JP3607864B2 - 不溶性有機遮蔽剤によるジベンゾイルメタン誘導体サンスクリーン剤の光安定化法 - Google Patents

不溶性有機遮蔽剤によるジベンゾイルメタン誘導体サンスクリーン剤の光安定化法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、平均粒子径が0.01〜2μmである微粒化された形態で不溶性の有機遮蔽剤の少なくとも1つを有効量とジベンゾイルメタン誘導体を少なくとも1つ組合せてなる、該ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する方法に関する。
また本発明は、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善するための、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚病用組成物の調製における、有効量の微粒化された形態で、平均粒子径が0.01〜2μmである不溶性の有機遮蔽剤の用途に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
280nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特にUV−B線として知られている280nmと320nmの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並びに美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色を調節する手段が変わらず必要とされている。よって、UV−B線は遮蔽するべきである。
【0003】
また、皮膚をサンタン状態にする320nmと400nmの間の波長を有するUV−A線が皮膚に好ましくない変化を誘発する傾向にあり、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。UV−A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV−A線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮膚本来の弾力性を保持するという美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV−A線の影響を調節することを望んでいる。よって、UV−A線も遮蔽することが望ましい。
【0004】
この件に関し、特に有利なUV−A遮蔽剤の種類に、ジベンゾイルメタン誘導体、特に、本質的に高吸収力を有する、4−(tert−ブチル)−4−’メトキシジベンゾイルメタンからなるものがある。それ自体、UV−A領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている生成物であるこれらジベンゾイルメタン誘導体は、特に、仏国特許出願公開第2326405号及び仏国特許出願公開第2440933号、並びに欧州特許出願公開第0114607号に記載されており;さらに、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンは、一般に、ホフマン・ラロッシェ社(Hoffmann Laroche)から「パルソール(Parsol)1789」の商標名で販売されている。
【0005】
残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特に、UV−A線)に比較的敏感であり、すなわち厳密には、紫外線の作用下で、比較的素早く分解するという好ましくない傾向を有する生成物である。ジベンゾイルメタン誘導体は、それらが自然に受けるであろう紫外線に対する光化学的安定性が本質的に欠乏しているため、太陽にさらされている長い間、一定の保護性を保証することは不可能であり、よって、使用者は、UV線(紫外線)に対し皮膚を有効に保護するためには、規則的にまた頻繁に繰り返し適用しなければならないものであった。現時点時おいても、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する光安定性の問題は、全く満足のいく程には解決されていない。
【0006】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
実際、本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタン誘導体と有効量の微粒化された形態である不溶性の有機UV組合せることにより、これら同様のジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性(すなわち光安定性)が、実質的かつ顕著に改善されることを見出した。
【0007】
よって、本発明の主題事項の一つは、ジベンゾイルメタン誘導体と、微粒化された形態である不溶性の有機UV遮蔽剤を有効量組合せてなることを特徴とする、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線(280nm〜400nmの波長)、特に太陽光線に対する新規の安定化方法を提供するものである。
【0008】
「不溶性の有機UV遮蔽剤」という用語は、本発明の範囲内では25℃の水に対して0.1重量%未満の溶解度、及び25℃の流動パラフィンに対して1重量%未満の溶解度しか有さない有機UV遮蔽剤を示すものと理解される。
本発明における「不溶性有機UV遮蔽剤の有効量」という用語は、光保護用の化粧品用組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体又は誘導体類の光安定性を有意かつ顕著に改善するのに十分な量であることを示すものと理解される。使用される光安定剤の最小量は、組成物用として使用される化粧品的に許容可能なビヒクルの種類により変わるが、以下の実施例に記載しているような光安定性を測定するための従来からのテストにより、何ら困難なことなく決定することができる。
