JPH07309735A

JPH07309735A - 酸親水性剤含有の遮へい化粧品組成物およびその使用方法

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Publication number: JPH07309735A
Application number: JP7089776A
Authority: JP
Inventors: Martine Eteve; マルタン・エテブ
Original assignee: LOreal SA
Current assignee: LOreal SA
Priority date: 1994-04-19
Filing date: 1995-04-14
Publication date: 1995-11-28
Anticipated expiration: 2013-07-16
Also published as: HUT72626A; RU95105887A; JP2776760B2; BR9501378A; ES2119324T3; DE69502657D1; HU9501101D0; FR2718638B1; CA2147230C; PL181063B1; US5762912A; CN1116520A; DE69502657T2; AU1501895A; EP0678292A1; KR950028762A; AU677892B2; CA2147230A1; CN1077427C; EP0678292B1

Abstract

(57)【要約】【構成】本発明は、水中油形エマルションタイプの化
粧品として許容されるビヒクル中に、（i）紫外線を遮
へいし、少なくとも１つの任意に中性化した酸基を含有
する少なくとも１つの親水性剤と、（ii）前記親水性剤
に対して吸着性があり、不活性である少なくとも１つの
不溶性増量剤とを含有することを特徴とする遮へい化粧
品組成物に関する。【効果】本発明によれば、紫外線から皮膚および髪を
保護することが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、紫外線から皮膚および
髪を保護するための、良好な耐水性を有する新規な遮へ
い化粧品組成物（以下、該組成物を、耐太陽光線組成物
と称する）に関する。より詳細には、水中油形のエマル
ション形態であり、光保護剤として少なくとも１つの酸
基を含有する親水性UV遮へい剤を不活性吸着性増量剤
（filler）と組み合わせた、耐水性化粧品組成物に関す
る。本発明はまた、紫外線に対して、皮膚および／また
は髪を保護するために、前記組成物を使用する使用方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】２８
０nmおよび４００nmの間の波長を有する光線によって、
ヒトの表皮は日焼けをするが、UV−Bとして知られてい
る２８０nmおよび３２０nmの間の波長を有する光線で
は、自然な日焼けを損なう紅班および火傷を起こすこと
が知られている。したがって、このUV−B光線は遮へい
されなければならないものである。また、皮膚に日焼け
を起こす３２０nmおよび４００nmの間の波長を有するUV
−A光線は、特に、敏感肌または太陽光線に連続してさ
らされた皮膚の場合には、皮膚に害を与える可能性があ
る。特に、UV−A光線によって、皮膚の弾性が失われ、
しわが発現して、老化を早発させることになる。UV−A
光線は、紅班反応の触発を促進し、または、この反応を
ある主体において強調し、光毒性または光アレルギー性
反応の原因にもなりうるものである。したがって、UV−
A光線も同様に遮へいすることが望まれる。

【０００３】多くの皮膚の光保護（UV−Aおよび／また
はUV−B）用化粧品組成物が提案されている。使用に際
しての心地よさに特に関連した種々の理由（穏やかさ、
緩和性、適用のしやすさ等）から、耐太陽光線組成物の
現在入手可能なもののほとんどは、水中油形エマルショ
ンの形態（すなわち、水性連続分散相と油性不連続分散
相とからなる、化粧品として許容されるビヒクル）であ
り、種々の濃度で、有害なUVを選択的に吸収可能な、１
以上の従来の有機遮へい剤類を含有するものである。該
遮へい剤類は、所望の保護ファクターの性質に応じて選
択される。しかしながら、このタイプの耐太陽光線組成
物における問題点の１つは、特に、ユーザーの皮膚に膜
状に適用されると、水に対して比較的ほとんど耐性がな
いということである。

【０００４】ポリマー類を用いて、または、１から７の
範囲のHLB（親水性−親油性バランス）を有する乳化剤
の存在下、油中水形エマルションのビヒクルにおいての
いずれか（それぞれ、米国特許US−５，０４１，２８１
およびUS−５，０４７，２３２参照）で、遮へい組成物
を製剤することによって、遮へい組成物の耐水性を改善
することも、既に提案されている。

【０００５】上記２つの技術により、親油性遮へい剤を
含有する場合、該組成物の耐水性を効果的に高めること
が可能である。しかしながらこれは、特に酸性の、親水
性遮へい剤を含有する組成物の場合には適用できない。
なぜならば、親水性遮へい剤は、海またはプールに入っ
たり、シャワーをあびた場合、または、水中スポーツを
行う場合には、水中で容易に消失してしまうからであ
る。したがって、親水性遮へい剤を、単独でまたは親油
性遮へい剤と組み合わせて含有する耐太陽光線組成物
は、該組成物が適用された基質（皮膚または髪等）が水
と接触した段階で、もはや当初の所望の保護効果を有さ
なくなるものである。したがって、適当な保護性を保持
するためには、耐太陽光線製品を再適用する必要があ
る。

【０００６】上記現象は、耐太陽光線組成物が水中油形
エマルションの形態である必要性のある場合には、特に
重要で問題性がある。水中油形または油中水形エマルシ
ョンの場合には、親水性遮へい剤は、水相に存在し、親
油性遮へい剤は脂肪相に存在する。上記のように、水中
油形エマルションは、油中水形エマルションよりも消費
者に、より好まれているものである。というのは、水中
油形エマルションは、（水と類似の）良好な感触があ
り、非脂性のクリームまたは乳液の形態で提供されるた
めである。しかしながら、水中油形エマルションは水と
接触すると、そのUV保護効果がより容易に失われてしま
い、親水性遮へい剤の水への流出による保護ファクター
の減少は、耐太陽光線組成物に存在する親油性−親水性
遮へい剤の組み合わせの保護ファクターに関する相乗性
が大きければ大きいほど顕著になることも、見いだされ
ている。

【０００７】特許出願、EP−A−０，２７５，７１９に
おいては、脂肪アミンを組み合わせることによって、酸
性遮へい剤を含有する耐太陽光線組成物に耐水性を付与
する試みがなされている。しかしながらこの種の解決策
は、文献：”Adverse reactions to cosmetics、Ant
on de Cornelis de Groot−Ed．Rijksuniversiteit
Groningen”、１９８８年、第５章、p．１７０以降に
記載されているように、ある種の酸性遮へい剤を脂肪ア
ミンと組み合わせることが不可能であるため、また、脂
肪アミン類が接触アレルギーを起こす可能性があるた
め、満足するものではない場合がある。

