JP2002538086A - ベンゾトリアゾール誘導体とトリアジン−ビス−レゾルシニルを含有する皮膚及び／又は毛髪の光保護用化粧品組成物 - Google Patents

ベンゾトリアゾール誘導体とトリアジン−ビス−レゾルシニルを含有する皮膚及び／又は毛髪の光保護用化粧品組成物

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JP2002538086A JP2000598129A JP2000598129A JP2002538086A JP 2002538086 A JP2002538086 A JP 2002538086A JP 2000598129 A JP2000598129 A JP 2000598129A JP 2000598129 A JP2000598129 A JP 2000598129A JP 2002538086 A JP2002538086 A JP 2002538086A
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    • A61Q19/02—Preparations for care of the skin for chemically bleaching or whitening the skin

Abstract

(57)【要約】 化粧品的に許容可能な、例えば水中油型の支持体に、(ａ)第１の遮蔽剤として特定のベンゾトリアゾール誘導体と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、特定のトリアジン-ビス-レゾルシニル誘導体を含有せしめることを特徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するために、局所的に適用可能な新規化粧品組成物に関する。また本発明は、紫外線の影響から皮膚及び毛髪を保護するための前記化粧品用組成物の利用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、特に、紫外線から皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図した
、局所使用用の新規な化粧品組成物(以下、この組成物をより簡単に抗日光組成
物と呼ぶ)、並びに上述した化粧用途におけるこれら組成物の使用に関する。さ
らに詳細には、本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に、(ａ)第１の遮蔽剤と
してベンゾトリアゾール誘導体と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、特定のビス-レゾ
ルシニルトリアジン誘導体とを組合せて含有する抗日光組成物に関する。
【０００２】 ２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼けし、ＵＶ
-Ｂ線として知られている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は
自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成する； よって、このＵＶ-Ｂは遮蔽すべきである。 また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、皮膚をサンタン状態にする
ＵＶ-Ａ線も皮膚に悪い変化を誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光
線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚
の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、皮膚を時期尚早の老化に導く原因となる
ものである。ＵＶ-Ａ線は紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人においてはこ
の反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、
ＵＶ-Ａもまた遮蔽することが望ましい。
【０００３】 皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護を意図した多数の組成物が、現在ま
でに提案されている。 これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション(すなわち
、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許
容可能なビヒクル)の形態であり、有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複
数の一般的な親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有してなる
もので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の光保護ファクター［ＵＶ遮蔽剤
を用いた場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用
いない場合の紅斑形成閾値に達するまでに必要な時間に対する比率を数学的に表
した日光保護ファクター(ＳＰＦ)］に従って選択される。
【０００４】 ＥＰ-Ｂ-０７４２００３には、高い日光保護ファクターを有する抗日光化粧品
用組成物が開示されており；これらの組成物は２つのサンスクリーン剤、すなわ
ち(ａ)第１の遮蔽剤として、部分的又は全体的に中和された形態であってよいベ
ンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-ショウノウスルホン酸)と、(ｂ)第２の
遮蔽剤として、ベンゾトリアゾールシリコーン、例えばＥＰ-Ｂ-０６６０７０１
に開示されているものを組合せて含有する。しかしながら、これらの抗日光製品
の水分残留性は不十分であった。
【０００５】 本出願人は、驚くべきことに、また予期しないことに、(ａ)第１の遮蔽剤とし
て、ベンゾトリアゾール誘導体と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、特定のビス-レゾ
ルシニル-トリアジン誘導体とを組合せることにより、上述した従来の光保護用
組成物と同等に高い日光保護レベルを有すると同時に、その水分残留性が実質的
に改善された抗日光組成物が得られることを見いだした。 この発見が本発明の基礎をなす。