【0009】
最後に、本発明の他の主題事項は、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する目的のための、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用又は皮膚病用組成物の調製における、不溶性の有機UV遮蔽剤の用途にある。
【0010】
本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下の詳細な記述を読むことにより明らかになるであろう。
【0011】
本発明の不溶性有機遮蔽剤は、不溶性の微粒化された形態で提供され;その平均粒子径は0.01〜2μm、好ましくは0.03〜1.0μmの間で変わる。それらは、任意の適切な手段、例えば乾燥粉砕又は溶剤媒質中での粉砕、篩い分け、アトマイズ法、微粉化(micronizing)又は噴霧法により所望の粒子形態にすることができる。
【0012】
本発明の微粒化された形態の不溶性有機遮蔽剤は、化粧品用組成物において得られる粒子の分散性を改善することのできる適切な界面活性剤の存在下で、粗粒子形態の不溶性有機UV遮蔽剤を粉砕するプロセスにより、特に得ることができる。
不溶性有機遮蔽剤の微粒化のためのプロセスの例は、特に本発明の記載の主要部分を形成する英国特許出願公開第2303549号及び欧州特許出願公開第893119号に記載されている。これらの公報で使用されている粉砕器はエアジェットミル、ビードミル(bead mill)、振動型ミル又はハンマーミル、好ましくは高速攪拌型ミル又はインパクトミル、特にロータリービードミル、振動型ミル、チューブミル又はロッドミルであり得る。
【0013】
この特定のプロセスにおける前記遮蔽剤の粉砕用の界面活性剤として、nが8〜16の整数であり、xが(C10)単位の平均重合度を表し、これが1.4〜1.6の間で変化するC2n+1O(C10H構造を有するアルキルポリグルコシド類が使用される。それらは、C2n+1O(C10H構造を有する化合物のC−C12エステル類、特にグルコシド単位(C10)において、一又は複数の遊離のOH官能基と、酒石酸、クエン酸、スルホスクシン酸、酪酸、プロピオン酸、酢酸、ギ酸等のC1−C12カルボン酸とを反応させることにより得られるエステルから選択することができる。前記界面活性剤は、微粒化された形態の不溶性遮蔽剤に対し1〜50重量%、好ましくは5〜40重量%の範囲の濃度で一般的に使用される。
【0014】
上述したように、本発明において光安定化されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許公開第2326405号、仏国特許公開第2440933号及び欧州特許公開第0114607号公報に開示されており、これらの生成物の実際の定義に影響を及ぼす事に関し、該公報の教示は参照として本発明に全て含まれる。
【0015】
もちろん本発明において、一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。
本発明の範囲で特に良好なジベンゾイルメタン誘導体としては、限定するものではないが、特に:
− 2−メチルジベンゾイルメタン、
− 4−メチルジベンゾイルメタン、
− 4−イソプロピルジベンゾイルメタン、
− 4−tert−ブチルジベンゾイルメタン、
− 2,4−ジメチルジベンゾイルメタン、
− 2,5−ジメチルジベンゾイルメタン、
− 4,4’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
− 4,4’−ジメトキシジベンゾイルメタン、
− 4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、
− 2−メチル−5−イソプロピル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、
− 2−メチル−5−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、
− 2,4−ジメチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、
− 2,6−ジメチル−4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタン、
を挙げることができる。
【0016】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、本発明においては、特に、ジホーダン社(Givaudan)から「パルソール1789」の商標名で販売されている、4−(tert−ブチル)−4’−メトキシジベンゾイルメタンが最も好ましく使用され、例えばこの遮蔽剤は次の式:
【化11】
Figure 0003607864
に相当するものである。
【0017】
本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、4−イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の商標名で販売されており、次の式:
【化12】
Figure 0003607864
に相当するものである。
【0018】
ジベンゾイルメタン誘導体又は誘導体類は、本発明の組成物、すなわち本発明の方法によって安定化されることを意図した組成物中に、一般的に、組成物の全重量に対して0.01〜10重量%、好ましくは0.3〜5重量%の含有量で存在し得る。
【0019】
