JP3753224B2 - ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 - Google Patents
ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3753224B2 JP3753224B2 JP2000077240A JP2000077240A JP3753224B2 JP 3753224 B2 JP3753224 B2 JP 3753224B2 JP 2000077240 A JP2000077240 A JP 2000077240A JP 2000077240 A JP2000077240 A JP 2000077240A JP 3753224 B2 JP3753224 B2 JP 3753224B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- composition
- composition according
- skin
- agent
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- CRTCVSXAMSCDAR-VYMCETBISA-N CC(CC1=C(C)CCCC1(C)C)/C(/C)=C/C=C/C(/C)=C/COC Chemical compound CC(CC1=C(C)CCCC1(C)C)/C(/C)=C/C=C/C(/C)=C/COC CRTCVSXAMSCDAR-VYMCETBISA-N 0.000 description 1
- LYLOSUMZZKYEDT-UHFFFAOYSA-N OS(c(cc1S(O)(=O)=O)cc2c1nc(-c(cc1)ccc1-c([nH]c1cc(S(O)(=O)=O)c3)nc1c3S(O)(=O)=O)[nH]2)(=O)=O Chemical compound OS(c(cc1S(O)(=O)=O)cc2c1nc(-c(cc1)ccc1-c([nH]c1cc(S(O)(=O)=O)c3)nc1c3S(O)(=O)=O)[nH]2)(=O)=O LYLOSUMZZKYEDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/89—Polysiloxanes
- A61K8/896—Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate
- A61K8/898—Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate containing nitrogen, e.g. amodimethicone, trimethyl silyl amodimethicone or dimethicone propyl PG-betaine
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
- A61K8/4946—Imidazoles or their condensed derivatives, e.g. benzimidazoles
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
- A61K8/4966—Triazines or their condensed derivatives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/60—Sugars; Derivatives thereof
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q1/00—Make-up preparations; Body powders; Preparations for removing make-up
- A61Q1/02—Preparations containing skin colorants, e.g. pigments
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q1/00—Make-up preparations; Body powders; Preparations for removing make-up
- A61Q1/02—Preparations containing skin colorants, e.g. pigments
- A61Q1/10—Preparations containing skin colorants, e.g. pigments for eyes, e.g. eyeliner, mascara
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q5/00—Preparations for care of the hair
- A61Q5/02—Preparations for cleaning the hair
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、紫外線から皮膚及び/又は毛髪を光保護することを意図し、局所的に使用される新規の化粧品用組成物(以下、この組成物を単に抗日光組成物と呼称する)、並びに上述した化粧品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、(a)第1の遮蔽剤として、少なくとも1つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、(b)第2の遮蔽剤として、少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも1つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも1つとを組合せて含有し、該第1及び第2の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で、該組成物中に存在している抗日光組成物に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
280nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼けし、特にUV−Bとして知られている280と320nmの間の波長の光線により、自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成する;よって、このUV−Bは遮蔽されなければならない。
また、320nmと400nmの間の波長を持ち、皮膚をサンタン状態にするUV−Aも皮膚に悪い変化を誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。UV−Aは、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV−Aは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、UV−Aもまた遮蔽することが望ましい。
【0003】
皮膚の光(UV−A及び/又はUV−B)保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供されている。
これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品として許容可能なビヒクル)の形態で提供されており、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の親油性及び/又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなるもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の保護ファクター[保護ファクター(PF)は、UV遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な照射時間の、UV遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に表したものである]に従って選択される。
【0004】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
実際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったところ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないことに、従来から既に知られている2つの特定のサンスクリーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に改善された保護ファクターを有する抗日光組成物が得られることを見いだした。
