JP2004066212A - 洗浄乾燥装置 - Google Patents

洗浄乾燥装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004066212A
JP2004066212A JP2002307682A JP2002307682A JP2004066212A JP 2004066212 A JP2004066212 A JP 2004066212A JP 2002307682 A JP2002307682 A JP 2002307682A JP 2002307682 A JP2002307682 A JP 2002307682A JP 2004066212 A JP2004066212 A JP 2004066212A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
washing
drying
rotating drum
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002307682A
Other languages
English (en)
Inventor
Shintaro Nobe
野辺 進太郎
Susumu Imagawa
今川 進
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Inamoto Manufacturing Co Ltd
Dan Takuma Technologies Inc
Original Assignee
Inamoto Manufacturing Co Ltd
Dan Takuma Technologies Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Inamoto Manufacturing Co Ltd, Dan Takuma Technologies Inc filed Critical Inamoto Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2002307682A priority Critical patent/JP2004066212A/ja
Priority to PCT/JP2003/007314 priority patent/WO2003105208A1/ja
Publication of JP2004066212A publication Critical patent/JP2004066212A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/02Cleaning by the force of jets or sprays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/045Cleaning involving contact with liquid using perforated containers, e.g. baskets, or racks immersed and agitated in a liquid bath

Abstract

【課題】電子部品、精密機械部品を運搬・保管するためこれらの部品等を収納する樹脂製容器や半導体ウエハーを収納するカセットを短時間に洗浄乾燥し、かつ洗浄乾燥装置全体をコンパクトにし、洗浄乾燥装置の専有面積を従来より大幅に低減することを目的とする。
【解決手段】洗浄槽内に回転ドラムを設置し、該回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、または該回転ドラム内に直に部品収納容器等を収納し、回転ドラムを回転させながら洗浄した後、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水乾燥させ、その後、温風乾燥することを特徴とする
【選択図】図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、機械・電気部品等収納トレイや半導体ウエハー収納カセットを洗浄液によって洗浄し、乾燥用空気を取り入れて乾燥させる洗浄乾燥装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子部品、精密機械部品を運搬・保管するためこれらの部品等を収納する樹脂製トレイや半導体ウエハーを収納するカセット(以下、「収納容器等」という。)がパーティクル付着等により汚染された場合、これらを洗浄・乾燥して再利用をしている。
【0003】
従来、これら収納容器等の洗浄として図8のように収納容器等をベルトコンベア101上に載置し、噴流ノズルから純水を数段階に分けて噴き付けて、すなわち再生純水による一次洗浄、超純水による二次洗浄(仕上げ洗浄)からなるスプレイ洗浄102を行う。次にブロアより圧縮空気を生成し、エアーノズルにより収納容器等に噴き付けることにより行う水切り乾燥103、更に温度60℃〜65℃の温風乾燥104の一連の工程を経て、洗浄乾燥を行っている。また、スプレイ洗浄102に替えて、図9に示すように、例えば超音波水洗槽の洗浄槽(1)105、洗浄槽(2)106に浸漬させて洗浄し、更にリンス槽107による洗浄を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、従来の部品収納容器等をベルトコンベア上に載置し、噴流ノズルから純水を数段階に分けて噴き付ける洗浄方法では、洗浄装置の専有面積が大きくなり、また、純水の消費量も多かった。また、エアーノズルによる水切り乾燥は多くの空気量を必要とし、従って、水切り乾燥領域も長い距離をとらざるを得ず、水切り乾燥装置の専有面積も洗浄装置に増して、大きくならざるを得なかった。