本発明の不溶性有機UV遮蔽剤は、特にオキサニリド型、トリアジン型、トリアゾール型、ビニルアミド型又はシンナミド型の有機UV遮蔽剤から選択することができる。
【0020】
本発明のオキサニリド型のUV遮蔽剤としては、次の構造:
【化13】
Figure 0003607864
[上式中、T、T’、T及びT’は同一でも異なっていてもよく、C−Cアルキル基又はC−Cアルコキシ基を示す]
に相当するものを挙げることができる。これらの化合物は国際公開第95/22959号に開示されている。
【0021】
例として、それぞれ次の構造:
【化14】
Figure 0003607864
を有し、チバ−ガイギー社(Ciba−Geigy)から販売されている市販品のチヌビン(Tinuvin)315及びチヌビン312を挙げることができる。
【0022】
また、本発明のトリアジン型のUV遮蔽剤としては、ベンザルマロナート及び/又はフェニルシアノアクリラート基を担持する不溶性のs−トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願公開第0790243号(記載内容の主要部分を形成)に開示されているものを挙げることができる。
これらトリアジン型のUV遮蔽剤として、特に次の化合物:
− 2,4,6−トリス(ジエチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス(ジイソプロピル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス(ジメチル−4’−アミノベンザルマロナート)−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス(エチル−α−シアノ−4−アミノシンナマート)−s−トリアジン、
を挙げることができる。
【0023】
さらに、本発明のトリアジン型のUV遮蔽剤としては、次の式(2):
【化15】
Figure 0003607864
[上式中、R、R及びRは独立して、フェニル、フェノキシ又はピロロ基であり、これらフェニル、フェノキシ又はピロロ基は、RがC−C18アルキル又はシンナミルのいずれかであり、nが0又は1である−(CH=CH)(CO)−OR基、OH、C−C18アルキル又はアルコキシ、C−C18カルボキシアルキル、C−Cシアノアルキル、メチリデンショウノウ基、又はから選択される、一、二又は三の置換基で置換されていてもよい]
に相当するものを挙げることができる。
これらの化合物は、国際公開第97/03642号、英国特許第2286774号、欧州特許第743309号、国際公開第98/22447号及び英国特許第2319523号(記載内容の主要部分を形成)に開示されている。
【0024】
またさらに、本発明のトリアジン型のUV遮蔽剤としては、ベンゾトリアゾール及び/又はベンゾチアゾール基を担持する不溶性のs−トリアジン誘導体、例えば国際公開第98/25922号(記載内容の主要部分を形成)に開示されているものを挙げることができる。
これらの化合物として、特に:
− 2,4,6−トリス[(3’−ベンゾトリアゾール−2−イル−2’−ヒドロキシ−5’−メチル)フェニルアミノ]−s−トリアジン、
− 2,4,6−トリス[(3’−ベンゾトリアゾール−2−イル−2’−ヒドロキシ−5’−tert−オクチル)フェニルアミノ]−s−トリアジン、
を挙げることができる。
【0025】
本発明のトリアゾール型の有機UV遮蔽剤としては、国際公開第95/22959号(記載内容の主要部分を形成)に開示されているような、次の式(3):
【化16】
Figure 0003607864
[上式中、Tは水素原子又はC−C18アルキル基を示し、T及びTは同一でも異なっていてもよく、フェニルで置換されていてもよいC−C18アルキル基を示す]
のものを挙げることができる。
【0026】
式(3)の化合物の例としては、次の構造:
【化17】
Figure 0003607864
のチバ−ガイギー社の市販品であるチヌビン328、320、234及び350を挙げることができる。
【0027】
本発明のトリアゾール型の有機UV遮蔽剤としては、米国特許第5687521号、米国特許第5687521号、米国特許第5373037号及び米国特許第5362881号に開示されている化合物、特に、次の構造:
【化18】
Figure 0003607864
を有し、フェアマウント・ケミカル社(Fairmount Chemical)からミキシム(Mixxim)PB30の名称で販売されている、[2,4’−ジヒドロキシ−3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−2’−n−オクトキシ−5’−ベンゾイル]ジフェニルメタンを挙げることができる。
【0028】
本発明のベンゾトリアゾール型の有機UV遮蔽剤としては、次の構造:
【化19】
Figure 0003607864
[上式中、T及びT基は同一でも異なっていてもよく、C−Cアルキル、C−C12シクロアルキル又はアリール残基から選択される一又は複数の基で置換可能なC−C18アルキル基を示す]
を有するメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体を挙げることができる。これらの化合物はそれ自体公知であり、米国特許第5237071号、米国特許第5166355号、英国特許公開第2303549号、独国特許第19726184号及び欧州特許公開第893119号(本記載の主要部分を形成)に開示されている。
