JPH0744014Y2 - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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JPH0744014Y2
JPH0744014Y2 JP14088789U JP14088789U JPH0744014Y2 JP H0744014 Y2 JPH0744014 Y2 JP H0744014Y2 JP 14088789 U JP14088789 U JP 14088789U JP 14088789 U JP14088789 U JP 14088789U JP H0744014 Y2 JPH0744014 Y2 JP H0744014Y2
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JP
Japan
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chamber
rotary
cradle
closed
lid
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JP14088789U
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謙一郎 小荒井
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Fujitsu Ltd
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Description

【考案の詳細な説明】 〔概要〕 半導体ウエハの純水洗浄/乾燥を行うリンサ/ドライヤ
等の半導体製造装置に関し, 回転クレードルの回転軸を両持ち支持にして且つ回転ク
レードルの片側からキャリアの着脱が可能な構造を提供
し,ウエハの破損を防止することを目的とし, 内部にノズルを持った配管(4)が設けられ一端が閉止
され他端が開放可能なチャンバ(1)と,該チャンバ
(1)の開放可能な端部に設けられた蓋(3)と,該チ
ャンバ(1)の内部に設けられ一端が閉止され他端が開
放可能な回転クレードル(2)と,該回転クレードル
(2)の閉止端に固定された回転軸(6)と,該チャン
バ(1)の閉止端に設けられ該回転軸(6)を支持する
軸受(7)と,該回転軸(6)を回転させる手段(5)
と,該チャンバ(1)に設けられた排出口(9)と,該
蓋(3)の内面に取りつけられ該蓋を閉じたときに該回
転クレードル(2)の開放可能な端部に嵌合する回転軸
受(8)を有するように構成する。
〔産業上の利用分野〕
本考案は半導体ウエハの純水洗浄/乾燥を行うリンサ/
ドライヤ等の半導体製造装置に関する。
半導体装置の製造工程において,多数枚のウエハをキャ
リアに入れてエッチング等の工程が終わった後,キャリ
アに入れられたままのウエハの純水洗浄(リンス)/乾
燥を行うリンサ/ドライヤ等に利用できる。
〔従来の技術〕
第2図は従来例を説明する断面図である。
図において,チャンバ1の中に回転クレードル2が設け
られ,チャンバ1の一方側に開閉扉式の蓋3が取りつけ
られている。
回転クレードル2の一端は回転軸6に固定され,回転軸
6はチャンバ1の反対側に設けられた軸受7により支持
され,チャンバ1の外側よりモータ5により回転する。
チャンバ1の内部には多数のノズルを持った配管4が設
けられて,ノズルより純水を噴出して,クレードル2に
入れたキャリア10に装着されたウエハ11を洗浄する。
洗浄後,ノズルより乾燥窒素を噴出してウエハを乾燥す
る。洗浄/乾燥後の純水/窒素は排出口9から排出され
る。
従来は,上記の装置を用いてウエハ11の入ったキャリア
10をチャンバ1の中に設けられた回転クレードル2の中
に入れ純水洗浄及び乾燥を行っていた。このとき,キャ
リアの着脱は回転クレードルの片側から行う関係で,回
転クレードルは図のように片持ちの回転軸である。
なお,回転クレードル2はチャンバ1の中にあるため,
蓋3の取りつけは回転軸の反対側でしかできない。
〔考案が解決しようとする課題〕
従来構造では,回転クレードルの回転軸は片持ち支持の
ためブレ等が発生し,ウエハを破損することがあった。
本考案は回転クレードルの回転軸を両持ち支持にして且
つ回転クレードルの片側からキャリアの着脱が可能な構
造を提供し,ウエハの破損を防止することを目的とす
