JPH09175974A - 光に対して安定な遮光性化粧品組成物 - Google Patents
光に対して安定な遮光性化粧品組成物Info
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- JPH09175974A JPH09175974A JP8337131A JP33713196A JPH09175974A JP H09175974 A JPH09175974 A JP H09175974A JP 8337131 A JP8337131 A JP 8337131A JP 33713196 A JP33713196 A JP 33713196A JP H09175974 A JPH09175974 A JP H09175974A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 遮光性化粧品組成物に添加されるジベンゾイ
ルメタン型ＵＶ−Ａ遮断剤を長期にわたり安定化する。 【解決手段】 少なくとも１種の脂肪相を含有する美容
上容認しうるビヒクル中に、約０．１から約５％、とり
わけ約１から約３重量％のジベンゾイルメタン型ＵＶ−
Ａ遮断剤と、少なくとも約０．５％、とりわけ約０．５
から約４．５重量％のα−シアノ−β，β−ジフェニル
アクリレート安定剤、および任意に少なくとも１種の通
常のＵＶ−Ｂフィルターを含み、ジベンゾイルメタンの
量が１％以上の場合には、アクリレート対ジベンゾイル
メタン誘導体のモル比が０．８未満である、光に対して
安定な遮光性化粧品組成物。
ルメタン型ＵＶ−Ａ遮断剤を長期にわたり安定化する。 【解決手段】 少なくとも１種の脂肪相を含有する美容
上容認しうるビヒクル中に、約０．１から約５％、とり
わけ約１から約３重量％のジベンゾイルメタン型ＵＶ−
Ａ遮断剤と、少なくとも約０．５％、とりわけ約０．５
から約４．５重量％のα−シアノ−β，β−ジフェニル
アクリレート安定剤、および任意に少なくとも１種の通
常のＵＶ−Ｂフィルターを含み、ジベンゾイルメタンの
量が１％以上の場合には、アクリレート対ジベンゾイル
メタン誘導体のモル比が０．８未満である、光に対して
安定な遮光性化粧品組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はヒトの表皮および毛
髪をそれぞれ波長３２０から４００nmおよび２９０から
４００nmの紫外線から保護するため、光に対して安定な
光遮断性化粧品組成物に関する。
髪をそれぞれ波長３２０から４００nmおよび２９０から
４００nmの紫外線から保護するため、光に対して安定な
光遮断性化粧品組成物に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題・課題を解決するための
手段】特に、本発明は少なくとも１種の脂肪相を含有す
る美容上容認しうるビヒクル中に、約０．１から約５
％、とりわけ約１から約３重量％のジベンゾイルメタン
型ＵＶ−Ａ遮断剤と少なくとも約０．５％、とりわけ約
０．５から約４．５重量％のα−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート（Ｉ）型安定剤、そして任意に少な
くとも１種のＵＶ−Ｂフィルターを含み、ジベンゾイル
メタンの量が１％以上である場合には、アクリレート対
ジベンゾイルメタン誘導体のモル比が０．８未満である
組成物に関する。
手段】特に、本発明は少なくとも１種の脂肪相を含有す
る美容上容認しうるビヒクル中に、約０．１から約５
％、とりわけ約１から約３重量％のジベンゾイルメタン
型ＵＶ−Ａ遮断剤と少なくとも約０．５％、とりわけ約
０．５から約４．５重量％のα−シアノ−β，β−ジフ
ェニルアクリレート（Ｉ）型安定剤、そして任意に少な
くとも１種のＵＶ−Ｂフィルターを含み、ジベンゾイル
メタンの量が１％以上である場合には、アクリレート対
ジベンゾイルメタン誘導体のモル比が０．８未満である
組成物に関する。
【０００３】化合物Ｉはそれ自体主として紅斑領域（２
９０−３２０nm）のＵＶ放射線の吸収に有効ではある
が、それらの本発明の機能は上記ＵＶ−Ａフィルターを
光に対して安定化することである。
９０−３２０nm）のＵＶ放射線の吸収に有効ではある
が、それらの本発明の機能は上記ＵＶ−Ａフィルターを
光に対して安定化することである。
【０００４】
【発明の実施の形態】新規コンビネーションのＵＶ−Ａ
光線遮断剤に関する限り、特に適当な化合物は、例えば
ＵＳＰ第４，３８７，０８９号明細書あるいはＣＨ−Ｐ
ａｔｅｎｔ第６４２，５３６号明細書に開示されている
ように、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベン
ゾイルメタンである。
光線遮断剤に関する限り、特に適当な化合物は、例えば
ＵＳＰ第４，３８７，０８９号明細書あるいはＣＨ−Ｐ
ａｔｅｎｔ第６４２，５３６号明細書に開示されている
ように、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベン
ゾイルメタンである。
【０００５】この特別な型の他の適当な化合物は、２−
メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメ
タン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジ
ベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタ
ン、４，４′−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、２
−メチル−５−イソプロピル−４′−メトキシジベンゾ
イルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４′
−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−
４′−メトキシジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメ
チル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾ
イルメタンである。
メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメ
タン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジ
ベンゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタ
ン、４，４′−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、２
−メチル−５−イソプロピル−４′−メトキシジベンゾ
イルメタン、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４′
−メトキシジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−
４′−メトキシジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメ
チル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾ
イルメタンである。
【０００６】適当な化合物Ｉの例は２−エチルヘキシル
−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートおよび
２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ートである。
−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートおよび
２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレ
ートである。
【０００７】式Ｉ化合物の機能は、上で指摘した通り、
含まれるＵＶ−Ａ遮断剤を光に対して安定化すること、
即ちＵＶ光線に対する長期にわたる曝露の間に一定した
保護を保証することである。このように、化粧品組成物
を種々な間隔で繰り返し適用することが要求される場合
には、それらの間隔をのばすことができる。
含まれるＵＶ−Ａ遮断剤を光に対して安定化すること、
即ちＵＶ光線に対する長期にわたる曝露の間に一定した
保護を保証することである。このように、化粧品組成物
を種々な間隔で繰り返し適用することが要求される場合
には、それらの間隔をのばすことができる。
【０００８】従って、本発明はジベンゾイルメタンＵＶ
−Ａ遮断剤を波長３２０から４００nmのＵＶ放射線に対
して安定化する方法にも関するもので、その特徴とする
ところは約０．１から５重量％のジベンゾイルメタンＵ
Ｖ−Ａ遮断剤へ約０．５から約４．５重量％の安定剤を
添加する点にある。
−Ａ遮断剤を波長３２０から４００nmのＵＶ放射線に対
して安定化する方法にも関するもので、その特徴とする
ところは約０．１から５重量％のジベンゾイルメタンＵ
Ｖ−Ａ遮断剤へ約０．５から約４．５重量％の安定剤を
添加する点にある。
【０００９】ＵＶ−Ａフィルターの材料の所望の安定化
は、適当に装置したキセノン灯を擬似太陽として使用す
る各ＵＶ−Ａフィルターと化合物Ｉとを厳密な並行実験
により容易に証明される。被検生成物の標準調製物、例
えば、好ましくは高沸点化粧品用溶媒、例えばデルチル
（イソプロピルミリステート）、に溶かした溶液をつく
り、得られた日光遮断剤をガラス板に塗りひろげて照射
する。照射後、ガラス板を適当な溶媒（例えばエタノー
ル）中に浸し、そのＵＶスペクトルを記録する。安定化
効果は照射前後のλmax における吸光度の差に直接相関
する。通常は、下に例示するようなＵＶ−Ａフィルター
と安定剤とのコンビネーションが評価に使用される。
は、適当に装置したキセノン灯を擬似太陽として使用す
る各ＵＶ−Ａフィルターと化合物Ｉとを厳密な並行実験
により容易に証明される。被検生成物の標準調製物、例
えば、好ましくは高沸点化粧品用溶媒、例えばデルチル
（イソプロピルミリステート）、に溶かした溶液をつく
り、得られた日光遮断剤をガラス板に塗りひろげて照射
する。照射後、ガラス板を適当な溶媒（例えばエタノー
ル）中に浸し、そのＵＶスペクトルを記録する。安定化
