JP2004107349A - ジベンゾイルメタンから誘導されたサンスクリーン剤の光安定化法と該方法により得られた光安定化遮蔽化粧品用組成物及びその用途 - Google Patents

ジベンゾイルメタンから誘導されたサンスクリーン剤の光安定化法と該方法により得られた光安定化遮蔽化粧品用組成物及びその用途 Download PDF

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Abstract

【課題】 抗日光組成物におけるジベンゾイルメタン誘導体の光安定性及び溶解性を改善する方法及び該方法を使用して得られた組成物を提供する。
【解決手段】 ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量をジベンゾイルメタン誘導体と組合せて、これを化粧品的に許容可能な支持体に含有せしめて組成物とする。それによって、ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性及び溶解性を改善することができる。
【選択図】 なし

Description

 本発明は、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する方法であって、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量を上記ジベンゾイルメタン誘導体に組合せることからなる方法に関する。
 280nmと400nmの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼し、特にUV-Bとして知られている280nmと320nmの間の波長の光線により、皮膚は、自然なサンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態となったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並びに美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコントロールする手段が変わらず必要とされている。よって、UV-B線は遮蔽するべきである。
 また、皮膚をサンタン状態にする320nmと400nmの間の波長を有するUV-A線が皮膚に好ましくない変化を誘発する傾向にあり、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりである。UV-A線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるものである。UV-A線は、紅斑反応の惹起を促進したり、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮膚の本来の弾力性を保持するという化粧的及び美的理由から、益々多くの人々が皮膚へのUV−A線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、UV-A線も遮蔽することが望ましい。
 これに関し、特に有利なUV-A遮蔽剤の一つに、ジベンゾイルメタン誘導体、特に、高い固有の吸収力を持つ4-(tert-ブチル)-4-'メトキシジベンゾイルメタンからなるものがある。UV-A領域に活性のある遮蔽剤としてそれ自体よく知られている生成物であるこれらジベンゾイルメタン誘導体は、特に、特許文献1、特許文献2及び特許文献3に記載されており;さらに、4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンは、現在、ジボーダン(Givaudan)社から「パーソル(PARSOL)1789」の商品名で販売されている。
仏国特許公開第2326405号明細書 仏国特許公開第2440933号明細書 欧州特許公開第0114607号明細書
 残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特に、UV-A)の影響を比較的受けやすい生成物であり、より詳細には、紫外線の作用下で程度の差はあるが素早く劣化してしまうという好ましくない傾向を有する生成物である。ジベンゾイルメタン誘導体は、性質上それらが受ける紫外線に対して光化学的安定性が大幅に欠乏しているために、長い間太陽にさらされる場合、変わらない保護性を保証することは不可能であり、よって、使用者に制約を与えるものであり、使用者は、UVに対し皮膚を有効に保護するためには、規則的に短い時間間隔で繰り返し塗布しなければならなかった。
 ジベンゾイルメタン誘導体の光の対する不安定さを低減させるために、ベンザルマロナート誘導体とジベンゾイルメタン誘導体を組合せることが、欧州特許公開第0709080号公報において提案されている。しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する光安定化の課題は、現時点においてもあまり満足のいく程には解決されていない。
 また、仏国特許第2607996号及び国際特許公開第94/04132号公報においては、前記ジベンゾイルメタン誘導体の光に対する不安定さを低減させるために、炭化水素ベースのベンジリデンショウノウ誘導体、例えば3-(4-メチルベンジリデン)ショウノウをジベンゾイルメタン誘導体と組合せることも提案されている。
 ジベンゾイルメタン誘導体には上述のものとは別の他の困難性もあり、それはジベンゾイルメタン誘導体が特に室温で固体状であるといった不利な特徴を有する親油性の遮蔽剤であることである。従って、それらの抗日光化粧品用組成物への使用にはその処方とその実施、特に単独であるいは他の遮蔽剤と組合せてそれを溶解させるための溶媒を見出すことについて、ある種の制約があった。この点について、今日では通常、例えばエステル類のような油、特にC12-C15安息香酸アルキル[ファインテックス社(Finetex)の「フィンソルブ(Finsolv)TN」]、又はトリグリセリド類、特にC-C12脂肪酸トリグリセリド[ヒュルス社(Huels)の「ミグリオール(Miglyol)812」]が使用されているが、これら種々の製品は、上述の遮蔽剤に対する溶解性がなお不充分なものである。
 仏国特許第2607996号及び国際特許公開第94/04131号公報で使用されているような3-(4-メチルベンジリデン)ショウノウとジベンゾイルメタン誘導体をベースとした抗日光処方物でも、前記ジベンゾイルメタン誘導体の溶解性の問題を満足には解決できなかった。
 本出願人は、驚くべきことに、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量を、上述したジベンゾイルメタン誘導体と組合せることにより、これらのジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性(すなわち光安定性)を実質的かつ顕著に改善することができることを見出した。
 また、光安定化剤として本発明において使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物が、ベンジリデンショウノウから誘導された炭化水素ベースの有機遮蔽剤と比較して非常に驚くべきことに、例えば4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンのようなジベンゾイルメタン誘導体型の遮蔽剤に対して特に顕著な溶媒を構成することが見出されており、これが本発明に関連した更なる利点の一つである;これにより、同量の溶媒に対して、より多くの量の遮蔽剤を使用することが可能になる。
 さらに、ベンジリデンショウノウ型の既知の炭化水素系有機遮蔽剤の存在下で得られたジベンゾイルメタン誘導体の光安定性が、本発明で使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物によりさらに改善されることも見出されている。
 よって、本発明の第1の主題は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量と、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を組合せることからなる、ジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する新規方法にある。
 本発明の方法で得られた化粧品用及び/又は皮膚病用組成物は、長時間UV-A及びUV-B線にさらされた後でも、特に光安定しているといった利点を有する。この光線は自然のもの(日光)でも人工のもの(UVランプ)でもよい。
 また、本発明の主題は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物からなり、少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧品用及び/又は皮膚病用組成物の調製において前記ジベンゾイルメタンのUV線に対する安定性を改善するために使用される薬剤にある。
 本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下の詳細な記述を読むと明らかになるであろう。
 上述したように、本発明によって光安定化されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許公開第2326405号、仏国特許公開第2440933号及び欧州特許公開第0114607号公報に記載されている。
 本発明においては、もちろん一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。
 本発明で使用可能なジベンゾイルメタン誘導体としては、限定されないが、特に:
− 2-メチルジベンゾイルメタン、
− 4-メチルジベンゾイルメタン、
− 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
− 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
− 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
− 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
− 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
− 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
− 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
− 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
を挙げることができる。
 上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、本発明においては、特に、ジボーダン社から「パーソル1789」の商品名で販売されている4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンが最も好ましく使用され、この遮蔽剤は、次の構造式:
Figure 2004107349
に相当するものである。
 本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン誘導体は、4-イソプロピルジベンゾイルメタンで、この遮蔽剤はメルク(Merck)社から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の商標名で販売されているものであり、次の構造式:
Figure 2004107349
に相当するものである。
 ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、本発明の方法によって安定化された組成物中に、一般的に、組成物の全重量に対して0.01〜10重量%、好ましくは0.3〜5重量%の範囲の含有量で存在する。
 本発明の組成物における第2の化合物は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物である。これらの化合物はよく知られており、例えば欧州特許公開第0325881号、欧州特許公開第0335777号及び欧州特許公開第0712855号公報(これらの文献は本出願の内容の一部分を構成する)において記載され合成されている。
 本発明で使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、好ましくは次の式(I):
Figure 2004107349
{上式中:
− Rは、同一でも異なっていてもよく、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基、直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基又は-OSi(CH)基を表し、隣接する2つのR基は、互いに共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
− aは1〜3の範囲の整数であり;
− Aは水素又は式-L-Wの基であり、
− Lは次の式(IIa)又は(IIb):
  -CH-CHR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-   (IIa)
  -CH=CR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-    (IIb)
の2価の基であり、ここで
− R及びRは同一でも異なっていてもよく、水素あるいは直鎖状又は分枝状のC-Cアルキル基を表し、
− Zは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cアルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-Cジイル(diyl)基であり、
− Yは、-O-、-NR-、-SONH-、-(CO)O-、-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでRは水素又はC-Cアルキル基であり;
− mは0〜10の範囲の整数であり;
− nは0又は1であり;
− oは0又は1であり;
− pは0又は1であり;
− qは0又は1であり;
− Aは水素又は式-L-Wの基であり、q=1の場合にYが-SONH-を表すという条件でLはLの定義を有するものであり、
 2つの基A及びAの一方のみが必ず水素であると理解されるものであり;
− Wは次の式(1)、(2)又は(3):
Figure 2004107349
Figure 2004107349
又は   -Si(R)    (3)
の基であり、ここで
− Rは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC-C30アルキル、フェニル、3,3,3-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、数的にR基の少なくとも80%はメチルであり;
− Bは同一でも異なっていてもよく、R基及び次の式:
Figure 2004107349
(上式中、R、L、L及びaは上述したものと同様の意味を有する)
のX基から選択されるものであり;
− rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも一方はXを示し;
− uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数であり、t+uは3以上であると理解されるものである}
に相当するものである。
 即ち、本発明で使用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、好ましくは次の式(1)、(2)又は(3):
Figure 2004107349
Figure 2004107349
又は   B-Si(R)    (3)
{上式中、
− Bは同一でも異なっていてもよく、R基又は次の式(I):
Figure 2004107349
(ここで:
− Rは、同一でも異なっていてもよく、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基、直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基又は-OSi(CH)基を表し、隣接する2つのR基は、互いに共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
− aは1〜3の範囲の整数であり;
− Aは水素又は式-L-Wの基であり、
− Lは次の式(IIa)又は(IIb):
  -CH-CHR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-   (IIa)
  -CH=CR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-    (IIb)
の2価の基であって、ここで
− R及びRは、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のC-Cアルキル基を表し、
− Zは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cアルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-Cジイル基であり、
− Yは-O-、-NR-、-SONH-、-(CO)O-、-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでRは水素又はC-Cアルキル基であり;
− mは0〜10の範囲の整数であり;
− nは0又は1であり;
− oは0又は1であり;
− pは0又は1であり;
− qは0又は1であり;
− Aは水素又は式-L-Wの基であり、q=1の場合にYが-SONH-を表すという条件でLはLの定義を有するものであり、
 2つの基A及びAの一方のみが必ず水素であると理解されるものである)の基であり;
− Rは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC-C30アルキル、フェニル基から選択され、数的にR基の少なくとも80%はメチルであり;
− rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも一方がX基を示し、
− uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数であり、t+uは3以上であると理解されるものであり;そして
Bの少なくとも1つはX基である}
に相当するものである。
 上述した化合物の中でも、以下の特徴:
− RがH、OCH、CHであるか、隣接する2つのR基がメチレンジオキシを形成し、
− RがH又はCHであり、
− n=0、
− q=1
の少なくとも1つ、好ましくは全てを有する種類のものを、特に挙げることができる。
 この種類の範囲内において、以下の特徴:
− Rがメチルであり、
− Bがメチルであり、
− rが5〜20であり、
− sが2〜15であり、
− t+uが3〜10であり、
− m=1であり、
− Rが水素又はメチル基である、
の少なくとも1つ、好ましくは全てを有する化合物が好ましく使用される。
 これらの化合物及びその調製方法は、例えば欧州特許公開第0335777号公報に記載されている。
 好ましい第2の化合物の種類は、s=0である式(I)の化合物を組合せたものである。
 特に好ましい式(I)の化合物の例として、以下の式:
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
Figure 2004107349
の生成物を挙げることができる。
 上述した式(I)の化合物の中には新規なものもあり、これが本発明の他の主題を構成している。
 これは、上述した式(I)において、pが1であり、Z基が、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cアルキル基を有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cジイル基である化合物の場合である。
 本発明において、「ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量」という表現は、組成物中に含まれるジベンゾイルメタン誘導体(類)の光安定性を有意かつ顕著に改善するのに十分な量を意味するものである。使用される安定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧品的に許容可能な支持体の性質に依存して変わるが、例えば仏国特許公開第2607700号に記載されているような、光安定性を測定するための通常のテストにより、何ら困難なことなく決定することができる。
 ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物は、組成物の全重量に対して0.5重量%以上の含有量で、一般的に本発明の組成物中に存在する。さらに好ましくは、この含有量は組成物の全重量に対して0.5〜20重量%の範囲にある。
 言うまでもなく、本発明が対象としている化粧品用及び/又は皮膚病用組成物は、上述した2つの遮蔽剤以外にも、UV-A及び/又はUV-B範囲に活性のある一又は複数の補足的な親水性又は親油性サンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの補足的な遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンザルマロナート誘導体、β,β-ジフェニルアクリラート誘導体、p-アミノ安息香酸誘導体、国際特許出願公開第93/04665号に記載されている遮蔽シリコーン類及び遮蔽ポリマー類から選択することができる。有機遮蔽剤の他の例は欧州特許公開第0487404号に示されている。
 また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び/又は褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(DHA)をさらに含有してもよい。
 さらに、本発明の化粧品用及び/又は皮膚病用組成物は、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径:一般に5nm〜100nm、好ましくは10nm〜50nm)、例えば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び/又はアナターゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体よく知られているUV光保護剤であり、UV線を物理的に遮蔽(反射及び/又は散乱)する。さらに、従来の被覆剤はアルミナ及び/又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公開第0518772号及び欧州特許公開第0518773号に記載されている。
 またさらに、本発明の組成物は、特に、脂肪物質類、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル剤、不透明化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品及び/又は皮膚科学の分野で通常使用されている任意の他の成分、特に、エマルションの剤型の抗日光組成物を製造するためのものから選択される従来からの化粧品用アジュバントを含有することができる。言うまでもなく、本発明の組成物に導入することができる任意の付加的な成分は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物がジベンゾイルメタン誘導体に対して作用する光安定化効果に実質的に悪影響を及ぼさないかこれを阻害しないものでなければならない。
 脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよい。「油」とは、室温で液状の化合物を意味する。「ロウ」とは、室温で固体又は実質的に固体の化合物を意味するものであり、その融点は一般に35℃を越える。
 油としては、鉱物性油(ペトロラタム);植物性油[スイートアルモンド油、マカダミア油、クロフサスグリ種子油又はホホバ油];合成油、例えばペルヒドロスクワレン、脂肪アルコール、脂肪酸又は脂肪エステル[例えば、カプリン及び/又はカプリル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド類、ラノリン酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ファインテックス社から「フィンソルブTN」の商品名で販売されているC12-C15安息香酸アルキル]、オキシエチレン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル類及びエーテル類、シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジメチルシロキサン類又はPDMS)又はフッ化油及びポリアルキレン類を挙げることができる。
 ロウ状化合物としては、パラフィン、カルナウバロウ、ミツロウ及び硬化ヒマシ油を挙げることができる。
 有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
 増粘剤は、特に、架橋したポリアクリル酸、変性又は未変性のグアガム及びセルロースガム、例えばヒドロキシプロピルグアガム、メチルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースから選択することができる。
 本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製できる。
 この組成物は、特に、単一又は複合エマルション(O/W、W/O、O/W/O又はW/O/W)の形態、例えばクリーム又はミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パウダー、チューブ状固体の形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はスプレーの形態であってもよい。
 好ましくは、本発明の組成物は、水中油型エマルションの形態である。
 エマルションである場合、その水相は、公知の方法[バングハム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J.Mol.Biol.13, 238(1965)、仏国特許第2315991号及び仏国特許第2416008号]により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
 本発明の化粧品用及び/又は皮膚病用組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として使用することができる。
 本発明の化粧品用組成物が、UV線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として使用される場合、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散体の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態とすることができる。
 本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用に使用される場合、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ処理又は毛髪のストレート化処理の前、処理中、後に適用されて洗い流される組成物、スタイリング又はトリートメント用のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエーブ処理又は毛髪のストレート化処理、染色又は脱色用の組成物を構成し得る。
 組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメークアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、リップスティック、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
 指針として、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物の場合、水性相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に50〜95重量%、好ましくは70〜90重量%、油性相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して、一般的に0.5〜20重量%、好ましくは2〜10重量%である。
 次に本発明の実施例を例証するが、これは本発明を限定するものではない。
(実施例1)
式(4)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
 37.53g(0.169モル)のヘプタメチルトリシロキサンを、80℃にした140mlの乾燥トルエン中に触媒[ヒュルス・ペトラーチ(Huels・Petrarch)社のPC085である、シクロビニルメチルシロキサン中に3〜3.5重量%のPtを含有する錯体:200μl]と仏国特許公開第2430938号の実施例8に従い調製された3-(4-アリルオキシ-ベンジリデン)-1,7,7-トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-オン(50g、0.169モル)を含む溶液に、30分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で6時間放置した。反応混合物を濃縮した。残査をジクロロメタンに溶解し、この溶液をセライト床に通過させた。得られた淡黄色の油をヘプタンで結晶化させた。このようにして白色パウダー状の実施例1の誘導体が31g(収率:41%)得られた:
融点:47−48℃
− UV(95%エタノール)λmax=318nm、εmax=27,000
− C2746Siとしての元素分析
       理論値:  C62.50   H8.94   Si16.24
       実測値:  C62.43   H9.00   Si16.26
(実施例2)
式(5)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
 12.2g(0.055モル)のヘプタメチルトリシロキサンを、80℃にした35mlの乾燥トルエン中に触媒[ヒュルス・ペトラーチ社のPC085である、シクロビニルメチルシロキサン中に3〜3.5重量%のPtを含有する錯体:100μl]と1,7,7-トリメチル-3-[4-(2-メチルアリルオキシ)ベンジリデン]ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-オン(15.5g、0.05モル)を含む溶液に30分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で3時間放置した。反応混合物を濃縮し、シリカによるクロマトグラフィー(溶離剤:ヘプタン/ジクロロメタンが50/50)にかけたところ、実施例2の無色油状の誘導体が23g(収率:86%)得られた:
− UV(エタノール)λmax=320nm、εmax=26,200
− C2848Siとしての元素分析
       理論値:  C63.10   H9.08   Si15.81
       実測値:  C63.02   H9.00   Si15.64
(実施例3)
式(6)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
 50g(0.117モル)のα,ω-ドデカメチルヘキサシロキサンを、80℃にした110mlの乾燥トルエン中に触媒[ヒュルス・ペトラーチ社のPC085である、シクロビニルメチルシロキサン中に3〜3.5重量%のPtを含有する錯体:100μl]と1,7,7-トリメチル-3-[4-(2-メチルアリルオキシ)ベンジリデン]ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-オン(69.8g、0.235モル)を含む溶液に1時間30分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で1時間30分放置した。反応混合物を濃縮し、シリカによるクロマトグラフィー(溶離剤:ヘプタン/酢酸エチルが98/2からヘプタン/酢酸エチルが50/50まで勾配をかけたもの)にかけたところ、粘性があり淡黄色で油状の実施例3の誘導体が47.5g(収率:40%)得られた:
− UV(エタノール)λmax=320nm、εmax=26,200
− C5286Siとしての元素分析
       理論値:  C61.01   H8.47   Si16.46
       実測値:  C61.04   H8.52   Si16.10
(実施例4)
式(7)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
 テトラブチルアンモニウムブロミド(0.6g)の存在下で、3-(4-ヒドロキシベンジリデン)1,7,7-トリメチル-N-ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-オン(10g、0.039モル)と3-グリシジルオキシプロピル-ビス-(トリメチルシロキシ)メチルシラン(14.8g、0.044モル)の混合物を、窒素をバブリングしながら、110℃で6時間保持した。得られた粗油をシリカクロマトグラフィー(溶離剤:酢酸エチル/ヘプタンが20/80)にかけたところ、中間のフラクションに、無色油状の実施例4の誘導体が10g(収率:43%)得られた:
− UV(エタノール)λmax=318nm、εmax=26,900
− C3052Siとしての元素分析
       理論値:  C60.76   H8.84   Si14.21
       実測値:  C60.54   H8.87   Si13.96
(参考例5)
式(10)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
 5.37g(0.0525モル)のジエチルメチルシランを、70℃にした10mlの乾燥トルエン中に触媒[ヒュルス・ペトラーチ社のPC085である、シクロビニルメチルシロキサン中に3〜3.5重量%のPtを含有する錯体:200μl]と1,7,7-トリメチル-3-[4-(2-メチルアリルオキシ)ベンジリデン]ビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2-オン(15.5g、0.05モル)を含む溶液に20分以上かけて滴下した。混合物をこの温度で48時間放置した。反応混合物を濃縮し、シリカクロマトグラフィー(溶離剤:ヘプタン/ジクロロメタン)にかけたところ、結晶化した粘性のある無色油状の参考例5の誘導体が11.8g(収率:57%)得られた:
− 融点:39−40℃
− UV(エタノール)λmax=320nm、εmax=28,230
− C2640Siとしての元素分析
       理論値:  C75.67   H9.77   Si6.81
       実測値:  C75.42   H9.77   Si7.10
(参考例6)
式(11)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
a)第1工程:3-メトキシ-4-(3-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドの調製:
 3-クロロプロピルトリメチルシラン(33.14g、0.22モル)を、窒素下で80℃にした150mlの乾燥DMF、炭酸カリウム(30.4g、0.22モル)とバニリン(30.4g、0.2モル)の混合物に20分以上かけて滴下した。混合物を95−110℃で4時間放置した。反応混合物を冷却し、氷冷水に注いだ。水性相をジクロロメタンで3回抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮した。真空(0.04mmHg)下で蒸留した後、112−114℃で蒸留されるわずかにピンク色がかった油状の3-メトキシ-4-(3-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドが47.5g(収率:89%)得られ、これをさらに精製することなく次の工程で使用した。
b)第2工程:参考例6の誘導体の調製
 40mlの乾燥ジメトキシエタン中に油中50%のNaH(2.64g、0.055モル;乾燥ヘプタン、ついで乾燥ジメトキシエタンですすいだもの)とショウノウ(8.36g、0.055モル)を含む混合物を80℃で30分間加熱した。30mlのジメトキシエタンに上述した誘導体(13.32g、0.05モル)を溶解し、そこにこれを80℃で20分以上かけて滴下した。混合物を80℃で3時間攪拌した。冷却後、混合物を氷冷水に注いだ。得られた沈殿物を水で洗浄し、ついでエタノールで再結晶させたところ、白色パウダー状の参考例6の誘導体が12.4g(収率:62%)得られた:
− 融点:79−80℃
− UV(エタノール)λmax=331nm、εmax=21,300
− C2436Siとしての元素分析
       理論値:  C71.95   H9.06   Si7.01
       実測値:  C71.80   H9.05   Si6.80
(参考例7)
式(12)の誘導体の調製:
Figure 2004107349
a)第1工程:4-(3-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドの調製:
 3-クロロプロピルトリメチルシラン(33.14g、0.22モル)を、窒素下で120℃に維持された150mlの乾燥DMF、炭酸カリウム(30.4g、0.22モル)と4-ヒドロキシベンズアルデヒド(24.4g、0.2モル)の混合物に10分以上かけて滴下した。混合物を120−130℃で2時間30分放置した。反応混合物を冷却し、氷冷水に注いだ。水性相をジクロロメタンで3回抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮した。真空(0.2mmHg)下で蒸留した後、110−114℃で蒸留される無色油状の4-(3-トリメチルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドが40.5g(収率:86%)得られ、これをさらに精製することなく次の工程で使用した。
b)第2工程:参考例7の誘導体の調製
 50mlの乾燥ジメトキシエタン中に油中50%のNaH(4.8g、0.1モル;乾燥ヘプタン、ついで乾燥ジメトキシエタンですすいだもの)とショウノウ(15.2g、0.1モル)を含む混合物を80℃で30分間加熱した。30mlのジエトキシエタンに上述した誘導体(21.3g、0.09モル)を溶解し、そこにこれを80℃で20分以上かけて滴下した。混合物を80℃で2時間攪拌した。冷却後、混合物を氷冷水に注いだ。得られた沈殿物を水で洗浄し、ついでエタノールで再結晶させたところ、白色パウダー状の参考例7の誘導体が20.6g(収率:60%)得られた:
− 融点:100−101℃
− UV(エタノール)λmax=320nm、εmax=26,530
− C2334Siとしての元素分析
       理論値:  C74.54   H9.25   Si7.58
       実測値:  C74.62   H9.17   Si7.80
(実施例8)
 以下の組成物を調製した(量は組成物の全重量に対する重量%として表している):
組成物A(比較例):
Figure 2004107349
組成物A'(比較例):
Figure 2004107349
 また組成物BないしE(本発明例)は、本発明のシリコーン-ベンジリデンショウノウ化合物を5重量%さらに含有する。
Figure 2004107349
 これら各々の組成物についてUV線を照射した後の残留パーソル1789(4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン)のパーセンテージを以下の手順により決定した:各々の組成物について、3つの対照サンプルと3つの試験サンプルとを調製した。2μl/cmの組成物をすりガラスプレート上に手で広げた。ついでプレートを、自然のUV線を模倣するために、約35−40℃の温度に調節されたチャンバー内[ヘレウスサンテスト(Heraeus・Suntest)CPS]で、UV-Aフラックスに対して表して、30J/cmの曝露を得るために必要な時間の間照射し、対照パネルは他のプレートの照射の間、暗所に保管しておいた。
 ついで、サンプルを次の方法で分析した:遮蔽剤を溶解させるために、各プレートを50gのエタノールに浸して遮蔽剤を抽出した。ついで、プレートと遮蔽剤を含有する溶媒を、効果的な抽出を行うために、15分間超音波で処理した。得られた溶液を各々の遮蔽剤のλmaxでの分光光度計測により分析した。
 各々の試験組成物に対して、照射後の4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンの残留量を、照射されないサンプルの濃度に対する、照射されたサンプルの濃度の比で示す。
 残留した4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンのパーセンテージとして、結果を次の表(I)に示す。
Figure 2004107349
 これらの結果には、ベンジリデンショウノウ基を有するシラン又はオルガノシロキサンにより、4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性が改善されていることがはっきりと示されている。
 またこれらの結果には、炭化水素ベースのベンジリデンショウノウ化合物の存在下で得られた4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性が、該化合物の代わりにベンジリデンショウノウ基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物を使用することで、さらに改善されることが示されている。

Claims (25)

  1. 少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体のUV線に対する安定性を改善する方法において、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシラン化合物の有効量を上記ジベンゾイルメタン誘導体に組合せることを含み、
     前記ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシラン化合物が、次の式(1)又は(2):
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    {上式中、
    − Bは同一でも異なっていてもよく、R基又は次の式(I):
    Figure 2004107349
    (ここで:
    − Rは、同一でも異なっていてもよく、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基、直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基又は-OSi(CH)基を表し、隣接する2つのR基は、互いに共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
    − aは1〜3の範囲の整数であり;
    − Aは水素又は式-L-Wの基であり、
    − Lは次の式(IIa)又は(IIb):
      -CH-CHR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-   (IIa)
      -CH=CR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-    (IIb)
    の2価の基であって、ここで
    − R及びRは、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のC-Cアルキル基を表し、
    − Zは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cアルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-Cジイル基であり、
    − Yは-O-、-NR-、-SONH-、-(CO)O-、-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでRは水素又はC-Cアルキル基であり;
    − mは0〜10の範囲の整数であり;
    − nは0又は1であり;
    − oは0又は1であり;
    − pは0又は1であり;
    − qは0又は1であり;
    − Aは水素又は式-L-Wの基であり、q=1の場合にYが-SONH-を表すという条件でLはLの定義を有するものであり、
     2つの基A及びAの一方のみが必ず水素であると理解されるものである)の基であり;
    − Rは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC-C30アルキル、フェニル基から選択され、数的にR基の少なくとも80%はメチルであり;
    − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも一方がX基を示し、
    − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数であり、t+uは3以上であると理解されるものであり;そして
    Bの少なくとも1つはX基である}
    に相当するものであることを特徴とする方法。
  2. 式(1)又は(2)の化合物が、以下の特徴:
    − RがH、OCH、CHであるか、隣接する2つのR基がメチレンジオキシを形成し、
    − RがH又はCHであり、
    − n=0、
    − q=1
    の少なくとも1つに相当するものであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 式(1)又は(2)の化合物が、さらに以下の特徴:
    − Rがメチルであり、
    − Bがメチルであり、
    − rが5〜20であり、
    − sが2〜15であり、
    − t+uが3〜10であり、
    − m=1であり、
    − Rが水素又はメチル基である、
    の少なくとも1つに相当するものであることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 式(1)の化合物がs=0のものから選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. 式(1)又は(2)の化合物が、次の式:
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    の化合物から選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  6. 式(1)又は(2)の化合物が、pが1であり、Z基がヒドロキシルを有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cジイル基であるものから選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
  7. 式(1)又は(2)の化合物が次の構造:
    Figure 2004107349
    の化合物であることを特徴とする請求項6に記載の方法。
  8. ジベンゾイルメタン誘導体が:
    − 2-メチルジベンゾイルメタン、
    − 4-メチルジベンゾイルメタン、
    − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
    − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
    − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
    − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
    − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
    − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
    − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    から選択されることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載の方法。
  9. ジベンゾイルメタン誘導体が4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項8に記載の方法。
  10. ジベンゾイルメタン誘導体が4-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項8に記載の方法。
  11. 化粧品的に許容可能な支持体に少なくとも1種のジベンゾイルメタン誘導体を含有するタイプの、太陽光線等の紫外線から皮膚及び/又は毛髪を局所的に光保護する光安定性遮蔽化粧品用組成物において、ベンジリデンショウノウ官能基を有する少なくとも1種のシラン又はオルガノシランを有効量さらに含有し、
     前記ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシラン化合物が、次の式(1)又は(2):
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    {上式中、
    − Bは同一でも異なっていてもよく、R基及び次の式(I):
    Figure 2004107349
    (ここで:
    − Rは、同一でも異なっていてもよく、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基、直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基又は-OSi(CH)基を表し、隣接する2つのR基は、互いに共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
    − aは1〜3の範囲の整数であり;
    − Aは水素又は式-L-Wの基であり、
    − Lは次の式(IIa)又は(IIb):
      -CH-CHR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-   (IIa)
      -CH=CR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-    (IIb)
    の2価の基であって、ここで
    − R及びRは、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のC-Cアルキル基を表し、
    − Zは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cアルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-Cジイル基であり、
    − Yは-O-、-NR-、-SONH-、-(CO)O-、-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでRは水素又はC-Cアルキル基であり;
    − mは0〜10の範囲の整数であり;
    − nは0又は1であり;
    − oは0又は1であり;
    − pは0又は1であり;
    − qは0又は1であり;
    − Aは水素又は式-L-Wの基であり、q=1の場合にYが-SONH-を表すという条件でLはLの定義を有するものであり、
     2つの基A及びAの一方のみが必ず水素であると理解されるものである)の基であり;
    − Rは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC-C30アルキル、フェニル基から選択され、数的にR基の少なくとも80%はメチルであり;
    − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも一方がX基を示し、
    − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数であり、t+uは3以上であると理解されるものであり;そして
    Bの少なくとも1つはX基である}
    に相当するものであることを特徴とする組成物。
  12. ジベンゾイルメタン誘導体が:
    − 2-メチルジベンゾイルメタン、
    − 4-メチルジベンゾイルメタン、
    − 4-イソプロピルジベンゾイルメタン、
    − 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン、
    − 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン、
    − 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン、
    − 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、
    − 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン、
    − 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    − 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン、
    から選択されることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  13. ジベンゾイルメタン誘導体が4-(tert-ブチル)-4'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項12に記載の組成物。
  14. ジベンゾイルメタン誘導体が4-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項12に記載の組成物。
  15. ジベンゾイルメタン誘導体の含有量が組成物の全重量に対して0.01〜10重量%であることを特徴とする請求項11ないし14のいずれか1項に記載の組成物。
  16. 前記含有量が組成物の全重量に対して0.1〜6重量%であることを特徴とする請求項15に記載の組成物。
  17. 式(1)又は(2)の化合物が、以下の特徴:
    − RがH、OCH、CHであるか、隣接する2つのR基がメチレンジオキシを形成し、
    − RがH又はCHであり、
    − n=0、
    − q=1
    の少なくとも1つに相当するものであることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  18. 式(1)又は(2)の化合物が、さらに以下の特徴:
    − Rがメチルであり、
    − Bがメチルであり、
    − rが5〜20であり、
    − sが2〜15であり、
    − t+uが3〜10であり、
    − m=1であり、
    − Rが水素又はメチル基である、
    の少なくとも1つに相当するものであることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  19. 式(1)の化合物がs=0のものから選択されることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  20. 式(1)又は(2)の化合物が、次の式:
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    の化合物から選択されることを特徴とする請求項20に記載の組成物。
  21. 式(1)又は(2)の化合物が、pが1であり、Z基がヒドロキシルを有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cジイル基であるものから選択されることを特徴とする請求項11に記載の組成物。
  22. シラン又はオルガノシロキサン化合物の含有量が、組成物の全重量に対して0.5重量%以上であることを特徴とする請求項11ないし21のいずれか1項に記載の組成物。
  23. 前記含有量が組成物の全重量に対して0.5〜20重量%の範囲内にあることを特徴とする請求項22に記載の組成物。
  24. 次の式(1)又は(2):
    Figure 2004107349
    Figure 2004107349
    {上式中、
    − Bは同一でも異なっていてもよく、R基又は次の式(I):
    Figure 2004107349
    (ここで:
    − Rは、同一でも異なっていてもよく、水素、OH基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のC-C10アルキル基、直鎖状又は分枝状のC-C10アルコキシ基又は-OSi(CH)基を表し、隣接する2つのR基は、互いに共同して、アルキリデン基が1又は2の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能であり;
    − aは1〜3の範囲の整数であり;
    − Aは水素又は式-L-Wの基であり、
    − Lは次の式(IIa)又は(IIb):
      -CH-CHR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-   (IIa)
      -CH=CR-[C(R)-(CO)-(O)-(Z)-(Y)-    (IIb)
    の2価の基であって、ここで
    − R及びRは、同一でも異なっていてもよく、水素又は直鎖状もしくは分枝状のC-Cアルキル基を表し、
    − Zは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC-Cアルキル基で置換されていてもよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のC1-Cジイル基であり、
    − Yは-O-、-NR-、-SONH-、-(CO)O-、-(CO)NH-又は-O(CO)NH-を表し、ここでRは水素又はC-Cアルキル基であり;
    − mは0〜10の範囲の整数であり;
    − nは0又は1であり;
    − oは0又は1であり;
    − pは0又は1であり;
    − qは0又は1であり;
    − Aは水素又は式-L-Wの基であり、q=1の場合にYが-SONH-を表すという条件でLはLの定義を有するものであり、
     2つの基A及びAの一方のみが必ず水素であると理解されるものである)の基であり;
    − Rは、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分枝状のC-C30アルキル、フェニル基から選択され、数的にR基の少なくとも80%はメチルであり;
    − rは0〜200の整数であり、sは0〜50の整数であり、s=0の場合、2つの符合Bの少なくとも一方がX基を示し、
    − uは1〜10の整数であり、tは0〜10の整数であり、t+uは3以上であると理解されるものであり;そして
    Bの少なくとも1つはX基である}
    に相当する化合物。
  25. 次の構造:
    Figure 2004107349
    の化合物。
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