KR100190337B1 - 디벤조일메탄으로부터 유도된 차광제의 광안정화방법, 그로부터 수득되는 광-안정 차광제 화장품 조성물, 및 그의 용도 - Google Patents

Abstract

본 발명은 국소처리에 의하여 피부 및/또는 모발을 자외선 방사, 특히, 태양광 방사로 부터 광보호하기 위한 신규 광-안정 차광제 화장품 조성물에 관한 것으로서, 상기 조성물은 화장용으로 허용되는 담체내에, 하나 이상의 디벤조일메탄 유도체를 UV-A 활성 차광제로서 함유하며, 하나 이상의 아미드 화합물 유효량을 상기 차광제의 안정화제로서 함유한다.

또한 본 발명은 상기에 상응하는 광안정화 방법, 및 자외선 방사로 부터의 피부 및 모발의 보호 방법에 관한 것이다.

Description

디벤조일메탄으로부터 유도된 차광제의 광안정화방법, 그로부터 수득되는 광-안정 차광제 화장품 조성물, 및 그의 용도

본 발명은 피부 및/또는 모발을 자외선으로 부터 광보호하기 위한 신규 국소용 화장품 조성물 (하기에서는 상기 조성물을 간단하게 항광(antisun) 조성물 또는 차광 (sunscreen) 조성물이라 칭한다), 상기 언급된 화장처리에의 상기 조성물의 용도, 및 하나 이상의 적절히 선택된 화합물에 의한 특정 UV-A-활성 차광제 광안정화의 일반적인 방법에 관한 것이다. 더 구체적으로, 본 발명은 UV-A-활성 유기 차광제로서, 디벤조일메탄 유도체에서 선택된 하나 이상의 화합물을, 광안정화제로서의 하나 이상의 아미드 화합물과 조합하여 화장용으로 허용되는 담체 내에 함유하는 UV-안정 항광 조성물, 및 이에 상응하는 상기 아미드 화합물(들) 에 의한 상기 UV-A 차광제(들)의 안정화 방법에 관한 것이다.

320 내지 400nm 사이의 UV-A 파는 피부를 타게할 뿐만 아니라, 특히 민감성 피부 또는 계속적으로 태양광에 노출된 피부의 경우, 오랜 기간에 걸쳐 피부에 해로운 변화를 초래할 수도 있다. 구체적으로, UV-A 파는 피부 탄력성의 손실을 가져오며 주름살을 발생시킴으로써, 늙어보이게 하는 결과를 초래한다. 또한 이것은 어떤 사람에게는 홍반 반응의 개시 또는 활성을 촉진시켜서 광독성 또는 광알레르기성 반응을 일으킬 수도 있다. 따라서, UV-A 파릍 차단할 필요가 있다. 지금까지 화장품 분야에서, 유해한 UV-A 파를 다소 선택적으로 흡수할 수 있는 수많은 차광제들이 제안되었다.

이러한 맥락에서, 최근에 크게 흥미를 끄는 UV-A차광제로서 디벤조일메탄 유도체의 군이 있으며, 4-(t-부틸)-4'- 메톡시디벤조일메탄이 높온 고유 흡수능을 나타낸다. 현재는 UV-A 차광제로서 잘알려진 생산물인 상기의 디벤조일메탄 유도체들은 프랑스공화국 특히출원제 A-2 326 405 호 및 제 A-2 440 933 호, 및 유럽특히출원 제A-0,114,607호에 기재되어 있으며, 또한 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄은 최근에 GIVAUDAN 사에 의하여 PARSOL 1789라는 상표명으로 판매되고 있다.

불행히도, 디벤조일메탄 유도체는 자외선파 (특히, UV-A)에 비교적 민감한 생성물이라는 것, 다시 말하면, 이것은 상기 파에 의하여 다소 빠르게 분해되는 단점이 있다는것이 발견되었다. 따라서, 필연적으로 접촉해야만 하는 자외선에 대한 디벤조일메탄 유도체의 이러한 광화학적 안정성상의 실질적인 약점으로 인하여, 태양광에 오랜 동안 노출될 경우의 일정한 보호효과가 보장되지 않음으로써, UV 파에 대한 피부의 보호를 효과적으로 하기 위해서 사용자는 규척적이고 빈번한 간격으로 이것을 사용해야만한다.

UV 파에 대한 디벤조일메탄 유도체의 광안정성은 계속하여 문제가 되어 왔으며, 아직도 완전한 방식으로 해결되지는 못하고 있다.