従って、従来の部品収納容器等の洗浄乾燥装置は装置長さが通常10m位に達するのも稀ではなく、その割には単位時間当たりの洗浄乾燥処理量も比較的大きく取ることはできなかった。
よって、設備投資による初期コスト及びランニングコストも高価なもので、部品収納容器等の洗浄コストは大きくなり、洗浄再生メリットも少ないものであった。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明による洗浄乾燥装置では洗浄槽内に回転ドラムを設置し、その回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、またはその回転ドラム内に直に部品収納容器等を収納し、回転ドラムを回転させながら洗浄した後、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水乾燥させることを特徴とする。装置全体がコンパクトにまとめるために同一槽内で洗浄、水切り脱水乾燥を行い、また遠心力による水切り脱水乾燥を行うため高速に水切り脱水が行われる。
【0006】
洗浄槽内に回転ドラムを設置し、その回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、回転ドラムを回転させながら洗浄した後、本発明では、水切り脱水後、乾燥時間を短縮させるため、温風を噴き付けて乾燥させることを特徴とする。
【0007】
本発明では、乾燥装置の乾燥のための熱エネルギーが洗浄液によって奪われないようにするため、洗浄槽内に回転ドラムを設置し、その回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、回転ドラムを回転させながら洗浄し、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水させた後、回転ドラムを設置した乾燥装置に移し変え、温風を噴き付けて乾燥させることを特徴とする洗浄装置と乾燥装置を分離独立して併設させる。
【0008】
本発明では、どのような形状、大きさの部品収納容器等にも対応して洗浄乾燥できるようにするため、洗浄槽内に回転ドラムを設置し、その回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した着脱可能な任意の形状、任意の大きさのバスケットを1つ又は複数個に分割設置できる固定枠を設けたことを特徴とする。
【0009】
本発明では、洗浄槽内に回転ドラムを設置し、その回転ドラム内に1つ又は複数の半導体ウエハーカセットを収納でき、その半導体ウエハーカセットを回転ドラムを回転させながら洗浄した後、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水乾燥させることを特徴とする。また前記の水切り脱水乾燥するための高速回転を350〜800RPMとする。
【0010】
洗浄効率を上げ、また純水の消耗量を軽減するため本発明では、一次洗浄した後、仕上げ洗浄としての二次洗浄(リンス洗浄)を行う少なくとも二段階の洗浄工程からなることを特徴とする。一次洗浄として洗浄するときの洗浄液として純水または水性洗剤液またはアルカリイオン水を使用し、二次洗浄として超純水を使用する。
【0011】
本発明では、洗浄水の節減のため一次洗浄として前記回転ドラム内の下部に洗浄液を貯留させて洗浄することを特徴とし、また、洗浄水を部品収納容器等に均等に行き渡るように回転ドラム内のほぼ回転中心部から洗浄液を噴射させて洗浄することを特徴とする。洗浄液を噴射させる洗浄液噴射ノズルは回転ドラムの回転軸を中空軸とし、この中空回転軸を洗浄液を噴出させるノズルと兼用させたことを特徴とする。
【0012】
本発明では、部品収納容器等の洗浄をするときは前記回転ドラムを低速回転させ、その後、水切り脱水するときは高速回転させる少なくとも二段階に回転ドラムの回転速度を変化させて洗浄、水切り脱水することを特徴とし、回転ドラムの回転数は洗浄時は10〜50RPMとし、水切り脱水時は350〜800RPMとする。
【0013】
本発明では、洗浄乾燥装置の洗浄槽にバスケットを投入、取り出しを容易にするため、回転ドラムに回転位置検出装置を設け、洗浄乾燥後の回転ドラム停止時には常に回転ドラム一定の回転停止位置に停止させることを特徴とし、また洗浄槽の内壁の掃除するため回転ドラムの外面にフィンまたはブラシを設けて洗浄槽の内壁に付着した洗浄スラジを前記回転ドラムの回転により掻き落とす機能を備えることを特徴とする。
【0014】
乾燥時間を短縮させ、かつクリーン乾燥を実現するため、本発明では、乾燥装置槽内に回転ドラムを設置し、回転ドラム内に被乾燥対象の部品収納容器等を設置し、乾燥装置槽の上方に設けたHEPAフィルター14を通して温風を乾燥装置槽内に供給し、または、上方に設けたフィルターに替え、回転ドラムの回転軸に噴き出しノズル孔を設けて、ノズルシャフトとし、このノズルシャフトに温風を噴き出させることを特徴とする。ノズルシャフトの上流にはラインフィルタ15を設ける。