【０００６】 よって、本発明の主題事項の一つは、化粧品的に許容可能な支持体に： (ａ)第１の遮蔽剤として、次の式(Ｉ)： ｛上式中： − Ａは水素又は二価の基-Ｌ-Ｗ-を示し； − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ1-Ｃ１０アルキル基、ハロゲン、Ｃ１ -Ｃ１０アルコキシ基及びスルホン基から選択され、後者の場合、同じ芳香環の
２つの隣接するＹ基が共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有する
アルキリデンジオキシ基を形成可能であると理解され、但し、Ｙ基はＡが水素以
外である場合にはスルホン基以外であり； − ｎは１、２又は３であり； − Ｌは次の式(ＩＩ)： ［上式中： − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ の２価の基であり； − Ｗは次の式(１)、(２)又は(３)： 又は 又は −Ｓｉ(Ｒ)３ (３) ［上式中： − Ｒは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ１０アルキル、フェニル
及び３,３,３-トリフルオロプロピル基から選択され、Ｒ基の数の少なくとも８
０％はメチルであり、 − Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ基及び次の式： (上式中、Ｙ、ｎ及びＬは上述したものと同一の意味を有する) のＶ基から選択され； − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは１〜２０の整数であり、ｓ＝０の場合、２
つのＢ基の少なくとも１つはＶを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であ
ると理解される］ の基である｝ の少なくとも１つのベンゾトリアゾール誘導体と、 (ｂ)第２の遮蔽剤として、次の式(ＩＩＩ)： ｛上式中： (ｉ)Ｒ１及びＲ２基は同一でも異なっていてもよく、Ｃ３-Ｃ１８アルキル基； Ｃ２-Ｃ１８アルケニル基又は式-ＣＨ２-ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ２-ＯＴ１(ここで、Ｔ １ は水素原子かＣ１-Ｃ８アルキル基である)の残基を示し； (ｉｉ)Ｒ１及びＲ２基は同一でも異なっていてもよく、次の式(４)： [上式中、 − Ｒ６は、共有結合；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基又は式-Ｃｍ１ Ｈ２ｍ１-もしくは-Ｃｍ１Ｈ２ｍ１-Ｏ-（ここで、ｍ１は１〜４の数である）の
残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ７、Ｒ８及びＲ９基は同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ１８アルキ
ル基；Ｃ１-Ｃ１８アルコキシ基又は次の式： （上式中、Ｒ１０はＣ１-Ｃ５アルキル基である）の残基を示す] の残基を示し； − Ａ１は、次の式： ［上式中： − Ｒ３は水素原子、Ｃ１-Ｃ１０アルキル基、式-(ＣＨ２ＣＨＲ５-Ｏ)ｎ１Ｒ
４（ここでｎ１は１〜１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上述
と同じ意味を有する-ＣＨ２-ＣＨ-(ＯＨ)-ＣＨ２ＯＴ１の構造の残基である）の
基を示し； − Ｒ４は、水素、金属カチオンＭ、Ｃ１-Ｃ５アルキル基又は式-(ＣＨ２)ｍ２ -ＯＴ１（ここで、ｍ２は１〜４の数であり、Ｔ１は上述と同じ意味を有する）
の残基を示し； − Ｑ１はＣ１-Ｃ１８アルキル基である] の一つに相当する残基を示す｝ に相当する少なくとも１つのビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体とを含有する
ことを本質的に特徴とする新規化粧品用又は皮膚科用組成物、特に抗日光組成物
を提案することにある。
【０００７】 本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護
することを意図した化粧品用組成物の製造における、上述のような組成物の使用
にある。 また、本発明の他の主題事項は、本発明の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛
髪に適用することから本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛
髪を保護するために美容処理方法にある。 本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明
らかになるであろう。
【０００８】 本発明の式(Ｉ)のベンゾトリアゾール誘導体は、それ自体は既に知られている
遮蔽剤である。それらはＵＳ-４３１６０３３及びＵＳ-４３２８３４６号；ＥＰ
-Ｂ-０３５４１４５及びＥＰ-Ｂ-０３９２８８３及びＥＰ-Ｂ-０６６０７０１に
開示され、そこに示される合成法に従い調製される(本明細書の内容の一体部分
を構成する)。
【０００９】 本発明において使用することができる、Ａが水素を示す式(Ｉ)の非シリコーン
化合物として、特に： − ２-(２'-ヒドロキシ-５'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(ｎ＝１でＹ
＝ＣＨ３)、例えばエニケム・シンス社(Enichem Synth)からユバゾール(Uvazol)
Ｐの名称で販売されている製品、又はチバ-ガイギー社(Ciba-Geigy)からチヌビ
ン(Tinuvin)Ｐの名称で販売されている製品； − ２-(２'-ヒドロキシ-３'-ブチル-５'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(
ｎ＝２でＹ＝ＣＨ３及び-Ｃ(ＣＨ３)３)、例えばエニケム・シンス社からユバゾ
ール２３６の名称で販売されている製品； − ２-(２'-ヒドロキシ-５'-ｔ-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール(ｎ＝１
でＹ＝-Ｃ(ＣＨ３)２-ＣＨ２-Ｃ(ＣＨ３)３)、例えばエニケム・シンス社からユ
バゾール３１１の名称で販売されている製品； − ２-(２'-ヒドロキシ-３'-sec-ブチル-５'-ベンゼンスルホナト)ベンゾトリ
アゾール(ｎ＝２でＹ＝ＳＯ３Ｈ、Ｙ＝-ＣＨ(ＣＨ３)-ＣＨ２-ＣＨ３)、例えば
チバ-ガイギー社からチバファースト(Cibafast)の名称で販売されている製品； を挙げることができる。
【００１０】 上述した式(１)、(２)及び(３)の定義において、Ａが２価の基-Ｌ-Ｗ-である