上述した式(4)において、C−C18アルキル基は直鎖状又は分枝状であってよく、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、tert−ブチル、tert−オクチル、n−アミル、n−ヘキシル、n−ヘプチル、n−オクチル、イソオクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、n−ドデシル、テトラデシル、ヘキシデシル又はオクタデシルであり、C−C12シクロアルキル基は、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル又はシクロオクチルであり、アリール基は、例えばフェニル又はベンジルである。
【0029】
次の式(4)の化合物として、特に次の構造:
【化20】
Figure 0003607864
Figure 0003607864
を有するものが好ましい。
2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]と命名された化合物(a)は、チバ−ガイギー社からチノソーブ(Tinosorb)Mの名称で微粒化された形態で、またフェアマウント・ケミカル社からミキシムBB/100の名称で販売されている。
2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(メチル)フェノール]と命名された化合物(c)は、フェアマウント・ケミカル社からミキシムBB/200の名称で販売されている。
【0030】
ビニルアミド型の不溶性有機遮蔽剤としては、例えば国際公開第95/22959号(記載内容の主要部分を形成する)に開示されている、次の式:
【化21】
Figure 0003607864
[上式中、TはC−C18、好ましくはC−Cアルキル基又はフェニル基で、OH、C−C18アルキル、C−Cアルコキシ、又はT13がC−C18アルキルである−C(=O)−OT13基から選択される、一、二又は三の基で置換されていてもよいものであり;
、T10、T11及びT12は同一でも異なっていてもよく、C−C18アルキル、好ましくはC−Cアルキル基、又は水素原子を示し;
YはN又はOであり、rは0又は1の値である]
の化合物を挙げることができる。
これらの化合物としては、特に:
− 4−オクチルアミノ−3−ペンテン−2−オン;
− 3−オクチルアミノ−2−ブテン酸エチル;
− 3−オクチルアミノ−1−フェニル−2−ブテン−1−オン;
− 3−ドデシルアミノ−1−フェニル−2−ブテン−1−オン;
を挙げることができる。
【0031】
また、本発明のシンナミド型の有機遮蔽剤としては、次の構造:
【化22】
Figure 0003607864
[上式中、OT14はヒドロキシル又はC−Cアルコキシ、好ましくはメトキシ又はエトキシ基であり;T15は水素又はC−Cアルキル、好ましくはメチル又はエチルであり;T16は、フェニル基がOH、C−C18アルキル、C−Cアルコキシ、又はT17がC−C18アルキルである、さらに好ましくはT17がフェニル、4−メトキシフェニル又はフェニルアミノカルボニル基である−C(=O)−OT17基から選択される、一、二又は三の基で置換されていてもよく、sが0又は1の値を有する−(CONH)s−フェニル基である]
に相当し、国際公開第95/22959号(記載内容の主要部分を形成する)に開示されている化合物を挙げることができる。
【0032】
さらに、シンナミドダイマーとしては、米国特許第5888481号に開示しされているもの、例えば、次の構造:
【化23】
Figure 0003607864
の化合物を挙げることができる。
【0033】
本発明の不溶性有機遮蔽剤の他の特定のファミリーは、スルホン酸又はカルボン酸有機遮蔽剤の多価金属塩類(例えば、Ca2+、Zn2+、Mg2+、Ba2+、Al3+又はZr4+)、例えば仏国特許出願公開第2639347号に開示されているもののような、スルホン化ベンジリデンショウノウ誘導体の多価金属塩類;欧州特許出願公開第893119号に開示されているもののような、スルホン化ベンゾイミダゾール誘導体の多価金属塩類;又は日本国特許出願第87−166517号に開示されているもののようなケイ皮酸誘導体の多価金属塩類である。
またさらに、国際公開第93/10753号、国際公開第93/11095号及び国際公開第95/05150号に開示されているような、有機UV−A及び/又はUV−B遮蔽剤の金属又はアンモニウム又は置換したアンモニウム複合体を挙げることもできる。
【0034】
本発明の微粒化された不溶性有機遮蔽剤は、組成物の全重量に対して約0.1〜15重量%、好ましくは0.2〜10重量%の全濃度で本発明の遮蔽用組成物中に一般的に存在する。
【0035】
本発明の他の主題事項は、上述した少なくとも1つのエマルションを含有することを特徴とする化粧品用又は皮膚病用組成物にある。
【0036】
もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物は、一又は複数の付加的なUV−A及び/又はUV−Bに活性のある脂溶性又は水溶性の有機遮蔽剤(遮蔽剤)(吸収剤)を含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、トリアジン誘導体、例えば米国特許第4367390号、欧州特許出願第863145号、欧州特許出願第517014号、欧州特許出願第570838号、欧州特許出願第796851号、欧州特許出願第775698号、欧州特許出願第878469号及び欧州特許出願第933376号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘導体、β,β’−ジフェニルアクリラート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ビスベンゾアゾリル誘導体、例えば欧州特許公開第0669323号及び米国特許第2463264号に開示されているもの、p−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、特に国際公開第93/04665号に開示されているものから選択することができる。