【0015】
また、部品収納容器等をベルトコンベア上に載置し、噴流ノズルから純水を数段階に分けて噴きつける洗浄あるいは洗浄槽による浸漬洗浄を採用する場合であっても、一つまたは複数の部品収納容器等を専用バスケットに収納し、洗浄液のスプレイ洗浄または超音波若しくは温水による洗浄槽による浸漬洗浄後、遠心脱水乾燥をすることを特徴とする。この洗浄乾燥方法によれば、従来と比較し、乾燥領域の占有面積を小さくでき、また遠心乾燥により乾燥効率を高め、スループットを大きくすることができる。
前期遠心脱水乾燥後、さらに温風による乾燥を行うことを特徴とする。乾燥効率をさらに高めることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の実施の形態の概念を示す図である。図示しない洗浄槽内の回転ドラム1に複数枚の部品収納容器等7を保持するバスケットを周辺に沿って設置固定する。洗浄槽内の回転ドラム1を回転させつつ、純水を迅速に洗浄槽内に給水し、一定量貯水させて、回転洗浄する工程を採用する。
【0017】
または、回転ドラム内に複数の部品収納容器等7を収納した着脱可能な任意の形状、任意の大きさのバスケットを1つ又は複数個に分割設置できる固定枠を設けることとする。
また、洗浄液3を回転ドラム1の底部に貯留し、矢印方向にゆっくり回転させて、部品収納容器等7を順次この洗浄液3に浸漬させて洗浄する。洗浄液3として純水、水成系洗剤またはアルカリイオン水を使用する。
【0018】
また、純水装置の給水量が小さい場合、洗浄槽内に貯水する時間を短縮するために、純水貯水循環装置を設ける。純水貯水循環槽は純水の循環ポンプ、ろ過フィルター、貯水タンクより構成される。純水は停滞させると、腐敗しやすいので、使用しない場合も常時バイパスさせてろ過する機構とする。
【0019】
本発明の第1の実施の形態として、具体的に部品収納容器等の洗浄装置と乾燥装置の分離型の洗浄乾燥装置について説明する。
図2において回転ドラム1に部品収納容器等7を複数枚保持するバスケット2を図1のように円周方向に沿って搬入設置する。洗浄液噴射ノズル10が洗浄槽5に固定されて回転ドラム1のほぼ回転中心に位置するように配置されている。
【0020】
槽蓋6を閉じた後、回転軸4により回転ドラム1を矢印方向に回転させる。一次洗浄として図1のように再生純水を洗浄槽の下部に貯留した洗浄液3に浸漬させて行うか、または、噴射ノズル10から再生純水をシャワー9により約4分間、一次洗浄を行う。再生純水として例えば使用済みの純水をフィルターを通して再生する。この一次洗浄においては洗浄液として再生純水に替え、またはそれと伴に水成系洗剤またはアルカリイオン水を使用してもよい。
【0021】
洗浄時においてバスケット2の部品収納容器等7は回転ドラム1により洗浄槽5内全体に回転するため洗浄液の散布が均一となり、また回転水流により洗浄効果がより増大する。次に、図示しない切換えバルブにより再生純水または洗剤から超純水に切換えシャワー9により約2分間、超純水による二次洗浄を行う。純水の必要供給量15リットル/minくらいである。回転ドラム1の回転数はこれらの洗浄時において10〜50RPMとする。
【0022】
次に、噴射ノズル10からの洗浄液シャワー9を停止させ、回転ドラム1の回転数を350〜800RPMとし、遠心力により3分間、水切り脱水乾燥を行う。このように部品収納容器等の洗浄をするときは前記回転ドラムを低速回転させ、その後、水切り脱水するときは高速回転させる少なくとも二段階に回転ドラムの回転速度を変化させて洗浄、水切り脱水する。
【0023】
また、回転ドラム1の外側の周壁や側面にゴムや樹脂性のフィンまたはブラシ11を設けて洗浄槽内の内壁に付着した洗浄スラジを掻き落とす機構をも設ける。
また、図3に示す洗浄装置では図2の噴射ノズル10に替え、中空回転軸による回転噴射ノズル(洗浄液用)8を用いる。回転噴射ノズル(洗浄液用)8から部品収納容器等7に向け洗浄液シャワー9を噴き付ける。
【0024】
従来、一般的に用いられていたブロアによる高圧空気の噴き付けによる水切り脱水乾燥に比較して、短時間に効率よく水切り脱水が行われる。また、長い水切り脱水乾燥領域を必要とせず、装置全体がコンパクトに作り上げることもできる。
これら部品収納容器等7に要する洗浄所要時間は部品収納容器等7の搬入0.5分、一次洗浄4分、二次洗浄2分、水切り3分、搬出0.5分の計約10分である。
【0025】
その後、洗浄装置1Aの槽蓋6を開け、部品収納容器等7の入ったバスケット2ごと取り出し、バスケット2を図4に示す乾燥装置1Cに乾燥槽12の回転ドラム1に搬入し移し変える。槽蓋6を閉じ、回転ドラム1を回転させ、HEPAフィルター14および/またはラインフィルター15を通し回転軸噴射ノズル13から温風16を約9分間、噴き付ける。温風乾燥の温風温度は60℃〜65℃で回転ドラム1を10〜50RPMで回転させる。また、風量は30〜50m/minとする。これら部品収納容器等7に要する乾燥所要時間は部品収納容器等7の搬入0.5分、温風乾燥9分、搬出0.5分の計約10分である。