この発見が本発明の基礎をなす。
【0005】
よって、本発明の主題事項の一つは、化粧品として許容可能なビヒクル中に、(a)第1の遮蔽剤として、少なくとも1つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、(b)第2の遮蔽剤として、少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも1つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも1つを含有し、該第1及び第2の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組成物中に存在していることを本質的に特徴とする新規化粧品用組成物、特に抗日光組成物を提供することにある。
【0006】
本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の使用にある。
【0007】
また、本発明の他の主題事項は、本発明の組成物を有効量、皮膚及び/又は毛髪に適用することから本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
【0008】
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【0009】
よって、本発明の主題事項の一つにおいては、化粧品として許容可能なビヒクル中に:
(a)第1の遮蔽剤として、少なくとも1つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と;
(b)第2の遮蔽剤として、1分子当たり少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する化合物、又は1分子当たり少なくとも1つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも1つ、
を含有し、該第1及び第2の遮蔽剤が、日光保護ファクターに関し、相乗活性が生じる割合で存在していることを特徴とする、新規の化粧品用及び/又は皮膚科学的組成物、特に抗日光組成物が提供される。
【0010】
本明細書において「少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する」という用語は、1分子当たり、ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミダゾリル型の少なくとも2つの基を有するものと理解される。
本明細書において「少なくとも1つのベンゾジアゾリル基を有する」という用語は、1分子当たり、ベンゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイミダゾリル型の基を有するものと理解される。
【0011】
本発明に係るビスレゾルシニルトリアジン誘導体は、好ましくは次の式:
【化20】
[上式中、
(i)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよく、C3−C18アルキル基、C2−C18アルケニル基又は式−CH2−CH(OH)−CH2−OT1(ここで、T1は水素原子かC1−C8アルキル基である)の残基を示し;
(ii)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよく、次の式(1):
【化21】
{上式中、
− m1は1〜3の数であり;
− R3は、ヒドロキシル基;一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置換のC1−C5アルキル基;C1−C5アルコキシ基;アミノ基;モノ−もしくはジ(C1−C5)アルキルアミノ基;金属カチオンM;あるいは次の式(2)〜(7):
【化22】
(上式中、
− R4、R5及びR6基は、同一でも異なっていてもよく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置換のC1−C14アルキル基を表し;m3は2〜14の数を表し;
− R7は、水素原子、金属カチオンM、C1−C5アルキル基又は式−(CH2)m2−OT1(ここで、m2は1〜4の数でT1は上述と同じ意味を有する)の残基を表す)の一つから選ばれる残基を示す}
(iii)R1及びR2基は、同一でも異なっていてもよく、次の式(8):
【化23】
(上式中、
− R8は、共有結合、直鎖状又は分枝状のC1−C4アルキル基又は式−Cm4H2m4−もしくは−Cm4H2m4−O−(ここで、m4は1〜4の数である)の残基を表し;
− p1は0〜5の数であり;
− R9、R10及びR11基は、同一でも異なっていてもよく、C1−C18アルキル基、C1−C18アルコキシ基又は次の式:
【化24】
(上式中、R12はC1−C5アルキル基である)の残基を示す)
の残基を示すことができ;
− A1は、次の式:
【化25】
[上式中、
− R7は上述のものと同じ意味を有し;
− R13は水素原子、C1−C10アルキル基、式−(CH2CHR16−O)n1R7(ここでn1は1〜16の数であり、R16は水素又はメチルか、T1が上記と同じ意味を有する−CH2−CH(OH)−CH2OHT1の構造の残基である)の基を示し;
− Q1はC1−C18アルキル基であり;
− R14は次の式(1):
【化26】
に相当する基である]
の1つに対応する残基を示す]に相当する化合物から好適には選択される。
【0012】
上述の式(I)及び(1)〜(12)において:
− アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、アミル、イソアミル、tert−アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル又はオクタデシルから選択することができ;
− C2−C18アルケニル基は、例えば、アリル、メタリル、イソプロペニル、2−ブテニル、3−ブテニル、イソブテニル、n−ペンタ−2,4−ジエニル、3−メチルブテ(methylbut)−2−エニル、n−オクテ(oct)−2−エニル、n−ドデセ(dodec)−2−エニル、イソドデセニル又はn−オクタデセ−4−エニルから選択することができ;
− アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ又はtert−アミルオキシから選択することができ;
− モノ−もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、n−ブチルアミノ、sec−ブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択することができ;
− 金属カチオンMはアルカリ金属、アルカリ土類金属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金属カチオンである。
【0013】
本発明の式(I)のビスレゾルシニルトリアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤である。それらは、欧州特許公開第0775698号及び同第0878469号に開示され、そこで示された合成法に従い調製される(これらは本明細書の内容の一体部分を形成する)。
【0014】
使用することができる式(I)のビスレゾルシニルトリアジン化合物の例としては、A1基がパラ−メトキシフェニル又は4−エトキシフェニルを示し、R1及びR2基が、同一でも異なっていてもよく、次の構造:
【化27】
{上式中、構造R3は、
− tert−ブチルオキシ;
− OH;
− OM(ここで、Mはアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択されるカチオンである);
− 次の構造:
【化28】
の基;
− 構造O−N+(CH2CH2OH)3の基;
− 次の構造:
【化29】
(ここで、nは2〜16まで変わりうる)の基;
− 次の構造:
【化30】
の基;
− 次の構造:
【化31】
の基から選択される}を持つ基を表す。
【0015】
また、A1基がパラ−ヒドロキシフェニルを示し、R1及びR2基が同時に次の構造:
【化32】
の基を表す式(I)に相当するビスレゾルシニルトリアジン化合物が挙げられる。
【0016】
使用することができる式(I)の化合物の例として:
− 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−[4−(2−メトキシエチルオキシカルボニル)フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(2”−メチルプロペニルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(1’,1’,1’,3’,5’,5’,5’−ヘプタメチルトリシロキシ−2”−メチルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(3−(2−プロピルオキシ)−2−ヒドロキシプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−[4−(エトキシカルボニル)フェニルアミノ]−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(1−メチルピロール−2−イル)−1,3,5−トリアジン;
を挙げることができる。
【0017】
本発明において特に好ましいビスレゾルシニルトリアジンから誘導される化合物は、
− 2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
− 2,4−ビス{[4−(1’,1’,1’,3’,5’,5’,5’−ヘプタメチルトリシロキシ−2”−メチルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン;
からなる群から選択される。
【0018】
ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型のサンスクリーン又はサンスクリーン類は、組成物の全重量に対して、0.1〜15重量%、好ましくは0.2〜10重量%の含有量で組成物中に存在する。
【0019】
本発明の少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する化合物として好ましく使用されるものは、次の一般式(II):
【化33】
[上式中:
− Z’は、角括弧内に記載された少なくとも2つのベンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役した単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の二重結合を有する(p2+n2)価の有機残基を表し;
− X’はS、O又はNR6を示し;
− R1は、水素、C1−C18アルキル、C1−C4アルコキシ、C5−C15アリール、C2−C18アシルオキシ、SO3Y’又はCOOY’を示し;
− R2、R3、R4及びR5基は同一でも異なっていてもよく、ニトロ基を示すか、又はR1と同一の意味を有し;
− R6は水素、C1−C4アルキル又はC1−C4ヒドロキシアルキルを示し;
− Y’は水素、Li、Na、K、NH4、1/2Ca、1/2Mg、1/3A1又は窒素性有機塩基による遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し;
− m5は0又は1であり;
− n2は2〜6の数であり;
− p2は1〜4の数であり;
− 但し、p2+n2は6を越えない]
に対応するものである。
【0020】
本発明の式(II)の化合物は、欧州特許公開第0669323号において既に公知の水溶性のUV−A遮蔽剤である。それらは米国特許第2463264号及び欧州特許公開第0669323号に開示され、そこで示された合成法に従い調製される(これら2つの公報は本明細書の内容の一体部分を形成する)。
【0021】
本発明の式(II)の化合物として好ましくは、Z’基が:
(a)例えば:
−CH=CH−、
−CH=CH−CH=CH−、又は
次の式:
【化34】
等の、C5−C12アリール基又はC4−C10ヘテロアリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族C2−C6炭化水素性(hydrocarbonaceous)基;
(b)例えば、以下の式:
【化35】
の基等の、不飽和で直鎖状の脂肪族C2−C6炭化水素性基が挿入され得るC5−C15アリール基;
(c)例えば、次の式:
【化36】
[上式中、R6は上述した同一の意味を有する]
の基等の、C3−C10ヘテロアリール残基;
から選択され、
(a)項、(b)項及び(c)項で定義された上記Z’基が、C1−C6アルキル、C1−C6アルコキシ、フェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ基で置換可能で、アミノ基が一又は二のC1−C5アルキル基で置換されていてもよいものを挙げることができる。
【0022】
使用可能な式(II)の化合物の例として、次の構造を有するもの:
【化37】
及びその塩類を挙げることができる。
【0023】
これら全ての化合物の中で、特に好ましいものは、次の構造を有する1,4−ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン−3,3’,5,5’−テトラスルホン酸(化合物4):
【化38】
及びその塩類である。
少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する化合物の他の例としては、次の化合物:
【化39】
及びその塩類を挙げることができる。
【0024】
本発明で使用可能な少なくとも1つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合物:
【化40】
及びその塩類を挙げることができる。
【0025】
本発明のベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量に対して0.1〜15重量%、好ましくは0.2〜10重量%の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
【0026】
上述したように、本発明の必須の特徴によれば、2種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在するのが好ましい。
【0027】
さらに一般的には、上述したビスレゾルシニルトリアジン誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物の濃度及び比率は、最終組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも2になるように選択される。
【0028】
さらに、本発明の好ましい実施態様において、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
【0029】
もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物は、上述した2つの遮蔽剤以外にも、UV−A及び/又はUV−B領域に対して活性のある、一又は複数の付加的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、上記のもの以外のトリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第863145号、同第517104号、同第570838号、同第796851号、同第775698号及び同第878469号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β’−ジフェニルアクリラート誘導体、上記のもの以外のベンゾイミダゾール誘導体、p−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開93/04665号に開示されているものから選択される。
【0030】
UV−A及び/又はUV−B領域に活性のある付加的なサンスクリーン剤の例としては:
p−アミノ安息香酸、
オキシエチレン化(25モル)p−アミノベンゾアート、
2−エチルヘキシル−p−ジメチルアミノベンゾアート、
N−オキシプロピレン化p−アミノ安息香酸エチル、
グリセロール−p−アミノベンゾアート、
ホモメンチルサリチラート、
2−エチルヘキシルサリチラート、
トリエタノールアミンサリチラート、
4−イソプロピルベンジルサリチラート、
4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、
4−イソプロピルジベンゾイルメタン、
2−エチルヘキシル−4−メトキシシンナマート、
ジイソプロピルケイ皮酸メチル、
4−メトキシケイ皮酸イソアミル、
4−メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン、
アントラニル酸メンチル、
2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリラート、
2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エチル、