놀랍고도 기대밖으로, 본 출원인은 상기 언급된 디벤조일메탄 유도체를 하나 이상의 아미드 화합물 유효량과 조합함으로써, 디벤조일메탄유도체의 광화학적 안정성 (또는 광안정성)을 실질적으로 상당히 향상시킬 수 있음을 발견하였다.

상기의 기본적인 발견이 본발명의 기초를 이루었다.

디벤조일메탄에 있어서 상기의 것과는 별개인 또 다른 어려움은 이것이 친유성 차광제이기 때문에 실온에서 고체라는 단점을 특징으로 가지고 있다. 이에 따라, 항광 화장품 조성물에의 상기 화합물의 사용에 있어서, 제제화 및 사용, 특히, 상기 유도체를 단독으로 또는 다른 차광제와 합께 적절히 용해시킬 수 있는 용매를 찾는데에 어려움이 있다. 이러한 맥락에서 최근에 가장 빈번히 사용되는 것은 에스테르, 특히, C₁₂∼ C_l5알킬 벤조에이트 (Finetex 의 FINSOLVE TN) 와 같은 오일, 또는 트리글리세리드, 특히, C₈∼ C₁₂지방산 트리글리세리드(Huls 의 MIGLYOL 812)이지만, 이러한 여러가지 생성물들은 상기의 차광제들에 대하여 여전히 부적당한 용해특성을 나타낸다.

그러나, 최근에 본 발명의 범위에 광안정화제로서 사용될 수 있는 몇가지 아미드 화합물들이, 역시 매우 놀랍게도, 예컨대 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄과 같은 디벤조일메탄 유도체 유형의 차광제에 특히 우수한 용매도 될 수 있다는 것 (이것은 본 발명의 또 다른 장점중 하나이다)을 발견하였는데, 상기 유도체들은 사실 이러한 아미드 화합물에 극히 높은 용해도를 나타내며, 이러한 높은 용해도는 어떠한 경우에도 지금까지 사용되있던 통상의 용매보다 현저하게 뛰어나서, 같은 양의 용매로 다량의 차광제를 용해시키는것이 가능해졌다.

따라서, 본발명의 하나의 주제에따라, UV 방사(약280 내지 400nm 사이의 파장), 특히 태양광 방사에 대한 디벤조일메탄 유도체의 신규한 안정화방법이 제안되는데, 상기 방법은 상기 디벤조일메탄 유도체를 하나 이상의 아미드 화합물 유효량과 조합하는 것으로 이루어지는 것을 기본적인 특징으로 한다.

본 발명의 다른 주제로서, 피부 및/또는 모발을 자외선 방사, 특히 태양광 방사로 부터 보호하기 위한 광-안정 차광제 화장품 조성물이 제안되는데, 상기 조성물은 하나 이상의 디벤조일메탄 유도체를 화장용으로 허용되는 담체내에 함유하는 유형의 조성물이며, 하나 이상의 아미드 화합물 유효량을 더 함유하는 것을 기본적인 특징으로 한다.

본 발명의 또 다른 주제는 피부 및/또는 모발을 자외선 방사, 특히 태양광 방사로부터 보호하기 의한 개선된 화장 처리법으로 구성되며, 기본적으로, 본 발명에 따른 광-안정 조성물 유효량을 피부 및/또는 모발에 적용하는 것으로 구성된다.

또한 최종적으로, 본발명은 화장용 항광 조성물에 존재하는 디벤조일메탄유도체를 UV 파로부터 안정화하기 위하여 아미드 화합물을 사용하는 것에 관한 것이다.

본 발명의 다른 특징, 내용 및 장점들은 하기에서 분명해질 것이다. 상기와 같이, 본 발명에서 안정화하고자 하는 디벤조일메탄 유도체는 공지의 물질인데, 구체적으로, 프랑스공화국 특히 제 A-2 326 405 호, 프랑스공화국 특히 제 A-2 440 933 호 및 유럽특히 제 A-0 114 607 호에 기재되어 있으며, 이 물질의 실제 정의를 기재하고 있는 상기 문헌들의 내용은 본 발명에 참조로서 포함되어 있다.

본 발명에 있어서, 하나 이상의 디벤조일메탄 유도체릍 사용할 수 있음은 물론이다.