る。
〔課題を解決するための手段〕
上記課題の解決は,内部にノズルを持った配管(4)が
設けられ一端が閉止され他端が開放可能なチャンバ
(1)と,該チャンバ(1)の開放可能な端部に設けら
れた蓋(3)と,該チャンバ(1)の内部に設けられ一
端が閉止され他端が開放可能な回転クレードル(2)
と,該回転クレードル(2)の閉止端に固定された回転
軸(6)と,該チャンバ(1)の閉止端に設けられ該回
転軸(6)を支持する軸受(7)と,該回転軸(6)を
回転させる手段(5)と,該チャンバ(1)に設けられ
た排出口(9)と,該蓋(3)の内面に取りつけられ該
蓋を閉じたときに該回転クレードル(2)の開放可能な
端部に嵌合する回転軸受(8)を有する半導体製造装置
により達成される。
〔作用〕
本考案はチャンバの片側に設けられた開閉扉式の蓋にド
ーナツ状の回転軸受を設けて,蓋を閉じたときに回転軸
受が回転クレードルの自由端に嵌合するようにして回転
軸を両持ち支持にし,且つ蓋の開閉によりキャリアの着
脱が従来通り行えるようにしたものである。
〔実施例〕
第1図(1)〜(3)は本考案の一実施例を説明する断
面図である。
第1図(1)は断面図,第1図(2)は横から見た断面
図,第1図(3)は上から見た図である。
図において,チャンバ1の中に回転クレードル2が設け
られ,チャンバ1の一方側に開閉扉式の蓋3が取りつけ
られている。
回転クレードル2の一端は回転軸6に固定され,回転軸
6はチャンバ1の反対側に設けられた軸受7により支持
され,チャンバ1の外側よりモータ5により回転する。
開閉扉式の蓋3の内面には回転軸受8が設けられ,蓋3
を閉じたとき,回転クレードル2の他端に嵌合され,回
転クレードル2は両持ち支持されて回転できるようにな
っている。
チャンバ1の内部には多数のノズルを持った配管4が設
けられて,ノズルより純水を噴出して,クレードル2に
入れたキャリア10に装着されたウエハ11を洗浄する。洗
浄後,ノズルより乾燥窒素を噴出してウエハを乾燥す
る。洗浄/乾燥後の純水/窒素は排出口9から排出され
るが,実施例では回転軸受8の下側にも親設排出口9Aを
設けて,防塵のために回転軸受8の近傍からも直接排出
するようにした。
実施例ではリンサ/ドライヤについて説明したが,これ
の代わりにその他の装置,例えばめっき装置等にも本考
案は適用できる。
〔考案の効果〕
以上説明したように本考案によれば,回転クレードルの
回転軸を両持ち支持にして且つ回転クレードルの片側か
らキャリアの着脱が可能な構造が得られ,ウエハ破損の
防止に寄与することができた。
【図面の簡単な説明】
第1図(1)〜(3)は本考案の一実施例を説明する断
面図, 第2図は従来例を説明する断面図である。 図において, 1はチャンバ,2は回転クレードル,3は開閉扉式の蓋,4は
ノズル付の配管,5はモータ,6は回転軸,7は軸受,8は回転
軸受,9は排出口,9Aは新設排出口,10はキャリア,11はウ
エハである。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】内部にノズルを持った配管(4)が設けら
    れ一端が閉止され他端が開放可能なチャンバ(1)と, 該チャンバ(1)の開放可能な端部に設けられた蓋
    (3)と, 該チャンバ(1)の内部に設けられ一端が閉止され他端
    が開放可能な回転クレードル(2)と, 該回転クレードル(2)の閉止端に固定された回転軸
    (6)と, 該チャンバ(1)の閉止端に設けられ該回転軸(6)を
    支持する軸受(7)と, 該回転軸(6)を回転させる手段(5)と, 該チャンバ(1)に設けられた排出口(9)と, 該蓋(3)の内面に取りつけられ該蓋を閉じたときに該
    回転クレードル(2)の開放可能な端部に嵌合する回転
    軸受(8)を有することを特徴とする半導体製造装置。
JP14088789U 1989-12-05 1989-12-05 半導体製造装置 Expired - Fee Related JPH0744014Y2 (ja)

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JPH0379423U JPH0379423U (ja) 1991-08-13
JPH0744014Y2 true JPH0744014Y2 (ja) 1995-10-09

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