場合の式(Ｉ)のシリコーン化合物に対しては、アルキル基は直鎖状又は分枝状で
あってよく、特にメチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イ
ソブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソアミル、ネオペンチル、ｎ-ヘキシル
、ｎ-ヘプチル、ｎ-オクチル、２-エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択
され得る。本発明の好ましいアルキル基Ｒは、メチル、エチル、プロピル、ｎ-
ブチル、ｎ-オクチル及び２-エチルヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ基
は全てメチル基である。
【００１１】 Ａが２価の基-Ｌ-Ｗ-である場合の式(Ｉ)のシリコーン化合物に対しては、好
ましくは、Ｗが式(１)に相当するもの、すなわち直鎖を有するジオルガノシロキ
サン類が使用される。
【００１２】 本発明の範囲に入る直鎖状のジオルガノシロキサン類として、特に好ましくは
、次の特徴： − Ｒはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − Ｂはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜５であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチル、tert-ブチル及びＣ１-
Ｃ４アルコキシから選択され、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを示すランダム誘導体又は明確に定ま
ったブロック誘導体を挙げることができる。
【００１３】 上述した式(Ｉ)から明らかなように、ベンゾトリアゾール単位への鎖単位-(Ｘ
)ｍ-(ＣＨ２)ｐ-ＣＨ(Ｚ)-ＣＨ２-の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対す
る該ベンゾトリアゾール単位の結合をもたらすものであるが、これは、本発明に
よれば、次の式： に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香環によって提供される利用可能な位置
の何れにおいても起こり得る。
【００１４】 この結合は、好ましくは３、４又は５位(ヒドロキシル官能基を担持する芳香
環)、又は４'位(トリアゾール環に隣接したベンゼン環)、さらに好ましくは３、
４又は５位で生じる。本発明の好ましい一実施態様では３位で結合する。 同様に、置換基単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの利用可能な他の位置の
何れにおいても生じ得る。しかし、この結合は、好ましくは３、４、４'、５及
び／又は６位で生じる。本発明の好ましい一実施態様においては、５位で結合す
る。
【００１５】 本発明に特に適した化合物のファミリーは、次の一般式： ［上式中、０≦ｒ≦１５、好ましくは０≦ｒ≦１０、 １≦ｓ≦５、好ましくは１≦ｓ≦３であり、 Ｄは、 又は の二価の基を表す］ で定まるものである。
【００１６】 本発明の特に好ましい実施態様において、ベンゾトリアゾールシリコーンは、 である、一般式(Ｉ')に相当するものである。
【００１７】 本発明の特に好ましい他の実施態様において、ベンゾトリアゾールシリコーン
は、 である、一般式(Ｉ')に相当するものである。
【００１８】 式(Ｉ)のベンゾトリアゾール誘導体は、常に組成物の全重量に対して、０．１
〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の含有量で存在している。
【００１９】 上述の式(ＩＩＩ)及び(４)〜(８)において： − アルキル基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メチル、エチル、ｎ-プロピル
、イソプロピル、ｎ-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、アミル、イソアミル、
tert-アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル及び
オクタデシルから選択することができ； − アルケニル基は、例えば、アリル、メチルアリル、イソプロペニル、２-ブ
テニル、３-ブテニル、イソブテニル、ｎ-ペンタ-２,４-ジエニル、３-メチルブ
タ(methylbut)-２-エニル、ｎ-オクテ(oct)-２-エニル、ｎ-ドデカ(dodec)-２-
エニル、イソドデセニル及びｎ-オクタデカ-４-エニルから選択することができ
； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ-プ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎ-ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、アミ
ルオキシ、イソアミルオキシ及びtert-アミルオキシから選択することができ； − Ｃ１-Ｃ５モノ-もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メチルアミノ、エ
チルアミノ、プロピルアミノ、ｎ-ブチルアミノ、sec-ブチルアミノ、tert-ブチ
ルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ
及びメチルエチルアミノから選択することができ； − 金属カチオンはアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオン、又は例えば、
リチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛カチ
オンから選択される金属カチオンである。
【００２０】 本発明の式(ＩＩＩ)のビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体は、それ自体既に
知られた遮蔽剤である。それらは、ＥＰ-Ａ-０７７５６９８号に開示され、そこ
で示された合成法に従い調製される(これらは本記載の内容の一体部分を形成す
る)。
【００２１】 使用することができる式(ＩＩＩ)の化合物の例としては、： − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒドロキシプロピルオキシ)-
２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
