JPS6079727A

JPS6079727A - 洗浄乾燥装置

Info

Publication number: JPS6079727A
Application number: JP18672283A
Authority: JP
Inventors: Tadao Kusaka; 日下　忠雄
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1983-10-07
Filing date: 1983-10-07
Publication date: 1985-05-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は洗浄乾燥装置、特に半導体装置製造における半
導体薄板の洗浄乾燥に適した洗浄乾燥装置に関する。

〔背景技術〕

半導体装置の製造における半導体薄板（ウェハ）のホト
エツチング、拡散等のウェハ処理プロセスに多１っては
、あらかじめウェハに付着している不純物、薬液環ケ除
去する工程が必要となる。この除去工程にあっては、た
とえば、「電子材料」１９７４年２月号７８〜８１頁に
も記載されているように、リンサドライヤ（商品名）と
呼ばれる洗浄乾燥装置が多用されている。このリンサド
ライヤは回転する回転容器の内周壁部分にウェハを収容
したカートリッジを配する構造となっている。

また、この装置の機種によっては、回転容器を塞ぐ蓋に
ノズルを設けた供給管が設けられている。

そして、ウェハの乾燥処理は、カートリッジを回転容器
に取り付けた後、回転容器をたとえば１０００〜１５０
０ｒ、ｐ、ｍ、で回転させてウェハに付着する水分を除
去させることによって行なわれる。この際、供給管を有
する装置ではノズルから窒素ガスが噴射される。また、
洗浄乾燥処理は供給管を有する装置によって行なわれる
。すなわち、ウェハは回転容器の回−転の前半ではノズ
ルから噴射される洗浄液（純水）によって洗浄され、回
転の後半ではノズルから噴射されるＮ、ガスおよび高速
回転による遠心力によつ℃乾燥される。

しかし、このような装置では前記回転容器は下部のみが
回転軸によつ工支持される構造となっていることから、
回転容器内のバランスが悪いと、回転容器は激しく振動
し、ウェハが破壊する。

そこで、従来は回転容器内のバランスをとるために、カ
ートリッジの一部にウェハが入っ又いない場合にはダミ
ーウェハを入れたりして重量バランスをとっていた。

しかし、このような方法でも、ウェハおよびカートリッ
ジの加工寸法にバラツキがあることから、ウェハの破損
が生じ歩留の低下を来すことがあることが本発明者によ
ってあきらかとされた。

〔発明の目的〕

本発明の目的は振動の低減によって被処理物の破損防止
を図り、歩留が高くできる洗浄乾燥装置を提供すること
にある。

本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。

〔発明の概要〕本願におい又開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれは、下記のとおりである。

すなわち、本発明は被処理物を収容して回転する回転容
器の両端を支持した状態で回転させるようにすることに
より、回転容器の高速下での回転によっても大きな撮動
が生じないようにし、被処理物の振動による破損を防止
し、歩留の向上を達成するものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例による洗浄乾燥装置の要部を
示す断面図、第２図は同じく蓋を取り外した状態の平面
図、第３図は同じく一部を示す斜視図である。

この装置は第１図に示すように、１部が開口し、た円筒
箱状の本体１と、この本体ｌの上部をｉぐようにボルト
２で本体１に固定される軸受板３と、この軸受板３にビ
ン４で開閉可能に取り付けられかつ軸受板３全体を被う
蓋５と、かもなっている。

本体１の底板６の中心部にはモータ７が配置されている
。また、モータ７の回転軸８は前記底板６ケ貫通して本
体１の外部に突出するとともに、他端は長（延在し℃前
記軸受板３にベアリング９を介し１回転可能に支持され
ている。また、前記モータ７の上方に位置する回転軸部
分忙は上部が開口した円筒箱状の回転容器１０が固定さ
れている。また、この回転容器１０は特に図示はしない
が各部に透孔が設けられ、洗浄液やガスが流通できるよ
うになっている。また、回転容器１０の内周壁には第３
図で示すように、ウェハＩＩＹ収容するカートリッジ１
２が上方から挿入できる枠状のカートリッジ支持枠１３
が固定さｔｌている。このカー）　ＩＪッジ支持枠１３
は回転容器１０の内周部分に９０°間隔で４個配設され
ている。