본 발명에 따라 특히 성공적으로 사용할수있는 디벤조일메탄 유도체들로는 하기의 것들이 있으며, 이에 제한하지는 않는다.

-2-메틸디벤조일메탄

-4-메틸디벤조일메탄

-4-이소프로필디벤조일메탄

-4-t-부틸디벤조일메탄

-2,4-디메틸디벤조일메탄

-2,5-디메틸디벤조일메탄

-4,4'-디이소프로필디벤조일메탄

-4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄

-2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄

-2-메틸-5-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄

-2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄

-2,6-디메틸-4-t-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄

상기 디벤조일메탄 유도체들 중, 본 발명에 따라 매우 바람직한 것은 4-(t-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄, 특히 GIVAUDAN 사에 의하여 PARSOL 1789 라는 상표명으로 판매되는 것으로서, 하기 식에 해당되는 차광제이다.

본 발명에 있어서 바람직한 다른 디벤조일메탄 유도체는 4-이소프로필디벤조일메탄이며, MERCK 사에 의하여 EUSOLEX 8020 라는 이름으로 판매되고 있는 차광제로서, 하기 식에 해당한다.

디벤조일메탄 유도체(들)은 본 발명에 따른 조성물 또는 본 발명에 따라 안정화될 조성물 내에, 조성물 총 중량에 대하여 일반적으로 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.1 내지 6중량% 사이의 양으로 존재한다.

본 발명에 있어서, 아미드 화합물이라는 용어는 그 화학적 구조내에 하나 이상의 하기와 같은 아미드 그룹 (또는 아미드 작용)을 가지는 모든 화합물을 가리킨다.

아미드 화합물 유효량 이라는 말은 조성물 내에 존재하는 디벤조일메탄 유도체(들)의 관안정성을 현저하게 향상시키기에 충분한 양을 나타낸다. 사용되는 안정화제의 최소량은 조성물에 사용되는 화장품용담체의 특성에 따라 변화하며, 하기 실시예와 같이 광안정성을 측정하는 통상의 시험수단으로 어렵지 않게 결정될 수 있다.

따라서 일반적으로, 아미드 화합물(들)은 본 발명에 따른, 또는 본 발명에 사용되는 조성물내에서, 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 50중량%, 바람직하게는 0.1 내지 30중량% 사이의 양으로 존재한다.

더욱 특히 본 발명에 포함되는 아미드 화합물은 하기 식(1)에 해당하는 것이다.

[식중, R^l, R²및 R³라디칼은 동일 또는 상이하며, 수소이거나 또는 1 가의 포화 또는 불포화인 지방족, 지환족 또는 고리 탄화수소 라디칼로서, 관능화 (Functioalized) 되어 있을 수 있으며, 1 내지 30 개, 바람직하게는 1 내지 22 개의 탄소원자틀 함유하는데, 단, 식중 R¹은 라디칼 또는 R³라디칼과 5 내지 18 개의 탄소원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R²및 R³라디칼은 함께 5 내지 18개의 탄소원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있다.

포화 지방족 탄화수소의 예로는 직쇄 또는 분지쇄, 치환 또는 미지환의 C₁∼ C₃₀, 바람직하게는 C₁∼ C₂₂의 알킬 라디칼, 특히, 메틸, 에틸, n - 프로필, 이소프로필, n - 부틸, 이소부틸, t - 부틸, 펜틸, n- 아밀, 이소아밀, 네오펜틸, n - 헥실, n - 헵틸, n - 옥틸, 2 - 에틸헥실, t - 옥틸, 데실, 라우릴 및 옥타데실 라디칼을 구체적으로 언급할 수 있다.

포화 고리 탄화수소 라디칼의 예로는 미치환 되었거나, 특히, 알킬 라디칼로 치환된 시클로펜틸 및 시클로헥실 라디칼을 구체적으로 언급할 수 있다.

불포화지방족탄화수소라디칼의 예로는 직쇄 또는 분지쇄의, 치환 또는 미치환된 C₂∼ C₃₀, 바람직하게는 C₂∼ C₂₂의 알케닐 또는 알키닐 라디칼, 특히 비닐, 알릴, 올레일 및 리놀레일 라디칼을 구체적으로 언급할 수 있다.

구체적으로 언급할 수 있는 불포화 고리 탄화수소 라디칼의 예로는 페닐 및 나프틸과 같은 아릴 라디칼이 있으며, 특히 예컨대 톨릴 라디칼과 같은 알킬에 의하여 치환될 수 있고, 불포화 지환족 라디칼의 예로는 더 구체적으로 벤질 및 페닐에틸 라디칼이 언급될 수 있다.