【０００８】本発明は、上記従来技術の欠点を解消する
ことを目的とする。より詳細には、本発明の目的は、水
中油形エマルションタイプのビヒクル中に少なくとも１
つの酸基を含有する親水性遮へい剤を用いた、特に耐水
性が改善された新規な化粧品遮へい組成物を提供するこ
とである。

【０００９】

【課題を解決するための手段および作用】上記に関して
鋭意検討を行った結果、本出願会社は、前記ビヒクル中
において、酸基を有する前記親水性遮へい剤と、該遮へ
い剤に対して吸着性を有する不活性で不溶性の増量剤と
を組み合わせることによって上記目的を達成することが
できることを見い出した。該発見が、本発明の基となる
ものである。

【００１０】本発明において、”耐水性”とは、（皮膚
または髪に適用後）水と接触させられている耐太陽光線
組成物の、UVAおよび／またはUVB領域における保護ファ
クターの経時的安定性を意味する。該組成物による太陽
光線保護性は、UV遮へい剤なしでの紅班発生限界に達す
るのに必要な照射期間に対する、UV遮へい剤を用いた場
合の紅班発生限界に達するのに必要な照射期間の比率に
よって、数学的に示される保護ファクター（PF）として
特徴づけられるものである。

【００１１】本発明によれば、まず、水中油形エマルシ
ョンタイプの化粧品として許容されるビヒクル中に、
（i）紫外線を遮へい可能であり、少なくとも１つの酸
基を含有する少なくとも１つの親水性剤と、（ii）前記
親水性剤に対して吸着性があり、不活性である少なくと
も１つの不溶性増量剤とを含有することを特徴とする遮
へい化粧品組成物が提供される。

【００１２】本発明による耐太陽光線組成物は、以下
に、より詳細に定めるように、適用された身体の部分
を、故意にまたは偶然に濡らした場合でさえも、十分な
保護ファクターを保持可能であり、経済的な観点から優
位であるばかりでなく、身体に遮へい製品を再適用する
ことを忘れたユーザーが、”日焼け”を負うリスクをさ
らに制限したり除去するものである。

【００１３】本発明の他の特徴および優位点は、以下の
記載からより理解されるものであろう。本発明は特に、
少なくとも１つのスルホン酸基、−SO₃Hを含有する親水
性遮へい剤に関する。しかしながら、該遮へい剤は、カ
ルボン酸基を有する親水性遮へい剤含有の組成物にも適
用可能である。該酸基、カルボン酸またはスルホン酸基
はさらに、部分的にまたは全体的に中性化した形態であ
ってもよい。最後に、本発明によれば、酸官能基を有す
る１以上の親水性遮へい剤を使用することも明らかに可
能である。

【００１４】本発明において使用される、それ自体UVに
対して光保護性のない不活性な吸着増量剤は、その表面
および／またはその孔部に少なくとも１つの酸基を含有
する親水性遮へい剤を支持し、保持することができる”
トラッピング”物質として有用であり、耐太陽光線組成
物が一旦皮膚および／または髪に適用され、水と接触し
た場合に、この吸着性増量剤が、親水性遮へい剤の溶解
を制限または防止するものである。一般的には無機物で
ある該吸着性物質は、より優位には、少なくとも１０m²
／gの、好ましくは少なくとも５０m²／gの、より好まし
くは少なくとも１００m²／gの比表面積を有する。該吸
着物質は、ほとんどの場合、平均粒子径が少なくとも
０．１μmの粉末である。

【００１５】本発明の好ましい実施態様によれば、前記
不活性吸着性増量剤は、必要に応じてフュームド（fume
d）または沈殿させられたシリカ（つまり二酸化ケイ
素）、またはシリカゲルからなる。該シリカは、フュー
ムドシリカであることが好ましい。該シリカ類は、デグ
ッサ（DEGUSSA）社から商標名アエロジル（AEROSIL）と
して販売されているものであり、特に、アエロジルR９
７２が好ましい。

【００１６】本発明に適当な吸着物質の他の例として
は、アルミナ類（特に活性アルミナ類）、アルミノケイ
酸塩類（特にクレー類）、アルカリおよび／またはアル
カリ土類金属の混合ケイ酸塩（スメクタイト（smectit
e）、ラポナイツ（Laponites、商標名）、特にラポナイ
ツ（LAPONITES）DS、D、XLSまたはXLG（ラポルテ（LAPO
RTE）社から販売されている））、ゼオライト類、タル
ク、およびマグネシア等が挙げられる。増量剤類の混合
物もまた、使用可能である。上記増量剤類は、特定の水
溶性遮へい剤に関してより吸着性を付与する目的で、比
表面処理を行ってもよい。

【００１７】少なくとも１つの−SO₃H基を含有する酸性
遮へい剤類の例としては、より詳細には、３−ベンジリ
デンショウノウのスルホン酸誘導体が挙げられ、特に、
以下の式（I）、（II）、（III）、（IV）、および
（V）で表わされるものが挙げられる。式（I）：

【００１８】

【化１１】

【００１９】式中、 −Zは、式：

【００２０】

【化１２】

【００２１】で表わされる基を示し、 −nは０または１以上４以下の整数を示し、 −R₁は、１以上の、同一でも異なっていてもよい、直鎖
または分岐の、炭素数約１から４のアルキル基またはア
ルコキシ基を示す。式（I）の特に好ましい化合物は、n
＝０である、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデンシ
ョウノウ−１０−スルホン）酸である。式（II）：

【００２２】

【化１３】

【００２３】式中、 −R₂は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数約１から４の
アルキル基または−SO₃H基を示し、 −R₃およびR₄は、水素原子または−SO₃H基を示し、R₂、
R₃およびR₄の少なくとも１つが、−SO₃H基であり、R₂お
よびR₄が同時に−SO₃H基であることはない。

【００２４】式（II）で表わされる化合物において、以
下の化合物が特に好ましい：・R₂がベンジリデンショウノウのパラ位にある−SO₃H基
であり、R₃およびR₄の各々が水素原子である化合物、す
なわち、４−（３−メチリデンショウノウ）ベンゼンス
ルホン酸。・R₃は−SO₃H基であり、R₂およびR₄の各々が水素原子で
ある化合物、すなわち、３−ベンジリデンショウノウ−
１０−スルホン酸。・R₂がベンジリデンショウノウのパラ位にあるメチル基
であり、R₄は−SO₃H基を表わす基であり、R₃が水素原子
である化合物、すなわち、２−メチル−５−（３−メチ
リデンショウノウ）ベンゼンスルホン酸。・R₂がベンジリデンショウノウのパラ位にある塩素原子
であり、R₄は−SO₃H基であり、R₃が水素原子である化合
物、すなわち、２−クロロ−５−（３−メチリデンショ
ウノウ）ベンゼンスルホン酸。・R₂がベンジリデンショウノウのパラ位にあるメチル基
であり、R₃は−SO₃H基であり、R₄が水素原子である化合
物、すなわち、３−（４−メチル）ベンジリデンショウ
ノウ−１０−スルホン酸。式（III）：