本発明は、回転による水切り脱水、およびこのようにしてフィルターを経由させたドライ温風エアーによりクリーン乾燥を実現させたものである。
【0026】
このように洗浄装置1Aと乾燥装置1Cを分離独立させたのは乾燥装置1Cから熱エネルギーを洗浄液により奪われないように熱効率を上げて、洗浄乾燥の一連の工程を行う。また回転ドラム1に回転位置検出装置を設け、回転ドラム1の停止時には常に一定の位置に停止させることとし、部品収納容器等7を入れたバスケット2を搬入および搬出を容易にすることができるようにした。
【0027】
次に、本発明の第2の実施の形態として、部品収納容器等7の洗浄装置と乾燥装置を一体型とした洗浄乾燥装置について説明する。
図3により初期設備投資コストおよび洗浄乾燥装置の専有面積をより小さくし、更に洗浄乾燥コスト低減を図った洗浄装置1Bと、しかも、これが乾燥装置を兼ね備え洗浄装置と乾燥装置を一体型とする洗浄乾燥装置を具体的に説明する。部品収納容器等7の入った複数のバスケット2を回転ドラム1の周辺方向に設置する。これは図1のように並べ設置するものであることは前記の洗浄装置と乾燥装置の分離独立型と同様である。また、洗浄液による洗浄、水切り脱水乾燥による洗浄工程も分離独立型と同様である。
【0028】
水切り脱水乾燥後、同一の洗浄槽内に入れたまま(すなわち、バスケット2を他に移すことなく)回転噴射ノズルにラインフィルター15を通した60℃〜65℃の温風を送り込み、回転ドラム1を10〜50RPMで回転させて部品収納容器等7を約9分間、乾燥させる。温風乾燥後、槽蓋6を開けてバスケット2を回転ドラム1から取り出す。
【0029】
次に、本発明の第3の実施の形態として、半導体ウエハーカセットの洗浄装置と乾燥装置を一体型とした洗浄乾燥装置について説明する。
図2において、複数個の半導体ウエハーカセットを専用バスケットに入れて、回転ドラム1に設置するか、または直に半導体ウエハーカセットを回転ドラム1に投入して設置固定する。一次洗浄として回転ドラム1を回転させ洗浄槽下部に貯留した洗浄液3に順次、半導体ウエハーカセットを浸漬させる。または回転噴射ノズル8から洗浄液シャワー9を半導体ウエハーカセットに向けて4分間くらい噴射することにより行う。次に、図示しない切換えバルブにより超純水を回転噴射ノズル8から超純水シャワー9として半導体ウエハーカセットの二次洗浄(仕上げ洗浄)を約2分間くらい行う。この間、回転ドラム1を10〜50RPMの回転数で回転させる。
【0030】
その後、超純水シャワー9を停止し、回転ドラム1の回転数を400RPMくらいに上昇させ、水切り脱水乾燥を行う。3分間くらい水切り脱水を行った後、回転数をそのまま400RPMくらいに維持し、回転噴射ノズルからラインフィルター15を通したエアーシャワーを噴き付け、クリーン乾燥を実現させる。
【0031】
また、部品収納容器等をベルトコンベア上に載置し、噴流ノズルから純水を数段階に分けて噴きつける洗浄あるいは洗浄槽による浸漬洗浄を採用する場合であっても、一つまたは複数の部品収納容器等を専用バスケットに収納し、洗浄液のスプレイ洗浄または超音波若しくは温水による洗浄槽による浸漬洗浄後、遠心脱水乾燥をすることを特徴とする。この洗浄乾燥方法によれば、従来と比較し、乾燥領域の占有面積を小さくでき、また遠心乾燥により乾燥効率を高め、スループットを大きくすることができる。
前期遠心脱水乾燥後、さらに温風による乾燥を行うことを特徴とする。乾燥効率をさらに高めることができる。
【0032】
収納容器等の洗浄として図5のように収納容器等をベルトコンベア101上に載置し、噴流ノズルから純水を数段階に分けて噴き付けて、すなわち再生純水による一次洗浄、超純水による二次洗浄(仕上げ洗浄)からなるスプレイ洗浄102を行う。また、スプレイ洗浄102に替えて、図6に示すように、例えば超音波水洗槽の洗浄槽(1)105、洗浄槽(2)106に浸漬させて洗浄し、更にリンス槽107による洗浄を行っている。
【0033】
上記2種類のいずれかの洗浄方法によって洗浄された収納容器等をバスケット搬送機17により自動的に遠心乾燥装置18により遠心脱水乾を行う。乾燥時間が短縮され、結果として単位時間当たりの洗浄乾燥処理を向上させることができる。また、ブロア乾燥に比較し、乾燥装置の専有面積を大幅に減少させることができ、洗浄乾燥装置全体として、床に占有する専有面積も大幅に減少させることができる。図7に図5,6において遠心乾燥装置18の矢印から見た平面図を示す。
【0034】
【発明の効果】
同一槽内で洗浄、水切り脱水乾燥を行うため、装置全体がコンパクトにまとめることができ、洗浄乾燥装置の床に占める専有面積も大幅に縮小でき、また遠心力による水切り脱水乾燥を行うため高速に水切り脱水が行われる。また、水切り脱水後、温風を噴き付けて乾燥させるため乾燥時間を短縮させることもできる。
【0035】
高速回転させることにより水切り脱水させた後、回転ドラムを設置した乾燥装置に移し変え、温風を噴き付けて乾燥させ洗浄装置と乾燥装置を分離独立して併設させるため、乾燥装置の乾燥のための熱エネルギーが洗浄液によって奪われないようにすることができる。
【0036】
洗浄槽内に回転ドラムを設置し、その回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した着脱可能な任意の形状、任意の大きさのバスケットを1つ又は複数個に分割設置するため、どのような形状、大きさの部品収納容器等にも対応して洗浄乾燥できるようにする。