【0037】
UV−A及び/又はUV−B領域に活性のある付加的な脂溶性又は水溶性のサンスクリーン剤(遮蔽剤)の例としては:
p−アミノ安息香酸、
オキシエチレン化(25モル)されたp−アミノベンゾアート、
2−エチルヘキシル−p−ジメチルアミノベンゾアート、
N−オキシプロピレン化されたp−アミノ安息香酸エチル、
グリセロール−p−アミノベンゾアート、
ホモメンチルサリチラート、
2−エチルヘキシルサリチラート、
トリエタノールアミンサリチラート、
4−イソプロピルベンジルサリチラート、
アントラニル酸メンチル、
2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリラート、
2−シアノ−3,3’−ジフェニルアクリル酸エチル、
2−フェニルベンゾイミダゾール−5−スルホン酸及びその塩類、
3−(4’−トリメチルアンモニウム)ベンジリデンボルナン−2−オン−メチルスルファート、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホナート、
2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、
2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−(n−オクトキシ)ベンゾフェノン、
2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン、
α−(2−オキソボルン−3−イリデン)トルエン−4−スルホン酸及びその塩類、
3−(4’−スルホベンジリデン)ボルナン−2−オン及びその塩類、
3−(4’−メチルベンジリデン)−d,1−ショウノウ、
3−ベンジリデン−d,1−ショウノウ、
ベンゼン−1,4−ジ(3−メチリデン−10−ショウノウスルホン酸)及びその塩類、
ウロカニン酸、
2,4−ビス{[4−(2−エチルヘキシルオキシ)−2−ヒドロキシ]フェニル}−6−{4−メトキシフェニル}−1,3,5−トリアジン、
N−[(2−及び4−)[(2−オキソボロン−3−イリデン)メチル]ベンジル]アクリルアミドのポリマー、
1,4−ビスベンゾイミダゾリルフェニレン−3,3’,5,5’−テトラスルホン酸及びその塩類、
ベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類、
ベンゾトリアゾール官能基を有するポリオルガノシロキサン類、例えばドロメトリゾール−トリシロキサン(Drometrizole Trisiloxane)、
を挙げることができる。
【0038】
また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(DHA)をさらに含有してもよい。
【0039】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆された、又はされていない、金属酸化物から形成される顔料又はナノ顔料類(一次粒子の平均粒径:一般的に、5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例えば、それ自体、UV光保護剤としてよく知られている、酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び/又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウムは従来のコーティング剤である。このような、被覆された、又は被覆されていない、金属酸化物のナノ顔料類としては、特に、欧州特許出願公開第0518772号及び欧州特許出願公開第0518773号に開示されているものがある。
【0040】
また、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、ポリマー類、フィラー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【0041】
脂肪物質類は油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、ポリオレフィン類、又はフッ化及び過フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウは、それ自体公知である、動物性、化石、植物性、鉱物性又は合成ロウから選択することができる。
【0042】
有機溶媒としては、低級アルコール類及びポリオール類を挙げることができる。
【0043】
増粘剤は、特に、変性又は未変性のグアールガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化グアールガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチルセルロースから選択することができる。
【0044】
もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽剤の2つの組合せに固有の有利な特性、特に光保護レベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な化合物及び/又はそれらの量を選択するであろう。
【0045】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製を意図した技術により調製することができる。
【0046】
この組成物は、特に単一又は複合エマルション(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもでき、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム又はスプレーの形態で提供することもできる。
