JP3678150B2 - ベンゾトリアゾール誘導体とトリアジン−ビス−レゾルシニルを含有する皮膚及び/又は毛髪の光保護用化粧品組成物 - Google Patents

ベンゾトリアゾール誘導体とトリアジン−ビス−レゾルシニルを含有する皮膚及び/又は毛髪の光保護用化粧品組成物 Download PDF

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Description

【0001】
本発明は、特に、紫外線から皮膚及び/又は毛髪を光保護することを意図した、局所使用用の新規な化粧品組成物(以下、この組成物をより簡単に抗日光組成物と呼ぶ)、並びに上述した化粧用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに詳細には、本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に、(a)第1の遮蔽剤としてベンゾトリアゾール誘導体と、(b)第2の遮蔽剤として、特定のビス-レゾルシニルトリアジン誘導体とを組合せて含有する抗日光組成物に関する。
【0002】
280nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼けし、UV-B線として知られている280と320nmの間の波長の光線により、皮膚は自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成する;よって、このUV-Bは遮蔽すべきである。
また、320nmと400nmの間の波長を持ち、皮膚をサンタン状態にするUV-A線も皮膚に悪い変化を誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。UV-A線は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV-A線は紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人においてはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、UV-Aもまた遮蔽することが望ましい。
【0003】
皮膚の光(UV-A及び/又はUV-B)保護を意図した多数の組成物が、現在までに提案されている。
これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許容可能なビヒクル)の形態であり、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の一般的な親油性及び/又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなるもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の光保護ファクター[UV遮蔽剤を用いた場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な照射時間の、UV遮蔽剤を用いない場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な時間に対する比率を数学的に表した日光保護ファクター(SPF)]に従って選択される。
【0004】
EP-B-0742003には、高い日光保護ファクターを有する抗日光化粧品用組成物が開示されており;これらの組成物は2つのサンスクリーン剤、すなわち(a)第1の遮蔽剤として、部分的又は全体的に中和された形態であってよいベンゼン-1,4-ビス(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン酸)と、(b)第2の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾールシリコーン、例えばEP-B-0660701に開示されているものを組合せて含有する。しかしながら、これらの抗日光製品の水分残留性は不十分であった。
【0005】
本出願人は、驚くべきことに、また予期しないことに、(a)第1の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール誘導体と、(b)第2の遮蔽剤として、特定のビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体とを組合せることにより、上述した従来の光保護用組成物と同等に高い日光保護レベルを有すると同時に、その水分残留性が実質的に改善された抗日光組成物が得られることを見いだした。
この発見が本発明の基礎をなす。
【0006】
よって、本発明の主題事項の一つは、化粧品的に許容可能な支持体に:
(a)第1の遮蔽剤として、次の式(I):
Figure 0003678150
{上式中:
− Aは水素又は二価の基-L-W-を示し;
− Yは同一でも異なっていてもよく、C1-C10アルキル基、ハロゲン、C-C10アルコキシ基及びスルホン基から選択され、後者の場合、同じ芳香環の2つの隣接するY基が共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を有するアルキリデンジオキシ基を形成可能であると理解され、但し、Y基はAが水素以外である場合にはスルホン基以外であり;
− nは1、2又は3であり;
− Lは次の式(II):
Figure 0003678150
[上式中:
− XはO又はNHを表し、
− Zは、水素又はC-Cアルキル基を表し、
− nは0〜3の整数であり、
− mは0又は1であり、
− pは1〜10の整数を表す]
の2価の基であり;
− Wは次の式(1)、(2)又は(3):
Figure 0003678150
又は
Figure 0003678150
又は
−Si(R) (3)
[上式中:
− Rは同一でも異なっていてもよく、C-C10アルキル、フェニル及び3,3,3-トリフルオロプロピル基から選択され、R基の数の少なくとも80%はメチルであり、
− Bは同一でも異なっていてもよく、R基及び次の式:
Figure 0003678150
(上式中、Y、n及びLは上述したものと同一の意味を有する)
のV基から選択され;
− rは0〜50の整数であり、sは1〜20の整数であり、s=0の場合、2つのB基の少なくとも1つはVを示し;
− uは1〜6の整数であり、tは0〜10の整数であり、t+uは3以上であると理解される]
の基である}
の少なくとも1つのベンゾトリアゾール誘導体と、
(b)第2の遮蔽剤として、次の式(III):
Figure 0003678150
{上式中:
(i)R及びR基は同一でも異なっていてもよく、C-C18アルキル基;C-C18アルケニル基又は式-CH-CH(OH)-CH-OT(ここで、Tは水素原子かC-Cアルキル基である)の残基を示し;