관능화된 라디칼 이라는 용어는 구체적으로 그 화학적 구조내의 주 사슬 또는 부 사슬 구성원 중 어느 편에, 구체적으로 에스테르, 에테르, 알콜, 아민, 아미드 및 케톤류이며, 바람직하게는 에스테르인 작용기 중 하나 이상을 함유하는 라디칼을 의미한다.

본 발명에 적합한 식(1)의 아미드 화합물중 더욱 바람직하게 사용되는 화합물은 하기의 특징들중 하나 이상, 바람직하게는 모두를 가지는 화합물이다.

- 아미드 화합물은 N - 치환, 더욱 바람직하게는 N, N - 2 치환된 아미드이고, - R¹은 바람직하게는 C₁∼ C₂₂, 더욱 바람직하게는 C₁∼ C₁₂, 의 직좨 또는 분지쇄 알킬 라디칼이거나, 또는 미치환된 그자체이거나, 하나 이상의 C₁∼ C₁₂직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디칼로 치환된 페닐 라디칼이고, - R2은 바람직하게는 C₁∼ C₂₂, 더욱 바람직하게는 C₁∼ C₁₂직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디칼이고, - R³은 R²로 정의된 것들중에서 선택된 직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디칼이거나, 또는 하기 식 (2) 에 해당되는 에스테르 관능기를 함유하는 1 가 라디칼을 나타낸다.

[식중, R 및 R' 는 동일 또는 상이하며, 1 내지 12 개, 바랍직하게는 1 내지 8개의 탄소원자를 함유하며, 바람직하게는 알킬유형인 2개의 탄화수소 라디칼을 나타낸다.

본 발명의 하나의 구현에 있어서 사용되는 상기 정의 아미드 화합물은 디벤조일메탄 유도체(들)에 대하여 우수한 용해도를 가지고 있는 것들이다.

본 발명의 다른 구현에 있어서 사용되는 상기 정의 아미드 화합물은 화장용으로 허용되는 담체의 제조에 통상적으로 사용되는 지방상에서 우수한 용해도를 가지는 것들이다.

본 발명의 다른 구현으로서, 상기 정의 아미드 화합물은 안정화할 디벤조일메탄 유도체(들)을 단독으로 충분히 용해시킬 수 있는 양으로 사용된다.

본 발명의 또 다른 구현으로서, 사용되는 상기 정의 아미드 화합물은 N, N - 2 치환된 것들이다.

본 발명의 또 다른 구현으로서, 사용되는 상기 정의 아미드 화합물은 어떠한 유화특성 (emulsifying property)도 가지고 있지 않거나, 실질적으로 가지고 있지 않은 것들이다.

본 발명의 또 다른 구현으로서, 사용되는 상기 정의 아미드 화합물은 비이온성의 것들이다.

본 발명의 또 다른 구현으로서, 사용되는 상기 정의 아미드 화합물은 물에 불용성이거나 실질적으로 불용성인 것들이다.

물론, 본 발명에 있어서 상기의 모든 구현들은 단독적인 (즉, 개별적인) 것으로 생각될 수 있으며, 예컨대, 동시에 N, N - 2 치환 되어 있으며 유화특성이 없는 아미드 화합물을 사용하는 구현의 경우, 또는 동시에 비유화성이고, 비이온성이며, 물에 불용성인 아미드 화합물을 사용하는 것으로 구성되는 구현의 경우와 같이 조합될 수도 있다.

디벤조일메탄 유도체의 광화학적 안정화에 매우 뛰어난 특성을 가지는 것으로 증명된 것들로서, 하기의 특정 아미드 화합물들을 구체적인 예로 들 수 있다.

- N, N - 디에틸 - 3 - 메틸벤즈아미드 (화합물 1)를 포함하는 하기식 (3) 의 N, N - 디에틸 - 메틸벤즈아미드.

하기 식(4)의 에틸 N - 부틸 - N - 아세틸아미노프로피오네이트 (화합물 2).