【0047】
エマルションに関連したものである場合、このエマルションの水相は、公知の方法[バングハム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J.Mol.Biol.13,238(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国特許第2416008号]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【0048】
本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として使用することができる。
【0049】
本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、棒状体、パウダー、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で提供することができる。
【0050】
本発明の化粧品用組成物が、UV線から毛髪の保護するために使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態として提供することができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローションもしくはスタイリング又はトリートメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することもできる。
【0051】
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメークアップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液として提供することができる。
【0052】
指針として、水中油型エマルション型のビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して0.5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0053】
本記載の最初に示したように、本発明の他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響からそれらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方法にある。
【0054】
【実施例】
次の実施例は本発明を例証するものであって限定するものではない。次の組成物A、B、C及びDを調製した(量は組成物の全重量に対する重量%で表す)。
【表1】
Figure 0003607864
【0055】
【表2】
Figure 0003607864
これらの各組成物における、UV線照射後の残留4−tert−ブチル−4’−メトキシジベンゾイルメタンのパーセンテージ、及び残留2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェノール]のパーセンテージを次のプロトコールにより測定した:
各々の組成物について、3つの対照用サンプルと3つのテスト用サンプルとを調製した。2mg/cmの組成物を、ポリ(メタクリル酸メチル)プラーク上に、スパチェラで配した。ついでテスト用プラークを、UV−Aフラックスとして3.02x10−3W/cm、及びUV−Bフラックスとして2.05x10−4W/cmのキセノンランプを具備するヘレウスサンテスト(Suntest Heraeus)において、1時間39分間暴露し、対照用プラークを同じ温度(35〜40℃)で同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わりに、各々のプレートを50gのテトラヒドロフランに浸し、確実に良好に抽出するために、15分間超音波で処理して遮蔽剤を抽出した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーで分析した。各々のテスト用組成物において、暴露後の残留ジベンゾイルメタン量を、非暴露サンプルの濃度に対する暴露サンプルの濃度の比で示した。
【0056】
得られた結果を次の表にまとめる。
【表3】
Figure 0003607864
不溶性有機UV遮蔽剤により、UV線に対するジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を改善可能であることが見出された。

Claims (31)

  1. ジベンゾイルメタン誘導体に、25℃の水に対して0.1重量%未満の溶解度、及び25℃の流動パラフィンに対して1重量%未満の溶解度を有する、平均粒子径が0.01〜2μmの範囲にある微粒化された少なくとも1つの不溶性有機UV遮蔽剤を有効量組合せることからなることを特徴とする、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する方法。
  2. 平均粒子径が0.02〜1.5μmであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 平均粒子径が0.03〜1.0μmであることを特徴とする請求項2に記載の方法。
  4. 微粒化された形態の不溶性UV遮蔽剤が、界面活性剤の存在下で、粗粒子形態の不溶性有機遮蔽剤を粉砕するプロセスにより得ることができるものであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 界面活性剤が、nが8〜16の整数であり、xが(C10)単位の平均重合度を表し、1.4〜1.6の間で変化するC2n+1O(C10)H構造を有するアルキルポリグルコシド類から選択されることを特徴とする請求項4に記載の方法。