2−フェニルベンゾイミダゾール−5−スルホン酸及びその塩類、
3−(4’−トリメチルアンモニオ)ベンジリデンボルナン−2−オン−メチルスルファート、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホナート、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−(n−オクトキシ)ベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン、
α−(2−オキソボルン−3−イリデン)トルエン−4−スルホン酸及びその塩類、
3−(4’−スルホベンジリデン)ボルナン−2−オン及びその塩類、
3−(4’−メチルベンジリデン)−d,l−ショウノウ、
3−ベンジリデン−d,l−ショウノウ、
ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン−10−ショウノウスルホン酸)及びその塩類、
ウロカニン酸、
2,4,6−トリス[p−(2’−エチルヘキシル−1’−オキシカルボニル)アニリノ]−1,3,5−トリアジン、
2−[p−(tert−ブチルアミド)アニリノ]−4,6−ビス[p−(2’−エチルヘキシル−1’−オキシカルボニル)アニリノ]−1,3,5−トリアジン、
N−[(2−及び4−)[(2−オキソボロン−3−イリデン)メチル]ベンジル]アクリルアミドのポリマー、
ドロメトリゾールトリシロキサン(INCI名)、
マロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類、
を挙げることができる。
【0031】
また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(DHA)をさらに含有してもよい。
【0032】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類(一次粒子の平均粒径:一般的に、5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例えば、それ自体UV光保護剤としてよく知られている、酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び/又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第0518772号及び欧州特許公開第0518773号に開示されているものがある。
【0033】
また、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【0034】
脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ化及び過フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択することができる。
【0035】
有機溶媒としては低級アルコール類及びポリオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグアーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチルセルロースから選択することができる。
【0036】
もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽剤の3つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な化合物及び/又はそれらの量を選択するであろう。
【0037】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製を意図した技術により調製することができる。
【0038】
この組成物は、特に単一又は複合エマルション(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもでき、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム又はスプレーの形態で提供することもできる。
【0039】
エマルションの場合、エマルションの水相は、公知の方法[バングハム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J.Mol.Biol.,13,238(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国特許第2416008号]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【0040】
本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として使用することができる。
【0041】
本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
【0042】
本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態として提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローションもしくはスタイリング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することもできる。
【0043】
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメークアップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液として提供することができる。
【0044】
目安を示すと、水中油型エマルション型のビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0045】
本明細書の最初に示したように、本発明の他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響からそれらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方法にある。
【0046】
【実施例】
次に本発明の実施例を例証するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1
組成
セテアリールアルコールとオキシエチレン化
(33EO)されたセテアリールアルコールの
80/20の混合物
[シンノワックス(Sinnowax)AO、ヘンケル社
(Henkel)] 7g
グリセロールモノ−及びジステアラートの混合
物
[セラシント(Cerasynt)SD−V、ISP社] 2g
セチルアルコール 1.5g
ポリジメチルシロキサン
[ダウ・コーニング(Dow Corning)200フルイド、
ダウ・コーニング社] 1g
C12/C15アルコールのベンゾアート
[ウィトコノール(Witconol)TN、ウィトコ(W
itco)社] 15g
2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−
2−ヒドロキシ]フェニル}−6−(4−メトキシフ
ェニル)−1,3,5−トリアジン 2g
グリセロール 15g
1,4−ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン
−3,3’,5,5’−テトラスルホン酸 2g
トリエタノールアミン pHを7にする量
防腐剤 適量
脱塩水 全体を100gにする量
【0047】
実施例2
組成
グリセロール−モノ/ジステアラート/ポリエ
チレングリコール(100EO)ステアラート混合物
[アルラセル(Arlacel)165FL、ICI社] 2g
ステアリルアルコール
[ラネット(Lanette)18、ヘンケル社] 1g
パーム油ステアリン酸
[ステアリン(Stearine)TP、ステアリネリー
・デュボア社(Stearinerie Dubois)] 2.5g
ポリジメチルシロキサン
[ダウ・コーニング200フルイド、ダウ・コーニ
ング社] 0.5g
C12/C15アルコールのベンゾアート
[ウィトコノールTN、ウィトコ社] 20g
トリエタノールアミン 0.5g
2,4−ビス{[4−(トリス(トリメチルシロキシ)
シリルプロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニ
ル}−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリ
アジン 2.5g
グリセロール 5g
ヘキサデシルホスファート、カリウム塩
[アンフィソール(Amphisol)K、ホフマン−ラ