더욱이, 상기 특정 화합물들이 디벤조일메탄 유도체에 대한 우수한 용매라는 것이 발견되었다. 따라서, 직접적으로 말하자면, 실온에서, 차광제인 4 - (t - 부틸) - 4' - 메톡시디벤조일메탄은 식(3)의 화합물에는 약40중량%의 양으로, 화합물 2에는 약30중량%의 양으로 용해 될 수 있다는 것이 발견되었다. 이와 비교하여, 상기 차광제는 상기의 FINSOLV TN과 같은 참조용 용매에는 약20중량%의 양으로 용해된다.

순전히 광안정화라는 관점에서, 본 발명에서는 화합물 1 보다 화합물 2 가 더 바람직하다.

본 발명에 따른 광 - 안정 화장용 항광 조성물은 물론 디벤조일메탄 유도쳬 이외에도, 하나 이상의 상보적인 UVA- 및/또는 UVB - 활성의 친수성 또는 친유성 차광제를 함유한다. UV-B (약 280 내지 320 nm 사이의 파장)에 활성인 상보적 차광제가 존재함으로써, 최종 조성물이 모든 UV 파를 여과하는 것이 가능해진다.

본 발명의 조성물은 구체적으로 지방 유기용매, 이온성 또는 비이온성 증점제, 완화제, 산화방지제, 유백제, 안정화제, 연화제, 실리콘, α-히드록시산, 소포제, 보습제, 비타민, 향료, 방부제, 계면활성제, 충전제, 색소 (무기 또는 유기), 금속이온봉쇄제, 중합체, 분사제, 염기성화 또는 산성화제, 염료, 또는 화장용으로, 특히, 에멀션 형태의 항광 조성물의 제조에 통상적으로 사용되는 성분들에서 선택된 통상의 화장품용 보조제를 더 함유할 수 있다. 물론, 본 발명에 따른 조성물에 혼입될 수 있는 모든 보조성분들은 아미드 화합물이 디벤조일메탄 유도체에 부여하는 광안정화 효과에 방해를 주거나 실질적인 부작용을 주어서는 안 된다.

지방은 오일 또는 왁스, 또는 그의 혼합물로 구성될 수 있으며, 지방산, 지방 알콜 및 지방산 에스테르를 함유할 수 있다. 오일은 동물성 오일, 식물성 오일, 무기질 오일 또는 합성 오일로부터 선택될 수 있으며, 상기 합성 오일은 구체적으로 액체 석유, 파라핀 오일, 실리콘오일, 휘발성 또는 비휘발성의 이소파라핀, 폴리-α-올레핀, 불화 오일 및 과불화 오일이다. 유사하게, 왁스는 동물성 왁스, 화석 왁스, 식물성 왁스, 무기질 왁스 또는 합성 왁스로 부터 선택될 수 있다.

유기 용매중에서는 알콜 및 저급 폴리올을 언급할 수 있다.

중점제는 구체적으로 교차결합 폴리아크릴산, 구아 고무 및 셀룰로스, 또는 히드록시프로필화 구아 고무, 메틸히드록시에틸셀룰로스, 히드록시프로필메틸셀룰로스 및 히드록시에틸셀룰로스와 같이 변환된 것으로 부터 선택될 수 있다.

본 발명의 조성물은 당해 숙련가, 특히, 수 - 내 - 오일 (on - in -water) 또는 오일 - 내 - 수 에멀션을 제조하고자 하는 숙련가들에 있어서 공지의 기술에 따라 제조될 수 있다.

상기 조성물은 구체적으로 크림, 밀크, 겔 또는 크림 겔, 분말, 고체 막대 (stick) 와 같이 단순한 혹은 복잡한 에멀션의 형태 (O/W, W/O, O/W/O)로 존재할 수 있으며, 에어러솔로 포장될 수 있고, 거품 또는 스프레이 형태로 존재할 수 있다.

에멀션의 경우, 에멀션의 수상은 공지의 방법 (Bangham, Standish and Watkins, J. Mol. Biol. 13, 238 (1965), 프랑스공화국 특허 제 2 315 991호 및 2 416 008호)에 따라 제조된 비이온성 액포 분산액을 함유할 수 있다.

본 발명의 광 - 안정 화장품 조성물은 사람의 피부 또는 모발을 자외선으로부터 보호하는 조성물로서, 항광 조성물로서 또는 화장품 생성물로서 사용될 수 있다.

본 발명의 화장품조성물은 UV 파로부터 사람의 피부를 보호하기 위하여 또는 항광 조성물로서 사용되며, 용매 또는 지방내의 현탁액 또는 분산액의 형태, 비이온성 액포 분산액 또는 에멀션 형태로 존재하는데, 포마드, 겔, 고체 막대, 에어로솔 거품 또는 스프레이 형태의 크림 또는 밀크와 같은 수 - 내 - 오일 유형이 바람직하다.