効果は照射前後のλmax における吸光度の差に直接相関
する。通常は、下に例示するようなＵＶ−Ａフィルター
と安定剤とのコンビネーションが評価に使用される。
【００１０】光線遮断剤の本発明コンビネーションの両
成分とも親油性である。従って、化粧品組成物は少なく
とも１種の脂肪相を含み、そのため組成物は乳濁系、ロ
ーションまたはゲルの形で提供されることになる。
成分とも親油性である。従って、化粧品組成物は少なく
とも１種の脂肪相を含み、そのため組成物は乳濁系、ロ
ーションまたはゲルの形で提供されることになる。
【００１１】本遮光性化粧品組成物はオイル、ローショ
ン、ゲル、固体スチック、乳濁系、例えばクリーム、乳
液あるいはイオン性または非イオン性両親媒性脂質の小
胞状分散系、エーロゾル、スプレー、フォーム、パウダ
ー、シャンプー、ヘアコンディショナーまたはラッカー
またはメーキャップなどの形態をとるのが適当である。
ン、ゲル、固体スチック、乳濁系、例えばクリーム、乳
液あるいはイオン性または非イオン性両親媒性脂質の小
胞状分散系、エーロゾル、スプレー、フォーム、パウダ
ー、シャンプー、ヘアコンディショナーまたはラッカー
またはメーキャップなどの形態をとるのが適当である。
【００１２】当業者にとって公知の通常の溶媒をこれら
の形態、例えばオイル、ワックス、アルコール、ポリオ
ールなどの調製に使用できる。特に適当な溶剤は脂肪酸
類、エステル類、脂肪アルコール類であるが、エタノー
ル、イソプロパノール、プロピレングリコール、グリセ
リンなどが好ましい。
の形態、例えばオイル、ワックス、アルコール、ポリオ
ールなどの調製に使用できる。特に適当な溶剤は脂肪酸
類、エステル類、脂肪アルコール類であるが、エタノー
ル、イソプロパノール、プロピレングリコール、グリセ
リンなどが好ましい。
【００１３】本化粧品組成物は更に補助剤、例えば更に
他の溶剤、シックナー、皮膚軟化剤、乳化剤、保湿剤、
テンサイド、防腐剤、泡止め剤、フラグランス、オイル
類、ワックス類、低級ポリオールおよび一価アルコー
ル、噴射剤、シリコーン、着色料および顔料などを含む
ことができる。
他の溶剤、シックナー、皮膚軟化剤、乳化剤、保湿剤、
テンサイド、防腐剤、泡止め剤、フラグランス、オイル
類、ワックス類、低級ポリオールおよび一価アルコー
ル、噴射剤、シリコーン、着色料および顔料などを含む
ことができる。
【００１４】更に単量体または重合体の（例えば、ポリ
シロキサン、例えばＥＰ第５３８４３１号明細書、ポリ
アクリレートなど）−ＵＶフィルター（複数のことがあ
る）も添加できる。これらは、組成物の所望の化学的お
よび物理的性質に従って、例えば所望の保護の程度、波
長、ε極大、溶解度、安定度、安全性に応じてリストか
ら選ぶのが便利である。例えばＳＯＦＷ Ｊｏｕｒｎａ
ｌ １２２、８（１９６６）５４３以下、Ｃｏｓｍｅｔ
ｉｃｓ ＆ Ｔｏｉｌｅｔｒｉｅｓ１０７（１９８２）
４５以下参照。
シロキサン、例えばＥＰ第５３８４３１号明細書、ポリ
アクリレートなど）−ＵＶフィルター（複数のことがあ
る）も添加できる。これらは、組成物の所望の化学的お
よび物理的性質に従って、例えば所望の保護の程度、波
長、ε極大、溶解度、安定度、安全性に応じてリストか
ら選ぶのが便利である。例えばＳＯＦＷ Ｊｏｕｒｎａ
ｌ １２２、８（１９６６）５４３以下、Ｃｏｓｍｅｔ
ｉｃｓ ＆ Ｔｏｉｌｅｔｒｉｅｓ１０７（１９８２）
４５以下参照。
【００１５】毛髪保護の場合に適当な組成物はシャンプ
ー、コンディショナー、ローション、ゲル、乳濁系、分
散系、ラッカーなどである。
ー、コンディショナー、ローション、ゲル、乳濁系、分
散系、ラッカーなどである。
【００１６】これら組成物すべての調製はこの分野の当
業者にとって周知である。
業者にとって周知である。
【００１７】尚一層適したＵＶ−Ｂフィルターとして、
微粒状顔料、例えば通常の金属酸化物のミクロ顔料を使
用できる。特に乳濁系の場合、このようなＵＶフィルタ
ーは当然水溶性誘導体でもよい。ＵＶ−Ｂフィルターの
適当な量は約１〜約１２％である。
微粒状顔料、例えば通常の金属酸化物のミクロ顔料を使
用できる。特に乳濁系の場合、このようなＵＶフィルタ
ーは当然水溶性誘導体でもよい。ＵＶ−Ｂフィルターの
適当な量は約１〜約１２％である。
【００１８】新規安定剤の最も重要な利点はその添加量
の少ないことに由来する（この添加量は使用されるＵＶ
−Ａフィルターの添加量より相当に少なくてよい）。従
って実際の使用者はＵＶ−Ｂ線の濾波に使われる材料に
関してはその選択に全く制限がない。
の少ないことに由来する（この添加量は使用されるＵＶ
−Ａフィルターの添加量より相当に少なくてよい）。従
って実際の使用者はＵＶ−Ｂ線の濾波に使われる材料に
関してはその選択に全く制限がない。
【００１９】この点に関して、本発明に係る新規安定化
はＥＰ第５１４，４９１Ｂ１号明細書に開示された特別
な安定化法より、また下記の理由のために勝れている。
はＥＰ第５１４，４９１Ｂ１号明細書に開示された特別
な安定化法より、また下記の理由のために勝れている。
【００２０】この公知の方法によれば、化合物Ｉ対ジベ
ンゾイルメタン比が強制的に０．８以上となっているの