  6. 界面活性剤は、微粒化された形態の不溶性有機UV遮蔽剤に対して1〜50重量%の範囲の濃度で使用されることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の方法。
  7. ジベンゾイルメタン誘導体が:
    − 2-メチルジベンゾイルメタン、
    − 4-メチルジベンゾイルメタン、
    − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
    − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
    − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
    − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
    − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
    − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
    − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    から選択されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の方法。
  8. ジベンゾイルメタン誘導体が、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項7に記載の方法。
  9. ジベンゾイルメタン誘導体が、4-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項7に記載の方法。
  10. 微粒化された形態の不溶性有機UV遮蔽剤が、オキサニリド型、トリアジン型、トリアゾール型、ビニルアミド型又はシンナミド型の有機UV遮蔽剤から選択されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。
  11. オキサニリド型のUV遮蔽剤が、次の構造:
    Figure 0003607864
    [上式中、T、T'、T及びT'は同一でも異なっていてもよく、C-Cアルキル基又はC-Cアルコキシ基を示す]
    に相当するものであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  12. トリアジン型のUV遮蔽剤が、ベンザルマロナート及び/又はフェニルシアノアクリラート基を担持する不溶性のs-トリアジン誘導体から選択されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  13. トリアジン型のUV遮蔽剤が、次の化合物:
    − 2,4,6-トリス(ジエチル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン、
    − 2,4,6-トリス(ジイソプロピル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン、
    − 2,4,6-トリス(ジメチル-4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン、
    − 2,4,6-トリス(エチル-α-シアノ-4-アミノシンナマート)-s-トリアジン、
    から選択されることを特徴とする請求項12に記載の方法。
  14. トリアジン型の不溶性UV遮蔽剤が、次の式:
    Figure 0003607864
    [上式中、R、R及びRは独立して、RがC-C18アルキル又はシンナミルのいずれかであり、nが0又は1である-(CH=CH)(CO)-OR基、OH、C-C18アルキル又はアルコキシ、C-C18カルボキシアルキル、C-Cシクロアルキル、メチリデンショウノウ基から選択される、一、二又は三の置換基で置換されていてもよいフェニル、フェノキシ又はピロロ基である]
    のものから選択されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  15. トリアジン型のUV遮蔽剤が、ベンゾトリアゾール及び/又はベンゾチアゾール基を担持する不溶性のs-トリアジン誘導体から選択されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  16. トリアジン型のUV遮蔽剤が:
    − 2,4,6-トリス[(3'-ベンゾトリアゾール-2-イル-2'-ヒドロキシ-5'-メチル)フェニルアミノ]-s-トリアジン、
    − 2,4,6-トリス[(3'-ベンゾトリアゾール-2-イル-2'-ヒドロキシ-5'-tert-オクチル)フェニルアミノ]-s-トリアジン、
    から選択されることを特徴とする請求項15に記載の方法。
  17. トリアゾール型の有機UV遮蔽剤が、次の式(3):
    Figure 0003607864
    [上式中、Tは水素原子又はC-C18アルキル基を示し、T及びTは同一でも異なっていてもよく、フェニルで置換されていてもよいC-C18アルキル基を示す]
    に相当するのものであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  18. 式(3)の化合物が次の化合物:
    Figure 0003607864
    Figure 0003607864
    Figure 0003607864
    Figure 0003607864