본 발명에 따른 화장품 조성물이 모발보호용으로 사용될 경우, 이것은, 예컨대 샴푸, 로숀, 겔, 에멀션, 비이온성 액포 분산액, 또는 모발용 래커 (lacquer) 의 형태로 존재하며, 세발 전후, 염색 또는 표백 전후, 파마 - 작업, 또는 모발 직화 (straightening) 전, 도중 또는 후에 성형용 또는 처리용 로숀이나 겔로서, 파마 - 작업 조성물 또는 모발 - 직화 조성물로서, 또는 모발의 염색이나 표백 조성물로서 적용되는 헹굼 조성물을 구성할 수 있다.

조성물이 피부처리 크림, 파운데이션, 립스틱, 아이쇄도우, 블러셔, 마스카라, 또는 아이라이너와 같이 속눈썹, 눈썹 또는 피부용 화장품 생성물로서 사용될 경우, 무수 또는 수성의, 수 - 대 - 오일 또는 오일- 내 - 수 에멀션, 비이온성 액포 분산액 또는 현탁액으로서 고체 또는 거품 형태로 존재할 수 있다.

명세서의 초두에 지적하였듯이, 본 발명의 다른 주제는 피부 또는 모발을 UV 파의 효과로 부터 보호하기 위한 화장처리법이며, 이것은 상기 광 - 안정 화장품 조성물 유효량을 피부 또는 모발에 적용하는 것으로 구성된다

본 발명의 실시예들을 하기하는 바 제한하고자 하는 것은 아니다.

실시예 1

본 실시예에서는 본 발명에 따른 2종의 아미드화합물, 즉, 양자 모두 하기 차광제의 용매이기도 한 N, N - 디에틸- 3 - 메틸벤즈아미드(화합물 1) 및 에틸 N - 부틸, N - 아세틸아미노프로피오네이트 (화합물 2)의 존재하에, 4 - (t - 부틸) - 4' - 메톡시디벤조일메탄 (GIVAUDAN의 차광제 PARSOL 1789) 의 광안정성을 조사하였다. 비교를 위해서, 아미드 화합물이 존재하지 않는 조건에서 동일한 차광제의 광안정성을 조사하였는데, 이 경우에는 조사할 차광제에 대하여 중성인 용매로서, FINETEX 의 FINSOLV TN (C₁₂∼ C₁₅알킬 벤조에이트)을 사용하였다.

상기 3 가지 식(F0-F1-F2)의 조성은 하기와 같다 (제제 총 중량에 대한 중량% 로서).

* 통상의 담체 조성은 하기와 같다 (제제 총 중량에 대한 중량 96 로서).

- 에멀션화제 (SEPPIC 의 SIMULSOL 165) 2 %

- 증점제 (GOODRICH 의 PEMULEN TR1) 0.5 %

- 보습제 (소르비톨 및 글리세린) 5 %

- 금속이온봉쇄제 (EDTA, 디나트륨염) 0.1 %

- pH 조정제 (트리에탄올아민) 0.5 %

- 증류수 총분량

총 100 %

상기 제제내 차광제의 광안정성은 인공 태양광 (solar simulator) 을 사용하여 2시간 동안 조사한 후 잔류 차광제를 분광광도 분석함으로써 정량하였다. 정확한 작업방법은 하기와 같다.

- 제조된 제제는 폴리메틸 메타크릴레이트 기재의 판에 2 mg/㎠로 도포되고, - 이어서, 일정한 온도에서 샘플을 2시간 동안 자연상의 UV 조사 (UV - A + UV - B)를 모방한 HERAEUS 태양시험 (광원 : 1.8 kW long xenon arc)에 적용시키고, - 노출 후, 각각의 샘플을 메탄올 55ml에 담그어 차광제를 추출하고, - 이렇게 수득된 용액을 UV 분광광도계로 290 ∼ 400nm 의 영역에서 분석한다.

조사 후 남아있는 차광제의 비율은 조사된 샘플에서 측정된 차광제의 농도와 조사전의 샘플내 차광제의 개시 농도 사이의 비로써 수학적으로 표현된다.

수득된 결과는 하기와 같다.