【0037】
一次洗浄した後、仕上げ洗浄としての二次洗浄(リンス洗浄)を行う少なくとも二段階の洗浄工程からなり、また、一次洗浄として洗浄するときの洗浄液として純水または水性洗剤液またはアルカリイオン水を使用し、二次洗浄として超純水を使用するため、洗浄効率を上げ、また純水の消費量を軽減することができる。
【0038】
洗浄槽内の回転ドラム内の下部に洗浄液を貯留させて洗浄するため、一次洗浄としての洗浄水の節減でき、また、回転ドラム内のほぼ回転中心部から洗浄液を噴射させて洗浄することができるため、洗浄水を部品収納容器等に均等に行き渡るようにすることができる。
【0039】
部品収納容器等の洗浄をするときは前記回転ドラムを低速回転させ、その後、水切り脱水するときは高速回転させる少なくとも二段階に回転ドラムの回転速度を変化させて洗浄、水切り脱水するため、短時間に洗浄、水切り脱水を行うことができる。
【0040】
回転ドラムに回転位置検出装置を設け、洗浄乾燥後の回転ドラム停止時には常に回転ドラム一定の回転停止位置に停止させることとしため、洗浄乾燥装置の洗浄槽にバスケットを投入、取り出しを容易にすることができる。また回転ドラムの外面にフィンまたはブラシを設けて洗浄槽の内壁に付着した洗浄スラジを前記回転ドラムの回転により掻き落とす機能を備えるため、洗浄槽の内壁を自動的に掃除することができる。
【0041】
乾燥装置内に供給する温風はHEPAフィルターまたはラインフィルターを通して供給するためクリーン乾燥を行うことができる。
【0042】
洗浄液のスプレイ洗浄または超音波若しくは温水による洗浄槽による浸漬洗浄装置の場合でも遠心脱水乾燥を採用することにより、床に占める専有面積も縮小でき、また遠心力による水切り脱水乾燥を行うため高速に水切り乾燥が行うことができ、洗浄乾燥の能力が増大する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の洗浄乾燥装置の洗浄槽内を示す図。
【図2】本発明の第1の洗浄乾燥装置の実施の形態を示す図。
【図3】本発明の第2の洗浄乾燥装置の実施の形態を示す図。
【図4】本発明の乾燥装置の実施の形態を示す図。
【図5】本発明の第3の洗浄乾燥装置の実施の形態を示す図。
【図6】本発明の第4の洗浄乾燥装置の実施の形態を示す図。
【図7】図5、図6において遠心脱水乾燥装置を矢印から見た図。
【図8】従来の第1の洗浄乾燥装置の構成を示す図。
【図9】従来の第2の洗浄乾燥装置の構成を示す図。
【符号の説明】
1       回転ドラム
1A、1B   洗浄装置
1C      乾燥装置
2       バスケット
3       洗浄液
4       回転軸
5       洗浄槽
6       槽蓋
7       部品収納容器等
8       回転軸噴射ノズル(洗浄液用)
9       シャワー
10      噴射ノズル
11      フィンまたはブラシ
12      乾燥槽
13      回転軸噴射ノズル(温風用)
14      HEPAフィルター
15      ラインフィルター
16      温風
17      バスケット搬送機
18      遠心乾燥装置
18a     遠心乾燥装置蓋
18b     遠心乾燥装置容器

Claims (19)

  1. 洗浄槽内に回転ドラムを設置し、該回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、または該回転ドラム内に直にを収納し、回転ドラムを回転させながら洗浄した後、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水乾燥させることを特徴とする洗浄乾燥装置。
  2. 洗浄槽内に回転ドラムを設置し、該回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、回転ドラムを回転させながら洗浄した後、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水させ、更に温風を噴き付けて乾燥させることを特徴とする洗浄乾燥装置。
  3. 洗浄槽内に回転ドラムを設置し、該回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した1つ又は複数個の着脱可能なバスケットを設置し、回転ドラムを回転させながら洗浄し、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水させた後、回転ドラムを設置した乾燥装置に移し変え、温風を噴き付けて乾燥させることを特徴とする洗浄装置と乾燥装置分離独立して併設した洗浄乾燥装置。
  4. 洗浄槽内に回転ドラムを設置し、該回転ドラム内に複数の部品収納容器等を収納した着脱可能な任意の形状、任意の大きさの1つ又は複数個のバスケットを分割設置できる固定枠を設けたことを特徴とする請求項1から3記載の洗浄乾燥装置。
  5. 洗浄槽内に回転ドラムを設置し、該回転ドラム内に1つ又は複数の半導体ウエハーカセットを収納でき、該半導体ウエハーカセットを回転ドラムを回転させながら洗浄した後、回転ドラムを高速回転させることにより水切り脱水乾燥させることを特徴とする洗浄乾燥装置。