(ii)R及びR基は同一でも異なっていてもよく、次の式(4):
Figure 0003678150
[上式中、
− Rは、共有結合;直鎖状又は分枝状のC-Cアルキル基又は式-Cm12m1-もしくは-Cm12m1-O-(ここで、mは1〜4の数である)の残基を表し;
− pは0〜5の数であり;
− R、R及びR基は同一でも異なっていてもよく、C-C18アルキル基;C-C18アルコキシ基又は次の式:
Figure 0003678150
(上式中、R10はC-Cアルキル基である)の残基を示す]
の残基を示し;
− Aは、次の式:
Figure 0003678150
Figure 0003678150
Figure 0003678150
[上式中:
− Rは水素原子、C-C10アルキル基、式-(CHCHR-O)n1(ここでnは1〜16の数であり、R16は水素又はメチルか、Tが上述と同じ意味を有する-CH-CH-(OH)-CHOTの構造の残基である)の基を示し;
− Rは、水素、金属カチオンM、C-Cアルキル基又は式-(CH)m2-OT(ここで、mは1〜4の数であり、Tは上述と同じ意味を有する)の残基を示し;
− QはC-C18アルキル基である]
の一つに相当する残基を示す}
に相当する少なくとも1つのビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体とを含有することを本質的に特徴とする新規化粧品用又は皮膚科用組成物、特に抗日光組成物を提案することにある。
【0007】
本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造における、上述のような組成物の使用にある。
また、本発明の他の主題事項は、本発明の組成物を有効量、皮膚及び/又は毛髪に適用することから本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろう。
【0008】
本発明の式(I)のベンゾトリアゾール誘導体は、それ自体は既に知られている遮蔽剤である。それらはUS-4316033及びUS-4328346号;EP-B-0354145及びEP-B-0392883及びEP-B-0660701に開示され、そこに示される合成法に従い調製される(本明細書の内容の一体部分を構成する)。
【0009】
本発明において使用することができる、Aが水素を示す式(I)の非シリコーン化合物として、特に:
− 2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(n=1でY=CH)、例えばエニケム・シンス社(Enichem Synth)からユバゾール(Uvazol)Pの名称で販売されている製品、又はチバ-ガイギー社(Ciba-Geigy)からチヌビン(Tinuvin)Pの名称で販売されている製品;
− 2-(2'-ヒドロキシ-3'-ブチル-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(n=2でY=CH及び-C(CH))、例えばエニケム・シンス社からユバゾール236の名称で販売されている製品;
− 2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール(n=1でY=-C(CH)-CH-C(CH))、例えばエニケム・シンス社からユバゾール311の名称で販売されている製品;
− 2-(2'-ヒドロキシ-3'-sec-ブチル-5'-ベンゼンスルホナト)ベンゾトリアゾール(n=2でY=SOH、Y=-CH(CH)-CH-CH)、例えばチバ-ガイギー社からチバファースト(Cibafast)の名称で販売されている製品;
を挙げることができる。
【0010】
上述した式(1)、(2)及び(3)の定義において、Aが2価の基-L-W-である場合の式(I)のシリコーン化合物に対しては、アルキル基は直鎖状又は分枝状であってよく、特にメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、tert-ブチル、n-アミル、イソアミル、ネオペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチル、n-オクチル、2-エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択され得る。本発明の好ましいアルキル基Rは、メチル、エチル、プロピル、n-ブチル、n-オクチル及び2-エチルヘキシル基である。さらに好ましくは、R基は全てメチル基である。
【0011】
Aが2価の基-L-W-である場合の式(I)のシリコーン化合物に対しては、好ましくは、Wが式(1)に相当するもの、すなわち直鎖を有するジオルガノシロキサン類が使用される。
【0012】
本発明の範囲に入る直鎖状のジオルガノシロキサン類として、特に好ましくは、次の特徴:
− Rはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、
− Bはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、
− rは0〜15;sは1〜5であり、
− nは0ではなく、好ましくは1であり、Yはメチル、tert-ブチル及びC-Cアルコキシから選択され、
− Zは水素又はメチルであり、
− m=0又は[m=1及びX=O]、
− pは1である、
のうち、少なくとも1つ、好ましくは全てを示すランダム誘導体又は明確に定まったブロック誘導体を挙げることができる。
【0013】
上述した式(I)から明らかなように、ベンゾトリアゾール単位への鎖単位-(X)-(CH)-CH(Z)-CH-の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対する該ベンゾトリアゾール単位の結合をもたらすものであるが、これは、本発明によれば、次の式:
Figure 0003678150
に示す、ベンゾトリアゾールの2つの芳香環によって提供される利用可能な位置の何れにおいても起こり得る。
【0014】
この結合は、好ましくは3、4又は5位(ヒドロキシル官能基を担持する芳香環)、又は4'位(トリアゾール環に隣接したベンゼン環)、さらに好ましくは3、4又は5位で生じる。本発明の好ましい一実施態様では3位で結合する。
同様に、置換基単位Yの結合は、ベンゾトリアゾールの利用可能な他の位置の何れにおいても生じ得る。しかし、この結合は、好ましくは3、4、4'、5及び/又は6位で生じる。本発明の好ましい一実施態様においては、5位で結合する。
【0015】
本発明に特に適した化合物のファミリーは、次の一般式:
Figure 0003678150