【００２５】

【化１４】

【００２６】式中、 −R₅およびR₇は、水素原子、水酸基、直鎖または分岐の
炭素数約１から８のアルキル基、または直鎖または分岐
の炭素数約１から８のアルコキシ基を示し、R₅およびR₇
の少なくとも１つが、水酸基、アルキル基、またはアル
コキシ基であり、 −R₆およびR₈は、水素原子または水酸基を示し、R₆およ
びR₈の少なくとも１つが、水酸基を示し、 −ただし、R₅およびR₈が水素原子を示してR₆が水酸基を
示す場合に、R₇は、アルコキシ基または水素原子を示さ
ない。

【００２７】式（III）で示される化合物において、以
下の化合物が特に好ましい：・R₅がメチル基であり、R₆が水素原子であり、R₇がtert
−ブチル基であり、R₈が水酸基である化合物、すなわ
ち、３−t−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベン
ジリデンショウノウ−１０−スルホン酸。・R₅がメトキシ基であり、R₆が水素原子であり、R₇がte
rt−ブチル基であり、R₈が水酸基である化合物、すなわ
ち、３−t−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メトキシベ
ンジリデンショウノウ−１０−スルホン酸。・R₅およびR₇が各々tert−ブチル基であり、R₆が水酸基
であり、R₈が水素原子である化合物、すなわち、３，５
−ジ−t−ブチル−４−ヒドロキシベンジリデンショウ
ノウ−１０−スルホン酸。式（IV）：

【００２８】

【化１５】

【００２９】式中、 −R₉が、水素原子、直鎖または分岐の炭素数約１から１
８のアルキル基、直鎖または分岐の炭素数約３から１８
のアルケニル基、基：

【００３０】

【化１６】

【００３１】、−（CH₂CH₂O）_n−H、−CH₂−CHOH−C
H₃、または２価の基：−（CH₂）_m−または−CH₂−CHOH
−CH₂−を示し、 −nは、１から６までの整数であり、mは、１から１０ま
での整数であり、 −R₁₀が、水素原子、炭素数約１から４のアルコキシ
基、または、R₉が二価のときにR₉に結合する二価の−O
−基を示し、 −qが、１または２の整数であり、qが２である場合、R₉
は二価の基でなければならなず、 −YおよびY’は、水素原子または−SO₃H基を示し、Yま
たはY’の少なくとも１つが、水素原子ではない。

【００３２】式（IV）で示される化合物において、特に
以下の化合物が好ましい：・qが１であり、YおよびR₁₀が各々水素原子を示し、R₉
がメチル基を示し、Y’は３位における−SO₃H基を示す
化合物、すなわち、２−メトキシ−５−（３−メチリデ
ンショウノウ）ベンゼンスルホン酸。・qが１であり、Yは−SO₃H基を示し、Y’は水素原子を
示し、R₁₀が、メチレン基を示すR₉に結合する二価の−O
−基を示す化合物、すなわち、３−（４，５−メチレン
ジオキシ）ベンジリデンショウノウ−１０−スルホン
酸。・qが１であり、Yは−SO₃H基を示し、Y’およびR₁₀は共
に水素原子を示し、R₉がメチル基を示す化合物、すなわ
ち、３−（４−メトキシ）ベンジリデンショウノウ−１
０−スルホン酸。・qが１であり、Yは−SO₃H基を示し、Y’は水素原子を
示し；R₉がメチル基を示し、R₁₀がメトキシ基を示す化
合物、すなわち、３−（４，５−ジメトキシ）ベンジリ
デンショウノウ−１０−スルホン酸。・qが１であり、Yは−SO₃H基を示し、Y’およびR₁₀は共
に水素原子を示し；R₉がn−ブチル基を示す化合物、す
なわち、３−（４−n−ブトキシ）ベンジリデンショウ
ノウ−１０−スルホン酸。・qが１であり、Yは−SO₃H基を示し、Y’は水素原子を
示し；R₉がn−ブチル基を示し、R₁₀がメトキシ基を示す
化合物、すなわち、３−（４−n−ブトキシ−５−メト
キシ）ベンジリデンショウノウ−１０−スルホン酸。式（V）：

【００３３】

【化１７】

【００３４】式中、 −R₁₁は、水素原子、直鎖または分岐の炭素数約１から
６のアルキル基、直鎖または分岐の炭素数約１から６の
アルコキシ基、または、−SO₃H基を示し、 −R₁₂は、水素原子、直鎖または分岐の炭素数約１から
６のアルキル基、または、直鎖または分岐の炭素数約１
から６のアルコキシ基を示し、 −R₁₃は、水素原子、または、−SO₃H基を示し、 −基R₁₁とR₁₃の少なくとも１つが、−SO₃H基を示し、 −Xは、酸素原子、硫黄原子、または−NR−基であり、R
は、水素原子、または、直鎖または分岐の炭素数約１か
ら６のアルキル基を示す。

【００３５】式（V）で表わされる化合物の１つの例と
しては：Xが−NH−基を示し、R₁₁は−SO₃H基を示し、R
₁₂およびR₁₃は共に水素原子を示す化合物、すなわち２
−［４−（ショウノウメチリデン）フェニル］ベンズイ
ミダゾール−５−スルホン酸が挙げられる。式（I）、
（II）、（III）、（IV）、（V）で表わされる化合物
は、それぞれ、米国特許US４，５８５，５９７、および
仏国特許FR２，２３６，５１５、２，２８２，４２６、
２，６４５，１４８、２，４３０，９３８、２，５９
２，３８０に記載されている。スルホン酸基を含有する
遮へい剤が、ベンゾフェノンのスルホン酸誘導体であっ
てもよく、以下の式（VI）：

【００３６】

【化１８】

【００３７】（式中、 −R₁₄およびR₁₅は、同一でも異なっていてもよく、水素
原子、または、直鎖または分岐の炭素数約１から８のア
ルキル基を示し、 −a、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、０ま
たは１である）で表わされる。式（VI）で表わされる化
合物の１つの例としては、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン−５−スルホン酸（式（VI）で表わさ
れる化合物において、a＝b＝c＝０であり、R₁₅はメチル
基を示す）が挙げられる。スルホン酸基を含有する遮へ
い剤が、以下の式（VII）：