  6. 水切り脱水乾燥するための高速回転を350〜800RPMとする請求項1から5記載の洗浄乾燥装置。
  7. 一次洗浄した後、仕上げ洗浄としての二次洗浄を行う少なくとも二段階の洗浄工程からなる請求項1から5記載の洗浄乾燥装置。
  8. 前項の一次洗浄として前記回転ドラム内の下部に洗浄液を貯留させて洗浄することを特徴とする請求項6記載の洗浄装置。
  9. 前記回転ドラム内のほぼ回転中心部から洗浄液を噴射させて洗浄することを特徴とする請求項1から5記載の洗浄装置。
  10. 前記回転ドラムの回転軸を中空軸とし、この中空回転軸を洗浄液を噴出させるノズルと兼用させたことを特徴とする請求項1から5記載の洗浄装置。
  11. 一次洗浄として洗浄するときの洗浄液として純水または水性洗剤液またはアルカリイオン水を使用し、二次洗浄として超純水を使用する請求項1から9記載の洗浄装置。
  12. 部品収納容器等の洗浄をするときは前記回転ドラムを低速回転させ、その後、水切り脱水するときは高速回転させる少なくとも二段階に回転ドラムの回転速度を変化させて洗浄、水切り脱水することを特徴とする請求項1から5記載の洗浄装置。
  13. 前項回転ドラムの回転数は洗浄時は10〜50RPMとし、水切り脱水時は350〜800RPMとする請求項11記載の洗浄乾燥装置。
  14. 前記回転ドラムに回転位置検出装置を設け、洗浄乾燥後の回転ドラム停止時には常に回転ドラム一定の回転停止位置に停止させる請求項1から5記載の洗浄乾燥装置。
  15. 前記回転ドラムの外面にフィンまたはブラシを設けて洗浄槽の内壁に付着した洗浄スラジを前記回転ドラムの回転により掻き落とす機能を備えた請求項1から5記載の洗浄乾燥装置。
  16. 乾燥装置槽内に回転ドラムを設置し、回転ドラム内に被乾燥対象の部品収納容器等を設置し、乾燥装置槽の上方に設けたフィルターを通して温風を乾燥装置槽内に供給することを特徴とする請求項3記載の乾燥装置。
  17. 前記回転ドラムの回転軸に噴き出しノズル孔を設けて、ノズルシャフトとし、このノズルシャフトに温風を噴き出させることを特徴とする請求項1〜5記載の洗浄乾燥装置。
  18. 一つまたは複数の部品収納容器等を専用バスケットに収納し、洗浄液のスプレイ洗浄または超音波若しくは温水による洗浄槽による浸漬洗浄後、遠心脱水乾燥をすることを特徴とする洗浄乾燥装置。
  19. 遠心脱水乾燥後、さらに温風による乾燥を行うことを特徴とする請求項17記載の洗浄乾燥装置。
JP2002307682A 2002-06-11 2002-09-13 洗浄乾燥装置 Pending JP2004066212A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002307682A JP2004066212A (ja) 2002-06-11 2002-09-13 洗浄乾燥装置
PCT/JP2003/007314 WO2003105208A1 (ja) 2002-06-11 2003-06-10 洗浄乾燥装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002206251 2002-06-11
JP2002307682A JP2004066212A (ja) 2002-06-11 2002-09-13 洗浄乾燥装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004066212A true JP2004066212A (ja) 2004-03-04

Family

ID=29738487

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002307682A Pending JP2004066212A (ja) 2002-06-11 2002-09-13 洗浄乾燥装置

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2004066212A (ja)
WO (1) WO2003105208A1 (ja)

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007013192A1 (ja) * 2005-07-25 2007-02-01 Echigoseika Co., Ltd. 遠心分離脱水装置
JP2007051361A (ja) * 2005-07-20 2007-03-01 Ai System Product:Kk 金属製材料の製造方法
JP2008006364A (ja) * 2006-06-28 2008-01-17 Hiraide Seimitsu:Kk ワーク処理装置およびワーク洗浄方法
JP2009248060A (ja) * 2008-04-10 2009-10-29 Olympus Corp 洗浄装置
JP2010207664A (ja) * 2009-03-06 2010-09-24 Olympus Corp 洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置
KR101574645B1 (ko) * 2014-06-19 2015-12-07 주식회사 원익큐엔씨 연속 세정 장치
KR101615870B1 (ko) 2016-02-12 2016-05-11 엄인흠 양면 스핀 세정장치