[４-(２-メトキシエチルカルボキシル)フェニルアミノ]-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)-２-
ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２"-メチルプロペニルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-
６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘプタメチルトリシロキシ
-２"-メチルプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニ
ル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒドロキシプロピルオキシ)-
２-ヒドロキシ]フェニル}-６-[４-(エトキシカルボニル)フェニルアミノ]-１,３
,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
(１-メチルピロル-２-イル)-１,３,５-トリアジン； を挙げることができる。
【００２２】 本発明において特に好ましいビス-レゾルシニルトリアジンから誘導される化
合物は、 − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)-２-
ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘプタメチルトリシロキシ
-２"-メチルプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニ
ル)-１,３,５-トリアジン； からなる群から選択される。
【００２３】 式(ＩＩＩ)のビス-レゾルシニルトリアジン誘導体型のサンスクリーン(類)は
、組成物の全重量に対して、０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量
％の濃度で本発明の組成物中に存在する。
【００２４】 上述したように、本発明の必須の特徴によれば、２種類のサンスクリーン剤が
、組合せた結果付与される水分残存性について顕著かつ大幅で有意な相乗効果が
得られるような各割合で最終組成物中に存在すべきである。
【００２５】 さらに一般的には、上述した式(Ｉ)のベンゾトリアゾール誘導体、及び式(Ｉ
ＩＩ)のビス-レゾルシニルトリアジン誘導体の濃度及び比率は、最終組成物の日
光保護ファクターが好ましくは少なくとも２になるように選択される。
【００２６】 さらに、本発明の好ましい一実施態様において、様々な種類の遮蔽剤が存在す
る化粧品的に許容可能な支持体は、水中油型エマルションである。
【００２７】 言うまでもなく、本発明の抗日光化粧品用組成物は、上述した２つの遮蔽剤以
外にも、一又は複数の付加的な親水性又は親油性のＵＶ-Ａ活性及び／又はＵＶ-
Ｂ活性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤
は、特に、ケイ皮酸誘導体；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；特許出願Ｅ
Ｐ８６３１４５、ＥＰ５１７１０４、ＥＰ５７０８３８及びＥＰ７９６８５１に
開示されているもののような先に記載されたもの以外のトリアジン誘導体；ベン
ゾフェノン誘導体；ジベンゾイルメタン誘導体；β,β'-ジフェニルアクリラー
ト誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体；ｐ-アミノ安息香酸誘導体；遮蔽ポリマ
ー及び遮蔽シリコーン、例えば特許出願ＷＯ９３／０４６６５号に開示されてい
るものから選択される。
【００２８】 付加的なＵＶ-Ａ活性及び／又はＵＶ-Ｂ活性のあるサンスクリーン剤の例とし
ては： ｐ-アミノ安息香酸、 オキシエチレン化(２５モル)ｐ-アミノベンゾアート、 ｐ-ジメチルアミノ安息香酸２-エチルヘキシル、 Ｎ-オキシプロピレン化ｐ-アミノ安息香酸エチル、 ｐ-アミノ安息香酸グリセリル、 サリチル酸ホモメンチル、 サリチル酸２-エチルヘキシル、 サリチル酸トリエタノールアミン、 サリチル酸４-イソプロピルベンジル、 ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、 ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 ４-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシル、 ジイソプロピルケイ皮酸メチル、 ４-メトキシケイ皮酸イソアミル、 ４-メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン、 アントラニル酸メンチル、 ２-シアノ-３,３'-ジフェニルアクリル酸２-エチルヘキシル、 ２-シアノ-３,３-ジフェニルアクリル酸エチル、 ２-フェニルベンゾイミダゾール-５-スルホン酸とその塩類、 ３-(４'-トリメチルアンモニオ)ベンジリデンボルナン-２-オン-メチルスルファ
ート、 ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-ショウノウスルホン酸)とその塩類、 ウロカニン酸、 ２-ヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノン、 ２-ヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノン-５-スルホナート、 ２,４-ジヒドロキシベンゾフェノン、 ２,２',４,４'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、 ２,２'-ジヒドロキシ-４,４'-ジメトキシベンゾフェノン、 ２-ヒドロキシ-４-ｎ-オクトキシベンゾフェノン、 ２-ヒドロキシ-４-メトキシ-４'-メチルベンゾフェノン、 α-(２-オキソボルン-３-イリデン)トリル-４-スルホン酸とその塩類、 ３-(４'-スルホ)ベンジリデンボルナン-２-オンとその塩類、 ３-(４'-メチルベンジリデン)-ｄ,ｌ-ショウノウ、 ３-ベンジリデン-ｄ,ｌ-ショウノウ、 ２,４,６-トリス［ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-
１,３,５-トリアジン、 ２-［ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ］-４,６-ビス［ｐ-(２'-エチルヘキシル