【００３８】

【化１９】

【００３９】［式中、 −Xは、酸素原子または−NH−基を示し、 −R16は、水素原子、直鎖または分岐の炭素数約１から
８のアルキルまたはアルコキシ基、または、式（VII
I）：

【００４０】

【化２０】

【００４１】（ここで、X’は、酸素原子または−NH−
基を示す）を示す］のスルホン酸誘導体であってもよ
い。式（VII）で表わされる化合物の特定の例として
は、以下のものが挙げられる：・Xは−NH−基を示
し、R₁₆は水素原子を示す化合物、すなわち、２−フェ
ニルベンズイミダゾール−５−スルホン酸。・Xは−NH−基を示し、R₁₆は、X’が−NH−基を示す式
（VIII）の基を示す化合物、すなわち、ベンゼン−１，
４−ジ（ベンズイミダゾール−２−イル−５−スルホ
ン）酸。・Xは酸素原子を示し、R16は、X’が酸素原子を示す式
（VIII）の基を示す化合物、すなわち、ベンゼン−１，
４−ジ（ベンズオキサゾール−２−イル−５−スルホ
ン）酸。

【００４２】式（VI）および（VII）で表わされる化合
物は、従来技術において記載された常法により調製可能
な、公知の化合物である。

【００４３】本発明において好ましい遮へい化粧品組成
物の例としては、酸性親水性UV遮へい剤と吸着性不活性
増量剤との以下の組み合わせが挙げられる：・式（I）［式中、n＝０（ベンゼン−１，４−ジ（３−
メチリデンショウノウ−１０−スルホン）酸］で表わさ
れる３−ベンジリデンショウノウのスルホン酸誘導体
と、デグッサ社から販売されているアエロジルR９７２
タイプのヒュームドシリカとの組み合わせ。・式（IV）［式中、a＝b＝c＝０、R₁₅がメチル基である
（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−
スルホン酸）、特にBASF社から販売されている商品名ユ
ビナル（Uvinul）MS４０］で表わされるベンゾフェノン
のスルホン酸誘導体と、デグッサ社から販売されている
アエロジルR９７２タイプのヒュームドシリカとの組み
合わせ。・式（VII）［式中、Xは−NH−基であり、R16が水素原
子を示す（２−フェニルベンズイミダゾール−５−スル
ホン酸）、特にメルク社から販売されている商品名ユー
ソレックス（Eusolex）２３２］で表わされるベンズイ
ミダゾールのスルホン酸誘導体と、デグッサ社から販売
されているアエロジルR９７２タイプのヒュームドシリ
カとの組み合わせ。

【００４４】少なくとも１つの酸基、特にスルホン酸基
を含有する親水性UV遮へい剤は一般的には、本発明によ
る遮へい組成物中に、組成物の全重量に対して約０．２
重量％から１０重量％までの間、好ましくは約０．２５
重量％から６重量％までの間で存在する。吸着性不活性
増量剤、特にシリカは、好ましくは、組成物の全重量に
対して約０．１５重量％から５重量％までの間、好まし
くは約０．２重量％から３重量％までの間で存在する。
本発明による化粧品組成物は、無論、本発明による酸性
親水性遮へい剤とは異なる、UVBおよび／またはUVA領域
で活性な親水性または親油性遮へい剤を１以上含有可能
である。

【００４５】これらの相補的遮へい剤は好ましくは、ケ
イ皮酸誘導体、たとえば２−エチルヘキシル＝p−メト
キシシンナマート、サリシラート誘導体、たとえば２−
エチルヘキシル＝サリシラートおよびホモメンチル＝サ
リシラート、ショウノウ誘導体、たとえば３−（４−メ
チルベンジリデン）ショウノウ、または、１，４−ジビ
ニルベンゼンショウノウスルホン酸、トリアジン誘導
体、たとえば２，４，６−トリス［p−（２’−エチル
ヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］１，３，５−トリアジン、ベンゾフェノン誘導体、たと
えば２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ジ
ベンゾイルメタン誘導体、たとえば４−tert−ブチル−
４’−メトキシジベンゾイルメタン、β，β−ジフェニ
ルアクリラート誘導体、たとえば２−エチルヘキシル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリラート、p−ア
ミノ安息香酸誘導体、たとえばオクチル＝パラ−ジメチ
ルアミノベンゾアート、メンチル＝アントラニラート、
および特許出願WO−９３−０４６６５に記載の遮へいシ
リコーン類および遮へいポリマー類から選択される。有
機遮へい剤の他の例としては、特許出願EP−A−０，４
８７，４０４に記載されたものが挙げられる。

【００４６】本発明による組成物はまた、皮膚を日焼け
するおよび／または着色するための人工的な薬剤（自己
着色剤類）、たとえば、ジヒドロキシアセトン（DHA）
等を含有してもよい。本発明による化粧品組成物はま
た、被覆または非被覆の金属酸化物ナノピグメント類
（主要粒子の平均粒子径：一般的には５nmから１００nm
までの間、好ましくは１０nmから５０nmまでの間）、た
とえば、酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニ
ウムまたは酸化セリウムナノピグメント類を更に含有可
能である。ナノピグメント類は、それ自体良く知られて
いる光保護剤類であり、物理的にUVをブロック（反射お
よび／または散乱）することにより作用するものであ
る。被覆または非被覆の金属酸化物ナノピグメント類
は、特に、特許出願EP−A−０，５１８，７７２およびE
P−A−０，５１８，７７３に開示されている。これらの
例としては、ケミラ（KEMIRA）社から販売されている、
商品名UVT M １６０、UVT M ２１２、およびUVT M
２６２、および、タイカ（TAYCA）社から販売されて
いるMT１００SASが挙げられる。

【００４７】本発明の組成物は、脂肪類、有機溶媒類、
非イオン増粘剤類、緩和剤類、抗酸化剤類、乳白剤類、
安定化剤類、上記以外のシリコーン類、消泡剤類、保湿
剤類、ビタミン類、香料類、防腐剤、非イオン界面活性
剤類、増量剤類（fillers）、金属イオン封止剤類、非
イオンポリマー類、推進剤類、アルカリ性化または酸性
化剤類、染料類、または化粧品において一般的に使用さ
れる、特にエマルション形態の組成物製造において使用
される他の成分から選択される化粧品アジュバント類を
更に含有可能である。当業者は、本発明による組みあわ
せの本質的な優位特性に、添加物類が有害な影響を与え
ないか、または、実質的に有害な影響を及ぼさないよう
に、上記任意の相補的化合物を選択するべきである。