    から選択されることを特徴とする請求項17に記載の方法。
  19. 不溶性有機UV遮蔽剤が、次の構造:
    Figure 0003607864
    を有する[2,4'-ジヒドロキシ-3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-5-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-2'-n-オクトキシ-5'-ベンゾイル]ジフェニルメタンであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  20. トリアゾール型の有機UV遮蔽剤が、次の構造:
    Figure 0003607864
    [上式中、T及びT基は同一でも異なっていてもよく、C-Cアルキル、C-C12シクロアルキル又はアリール残基から選択される一又は複数の基で置換可能なC-C18アルキル基を示す]
    を有するメチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体から選択されることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  21. 式(4)の化合物が、次の構造:
    Figure 0003607864
    Figure 0003607864
    Figure 0003607864
    を有する化合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項20に記載の方法。
  22. ビニルアミド型の有機遮蔽剤が、次の式:
    Figure 0003607864
    [上式中、TはC-C18、好ましくはC-Cアルキル基又はフェニル基で、OH、C-C18アルキル、C-Cアルコキシ、又はT13がC-C18アルキルである-C(=O)-OT13基から選択される、一、二又は三の基で置換されていてもよいものであり;
    、T10、T11及びT12は同一でも異なっていてもよく、C-C18、好ましくはC-Cアルキル基、又は水素原子を示し;
    YはN又はOであり、rは0又は1の値である]
    に相当するものであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  23. 式(5)の化合物が:
    − 4-オクチルアミノ-3-ペンテン-2-オン;
    − 3-オクチルアミノ-2-ブテン酸エチル;
    − 3-オクチルアミノ-1-フェニル-2-ブテン-1-オン;
    − 3-ドデシルアミノ-1-フェニル-2-ブテン-1-オン;
    から選択されることを特徴とする請求項22に記載の方法。
  24. シンナマミド型の有機遮蔽剤が、次の式:
    Figure 0003607864
    [上式中、OT14はヒドロキシル又はC-Cアルコキシ、好ましくはメトキシ又はエトキシ基であり;T15は水素又はC-Cアルキル、好ましくはメチル又はエチルであり;T16は-(CONH)s-フェニル基であり、ここでsは0又は1の値であり、フェニル基は、OH、C-C18アルキル、C-Cアルコキシ、又はT17がC-C18アルキルであって、さらに好ましくはT17がフェニル、4-メトキシフェニル又はフェニルアミノカルボニル基である-C(=O)-OT17基から選択される、一、二又は三の基で置換されていてもよい]
    に相当するものであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  25. 不溶性UV遮蔽剤がシンナマミドダイマーであることを特徴とする請求項10に記載の方法。
  26. 不溶性UV遮蔽剤が、次の構造:
    Figure 0003607864
    の化合物であることを特徴とする請求項25に記載の方法。
  27. 不溶性UV遮蔽剤がスルホン酸又はカルボン酸有機遮蔽剤の多価金属塩類であることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の方法。
  28. 不溶性UV遮蔽剤が、スルホン化ベンジリデンショウノウ誘導体の多価金属塩類;スルホン化ベンゾイミダゾール誘導体の多価金属塩類;又はケイ皮酸誘導体の多価金属塩類から選択されることを特徴とする請求項27に記載の方法。
  29. 不溶性UV遮蔽剤が有機UV-A及び/又はUV-B遮蔽剤の多価金属又はアンモニウム又は置換したアンモニウム複合体であることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の方法。
  30. 25℃の水に対して0.1重量%未満の溶解度、及び25℃の流動パラフィンに対して1重量%未満の溶解度を有する、微粒化された形態である不溶性有機UV遮蔽剤からなり、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用組成物に使用される、該ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善するための請求項1ないし29のいずれか1項に記載の薬剤。
  31. 25℃の水に対して0.1重量%未満の溶解度、及び25℃の流動パラフィンに対して1重量%未満の溶解度を有する、微粒化された形態である不溶性有機UV遮蔽剤からなり、少なくとも1つのジベンゾイルメタン誘導体を含有する皮膚病用組成物に使用される、該ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善するための請求項1ないし29のいずれか1項に記載の薬剤。
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