EP3064226A1 (en) 2015-03-05 2016-09-07 Icos Pharma S.p.A. Machine and method for washing and/or sterilizing loose products
CN107891031A (zh) * 2017-12-06 2018-04-10 樊树荣 一种妇科手术用具清洗消毒装置
KR20180037640A (ko) * 2016-10-04 2018-04-13 주식회사 포스코 건조 장치
KR20180126109A (ko) * 2017-05-16 2018-11-27 주식회사 아이에스티이 복수개의 캐리어를 세정하기 위한 세정장치 및 이를 이용한 세정방법
CN112850238A (zh) * 2021-02-03 2021-05-28 沈发明 一种硅片光刻用防污输送设备
KR20210102581A (ko) * 2020-02-12 2021-08-20 주식회사 엠오에스 웨이퍼용 멤브레인의 건조대 및 이를 이용한 회전건조장치
US11441842B2 (en) 2014-04-07 2022-09-13 Merck Patent Gmbh Apparatus and method for removing moisture from a surface in a container

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102274837B (zh) * 2011-08-09 2013-04-03 铜陵市晶威特电子有限责任公司 片状小零件清洗装置
DK201370239A1 (en) 2013-04-30 2014-10-31 Semi Stål As Container drying device
CN106140721A (zh) * 2016-08-01 2016-11-23 江苏胜达科技有限公司 翻转式拉丝模具清洗装置
CN108941121A (zh) * 2018-06-25 2018-12-07 郑州郑先医药科技有限公司 一种化工产品技术研发用可进行清洗的器皿存放装置
CN110197804A (zh) * 2019-07-02 2019-09-03 中建材衢州金格兰石英有限公司 一种晶圆干燥装置
CN111632938A (zh) * 2020-06-01 2020-09-08 田魏华 一种五件加工用零件清洗装置
CN111632930B (zh) * 2020-06-11 2021-10-26 重庆康铖智汇机械制造有限公司 一种机械零件清洗烘干装置
CN113245275B (zh) * 2021-05-12 2022-07-26 四川雅吉芯电子科技有限公司 一种外延片清洗装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6079727A (ja) * 1983-10-07 1985-05-07 Hitachi Ltd 洗浄乾燥装置
US5224503A (en) * 1992-06-15 1993-07-06 Semitool, Inc. Centrifugal wafer carrier cleaning apparatus
JPH06159940A (ja) * 1992-11-20 1994-06-07 Olympus Optical Co Ltd 乾燥機
JP3109471B2 (ja) * 1998-03-31 2000-11-13 日本電気株式会社 洗浄・乾燥装置及び半導体装置の製造ライン
JP2000317411A (ja) * 1999-05-12 2000-11-21 Dan Sangyo Kk 洗浄乾燥装置及び洗浄乾燥方法
JP3415539B2 (ja) * 2000-01-31 2003-06-09 東邦化成株式会社 ウェハ処理装置及び方法

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007051361A (ja) * 2005-07-20 2007-03-01 Ai System Product:Kk 金属製材料の製造方法
WO2007013192A1 (ja) * 2005-07-25 2007-02-01 Echigoseika Co., Ltd. 遠心分離脱水装置
JP2007029828A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Echigo Seika Co Ltd 遠心分離脱水装置
KR101014994B1 (ko) 2005-07-25 2011-02-16 에치고 세이카 가부시키가이샤 원심분리 탈수장치
US7967150B2 (en) 2005-07-25 2011-06-28 Echigoseika Co., Ltd Centrifugation dewatering apparatus
JP2008006364A (ja) * 2006-06-28 2008-01-17 Hiraide Seimitsu:Kk ワーク処理装置およびワーク洗浄方法
JP2009248060A (ja) * 2008-04-10 2009-10-29 Olympus Corp 洗浄装置