【００４８】脂肪類は、オイルまたはワックスまたはこ
れらの混合物、ワセリン、パラフィン、ラノリン、水素
化ラノリン、アセチル化ラノリンからなるものであって
もよい；また、脂肪酸類、脂肪アルコール類、たとえば
ラウリルアルコール、セチルアルコール、ミリスチルア
ルコール、ステアリルアルコール、パルミチルアルコー
ル、オレイルアルコール、および２−オクチルドデカノ
ール、脂肪酸エステル類、たとえばグリセロール＝モノ
ステアラート、ポリエチレングリコール＝モノステアラ
ート、イソプロピル＝ミリスタート、イソプロピル＝ア
ジパート、イソプロピル＝パルミタート、オクチル＝パ
ルミタート、C₁₂−C₁₅脂肪アルコール類のベンゾアート
類（フィネテックス（FINETEX）社からのフィンソルブ
（Finsolv）TN）、３モルの酸化プロピレンでポリオキ
シプロピレン化されたミリスチルアルコール（ウイトコ
（WITCO）社のウイトコノール（WITOCONOL）APM）、C₆
−C₁₈脂肪酸トリグリセリド類、たとえば、カプリル／
カプリン（capric）酸のトリグリセリド類、フッ素化お
よび過フッ素化オイル類を含有してもよい。

【００４９】油類は、動物油、植物油、鉱油、または合
成油、特に、水素化ヤシ油、水素化または非水素化ひま
し油、流動ワセリン、パラフィン油、プルセリン（Purc
ellin）油（ステアリル＝オクタノアート）、揮発性ま
たは非揮発性シリコーン油類、イソパラフィン類、およ
びポリ−α−オレフィン類から選択される。ワックス類
は、動物性ワックス、化石ワックス、植物性ワックス、
鉱物ワックス、または合成ワックスから選択される。特
に、みつろう類、カルナウバろう類、カンデリラろう、
さとうきびろう、木ろう、オゾケライト類、モンタンろ
う、モノクリスタリンろう類、パラフィン類、および、
シリコーンろう類および樹脂類が挙げられる。

【００５０】上記有機溶媒としては、低級アルコール類
および低級ポリオール類、たとえば、エタノール、イソ
プロパノール、プロピレングリコール、グリセロールお
よびソルビトールが挙げられる。増粘剤は、特に、架橋
ポリアクリル酸類、変性または無変性のグアガム類およ
びセルロースゴム類、たとえばヒドロキシプロピル化グ
アガム、セチルヒドロキシエチルセルロース、およびヒ
ドロキシプロピルメチルセルロースから選択可能であ
る。

【００５１】本発明の組成物は、水中油形エマルション
類の合成分野において当業者に良く知られている技術に
したがって調製する。組成物を調製する場合には、トリ
エタノールアミン等によって予め中性化した酸性遮へい
剤を、組成物の脂肪相に導入し、吸着性の不活性増量
剤、たとえばシリカを、粘稠性の液体が得られるまで、
該脂肪相に添加する。組成物の他の成分を次いで添加
し、組成物全体を均一にする。目安として、本発明によ
る皮膚の保護用耐太陽光線エマルション類において、水
相は一般的には、全製剤重量に対して約５０重量％から
９５重量％、好ましくは約７０重量％から９０重量％存
在し、油相は一般的には、全製剤重量に対して約５重量
％から５０重量％、好ましくは約１０重量％から３０重
量％存在し、（共）乳化剤（類）は一般的には、全製剤
重量に対して約０．５重量％から２０重量％、好ましく
は約２重量％から１０重量％存在する。

【００５２】本発明の化粧品組成物は、紫外線に対する
ヒトの表皮または髪用保護組成物として、耐太陽光線組
成物として、またはメークアップ製品（まつげ用、まゆ
げ用、または皮膚用）として使用可能である。本組成物
は、用途に応じて、たとえば、クリーム、ローション、
クリームゲル、軟膏、シャンプー、または、シャンプー
の前後、染色または脱色、またはパーマネントウエーブ
またはストレートパーマ処理の前、処理中、または処理
後に適用され、洗い流される他の髪用組成物の形態であ
ってもよく、任意に、エアゾールとして容器に収容さ
れ、ムースまたはスプレーの形態とされてもよい。

【００５３】エマルションの水相は、公知の方法（文
献：Bangham, Standish and Watkins,J. Mol. Biol. １
３、２３８（１９６５）、FR−２，３１５，９９１およ
びFR−２，４１６，００８）にしたがって調製された非
イオン小胞分散液を含有してもよい。本発明の他の主題
は、紫外線の影響に対して、皮膚または髪を保護するた
めに、皮膚または髪を美容的に処理する方法であって、
上記遮へい化粧品組成物を有効量適用することからなる
方法である。以下に本発明の具体例を示すが、本発明は
これらの具体例に限定されるものではない。

【００５４】

【実施例】

実施例１皮膚用サンローション（水中油形エマルション） −ヘンケル社からシンノワックス（SINNOWAX）AOの商品名で販売されている、３３モルの酸化エチレンでオキシエチレン化されたセチルステアリルアルコールおよびセチルステアリルアルコールの混合物７g −非自己乳化性グリセリル＝モノステアラートとジステアラートの混合物２g −セチルアルコール１．５g −C₁₂−C₁₅アルコール類の安息香酸塩（フィネテックス（FINETEX）社のフィンソルブ（Finsolv）TN）１０g −シリコーンオイル（ローン・プーレンク・シリコーンズ（PHONE POULENC SILICONES）社のシルビオンオイル（Silbione oil）７００４７V３００）１．５g −４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン４g −２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−フェニルアクリラート１０g −ヒュームドシリカ（デグッサ社のアエロジルR９７２）０．５g −２−フェニルイミダゾール−５−スルホン酸（メルク社のユーソレックス（ Eusolex）２３２）３g −トリエタノールアミン２．２１g −グリセロール５g −香料類、防腐剤適量 −脱イオン水合計１００g 上記エマルションは、約８０℃に加熱した脂肪相を、急
速に攪拌しながら同温に保持されている、防腐剤とグリ
セロールを含有する水相に添加することにより調製す
る。