상기 결과는 본 발명에 따른 2종의 아미드 화합물에 의하여 4- (t - 부틸) - 4' - 메톡시디벤조일메탄에 뛰어난 광 - 안정 효과가 부여되었다는 것을 명백히 보여준다. 비교용 제제 F0 에서, 차광제의 손실량은 92% 이었으며, 제제 F1의 경우는 48%, 제제 F2의 경우는 겨우 26% 이었다.

실시예 2

본 실시예에서는, 본 발명에 따른 아미드 화합물, 즉, 에틸 N - 부틸, N - 아세틸아미노프로피오네이트 (화합물 2)가 다양한 양으로 존재할 때의 4 - (t -부틸) - 4' - 메톡시디벤조일메탄 (GIVAUDAN 의 차광제 PARSOL 1789) 의 광안정성을 조사하였다. 낮은 농도의 아미드 화합물에서의 차광제의 용해도릍 중가시키기 위하여, 부가적인 중성 용매로서 FINETEX 의 FINSOLV TN (C₁₂∼ C₁₅알킬 벤조에이트)를 사용하였다.

시험한 제제의 조성 (제제 충 중량에 대한 중량 %, 통상의 담체는 실시예 1에서 사용된 것과 동일함) 및 수득된 광안정성 결과 (실시예 1에 제시된것과 동일한 방법에 따른)를 하기표에 나타내었다

Claims (40)

1. 하나 이상의 디벤조일메틴 유모체를 자외선 방사에 대하여 안정화시키는 방법에 있어서, 상기 유도체를 니아신 및 니고틴아마이드 유도체를 제외한 아미드 화합물의 1종 이상의 유효랑과 조합시키는 것으로 구성됨을 특징으로하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체는 2-메틸디벤조일메탄, 4 - 메틸디벤조일메탄, 4 - 이소프로필디벤조일메탄, 4 - t - 부틸디벤조일메탄, 2, 4 - 디메틸디벤조일메탄, 2, 5 - 디메틸디벤조일메탄, 4, 4 -디이소프르필디벤조일메탄, 4 - t - 부틸 - 4' - 메톡시디벤조일메탄, 2 -메틸 - 5 - 이소프로필 - 4' - 메톡시디벤조일메탄, 2 - 메틸 - 5 - t - 부틸 - 4' - 메톡시디벤조일메탄, 2, 4 - 디메틸 - 4' - 메톡시디벤조일메탄 및 2, 6 - 디메틸 - 4 - t - 부틸 - 4' - 메톡시디벤조일메탄으로부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 디벤조일메탄유도체는 4 - (t - 부틸)- 4' - 메톡시디벤조일메탄 또는 4 - 이소프로필디벤조일메탄 임을 특징으로 하는 방법.
4. 제3항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체는 4 - (t - 부틸)- 4' - 메톡시디벤조일메탄 임을 특징으로 하는 방법.
5. 제l항 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 하기 식 (1) 에 해당되는 화합물로부터 선택된 화합물임을 특징으로 하는 방법.

   [식중, R¹, R²및 R³라디칼은 동일 또는 상이하며, 수소이거나 또는 1 가의 포화 또는 불포화인 지방족 또는 지환족 또는 고리 탄화수소 라디칼로서, 관능화될 수 있으며, 1 내지 30 개의 탄소원자를 함유하는데, 단, 식중 R¹은 R²또 는 R³중 하나와 5 내지 18 개의 탄소원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있고, R²및 R³는 함께 5 내지 18 개의 탄소원자를 함유하는 고리를 형성할 수 있다.
6. 제5항에 있어서, R²및 R³라디칼 중 하나 이상은 수소가 아님을 특징으로 하는 방법.
7. 제6항에 있어서, R²및 R³라디칼 양자는 수소가 아님을 특징으로 하는 방법.
8. 제5항에 있어서, 상기 1가 탄화수소 라디칼은 1 내지 22개의 탄소원자를 함유함을 특징으로하는 방법.
9. 제5항에 있어어, R¹라디칼은 C₁∼ C₁₂의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디킬, 또는 비치환되었거나 하나 이상의 C₁∼ C₁₂직쇄 또는 분기쇄 알킬 라디칼로 치환된 페닐 라디칼임을 특징으로 하는 방법.
10. 제5항에 있어서, R²라디칼은 C₁∼ C₁₂의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디칼임을 특징으로 하는 방법.
11. 제5항에 있어서, R³은 R²로 정의된 것들중에서 선택된 직쇄 또는 분지쇄 알킬 라디칼이거나, 또는 하기 식(2)이 해당되는 에스테르 관능기를 함유하는 1 가 라디칼을 나타냄을 특징으로 하는 방법.