で、いわゆる完全遮断を起こすＵＶ光線の全範囲に及ぶ
吸収を果す手段としてはその可能性を減じている。
ンゾイルメタン比が強制的に０．８以上となっているの
で、いわゆる完全遮断を起こすＵＶ光線の全範囲に及ぶ
吸収を果す手段としてはその可能性を減じている。
【００２１】ジベンゾイルメタン誘導体とアクリレート
の都合のよい組み合わせは次の通りである：
の都合のよい組み合わせは次の通りである：
【表１】
【００２２】
【実施例】 Ｏ／Ｗ日焼け止めローション１ ％ｗ／ｗ A) グリセリルモノミリステート ４．０ セチルアルコール １．０ ココ−カプリレート／カプレート １０．０ （ココナッツアルコールのエステルとｎ−オクタン酸と ｎ−デカン酸との混合物） （商品名ＣＥＴＩＯＬ ＬＣとしてＨｅｎｋｅｌにより販売） ブチルメトキシジベンゾイルメタン １．０ （１〔４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル〕 −３−（４−メトキシフェニル）−１，３−プロパンジオン （商品名ＰＡＲＳＯＬ １７８９としてＧＩＶＡＵＤＡＮ− ＲＯＵＲＥ Ｓ．Ａ．により販売） オクトクリレン ０．９ （２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル アクリレート、商品名ＵＶＩＮＵＬ Ｎ−５３９として ＢＡＳＦにより販売） フェノキシエタノール中パラベンの混合物 ０．６ リン酸セチルカリウム ２．０ （ヘキサデシルホスフェートのカリウム塩） （商品名ＡＭＰＨＩＳＯＬ ＫとしてＧｉｖａｕｄａｎ− Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により販売） ＥＤＴＡ Ｎａ２ ０．１ B) 脱イオン水 ６４．９５ カルボマー １０．０ （水中１％分散液、ショ糖のアリルエーテルで橋かけ 結合されたアクリル酸ホモポリマー） （商品名Ｃａｒｂｏｐｏｌ ９８０として Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈにより販売） プロピレングリコール ５．０ C) 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．４５ １００．００
【００２３】 Ｏ／Ｗ日焼け止めローション２ ％ｗ／ｗ A) グリセリルモノミリステート ４．０ セチルアルコール １．０ ココ−カプリレート／カプレート １０．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２．０ オクトクリレン １．５ フェノキシエタノール中パラベンの混合物 ０．６ リン酸セチルカリウム ２．０ （ヘキサデシルホスフェートのカリウム塩） ＥＤＴＡ Ｎａ２ ０．１ B) 脱イオン水 ６３．３５ カルボマー １０．０ （水中１％分散液、ショ糖のアリルエーテルで橋かけ 結合されたアクリル酸のホモポリマー） プロピレングリコール ５．０ C) 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．４５ １００．００ Ｏ／Ｗ日焼け止めローション３ ％ｗ／ｗ A) グリセリルモノミリステート ４．０ セチルアルコール １．０ ココ−カプリレート／カプレート １０．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ３．０ オクトクリレン ２．５ フェノキシエタノール中パラベンの混合物 ０．６ リン酸セチルカリウム ２．０ （ヘキサデシルホスフェートのカリウム塩） ＥＤＴＡ Ｎａ２ ０．１ B) 脱イオン水 ６１．３５ カルボマー １０．０ （水中１％分散液、ショ糖のアリルエーテルで橋かけ 結合されたアクリル酸のホモポリマー） プロピレングリコール ５．０ C) 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．４５ １００．００
Claims (10)
- 【請求項１】 少なくとも１種の脂肪相を含有する美容
上容認しうるビヒクル中に、約０．１から約５％、とり
わけ約１から約３重量％のジベンゾイルメタン型ＵＶ−
Ａ遮断剤と、少なくとも約０．５％、とりわけ約０．５
から約４．５重量％のα−シアノ−β，β−ジフェニル
アクリレート安定剤、および任意に少なくとも１種の通
常のＵＶ−Ｂフィルターを含み、ジベンゾイルメタンの
量が１％以上の場合には、アクリレート対ジベンゾイル
メタン誘導体のモル比が０．８未満である、光に対して
安定な遮光性化粧品組成物。 - 【請求項２】 安定剤が２−エチルヘキシル−２−シア
ノ−３，３−ジフェニル−アクリレート（好ましい）ま
たはエチル−２−シアノ−３，３−ジフェニル−アクリ
レートである、請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 ジベンゾイルメタン誘導体が下記化合
物、即ち２−メチルジベンゾイルメタン、４−メチル−
ジベンゾイル−メタン、４−イソプロピルジベンゾイル
メタン、４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、