【００５５】実施例２皮膚用サンクリーム（水中油形エマルション） −ヘンケル社からシンノワックス（SINNOWAX）AOの商品名で販売されている、３３モルの酸化エチレンでオキシエチレン化されたセチルステアリルアルコールおよびセチルステアリルアルコールの混合物７g −非自己乳化性グリセリル＝モノステアラートとジステアラートの混合物２g −セチルアルコール１．５g −C₁₂−C₁₅アルコール類の安息香酸塩（フィネテックス（FINETEX）社のフィンソルブ（Finsolv）TN）１０g −シリコーンオイル（ローン・プーレンク・シリコーンズ（PHONE POULENC SILICONES）社のシルビオンオイル（Silbione oil）７００４７V３００）１．５g −４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン２g −２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−フェニルアクリラート１０g −ヒュームドシリカ（デグッサ社のアエロジルR９７２）０．４g −ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデンショウノウ−１０−スルホン）酸１．９８g −トリエタノールアミン１．８４g −グリセロール５g −香料類、防腐剤適量 −脱イオン水合計１００g 上記エマルションは、約８０℃に加熱した脂肪相を、急
速に攪拌しながら同温に保持されている、防腐剤とグリ
セロールを含有する水相に添加することにより調製す
る。

【００５６】実施例３皮膚用サンクリーム（水中油形エマルション） −ヘンケル社からシンノワックス（SINNOWAX）AOの商品名で販売されている、３３モルの酸化エチレンでオキシエチレン化されたセチルステアリルアルコールおよびセチルステアリルアルコールの混合物７g −非自己乳化性グリセリル＝モノステアラートとジステアラートの混合物２g −セチルアルコール１．５g −C₁₂−C₁₅アルコール類の安息香酸塩（フィネテックス（FINETEX）社のフィンソルブ（Finsolv）TN）１０g −シリコーンオイル（ローン・プーレンク・シリコーンズ（PHONE POULENC SILICONES）社のシルビオンオイル（Silbione oil）７００４７V３００）１．５g −４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン４g −２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−フェニルアクリラート１０g −ヒュームドシリカ（デグッサ社のアエロジルR９７２）０．６g −ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデンショウノウ−１０−スルホン）酸２．９７g −トリエタノールアミン２．３１g −グリセロール５g −ステアリン酸アルミニウムおよびアルミナで被覆された二酸化チタンナノピグメント（タイカ（TAYCA）社のミクロ・チタン・ジオキシド（Micro Titanium Dioxide）MT１００T）５ｇ −香料類、防腐剤適量 −脱イオン水合計１００ｇ上記エマルションは、約８０℃に加熱した脂肪相を、急
速に攪拌しながら同温に保持されている、グリセロール
と酸化チタンナノピグメントと防腐剤とを含有する水相
に添加することにより調製する。

【００５７】実施例４皮膚用サンローション（水中油形エマルション） −ヘンケル社からシンノワックス（SINNOWAX）AOの商品名で販売されている、３３モルの酸化エチレンでオキシエチレン化されたセチルステアリルアルコールおよびセチルステアリルアルコールの混合物７g −非自己乳化性グリセリル＝モノステアラートとジステアラートの混合物２g −セチルアルコール１．５g −C₁₂−C₁₅アルコール類の安息香酸塩（フィネテックス（FINETEX）社のフィンソルブ（Finsolv）TN）１０g −シリコーンオイル（ローン・プーレンク・シリコーンズ（PHONE POULENC SILICONES）社のシルビオンオイル（Silbione oil）７００４７V３００）１．５g −４−tert−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタン１．５g −３−（４−メチルベンジリデン）ショウノウ（メルク社のユーソレックス（ Eusolex）６３００）４g −ヒュームドシリカ（デグッサ社のアエロジルR９７２）０．５g −ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデンショウノウ−１０−スルホン）酸１．９８g −トリエタノールアミン１．４４g −グリセロール５ｇ −ステアリン酸アルミニウムおよびアルミナで被覆された二酸化チタンナノピグメント（タイカ（ＴＡＹＣＡ）社のミクロチタンジオキシド（Micro Titaniu
m Di oxide）MT１００T）５g −香料類、防腐剤適量 −脱イオン水合計１００g 上記エマルションは、約８０℃に加熱した脂肪相を、急
速に攪拌しながら同温に保持されている、グリセロール
と酸化チタンナノピグメントと防腐剤とを含有する水相
に添加することにより調製する。