ロシュ社(Hoffman−Laroshe)] 1g
ポリアクリル酸
[シンタレン(Synthalen)K、3V社] 0.3g
ヒドロキシプロピルメチルセルロース
[メトセル(Methocel)F4M、ダウ・ケミカル社
(Dow Chemical)] 0.1g
1,4−ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン
−3,3’,5,5’−テトラスルホン酸 1.5g
トリエタノールアミン pHを7にする量
防腐剤 適量
脱塩水 全体を100gにする量
【0048】
実施例3
組成
セテアリールアルコールとオキシエチレン化
(33EO)されたセテアリールアルコールの
80/20の混合物
[シンノワックス(Sinnowax)AO、ヘンケル社
(Henkel)] 7g
グリセロールモノ−及びジステアラートの混合
物
[セラシント(Cerasynt)SD−V、ISP社] 2g
セチルアルコール 1.5g
ポリジメチルシロキサン
[ダウ・コーニング(Dow Corning)200フルイド、
ダウ・コーニング社] 1g
C12/C15アルコールのベンゾアート
[ウィトコノール(Witconol)TN、ウィトコ社
(Witco)] 15g
2,4−ビス{[4−(1’,1’,1’,3’,5’,5’,
5’−ヘプタメチルトリシロキシ−2”−メチルプ
ロピルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−
(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン 2g
グリセロール 15g
1,4−ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン
−3,3’,5,5’−テトラスルホン酸 1.5g
トリエタノールアミン pHを7にする量
防腐剤 適量
脱塩水 全体を100gにする量
Claims (14)
- 第1の遮蔽剤の濃度が組成物の全重量に対して0.2〜10重量%であることを特徴とする請求項1に記載の組成物。
- 第2の遮蔽剤の濃度が、組成物の全重量に対して0.2〜10重量%であることを特徴とする請求項1又は2に記載の組成物。
- 前記化粧品として許容可能なビヒクルが、水中油型エマルションの形態で提供されることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記第1及び第2の遮蔽剤以外の、UV-A及び/又はUV-B領域に活性のある一又は複数の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、トリアジン誘導体、1分子当たり少なくとも2つのベンゾアゾリル基を有する化合物、及び/又は1分子当たり少なくとも1つのベンゾジアゾリル基を有する化合物以外のベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体類、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体、p-アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とする請求項5に記載の組成物。
- 付加的なUV光保護剤として、被覆又は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の組成物。
- 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム又は酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項7に記載の組成物。
- 皮膚を人工的にサンタン状態にする、及び/又は褐色にする少なくとも1つの薬剤をさらに含有していることを特徴とする請求項1ないし8のいずれか1項に記載の組成物。
- 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、又は染料から選択される少なくとも1つのアジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の組成物。
- ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、エマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チューブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるものであることを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の組成物。
- 分散液、懸濁液又はエマルションのペースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供され、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の組成物。
- 紫外線からの毛髪の保護を意図した組成物において、該組成物がシャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供されるものであることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の組成物。
- 請求項1ないし13のいずれか1項に記載の組成物を有効量、皮膚及び/又は毛髪に適用することからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を保護するための美容処理方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR9901732A FR2789582B1 (fr) | 1999-02-12 | 1999-02-12 | Compositions photoprotectrices contenant un derive de bis-resorcinyl triazine et un compose a groupements benzoazolyle ou benzodiazolyle |
FR9901732 | 1999-02-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000273030A JP2000273030A (ja) | 2000-10-03 |
JP3753224B2 true JP3753224B2 (ja) | 2006-03-08 |
Family
ID=9541970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000077240A Expired - Fee Related JP3753224B2 (ja) | 1999-02-12 | 2000-02-14 | ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6248311B1 (ja) |
EP (1) | EP1027881B1 (ja) |
JP (1) | JP3753224B2 (ja) |
AT (1) | ATE303790T1 (ja) |
DE (1) | DE60022411T2 (ja) |
ES (1) | ES2249238T3 (ja) |
FR (1) | FR2789582B1 (ja) |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10030663A1 (de) * | 2000-06-23 | 2002-01-10 | Merck Patent Gmbh | UV-B-Filter |
DE10041983A1 (de) * | 2000-08-26 | 2002-03-07 | Beiersdorf Ag | Wirkstoffkombination zur Verstärkung der UV-A-Schutzleistung kosmetischer oder dermatologischer Formulierungen |
FR2818142B1 (fr) * | 2000-12-18 | 2003-12-26 | Oreal | Compositions antisolaires a base d'un base melange synergetique de filtres et utilisations |
DE10162842A1 (de) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Beiersdorf Ag | Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Benzotriazolen und Benzoxazol-Derivaten |