JP2010207664A (ja) * 2009-03-06 2010-09-24 Olympus Corp 洗浄乾燥方法及び洗浄乾燥装置
US11441842B2 (en) 2014-04-07 2022-09-13 Merck Patent Gmbh Apparatus and method for removing moisture from a surface in a container
KR101574645B1 (ko) * 2014-06-19 2015-12-07 주식회사 원익큐엔씨 연속 세정 장치
EP3064226A1 (en) 2015-03-05 2016-09-07 Icos Pharma S.p.A. Machine and method for washing and/or sterilizing loose products
EP3375459A1 (en) 2015-03-05 2018-09-19 Icos Pharma S.p.A. Machine and method for washing and/or sterilizing loose products
KR101615870B1 (ko) 2016-02-12 2016-05-11 엄인흠 양면 스핀 세정장치
KR20180037640A (ko) * 2016-10-04 2018-04-13 주식회사 포스코 건조 장치
KR101879047B1 (ko) * 2016-10-04 2018-07-17 주식회사 포스코 건조 장치
KR20180126109A (ko) * 2017-05-16 2018-11-27 주식회사 아이에스티이 복수개의 캐리어를 세정하기 위한 세정장치 및 이를 이용한 세정방법
KR101976360B1 (ko) * 2017-05-16 2019-08-29 주식회사 아이에스티이 복수개의 캐리어를 세정하기 위한 세정장치 및 이를 이용한 세정방법
CN107891031A (zh) * 2017-12-06 2018-04-10 樊树荣 一种妇科手术用具清洗消毒装置
KR20210102581A (ko) * 2020-02-12 2021-08-20 주식회사 엠오에스 웨이퍼용 멤브레인의 건조대 및 이를 이용한 회전건조장치
KR102344009B1 (ko) * 2020-02-12 2021-12-28 주식회사 엠오에스 웨이퍼용 멤브레인의 건조대 및 이를 이용한 회전건조장치
CN112850238A (zh) * 2021-02-03 2021-05-28 沈发明 一种硅片光刻用防污输送设备
CN112850238B (zh) * 2021-02-03 2022-12-23 厦门特仪科技有限公司 一种硅片光刻用防污输送设备

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003105208A1 (ja) 2003-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004066212A (ja) 洗浄乾燥装置
US4197000A (en) Positive developing method and apparatus
TW554401B (en) Substrate processing apparatus
JP2009059895A (ja) 液処理装置、液処理方法および記憶媒体
JP2009088513A (ja) ウェハーシッピングボックスの洗浄のためのボックスクリーナー
JP2008077764A (ja) 磁気ヘッドスライダの洗浄方法、製造方法および洗浄装置
JP7055467B2 (ja) 半導体ウェハの洗浄方法及び洗浄装置
JP3341727B2 (ja) ウエット装置
CN109248871B (zh) 一种清洗去磁装置及其方法
US20020035763A1 (en) Substrate cleaning tool and substrate cleaning apparatus
JP2002520132A (ja) 基板をクリーニングする方法及び装置
JP4503426B2 (ja) 洗浄装置
JPS59121938A (ja) 弱流液による洗浄方法および装置
JPS61133633A (ja) 半導体ウエ−ハの洗浄装置
JP2006320859A (ja) 研磨洗浄方法及びその装置
JPH09213672A (ja) 半導体ウェハ処理装置および処理方法
US20030062069A1 (en) Apparatus and methods for removing metallic contamination from wafer containers
KR20120003070U (ko) 유체의 배출이 용이한 부품세척기
SU1387971A1 (ru) Машина дл мыть и сушки посуды
JP3972399B2 (ja) 洗浄装置と洗浄方法
JPH0480924A (ja) 半導体ウエハの洗浄装置および洗浄方法
JP2007123769A (ja) Foup洗浄乾燥装置及びfoup洗浄乾燥方法
JPH07263399A (ja) 洗浄装置
JP3314735B2 (ja) 部品洗浄装置
JP2007123770A (ja) ドアシェル洗浄装置及びドアシェル洗浄方法