【００５８】実施例５皮膚用サンローション（水中油形エマルション） −ヘンケル社からシンノワックス（SINNOWAX）AOの商品名で販売されている、３３モルの酸化エチレンでオキシエチレン化されたセチルステアリルアルコールおよびセチルステアリルアルコールの混合物７g −非自己乳化性グリセリル＝モノステアラートとジステアラートの混合物２g −セチルアルコール１．５g −C₁₂−C₁₅アルコール類の安息香酸塩（フィネテックス（FINETEX）社のフィンソルブ（Finsolv）TN）１０g −シリコーンオイル（ローン・プーレンク・シリコーンズ（PHONE POULENC SILICONES）社のシルビオンオイル（Silbione oil）７００４７V３００）１．５g −２−エチルヘキシル−p−メトキシシンナマート７g −２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート７g −３３％の１，４−ジビニルベンゼン−β，β’−ショウノウスルホン酸水溶液９．０９g −合成スメクタイト２g −トリエタノールアミン１．４４g −グリセロール５g −ステアリン酸アルミニウムおよびアルミナで被覆された酸化チタンナノピグメント（タイカ（TAYCA）社のミクロチタンジオキシド（Micro Titanium Diox ide）MT１００T）３g −香料類、防腐剤適量 −脱イオン水合計１００g 上記エマルションは、約８０℃に加熱した脂肪相を、急
速に攪拌しながら同温に保持されている、グリセロール
と酸化チタンナノピグメントと防腐剤とを含有する水相
に添加することにより調製する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｄ 235/18 263/56 277/66 Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ＺＢ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水中油形エマルションタイプの化粧品と
して許容されるビヒクル中に、（i）紫外線を遮へい
し、少なくとも１つの任意に中性化した酸基を含有する
少なくとも１つの親水性剤と、（ii）前記親水性剤に対
して吸着性があり、不活性である少なくとも１つの不溶
性増量剤とを含有することを特徴とする遮へい化粧品組
成物。
【請求項２】紫外線を遮へいする前記親水性剤の酸基
が、スルホン酸基、−SO₃Hであることを特徴とする、請
求項１に記載の組成物。
【請求項３】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、３
−ベンジリデンショウノウ構造の化合物であることを特
徴とする、請求項１または２に記載の組成物。
【請求項４】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、以
下の式（I）：【化１】（式中、 −Zは、式：【化２】で表わされる基を示し、 −nは０または１以上４以下の整数を示し、 −R₁は、１以上の、同一でも異なっていてもよい、直鎖
または分岐の、炭素数１から４のアルキルまたはアルコ
キシ基を示す）で表わされることを特徴とする、請求項
３に記載の組成物。
【請求項５】式（I）の化合物が、ベンゼン−１，４
−ジ（３−メチリデンショウノウ−１０−スルホン）酸
であることを特徴とする、請求項４に記載の組成物。
【請求項６】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、以
下の式（II）：【化３】（式中、 −R₂は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１から４のア
ルキル基または−SO₃H基を示し、 −R₃およびR₄は、水素原子または−SO₃H基を示し、R₂、
R₃、またはR₄の少なくとも１つが、−SO₃H基であり、R₂
およびR₄が同時に−SO₃H基であることはない）で表わさ
れることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項７】式（II）において、R₂は、ベンジリデン
ショウノウのパラ位にある−SO₃H基であり、R₃およびR₄
の各々が、水素原子であることを特徴とする、請求項６
に記載の組成物。
【請求項８】式（II）において、R₃は−SO₃H基であ
り、R₂およびR₄の各々が、水素原子であることを特徴と
する、請求項６に記載の組成物。
【請求項９】式（II）において、R₂が、ベンジリデン
ショウノウのパラ位にあるメチル基であり、R₄は、−SO
₃H基を表わす基であり、R₃が水素原子であることを特徴
とする、請求項６に記載の組成物。
【請求項１０】式（II）において、R₂が、ベンジリデ
ンショウノウのパラ位にある塩素原子であり、R₄は−SO
₃H基であり、R₃が水素原子であることを特徴とする、請
求項６に記載の組成物。
【請求項１１】式（II）において、R₂が、ベンジリデ
ンショウノウのパラ位にあるメチル基であり、R₃は−SO
₃H基であり、R₄が水素原子であることを特徴とする、請
求項６に記載の組成物。
【請求項１２】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、
以下の式（III）：【化４】（式中、 −R₅およびR₇は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子、水酸基、直鎖または分岐の炭素数１から８のアルキ
ル基または直鎖または分岐の炭素数１から８のアルコキ
シ基を示し、R₅およびR₇の少なくとも１つが、水酸基、
アルキル基、またはアルコキシ基を示し、 −R₆およびR₈は、同一でも異なっていてもよく、水素原
子または水酸基を示し、R₆およびR₈の少なくとも１つ
が、水酸基を示し、 −ただし、R₅およびR₈が水素原子を示してR₆が水酸基を
示す場合に、R₇は、アルコキシ基または水素原子を示さ
ない）で表わされることを特徴とする、請求項３に記載
の組成物。
【請求項１３】式（III）において、R₅がメチル基で
あり、R₆が水素原子であり、R₇がtert−ブチル基であ
り、R₈が水酸基であることを特徴とする、請求項１２に
記載の組成物。
【請求項１４】式（III）において、R₅がメトキシ基
であり、R₆が水素原子であり、R₇がtert−ブチル基であ
り、R₈が水酸基であることを特徴とする、請求項１２に
記載の組成物。
【請求項１５】式（III）において、R₅およびR₇が各
々tert−ブチル基であり、R₆が水酸基であり、R₈が水素
原子であることを特徴とする、請求項１２に記載の組成
物。
【請求項１６】紫外線を遮へいする親水性剤が、以下
の式（IV）：【化５】（式中、 −R₉が、水素原子、直鎖または分岐の炭素数１から１８
のアルキル基、直鎖または分岐の炭素数３から１８のア
ルケニル基、【化６】、−（CH₂CH₂O）_n−H、−CH₂−CHOH−CH₃−、−（CH₂）
_m−または−CH₂−CHOH−CH₂−から選択される基を示
し、 −nは、１から６までの整数であり、mは、１から１０ま
での整数であり、 −R₁₀が、水素原子、炭素数１から４のアルコキシ基、
または、R₉が二価の基であるときにR₉に結合する二価の
−O−基を示し、 −qが、１または２の整数であり、qが２である場合、R₉
は二価の基でなければならなず、 −YおよびY’は、水素原子または−SO₃H基を示し、Yま
たはY’の少なくとも１つが、水素原子ではない）で表
わされることを特徴とする、請求項３に記載の組成物。
【請求項１７】式（IV）において、qが１であり、Yお
よびR₁₀が各々水素原子を示し、R₉がメチル基を示し、
Y’は３位における−SO₃H基を示すことを特徴とする、
請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】式（IV）において、qが１であり、Yは
−SO₃H基を示し、Y’は水素原子を示し；R₁₀が、メチレ
ン基を示すR9に結合する二価の−O−基を示すことを特
徴とする、請求項１６に記載の組成物。
【請求項１９】式（IV）において、qが１であり、Yは
−SO₃H基を示し、Y’およびR₁₀は水素原子を示し；R
₉が、メチル基を示すことを特徴とする、請求項１６に
記載の組成物。
【請求項２０】式（IV）において、qが１であり、Yは
−SO₃H基を示し、Y’は水素原子を示し；R₉がメチル基
を示し、R₁₀がメトキシ基を示すことを特徴とする、請
求項１６に記載の組成物。
【請求項２１】式（IV）において、qが１であり、Yは