[上式中、0≦r≦15、好ましくは0≦r≦10、
1≦s≦5、好ましくは1≦s≦3であり、
Dは、
Figure 0003678150
又は
Figure 0003678150
の二価の基を表す]
で定まるものである。
【0016】
本発明の特に好ましい実施態様において、ベンゾトリアゾールシリコーンは、
Figure 0003678150
である、一般式(I')に相当するものである。
【0017】
本発明の特に好ましい他の実施態様において、ベンゾトリアゾールシリコーンは、
Figure 0003678150
である、一般式(I')に相当するものである。
【0018】
式(I)のベンゾトリアゾール誘導体は、常に組成物の全重量に対して、0.1〜15重量%、好ましくは0.2〜10重量%の含有量で存在している。
【0019】
上述の式(III)及び(4)〜(8)において:
− アルキル基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、アミル、イソアミル、tert-アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及びオクタデシルから選択することができ;
− アルケニル基は、例えば、アリル、メチルアリル、イソプロペニル、2-ブテニル、3-ブテニル、イソブテニル、n-ペンタ-2,4-ジエニル、3-メチルブタ(methylbut)-2-エニル、n-オクテ(oct)-2-エニル、n-ドデカ(dodec)-2-エニル、イソドデセニル及びn-オクタデカ-4-エニルから選択することができ;
− アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ及びtert-アミルオキシから選択することができ;
− C-Cモノ-もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-ブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ及びメチルエチルアミノから選択することができ;
− 金属カチオンはアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオン、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛カチオンから選択される金属カチオンである。
【0020】
本発明の式(III)のビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤である。それらは、EP-A-0775698号に開示され、そこで示された合成法に従い調製される(これらは本記載の内容の一体部分を形成する)。
【0021】
使用することができる式(III)の化合物の例としては、:
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[4-(2-メトキシエチルカルボキシル)フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(2"-メチルプロペニルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[4-(エトキシカルボニル)フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(1-メチルピロル-2-イル)-1,3,5-トリアジン;
を挙げることができる。
【0022】
本発明において特に好ましいビス-レゾルシニルトリアジンから誘導される化合物は、
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
からなる群から選択される。
【0023】
式(III)のビス-レゾルシニルトリアジン誘導体型のサンスクリーン(類)は、組成物の全重量に対して、0.1〜15重量%、好ましくは0.2〜10重量%の濃度で本発明の組成物中に存在する。
【0024】
上述したように、本発明の必須の特徴によれば、2種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与される水分残存性について顕著かつ大幅で有意な相乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在すべきである。
【0025】
さらに一般的には、上述した式(I)のベンゾトリアゾール誘導体、及び式(III)のビス-レゾルシニルトリアジン誘導体の濃度及び比率は、最終組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも2になるように選択される。
【0026】
さらに、本発明の好ましい一実施態様において、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品的に許容可能な支持体は、水中油型エマルションである。
【0027】
言うまでもなく、本発明の抗日光化粧品用組成物は、上述した2つの遮蔽剤以外にも、一又は複数の付加的な親水性又は親油性のUV-A活性及び/又はUV-B活性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体;サリチル酸誘導体;ショウノウ誘導体;特許出願EP863145、EP517104、EP570838及びEP796851に開示されているもののような先に記載されたもの以外のトリアジン誘導体;ベンゾフェノン誘導体;ジベンゾイルメタン誘導体;β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体;p-アミノ安息香酸誘導体;遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば特許出願WO93/04665号に開示されているものから選択される。
【0028】
付加的なUV-A活性及び/又はUV-B活性のあるサンスクリーン剤の例としては:
p-アミノ安息香酸、
オキシエチレン化(25モル)p-アミノベンゾアート、
p-ジメチルアミノ安息香酸2-エチルヘキシル、
N-オキシプロピレン化p-アミノ安息香酸エチル、
p-アミノ安息香酸グリセリル、
サリチル酸ホモメンチル、
サリチル酸2-エチルヘキシル、
サリチル酸トリエタノールアミン、
サリチル酸4-イソプロピルベンジル、
4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
4-メトキシケイ皮酸2-エチルヘキシル、
ジイソプロピルケイ皮酸メチル、
4-メトキシケイ皮酸イソアミル、
4-メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン、
アントラニル酸メンチル、
