純水／窒素は排出口９から排出され
る。
る。洗浄／乾燥後の純水／窒素は排出口９から排出され
る。
従来は，上記の装置を用いてウエハ11の入ったキャリア
10をチャンバ１の中に設けられた回転クレードル２の中
に入れ純水洗浄及び乾燥を行っていた。このとき，キャ
リアの着脱は回転クレードルの片側から行う関係で，回
転クレードルは図のように片持ちの回転軸である。
10をチャンバ１の中に設けられた回転クレードル２の中
に入れ純水洗浄及び乾燥を行っていた。このとき，キャ
リアの着脱は回転クレードルの片側から行う関係で，回
転クレードルは図のように片持ちの回転軸である。
なお，回転クレードル２はチャンバ１の中にあるため，
蓋３の取りつけは回転軸の反対側でしかできない。
蓋３の取りつけは回転軸の反対側でしかできない。
従来構造では，回転クレードルの回転軸は片持ち支持の
ためブレ等が発生し，ウエハを破損することがあった。
ためブレ等が発生し，ウエハを破損することがあった。
本考案は回転クレードルの回転軸を両持ち支持にして且
つ回転クレードルの片側からキャリアの着脱が可能な構
造を提供し，ウエハの破損を防止することを目的とす
る。
つ回転クレードルの片側からキャリアの着脱が可能な構
造を提供し，ウエハの破損を防止することを目的とす
る。
上記課題の解決は，内部にノズルを持った配管（４）が
設けられ一端が閉止され他端が開放可能なチャンバ
（１）と，該チャンバ（１）の開放可能な端部に設けら
れた蓋（３）と，該チャンバ（１）の内部に設けられ一
端が閉止され他端が開放可能な回転クレードル（２）
と，該回転クレードル（２）の閉止端に固定された回転
軸（６）と，該チャンバ（１）の閉止端に設けられ該回
転軸（６）を支持する軸受（７）と，該回転軸（６）を
回転させる手段（５）と，該チャンバ（１）に設けられ
た排出口（９）と，該蓋（３）の内面に取りつけられ該
蓋を閉じたときに該回転クレードル（２）の開放可能な
端部に嵌合する回転軸受（８）を有する半導体製造装置
により達成される。
設けられ一端が閉止され他端が開放可能なチャンバ
（１）と，該チャンバ（１）の開放可能な端部に設けら
れた蓋（３）と，該チャンバ（１）の内部に設けられ一
端が閉止され他端が開放可能な回転クレードル（２）
と，該回転クレードル（２）の閉止端に固定された回転
軸（６）と，該チャンバ（１）の閉止端に設けられ該回
転軸（６）を支持する軸受（７）と，該回転軸（６）を
回転させる手段（５）と，該チャンバ（１）に設けられ
た排出口（９）と，該蓋（３）の内面に取りつけられ該
蓋を閉じたときに該回転クレードル（２）の開放可能な
端部に嵌合する回転軸受（８）を有する半導体製造装置
により達成される。
本考案はチャンバの片側に設けられた開閉扉式の蓋にド
ーナツ状の回転軸受を設けて，蓋を閉じたときに回転軸
受が回転クレードルの自由端に嵌合するようにして回転
軸を両持ち支持にし，且つ蓋の開閉によりキャリアの着
脱が従来通り行えるようにしたものである。
ーナツ状の回転軸受を設けて，蓋を閉じたときに回転軸
受が回転クレードルの自由端に嵌合するようにして回転
軸を両持ち支持にし，且つ蓋の開閉によりキャリアの着
脱が従来通り行えるようにしたものである。
第１図（１）〜（３）は本考案の一実施例を説明する断
面図である。
面図である。
第１図（１）は断面図，第１図（２）は横から見た断面
図，第１図（３）は上から見た図である。
図，第１図（３）は上から見た図である。
図において，チャンバ１の中に回転クレードル２が設け
られ，チャンバ１の一方側に開閉扉式の蓋３が取りつけ
られている。
られ，チャンバ１の一方側に開閉扉式の蓋３が取りつけ
られている。
回転クレードル２の一端は回転軸６に固定され，回転軸
６はチャンバ１の反対側に設けられた軸受７により支持
され，チャンバ１の外側よりモータ５により回転する。
６はチャンバ１の反対側に設けられた軸受７により支持
され，チャンバ１の外側よりモータ５により回転する。
開閉扉式の蓋３の内面には回転軸受８が設けられ，蓋３
を閉じたとき，回転クレードル２の他端に嵌合され，回
転クレードル２は両持ち支持されて回転できるようにな
っている。
を閉じたとき，回転クレードル２の他端に嵌合され，回
転クレードル２は両持ち支持されて回転できるようにな
っている。
チャンバ１の内部には多数のノズルを持った配管４が設
けられて，ノズルより純水を噴出して，クレードル２に
入れたキャリア10に装着されたウエハ11を洗浄する。洗
浄後，ノズルより乾燥窒素を噴出してウエハを乾燥す
る。洗浄／乾燥後の純水／窒素は排出口９から排出され
るが，実施例では回転軸受８の下側にも親設排出口9Aを