−SO₃H基を示し、Y’およびR₁₀は共に水素原子を示し；
R₉がn−ブチル基を示すことを特徴とする、請求項１６
に記載の組成物。
【請求項２２】式（IV）において、qが１であり、Yは
−SO₃H基を示し、Y’は水素原子を示し；R₉がn−ブチル
基を示し、R₁₀がメトキシ基を示すことを特徴とする、
請求項１６に記載の組成物。
【請求項２３】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、
以下の式（V）：【化７】（式中、 −R₁₁は、水素原子、直鎖または分岐の炭素数１から６
のアルキル基、直鎖または分岐の炭素数１から６のアル
コキシ基、または、−SO₃H基を示し、 −R₁₂は、水素原子、直鎖または分岐の炭素数１から６
のアルキル基、または、直鎖または分岐の炭素数１から
６のアルコキシ基を示し、 −R₁₃は、水素原子、または、−SO₃H基を示し、 −基R₁₁およびR₁₃の少なくとも１つが、−SO₃H基を示
し、 −Xは、酸素原子、硫黄原子、または−NR−基であり、R
は、水素原子、または、直鎖または分岐の炭素数１から
６のアルキル基を示す）で表わされることを特徴とす
る、請求項３に記載の組成物。
【請求項２４】式（V）において、Xが−NH−基を示
し、R₁₁は−SO₃H基を示し、R₁₂およびR₁₃は共に水素原
子を示すことを特徴とする、請求項２３に記載の組成
物。
【請求項２５】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、
以下の式（VI）：【化８】（式中、 −R₁₄およびR₁₅は、同一でも異なっていてもよく、水素
原子、または、直鎖または分岐の炭素数１から８のアル
キル基を示し、 −a、bおよびcは、同一でも異なっていてもよく、０ま
たは１である）で表わされることを特徴とする、請求項
１または２に記載の組成物。
【請求項２６】式（VI）において、a＝b＝c＝０であ
り、R₁₅はメチル基を示すことを特徴とする、請求項２
５に記載の組成物。
【請求項２７】紫外線を遮へいする前記親水性剤が、
以下の式（VII）：【化９】［式中、 −Xは、酸素原子または−NH−基を示し、 −R₁₆は、水素原子、直鎖または分岐の炭素数１から８
のアルキルまたはアルコキシ基、または、式（VIII）：【化１０】（ここで、X’は、Xと独立に、酸素原子または−NH−基
を示す）を示す］で表わされることを特徴とする、請求
項１または２に記載の組成物。
【請求項２８】式（VII）において、Xは、−NH−基を
示し、R₁₆は、水素原子を示すことを特徴とする、請求
項２７に記載の組成物。
【請求項２９】式（VII）において、Xは、−NH−基を
示し、R₁₆は、X’が−NH−基を示す式（VIII）の基を示
すことを特徴とする、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３０】式（VII）において、Xは、酸素原子を
示し、R₁₆は、X’が酸素原子を示す式（VIII）の基を示
すことを特徴とする、請求項２７に記載の組成物。
【請求項３１】前記不活性吸着性増量剤の比表面積
が、少なくとも１０m²／gであることを特徴とする、請
求項１ないし３０のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３２】前記不活性吸着性増量剤の比表面積
が、少なくとも５０m²／gであることを特徴とする、請
求項３１項に記載の組成物。
【請求項３３】前記不活性吸着性増量剤の比表面積
が、少なくとも１００m²／gであることを特徴とする、
請求項３１項に記載の組成物。
【請求項３４】前記不活性吸着性増量剤が、シリカ
類、アルミナ類、アルミノケイ酸塩類、ゼオライト類、
タルク、およびマグネシアからなる群から選択されるこ
とを特徴とする、請求項１ないし３３のいずれか１項に
記載の組成物。
【請求項３５】前記不活性吸着性増量剤が、フューム
ドシリカまたは沈殿吸着性シリカまたはシリカゲルであ
ることを特徴とする、請求項３４に記載の組成物。
【請求項３６】紫外線を遮へいする親水性剤を、０．
２重量％から１０重量％含有することを特徴とする、請
求項１ないし３５のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項３７】紫外線を遮へいする親水性剤を、０．
２５重量％から６重量％含有することを特徴とする、請
求項３６に記載の組成物。
【請求項３８】前記不活性吸着性増量剤を、組成物の
全重量に対して、０．１５重量％から５重量％までの間
で含有することを特徴とする、請求項１ないし３７のい
ずれか１項に記載の組成物。
【請求項３９】前記不活性吸着性増量剤を、組成物の
全重量に対して、０．２重量％から３重量％までの間で
含有することを特徴とする、請求項３８に記載の組成
物。
【請求項４０】請求項１に記載の酸性の親水性遮へい
剤以外の、UVBおよび／またはUVA領域内において活性で
ある１以上の相補的親水性または親油性遮へい剤をさら
に含有することを特徴とする、請求項１ないし３９のい
ずれか１項に記載の組成物。
【請求項４１】前記相補的遮へい剤が、シンナマート
類、サリシラート類、ベンジリデンショウノウ誘導体、
トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイ
ルメタン誘導体、β，β−ジフェニルアクリラート誘導
体、p−アミノ安息香酸誘導体、メンチルアントラニラ
ート、遮へいポリマー類、および遮へいシリコーン類か
ら選択されることを特徴とする、請求項４０に記載の組
成物。
【請求項４２】前記相補的遮へい剤が、４−tert−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−エチル
ヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラー
ト、および３−（４−メチルベンジリデン）−ショウノ
ウからなる群から選択されることを特徴とする、請求項
４１に記載の組成物。
【請求項４３】相補的光保護剤類として、散乱および
／または反射によって、物理的にUVブロックすることの
可能な、被覆または非被覆の金属酸化物ナノピグメント
類を更に含有することを特徴とする、請求項１ないし４
２のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４４】脂肪類、有機溶媒類、非イオン増粘剤
類、緩和剤類、抗酸化剤類、乳白剤類、安定化剤類、シ
リコーン類、消泡剤類、保湿剤類、香料類、防腐剤、非
イオン界面活性剤類、充填剤類、金属イオン封止剤類、
非イオンポリマー類、推進剤類、アルカリ性化または酸
性化剤類、および染料類から選択される化粧品用アジュ
バント類を更に含有することを特徴とする、請求項１な
いし４３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４５】ヒトの表皮用保護組成物または日焼け
防止組成物を構成することを特徴とする、請求項１ない
し４４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４６】まつげ、まゆげ、または皮膚用メーク
アップ組成物を構成することを特徴とする、請求項１な
いし４４のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４７】紫外線に対して髪を保護するための組
成物を構成することを特徴とする、請求項１ないし４４
のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項４８】太陽光線等の紫外線の影響に対して、
皮膚および／または髪を保護するための化粧品組成物と
して使用することからなる、請求項１ないし４７のいず
れか１項に記載の組成物の使用方法。
【請求項４９】太陽光線等の紫外線の影響に対して、
皮膚および／または髪を保護するための化粧品組成物の
製造において、組成物を使用することからなる、請求項
１ないし４７のいずれか１項に記載の化粧品組成物の使
用方法。
【請求項５０】太陽光線等の紫外線の影響に対して、
皮膚および／または髪を保護するための美容処理方法で
あって、請求項１ないし４７のいずれか１項に記載の組
成物を有効量、皮膚および／または髪に適用することか
らなることを特徴とする、美容処理方法。
【請求項５１】光保護剤としてスルホン酸基等の少な
くとも１つの酸基を含有する、親水性UV遮へい剤を含有
する水中油形エマルションの、耐太陽光線化粧品組成物
の耐水性を改善するために使用することからなる、シリ
カ等の不活性で不溶性の吸着性増量剤の使用方法。