-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン、 １,４-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン-３,３',５,５'-テトラスルホン酸
とその塩類、 Ｎ-［(２-及び４)-［(２-オキソボロン-３-イリデン)メチル］ベンジル］アクリ
ルアミドのポリマー、 マロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類、 を挙げることができる。
【００２９】 また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び／又は
褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)
をさらに含有してもよい。
【００３０】 さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又は非被覆金属酸化物からなる顔料又
はナノ顔料類(一次粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましく
は１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体ＵＶ光保護剤としてよく知られてい
る、酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有
してもよい。また、標準的なコーティング剤は、アルミナ及び／又はステアリン
酸アルミニウムである。このような被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料類は
、特に、特許出願ＥＰ-Ａ-０５１８７７２及びＥＰ-Ａ-０５１８７７３に記載さ
れている。
【００３１】 また、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化
防止剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタ
ミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、
噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗
日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選択される一般的な
化粧品用アジュバントをさらに含有してもよい。
【００３２】 脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂
肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植物
性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流動パラフィン、揮発性又は
非揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、ポリ-α-オレフィン類、フッ化及
び過フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウは、それ自体公知であ
る動物性ロウ、化石ロウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ又は合成ロウから選択するこ
とができる。
【００３３】 有機溶媒としては低級アルコール類及びポリオール類を挙げることができる。 増粘剤は、特に、架橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグアー
ガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化グアーガム、メチルヒドロ
キシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエ
チルセルロースから選択することができる。
【００３４】 明らかに、当業者であれば、本発明の２つの組合せに固有の有利な特性、特に
水分残留性及び日光保護レベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に
悪影響を受けないように留意して、任意の付加的な化合物又は化合物類及び／又
はそれらの量を選択するであろう。
【００３５】 本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型
のエマルションの調製を意図した技術により調製することができる。
【００３６】 この組成物は、特に単一又は複合エマルションの形態(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／
Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム-ゲル、パ
ウダー又は固形スティックの形態にすることもでき、エアゾールとして包装され
てもよく、またフォーム又はスプレーの形態にすることもできる。
【００３７】 組成物がエマルションの場合、その水相は、公知の方法［バンガム(Bangham)
、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J. Mol. Biol.,13,
238(1965)、ＦＲ-２３１５９９１及びＦＲ-２４１６００８］により調製される
非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００３８】 本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、
紫外線からヒトの皮膚又は毛髪を保護するための組成物として使用することがで
きる。
【００３９】 本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、すなわち
抗日光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁
した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水
中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、パウダー、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォーム又はスプレ
ーの形態にすることができる。
【００４０】 本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャン
プー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態に
することができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後
、パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用され
てすすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローションもしくは
ゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、又はパーマネント
ウエーブ、毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することもでき
る。
【００４１】 組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメークアップ用製品、例えば、表皮のトリ
ートメントクリーム、ファンデーション、棒状口紅、アイシャドウ、ほほ紅、マ
スカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、無水又は水性、固体状
又はペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオ
ン性の小胞体分散液又は懸濁液とすることができる。
【００４２】 目安を示すと、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成
物において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全処方物に対して、一般
的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相(特に親油性の遮蔽
剤を含有する)は、全処方物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全処方物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２
〜１０重量％である。
【００４３】 本明細書の最初に示したように、本発明の他の主題は、上述した化粧品用組成
物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響からそれらを
保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方法にある。
【００４４】 次に本発明の実施例を例証するが、これらは本発明の範囲を限定するものでは
ない。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 7/00 Ａ６１Ｋ 7/00 Ｈ Ｊ Ｍ Ｎ Ｐ Ｒ Ｓ Ｚ 7/02 7/02 Ｎ 7/06 7/06 7/075 7/075 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ， ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，Ｃ Ｒ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ， ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，Ｋ Ｚ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4C083 AB211 AB221 AB241 AC072 AC122 AC182 AC211 AC242 AC311 AC402 AC422 AC542 AC581 AC851 AC852 AC902 AC911 AC912 AD011 AD092 AD151 AD152 AD161 AD171 AD282 BB01 BB21 BB23 BB41 BB42 BB43 BB45 BB46 BB47 BB48 BB49 CC04 CC05 CC11 CC12 CC33 CC38 DD08 DD11 DD17 DD21 DD22 DD27 DD33 DD41 EE12 EE17 EE29

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化粧品的に許容可能な支持体に： (ａ)第１の遮蔽剤として、次の式(Ｉ)： ｛上式中： − Ａは水素又は二価の基-Ｌ-Ｗ-を示し； − ｎは１、２又は３であり； − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ1-Ｃ１０アルキル基、ハロゲン、Ｃ１ -Ｃ１０アルコキシ基及びスルホン基から選択され、後者の場合、同じ芳香環の
    ２つの隣接するＹ基が共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有する
    アルキリデンジオキシ基を形成可能であると理解され、但し、Ｙ基はＡが水素以
    外である場合にはスルホン基以外であり； − Ｌは次の式(ＩＩ)： ［上式中： − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１-Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ の２価の基であり； − Ｗは次の式(１)、(２)又は(３)： 又は 又は −Ｓｉ(Ｒ)３ (３) ［上式中： − Ｒは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ１０アルキル、フェニル及
    び３,３,３-トリフルオロプロピル基から選択され、Ｒ基の数の少なくとも８０
    ％はメチルであり、 − Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ基及び次の式： (上式中、Ｙ、ｎ及びＬは上述したものと同一の意味を有する) のＶ基から選択され； − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは１〜２０の整数であり、ｓ＝０の場合、２
    つのＢ基の少なくとも１つはＶを示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であ
    ると理解される］ の基である｝ の少なくとも１つのベンゾトリアゾール誘導体と、 (ｂ)第２の遮蔽剤として、次の式(ＩＩＩ)： ｛上式中： (ｉ)Ｒ１及びＲ２基は同一でも異なっていてもよく、Ｃ３-Ｃ１８アルキル基； Ｃ２-Ｃ１８アルケニル基又は式-ＣＨ２-ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ２-ＯＴ１(ここで、Ｔ １ は水素原子かＣ１-Ｃ８アルキル基である)の残基を示し； (ｉｉ)Ｒ１及びＲ２基は同一でも異なっていてもよく、次の式(４)： [上式中、 − Ｒ６は、共有結合；直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ４アルキル基又は式-Ｃｍ１ Ｈ２ｍ１-もしくは-Ｃｍ１Ｈ２ｍ１-Ｏ-（ここで、ｍ１は１〜４の数である）の
    残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ７、Ｒ８及びＲ９基は同一でも異なっていてもよく、Ｃ１-Ｃ１８アルキ
    ル基；Ｃ１-Ｃ１８アルコキシ基又は次の式： （上式中、Ｒ１０はＣ１-Ｃ５アルキル基である）の残基を示す] の残基を示し； − Ａ１は、次の式： ［上式中： − Ｒ３は水素原子、Ｃ１-Ｃ１０アルキル基、式-(ＣＨ２ＣＨＲ５-Ｏ)ｎ１Ｒ
    ４（ここでｎ１は１〜１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上述
    と同じ意味を有する-ＣＨ２-ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ２ＯＴ１の構造の残基である）の
    基を示し； − Ｒ４は、水素、金属カチオンＭ、Ｃ１-Ｃ５アルキル基又は式-(ＣＨ２)ｍ２ -ＯＴ１（ここで、ｍ２は１〜４の数であり、Ｔ１は上述と同じ意味を有する）
    の残基を示し； − Ｑ１はＣ１-Ｃ１８アルキル基である] の一つに相当する残基を示す｝ に相当する少なくとも１つのビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体とを含有する
    ことを特徴とする、特に皮膚及び／又は毛髪の光保護のための、局所的使用用化
    粧品組成物。
  2. 【請求項２】 式(Ｉ)の化合物が： − ２-(２'-ヒドロキシ-５'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール； − ２-(２'-ヒドロキシ-３'-ブチル-５'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール
    ； − ２-(２'-ヒドロキシ-５'-ｔ-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール； − ２-(２'-ヒドロキシ-３'-sec-ブチル-５'-ベンゼンスルホナト)ベンゾトリ
    アゾール； からなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 式(Ｉ)のベンゾトリアゾール誘導体が、Ａが二価の基-Ｌ-Ｗ
    -であり、Ｗが式(１)の構造に相当するものであって、次の特徴： − Ｒはアルキル、好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜５であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチル、tert-ブチル及びＣ１-
    Ｃ４アルコキシから選択され、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０、又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 の少なくとも１つを示すものから選択されることを特徴とする請求項１に記載の
    組成物。
  4. 【請求項４】 前記式(Ｉ)のベンゾトリアゾール誘導体が、前記特徴の全て
    を示すものであることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 ベンゾトリアゾール誘導体が、次の一般式(Ｉ')： ［上式中、０≦ｒ≦１５、１≦ｓ≦５であり、Ｄは、 又は の二価の基を表す］ の化合物から選択されることを特徴とする請求項３又は４に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 ベンゾトリアゾール誘導体が、 である、一般式(Ｉ')に相当するものであることを特徴とする請求項５に記載の
    組成物。
  7. 【請求項７】 ベンゾトリアゾール誘導体が、 である、一般式(Ｉ')に相当するものであることを特徴とする請求項５に記載の
    組成物。
  8. 【請求項８】 式(Ｉ)のベンゾトリアゾール誘導体の濃度が、組成物の全重
    量に対して０．１〜１５重量％であることを特徴とする請求項１ないし７のいず
    れか１項に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 前記濃度が、組成物の全重量に対して０．２〜１０重量％で
    あることを特徴とする請求項８に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 式(ＩＩＩ)のビス-レゾルシニル-トリアジン誘導体が、 − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
    (４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒドロキシプロピルオキシ)-
    ２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
    [４-(２-メトキシエチルカルボキシル)フェニルアミノ]-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)-２-
    ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２"-メチルプロペニルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-
    ６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘプタメチルトリシロキシ
    -２"-メチルプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニ
    ル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒドロキシプロピルオキシ)-
    ２-ヒドロキシ]フェニル}-６-[４-(エトキシカルボニル)フェニルアミノ]-１,３
    ,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