2-シアノ-3,3'-ジフェニルアクリル酸2-エチルヘキシル、
2-シアノ-3,3-ジフェニルアクリル酸エチル、
2-フェニルベンゾイミダゾール-5-スルホン酸とその塩類、
3-(4'-トリメチルアンモニオ)ベンジリデンボルナン-2-オン-メチルスルファート、
ベンゼン-1,4-ビス(3-メチリデン-10-ショウノウスルホン酸)とその塩類、
ウロカニン酸、
2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン、
2-ヒドロキシ-4-メトキシベンゾフェノン-5-スルホナート、
2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、
2,2',4,4'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、
2,2'-ジヒドロキシ-4,4'-ジメトキシベンゾフェノン、
2-ヒドロキシ-4-n-オクトキシベンゾフェノン、
2-ヒドロキシ-4-メトキシ-4'-メチルベンゾフェノン、
α-(2-オキソボルン-3-イリデン)トリル-4-スルホン酸とその塩類、
3-(4'-スルホ)ベンジリデンボルナン-2-オンとその塩類、
3-(4'-メチルベンジリデン)-d,l-ショウノウ、
3-ベンジリデン-d,l-ショウノウ、
2,4,6-トリス[p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジン、
2-[p-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-4,6-ビス[p-(2'-エチルヘキシル-1'-オキシカルボニル)アニリノ]-1,3,5-トリアジン、
1,4-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン-3,3',5,5'-テトラスルホン酸とその塩類、
N-[(2-及び4)-[(2-オキソボロン-3-イリデン)メチル]ベンジル]アクリルアミドのポリマー、
マロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類、
を挙げることができる。
【0029】
また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(DHA)をさらに含有してもよい。
【0030】
さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類(一次粒子の平均粒径:一般的に、5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例えば、それ自体UV光保護剤としてよく知られている、酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び/又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、標準的なコーティング剤は、アルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウムである。このような被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料類は、特に、特許出願EP-A-0518772及びEP-A-0518773に記載されている。
【0031】
また、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選択される一般的な化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【0032】
脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、ポリ-α-オレフィン類、フッ化及び過フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ又は合成ロウから選択することができる。
【0033】
有機溶媒としては低級アルコール類及びポリオール類を挙げることができる。 増粘剤は、特に、架橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグアーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチルセルロースから選択することができる。
【0034】
明らかに、当業者であれば、本発明の2つの組合せに固有の有利な特性、特に水分残留性及び日光保護レベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪影響を受けないように留意して、任意の付加的な化合物又は化合物類及び/又はそれらの量を選択するであろう。
【0035】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製を意図した技術により調製することができる。
【0036】
この組成物は、特に単一又は複合エマルションの形態(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム-ゲル、パウダー又は固形スティックの形態にすることもでき、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム又はスプレーの形態にすることもできる。
【0037】
組成物がエマルションの場合、その水相は、公知の方法[バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J. Mol. Biol.,13,238(1965)、FR-2315991及びFR-2416008]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【0038】
本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの皮膚又は毛髪を保護するための組成物として使用することができる。
【0039】
本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォーム又はスプレーの形態にすることができる。
【0040】
本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態にすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローションもしくはゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウエーブ、毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することもできる。