DE10162840A1 (de) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Beiersdorf Ag | Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an wasserlöslichen UV-Filtersubstanzen und Benzoxazol-Derivaten |
US20050142080A1 (en) * | 2001-12-20 | 2005-06-30 | Beiersdorf Ag | Cosmetic or dermatological light protection formulation with a benzoxazole derivative |
DE10162844A1 (de) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Beiersdorf Ag | Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen mit einem Gehalt an Bis-Resorcinyltriazinderivaten und Benzoxazol-Derivaten |
JP2005513093A (ja) * | 2001-12-20 | 2005-05-12 | バイヤースドルフ・アクチエンゲゼルシヤフト | ヒドロキシベンゾフェノン類及びベンズオキサゾール誘導体を含む化粧品用及び皮膚科学的光−保護配合物 |
DE10226349A1 (de) * | 2002-06-13 | 2003-12-24 | Beiersdorf Ag | Kosmetische und dermatologische Lichtschutzzubereitungen enthaltend eine Kombination aus UV-Absorbern und sphärischen Siliziumoxiden |
KR20080048481A (ko) * | 2005-08-17 | 2008-06-02 | 마리 케이 인코포레이티드 | 썬리스 태닝 조성물 |
DE102005055519A1 (de) * | 2005-11-18 | 2007-08-30 | Beiersdorf Ag | Optisch attraktive Antitranspirant Formulierung |
NZ570625A (en) | 2006-02-10 | 2011-10-28 | Biomarin Iga Ltd | Treatment of duchenne muscular dystrophy |
MX2009012558A (es) * | 2007-08-03 | 2010-04-21 | Biomarin Iga Ltd | Combinaciones de farmacos para el tratamiento de distrofia muscular de duchenne. |
GB0715937D0 (en) * | 2007-08-15 | 2007-09-26 | Vastox Plc | Method of treatment og duchenne muscular dystrophy |
DE102008025576A1 (de) | 2008-05-28 | 2009-12-03 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
WO2010003843A2 (de) | 2008-07-09 | 2010-01-14 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Rinse-off-produkte mit benefit-wirkung auf die haut |
DE102008032179A1 (de) | 2008-07-09 | 2010-01-21 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Rinse-off-Produkte mit Benefit-Wirkung auf die Haut |
DE102008063307A1 (de) | 2008-12-29 | 2010-07-01 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102008063288A1 (de) | 2008-12-29 | 2010-07-01 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102008047362A1 (de) | 2008-09-15 | 2010-04-15 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Zusammensetzung zur Hautaufhellung |
DE102008047945A1 (de) | 2008-09-18 | 2009-06-25 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Selbstbräunungszusammensetzungen |
DE102008047944A1 (de) | 2008-09-18 | 2009-06-25 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Selbstbräunungszusammensetzungen |
DE102008051007A1 (de) | 2008-10-13 | 2010-04-15 | Beiersdorf Ag | Polyamid-5-Verbindungen in kosmetischen Zubereitungen |
DE102009045998A1 (de) | 2009-10-26 | 2011-04-28 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102008063306A1 (de) | 2008-12-29 | 2010-07-01 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
EP2201927A3 (de) | 2008-12-29 | 2013-05-22 | Henkel AG & Co. KGaA | Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102009026414A1 (de) | 2009-05-22 | 2010-11-25 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Hautbehandlung zur Porenverfeinerung |
DE102009026718A1 (de) | 2009-06-04 | 2010-04-15 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Hautbehandlung zur Porenverfeinerung II |
DE102009027105A1 (de) | 2009-06-23 | 2010-12-30 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen mit verbessertem antioxidativen Potenzial |
DE102009027584A1 (de) | 2009-07-09 | 2011-01-13 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Verfahren zur Herstellung stabiler Emulsionen, insbesondere Sonnenschutzformulierungen |
DE102009045753A1 (de) | 2009-10-16 | 2011-04-21 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen mit verbessertem Lichtschutzfaktor |
DE102009045949A1 (de) | 2009-10-23 | 2010-08-05 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102010063842A1 (de) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Beiersdorf Ag | Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen umfassend eine Kombination aus Polyacrylat- und Polyacrylamidverdicker |