２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、２，５−ジメチ
ルジベンゾイルメタン、４，４′−ジイソプロピルジベ
ンゾイルメタン、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキ
シジベンゾイルメタン、２−メチル−５−イソプロピル
−４′−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５
−ｔｅｒｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタ
ン、２，４−ジメチル−４′−メトキシジベンゾイルメ
タンおよび２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−
４′−メトキシジベンゾイルメタンから選ばれる、請求
項１または請求項２記載の組成物。 - 【請求項４】 ジベンゾイルメタン誘導体が４−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンであ
る、前記請求項１〜３のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項５】 組成物がオイル、ローション、ゲル、固
体スチック、乳濁系、例えばクリーム、乳液あるいはイ
オン性または非イオン性両親媒性脂質の小胞状分散系、
エーロゾル、スプレー、フォーム、パウダー、シャンプ
ー、ヘアコンディショナーあるいはラッカーあるいはメ
ーキャップの形をとる、前記請求項１〜４のいずれか１
項に記載の組成物。 - 【請求項６】 組成物が溶媒、シックナー、皮膚軟化
剤、乳化剤、保湿剤、テンサイド、防腐剤、泡止め剤、
フラグランス、オイル類、ワックス類、低級ポリオール
および一価アルコール類、噴射剤、シリコーン、着色料
および顔料から選ばれる化粧品補助剤を更に含む、前記
請求項１〜５のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項７】 ＵＶ−Ａフィルターが約０．１〜約５％
の量で存在し、安定剤が約０．５から約４．５％の量で
存在し、ＵＶ−Ｂフィルターが約１〜約１２％の量で存
在する、前記請求項１〜６のいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項８】 α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリ
レートを、請求項３記載のジベンゾイルメタン誘導体に
対する安定剤として使用する方法。 - 【請求項９】 ヒトの表皮または毛髪を、２９０から４
００nmの波長のＵＶ放射線の損傷作用から保護する方法
において、皮膚または毛髪へ上に定義された有効量の遮
光性化粧品組成物を適用することからなる上記方法。 - 【請求項１０】 ジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮断剤を
３２０から４００nmの波長のＵＶ放射線に対して安定化
する方法において、約０．１から約５重量％のジベンゾ
イルメタンＵＶ−Ａ光線遮断剤へ約０．５から約４．５
重量％の請求項１に定義されたアクリレート安定剤を添
加し、そしてジベンゾイルメタンの量が１％以上である
場合には、アクリレート対ジベンゾイルメタン誘導体の
モル比を０．８未満とする上記方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP95120006 | 1995-12-18 | ||
| AT951200062 | 1996-10-08 | ||
| EP96116083 | 1996-10-08 | ||
| AT961160835 | 1996-10-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09175974A true JPH09175974A (ja) | 1997-07-08 |
Family
ID=26138978
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8337131A Pending JPH09175974A (ja) | 1995-12-18 | 1996-12-17 | 光に対して安定な遮光性化粧品組成物 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6033649A (ja) |
| EP (1) | EP0780119B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09175974A (ja) |
| AT (1) | ATE215354T1 (ja) |
| AU (1) | AU719298B2 (ja) |
| DE (1) | DE69620364T2 (ja) |
| DK (1) | DK0780119T3 (ja) |
| ES (1) | ES2173242T3 (ja) |
| IL (1) | IL119814A (ja) |
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