【0041】
組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメークアップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリーム、ファンデーション、棒状口紅、アイシャドウ、ほほ紅、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とすることができる。
【0042】
目安を示すと、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全処方物に対して、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全処方物に対して5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%、(共)乳化剤(類)は、全処方物に対して0.5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
【0043】
本明細書の最初に示したように、本発明の他の主題は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響からそれらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方法にある。
【0044】
次に本発明の実施例を例証するが、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
Figure 0003678150
Figure 0003678150
Figure 0003678150

Claims (16)

  1. 化粧品的に許容可能な支持体に:
    (a)第1の遮蔽剤として、次の ( I’ )
    Figure 0003678150
    上式中、
    Figure 0003678150
    である少なくとも1つのベンゾトリアゾール誘導体と、
    (b)第2の遮蔽剤として、 , - ビス {[ -( - エチルヘキシルオキシ )- - ヒドロキシ ] フェニル }- -( - メトキシフェニル )- , , - トリアジンであるビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体とを含有することを特徴とする、膚及び/又は毛髪の光保護のための、局所的使用用化粧品組成物。
  2. (I )のベンゾトリアゾール誘導体の濃度が、組成物の全重量に対して0.1〜15重量%であることを特徴とする請求項1記載の組成物。
  3. ベンゾトリアゾール誘導体の濃度が、組成物の全重量に対して0.2〜10重量%であることを特徴とする請求項に記載の組成物。
  4. ビス-レゾルシニルトリアジン誘導体の濃度が組成物の全重量に対して0.1〜15重量%であることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項に記載の組成物。
  5. 前記濃度が組成物の全重量に対して0.2〜10重量%であることを特徴とする請求項に記載の組成物。
  6. 前記化粧品的に許容可能な支持体が、水中油型エマルションの形態であることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項に記載の組成物。
  7. 前記第1及び第2の遮蔽剤以外の、一又は複数の付加的な親水性又は親油性のUV-A活性及び/又はUV-B活性の有機遮蔽剤をさらに含有することを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項に記載の組成物。
  8. 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、請求項1ないしのいずれか1項に記載のもの以外のトリアジン誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体類、ジベンゾイルメタン誘導体、β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体、p-アミノ安息香酸誘導体、遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とする請求項に記載の組成物。
  9. 付加的なUV光保護剤として、被覆又は非被覆金属酸化物の顔料又はナノ顔料をさらに含有することを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項に記載の組成物。
  10. 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする請求項に記載の組成物。
  11. 皮膚を人工的にサンタン状態及び/又は褐色にする少なくとも1種の薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項1ないし10のいずれか1項に記載の組成物。
  12. 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤及び染料から選択される少なくとも1種のアジュバントをさらに含有していることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の組成物。
  13. ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光組成物であって、マルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形スティック、フォーム又はスプレーの形態であることを特徴とする請求項1ないし12のいずれか1項に記載の組成物。
  14. 分散液、懸濁液又はエマルションの形態、ペースト状又は固体状、水性又は無水の形態であり、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載の組成物。
  15. 紫外線からの毛髪の保護を意図した組成物であって、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態であることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載の組成物。
  16. 請求項1ないし15のいずれか1項に記載の組成物を有効量、皮膚及び/又は毛髪に適用することからなることを特徴とする、外線から皮膚及び/又は毛髪を保護するための美容処理方法。
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