DE102010063875A1 (de) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Beiersdorf Ag | Kosmetische oder dermatologische Zubereitungen umfassend eine Kombination aus Polyacryl- und Polyacrylamidverdicker mit verbesserter Lichtschutzleistung |
DE102010063894A1 (de) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Beiersdorf Ag | Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit hohem Silikonölgehalt umfassend eine Kombination aus Polyacrylat- und Polyacrylamidverdicker |
CN103347490A (zh) | 2010-12-22 | 2013-10-09 | 拜尔斯道夫股份有限公司 | 包括聚丙烯酸酯增稠剂和聚丙烯酰胺增稠剂的组合物的化妆防晒制剂或皮肤科防晒制剂 |
DE102010063825A1 (de) | 2010-12-22 | 2012-06-28 | Beiersdorf Ag | Kosmetische oder dermatologische wasserfeste Lichtschutzzubereitungen umfassend eine Kombination aus Polyacrylat- und Polyacrylamidverdicker |
DE102010055817A1 (de) | 2010-12-23 | 2012-06-28 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Treibmittelhaltige verschäumbare kosmetische Zusammensetzung zur Haut- und Körperpflege |
DE102011006982A1 (de) | 2011-04-07 | 2012-10-11 | Beiersdorf Ag | Zubereitungen mit einem langanhaltenden floralen Duft ohne 4-(4-Hydroxy-4-methylpentyl)-3-cyclohexencarboxaldehyd |
DE102011079256A1 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-17 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen mit verbessertem antioxidativen Potenzial zum Schutz der Haut vor IR-Strahlung |
DE102011079239A1 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-17 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen mit hohem Lichtschutzfaktor und angenehmer Sensorik |
DE102011079237A1 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-17 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102011079238A1 (de) | 2011-07-15 | 2013-01-17 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Emulsionsbasis für Sonnenschutzzusammensetzungen |
DE102011089581A1 (de) | 2011-12-22 | 2013-06-27 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Zwei-Phasen-Gesichtsreiniger mit hoher Augen- und Schleimhautverträglichkeit |
BR112015002492A2 (pt) | 2012-08-06 | 2017-09-19 | Unilever Nv | composição de protetor solar fotoestável |
CN104789210A (zh) * | 2015-03-27 | 2015-07-22 | 苏州科技学院 | 一种双苯并咪唑型荧光增白剂及其制备方法和用途 |
WO2020187771A1 (en) | 2019-03-15 | 2020-09-24 | Basf Se | Efficient sunscreen compositions with diethylamino hydroxybenzoyl hexyl benzoate and water soluble uva filter |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH350763A (de) * | 1958-10-14 | 1960-12-15 | Ciba Geigy | Verwendung von Azolverbindungen als Schutzmittel gegen ultraviolette Strahlung |
ES2157268T5 (es) * | 1994-02-24 | 2004-12-01 | SYMRISE GMBH & CO KG | Preparados cosmeticos y dermatologicos que contienen acidos fenilen-1,4-bisbencimidazolsulfonicos. |
DE19543730A1 (de) * | 1995-11-23 | 1997-05-28 | Ciba Geigy Ag | Bis-Resorcinyl-Triazine |
DE19548014A1 (de) * | 1995-12-21 | 1997-06-26 | Beiersdorf Ag | Kosmetische und dermatologische Lichtschutzformulierungen in Form von Emulsionen, insbesondere O/W-Makroemulsionen, O/W-Mikroemulsionen oder O/W/O-Emulsionen, mit einem Gehalt an in fester, dispergierter Form vorliegenden, in Ölkomponenten schwerlöslichen oder unlöslichen UV-Filtersubstanzen |
DE59710714D1 (de) * | 1996-08-23 | 2003-10-16 | Ciba Sc Holding Ag | Verwendung von ausgewählten Benzotriazol- und Triazinderivaten zum Schützen von menschlichem Haar vor der schädigenden Einwirkung von UV-Strahlung |
EP0878469B1 (de) * | 1997-05-16 | 2004-10-27 | Ciba SC Holding AG | Resorcinyl-Triazine |
-
1999
- 1999-02-12 FR FR9901732A patent/FR2789582B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-01-31 EP EP00400244A patent/EP1027881B1/fr not_active Revoked