    (１-メチルピロル-２-イル)-１,３,５-トリアジン； からなる群から選択されることを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に
    記載の組成物。
  11. 【請求項１１】 式(ＩＩＩ)の化合物が、 − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
    (４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(トリス(トリメチルシロキシ)シリルプロピルオキシ)-２-
    ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘプタメチルトリシロキシ
    -２"-メチルプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニ
    ル)-１,３,５-トリアジン； からなる群から選択されることを特徴とする請求項１０に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 ビス-レゾルシニルトリアジン誘導体の濃度が組成物の全
    重量に対して０．１〜１５重量％であることを特徴とする請求項１ないし１１の
    いずれか１項に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 前記濃度が組成物の全重量に対して０．２〜１０重量％で
    あることを特徴とする請求項１２に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 前記化粧品的に許容可能な支持体が、水中油型エマルショ
    ンの形態であることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の組
    成物。
  15. 【請求項１５】 前記第１及び第２の遮蔽剤以外の、一又は複数の付加的な
    親水性又は親油性のＵＶ-Ａ活性及び／又はＵＶ-Ｂ活性の有機遮蔽剤をさらに含
    有することを特徴とする請求項１ないし１４のいずれか１項に記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸
    誘導体、ショウノウ誘導体、請求項１ないし１５のいずれか１項に記載のもの以
    外のトリアジン誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体類、
    ジベンゾイルメタン誘導体、β,β'-ジフェニルアクリラート誘導体、ｐ-アミノ
    安息香酸誘導体、遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴と
    する請求項１５に記載の組成物。
  17. 【請求項１７】 付加的なＵＶ光保護剤として、被覆又は非被覆金属酸化物
    の顔料又はナノ顔料をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１６のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の、酸化チタン
    、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、及びそれらの混合物
    から選択されることを特徴とする請求項１７に記載の組成物。
  19. 【請求項１９】 皮膚を人工的にサンタン状態及び／又は褐色にする少なく
    とも１種の薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１８のいずれ
    か１項に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白
    剤、安定化剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香
    料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴霧剤、
    塩基性又は酸性化剤及び染料から選択される少なくとも１種のアジュバントをさ
    らに含有していることを特徴とする請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の
    組成物。
  21. 【請求項２１】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光組成物であって、非
    イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、
    ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、固形スティック、フ
    ォーム又はスプレーの形態であることを特徴とする請求項１ないし２０のいずれ
    か１項に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 分散液、懸濁液又はエマルションの形態、ペースト状又は
    固体状、水性又は無水の形態であり、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成
    物であることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組成物であって、シャ
    ンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
    であることを特徴とする請求項１ないし２１のいずれか１項に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するこ
    とを意図した化粧品用組成物の製造における、請求項１ないし２３のいずれか１
    項に記載の組成物の使用。
  25. 【請求項２５】 請求項１ないし２３のいずれか１項に記載の組成物を有効
    量、皮膚及び／又は毛髪に適用することからなることを特徴とする、太陽光線等
    の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するための美容処理方法。
JP2000598129A 1999-02-12 2000-02-03 ベンゾトリアゾール誘導体とトリアジン−ビス−レゾルシニルを含有する皮膚及び／又は毛髪の光保護用化粧品組成物 Expired - Lifetime JP3678150B2 (ja)

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