設けて，防塵のために回転軸受８の近傍からも直接排出
するようにした。
けられて，ノズルより純水を噴出して，クレードル２に
入れたキャリア10に装着されたウエハ11を洗浄する。洗
浄後，ノズルより乾燥窒素を噴出してウエハを乾燥す
る。洗浄／乾燥後の純水／窒素は排出口９から排出され
るが，実施例では回転軸受８の下側にも親設排出口9Aを
設けて，防塵のために回転軸受８の近傍からも直接排出
するようにした。
実施例ではリンサ／ドライヤについて説明したが，これ
の代わりにその他の装置，例えばめっき装置等にも本考
案は適用できる。
の代わりにその他の装置，例えばめっき装置等にも本考
案は適用できる。
以上説明したように本考案によれば，回転クレードルの
回転軸を両持ち支持にして且つ回転クレードルの片側か
らキャリアの着脱が可能な構造が得られ，ウエハ破損の
防止に寄与することができた。
回転軸を両持ち支持にして且つ回転クレードルの片側か
らキャリアの着脱が可能な構造が得られ，ウエハ破損の
防止に寄与することができた。
第１図（１）〜（３）は本考案の一実施例を説明する断
面図， 第２図は従来例を説明する断面図である。 図において， １はチャンバ,2は回転クレードル,3は開閉扉式の蓋,4は
ノズル付の配管,5はモータ,6は回転軸,7は軸受,8は回転
軸受,9は排出口,9Aは新設排出口,10はキャリア,11はウ
エハである。
面図， 第２図は従来例を説明する断面図である。 図において， １はチャンバ,2は回転クレードル,3は開閉扉式の蓋,4は
ノズル付の配管,5はモータ,6は回転軸,7は軸受,8は回転
軸受,9は排出口,9Aは新設排出口,10はキャリア,11はウ
エハである。
Claims (1)
- 【請求項１】内部にノズルを持った配管（４）が設けら
れ一端が閉止され他端が開放可能なチャンバ（１）と， 該チャンバ（１）の開放可能な端部に設けられた蓋
（３）と， 該チャンバ（１）の内部に設けられ一端が閉止され他端
が開放可能な回転クレードル（２）と， 該回転クレードル（２）の閉止端に固定された回転軸
（６）と， 該チャンバ（１）の閉止端に設けられ該回転軸（６）を
支持する軸受（７）と， 該回転軸（６）を回転させる手段（５）と， 該チャンバ（１）に設けられた排出口（９）と， 該蓋（３）の内面に取りつけられ該蓋を閉じたときに該
回転クレードル（２）の開放可能な端部に嵌合する回転
軸受（８）を有することを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14088789U JPH0744014Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1989-12-05 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14088789U JPH0744014Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1989-12-05 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0379423U JPH0379423U (ja) | 1991-08-13 |
| JPH0744014Y2 true JPH0744014Y2 (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=31687828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14088789U Expired - Fee Related JPH0744014Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1989-12-05 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0744014Y2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-05 JP JP14088789U patent/JPH0744014Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0379423U (ja) | 1991-08-13 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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