一方、前記軸受板３にはカートリッジ１２を出入できる
矩形の挿脱口１４が９０°間隔で４個設けられている。

回転容器１０はモータ７による回転が停止した場合、各
カートリッジ支持枠１３が前゛記軸受板３の各挿脱口１
４に対面するようになっていて、挿脱口１４からカート
リッジ１２をカートリッジ支持枠１３に対してローダ、
アンローダできるようになっている。

他方、前記回転軸８は内部が中空となる管体となってい
る。また、回転容器１０内忙位置する回転軸８の外周に
はノズル１５が複数設けられていて、本体１の外部に突
出する回転軸端から送り込まれる洗浄液（純水）あるい
はＮ、ガスをノズル１５からカートリッジ１２に対して
噴射できるようになっている。さらＫ、本体１の底には
排出口１６が設けられ、使用された洗浄液やＮ、ガスを
本体外に排出できるようになっている。

この装置は、蓋５を開けた後、軸受板３の挿脱口１４か
らカートリッジ１２を挿入し、カートリッジ１２ケカー
トリツジ支持枠１３に取り付ける。

その後、蓋５を閉じた後、モータ７を高速回転させなが
ら所定時間、ノズル１５から洗浄液（純水）をカートリ
ッジ１２に吹き付けてカートリッジ１２に収容した被洗
浄物であるウェハ１１の洗浄を行なう。また、所定時間
経過後、ノズル１５からの洗浄液の噴射は停止され、つ
ぎに、ノズル１５からはＮ、ガスが所定時間噴射され、
遠心力の力とも相俟ってウェハ１１の乾燥が行なわれる
。

そこで、モータ７が停止した後は蓋５を開は又カ−トリ
ッレ１２を本体１から抜き出してウェハ１１の洗浄乾燥
を＃Ｓ７する。

この装置は回転容器１０を支持する回転軸８０両端が支
持されている。すなわち、回転軸８の下部はモータ７に
よって支持され、上部はベアリング９を介して軸受板３
に支持されている。この結果、回転容器１０が高速で回
転しても回転軸８が振ガないため、ウェハ１１には大き
な力は付加せず、ウェハ１１のチッピング等の割れ欠け
は起き難くなる。

〔効果〕

（１）、本発明は被処理物を収容する高速で回転する回
転容器は、両端が支持された回転軸に支持されているた
め、撮動し難くなり、被処理物の振動に基づく破損（ウ
ェハのチッゼング９割れ等の破損）は発生し難くなり、
歩留の向上が図れる。

（２）、本発明は回転容器が振動し難いことから、回転
容器内における被処理物の重量バランスが、たとえばウ
ェハの厚さ寸法のバラツキ等あるいは数枚のウニハネ足
による小さい場合では、重量バランス修正を行なわなく
とも支障はない。この結果、被処理物の洗浄乾燥作業の
作業能率が向上する。

（３）、上記（１１および（２）によって、洗浄乾燥作
業能率の向上９歩留向上から、処理コストの低減が達成
できる。

以上本発明者によっ（なされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定さｔＬ
るものではなく、その要旨夕逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。たとえば、第４図に
示すように、軸受板３に〉ける挿脱口１４を広くすれば
、カートリッジ１２のカートリッジ支持枠１３への挿脱
以外に、たとえば、回転容器１０内の清掃等の作業がし
易くなる。

〔利用分野〕

以上の説明では主として本発明者によつてなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハ洗浄乾燥技術
に適用した場合について説明したが、それに限定される
ものではなく、他の物品の洗浄乾燥にも適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例忙よる洗浄乾燥装置の要部を
示す断面図、第２図は同じ（蓋を取り外した状態の平面図、第３図は
同じく内部の一部を示す斜視図、第４図は他の実施例に
よる蓋を取り外した状態の洗浄乾燥装置の平面図である
。１・・・本体、２・・・ボルト、３・・・軸受板、４・
・・ビン、５・・・蓋、６・・・底板、７・・・モータ
、８・・・回転軸、９・・・ベアリング、１ｏ・・・回
転容器、１１・・・ウェハ、１２・・・カートリッジ、
Ｊ３・・・カートリッジ支持枠、１４・・・挿脱口、１
５・・・ノズル、１６・・・排出口。代理人　弁理士　う　ａｑ　カ′、）

Claims

【特許請求の範囲】

１、被処理物を収容したカー）　ＩＪッジを内周壁部分
に収容する回転する回転容器を有する洗浄乾燥装置であ
って、前記回転容器の回転軸の両端は支持構造となっ℃
いることを特徴とする洗浄乾燥装置。