    [식중, R 및 R' 는 동일 또는 상이하며, 1 내기 12개의 탄소원자를 함유하는 탄화수소 라디칼을 나타낸다.
12. 제11항에 있어서, 상기 탄화수소 라디칼은 1 내지 8 개의 탄소원자를 함유함을 특징으로 하는 방법.
13. 제11항에 있어서, 상기 탄화수소 라디킬은 알킬 라디칼임을 특징으로 하는 방법.
14. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 하기 식 (3) 의 N, N - 디에틸 - 메틸벤즈아미드로 부터 선택됨을 특징으로 하는 방법.
15. 제14항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 N, N - 디에틸 - 3 - 메틸벤즈아미드임을 특징으로 하는 방법.
16. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 에틸 N - 부틸, N - 아세틸아미노프로피오네이트임을 특징으로 하는 방법.
17. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 N, N - 2 치환되었음을 특징으로 하는 방법.
18. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 에멀션화 특성을 가지지 않음을 특징으로 하는 방법.
19. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 N, N - 2 치환되었으며 에멀션화 특성을 가지지 않음을 특징으로 하는 방법.
20. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 비이온성임을 특징으로 하는 방법.
21. 제1항 내지 1항중 어느한항에 있어시, 상기 아미드 화합물은 수불용성임을 특정으로 하는 방법.
22. 제1항 내지 4항중 어느 한 항에 있어서. 상기 아미드 화합물은 비이온성이고, 수불용성이며, 에멀션화 특성을 가지지 않음을 특징으로 하는 방법.
23. 니아신 및 니코틴아마이드 유도체를 제외한 아미드 화합물의 일종 이상의 유효량을 부가적으로 함유함을 특징으로 하는, 화장용으로 허용 가능한 담체내에 하나 이상의 디벤조일메탄 유도체를 함유하는 유형이며, 국소처리를 통하여 피부, 모발, 또는 이들 양자를 자외선 방사로부터 광보호하기 위한 광 - 안정 차광제 화장품 조성물.
24. 제23항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체는 제2항에서 정의된 디벤조일메탄 유도체로 부터 선택됨을 특징으로하는 조성물.
25. 제24항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체는 제3항에서 정의된 디벤조일메탄 유도체로 부터 선택됨을 특징으로하는 조성물.
26. 제25항에 있어서, 상기 디벤조일메탄 유도체는 제4항에서 정의된 디벤조일메탄 유도체로 부터 선택됨을 특징으로 하는 조성물.
27. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 에틸 N - 부틸, N - 아세틸아미노프로피오네이트 및 N, N - 디에틸 - 3 - 메틸벤즈아미드를 제외하고 제5항 내지 22항중 어느 한 항에서 정의된 아미드 화합물로부터 선택됨을 특징으로하는 조성물.
28. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 에틸 N - 부틸 - N - 아세틸아미노프로네이트임을 특징으로 하는 조성물.
29. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 N, N - 디에틸 - 3 - 메틸벤즈아미드임을 특징으로 하는 조성물.
30. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 N, N - 2 치환되었음을 특징으로 하는 조성물.
31. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 에멀션화 특성을 가지지 않음을 특징으로 하는 조성물.
32. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 N, N - 2 치환되었으며, 에멀션화 특성을 가지지 않음을 특징으로 하는 조성물.
33. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 비이온성임을 특징으로 하는 조성물.
34. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드 화합물은 수불용성임을 특징으로 하는 조성물.
35. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 상기 아미드화합물은 비이온성이고, 수불용성이며 에밀션화 특성을 가지지 않음을 특징으로 하는 조성물.
36. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체(들)의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 10중량% 임을 특징으로 하는 조성물.
37. 제36항에 있어서, 상기 함량은 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 6중량%임을 특징으로 하는 조성물.
38. 제23항 내지 26항중 어느 한 항에 있어서, 아미드 화합물(들)의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 0.01 내지 50중량%임을 특징으로 하는 조성물.
39. 제38항에 있어서, 상기 함량은 조성물 총 중량에 대하여 0.1 내지 30중량%임을 특징으로하는 조성물.
40. 제23항에 있어서, 상기 자외선 방사는 태양광 방사임을 특징으로 하는 조성물.