- 2000-01-31 ES ES00400244T patent/ES2249238T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-01-31 AT AT00400244T patent/ATE303790T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-01-31 DE DE60022411T patent/DE60022411T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-14 JP JP2000077240A patent/JP3753224B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-02-14 US US09/503,944 patent/US6248311B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1027881A1 (fr) | 2000-08-16 |
FR2789582A1 (fr) | 2000-08-18 |
DE60022411D1 (de) | 2005-10-13 |
US6248311B1 (en) | 2001-06-19 |
ES2249238T3 (es) | 2006-04-01 |
JP2000273030A (ja) | 2000-10-03 |
EP1027881B1 (fr) | 2005-09-07 |
FR2789582B1 (fr) | 2001-05-04 |
ATE303790T1 (de) | 2005-09-15 |
DE60022411T2 (de) | 2006-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3753224B2 (ja) | ビスレゾルシニルトリアジン誘導体とベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 | |
US6403061B1 (en) | UV-photoprotecting W/O emulsions comprising micronized insoluble screening agents & nonscreening oxyalkylenated silicones | |
AU665727B1 (en) | Photoprotective cosmetic compositions based on a synergistic mixture of screening agents and nanopigments,and uses | |
AU707385B2 (en) | Compositions including 4-tert-butyl-4'-methoxydibenzoylmethane, A 1,3,5-triazine derivative and an alkyl (alpha-cyano)-beta, beta'-diphenylacrylate and uses | |
JPH07330565A (ja) | 抗日光化粧品組成物およびその使用方法 | |
KR20010023743A (ko) | 음이온성 계면활성제, 자외선 차단 조성물 및 친양쪽성양이온성 또는 2 극성 이온 화합물을 함유한 광보호성화장용 조성물 및 그의 용도 | |
JP2001199857A (ja) | 少なくとも1種の不溶性有機uv遮蔽剤を含有する乳化剤を用いないエマルション | |
US6251373B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising benzotriazole, bisresorcinyltriazine and benzoazolyl/benzodiazolyl sunscreens | |
US5753209A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising synergistic admixture of sunscreen compounds | |
US6143282A (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising benzotriazole-substituted silicon sunscreens and cinnamic/salicylic acid solubilizing agents therefor | |
US6171579B1 (en) | Synergistically UV-photoprotecting triazine/silicone compositions | |
US6409999B2 (en) | Synergistically UV-photoprotecting benzotriazole-substituted silicon/cinnamic acid compositions | |
US6296835B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising bis-hydroxyphenylbenzotriazole and benzazolyl/benzodiazolyl sunscreens | |
JP3023084B2 (ja) | 遮蔽剤の相乗混合物をベースとした皮膚および/または髪を光保護するための化粧用組成物およびその使用 | |
US6214324B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising benzotriazole and benzoazolyl/benzodiazolyl sunscreens | |
JP4056675B2 (ja) | 遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途 | |
US7291322B2 (en) | Photoprotecting/cosmetic compositions comprising benzotriazole and bis-resorcinyltriazine | |
US6776980B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising dibenzoylmethane/triazine/diphenylacrylate compounds | |
US6214323B1 (en) | Photoprotective/cosmetic compositions comprising camphorsulfonic acid, bisresorcinyltriazine and benzoazolyl/benzodiazolyl sunscreens |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20040420 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20040423 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040720 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040921 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041220 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050412 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050913 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050915 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051207 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3753224 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091222 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101222 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111222 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121222 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131222 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |