JP3516614B2 - ジベンゾイルメタンから誘導されたサンスクリーン剤の光安定化法と該方法により得られた光安定化遮蔽化粧品用組成物及びその用途 - Google Patents

ジベンゾイルメタンから誘導されたサンスクリーン剤の光安定化法と該方法により得られた光安定化遮蔽化粧品用組成物及びその用途

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも１種の
ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改
善する方法であって、ベンジリデンショウノウ官能基を
有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有効量を
上記ジベンゾイルメタン誘導体に組合せることからなる
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】 ２８
０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮
は日焼し、特にＵＶ-Ｂとして知られている２８０ｎｍ
と３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は、自然な
サンタン状態の形成に対して有害なサンバーン状態とな
ったり、紅斑が形成されたりする。これらの理由並びに
美的理由から、自然な日焼けを調節して皮膚の色をコン
トロールする手段が変わらず必要とされている。よっ
て、ＵＶ-Ｂ線は遮蔽するべきである。
【０００３】また、皮膚をサンタン状態にする３２０ｎ
ｍと４００ｎｍの間の波長を有するＵＶ-Ａ線が皮膚に
好ましくない変化を誘発する傾向にあり、特に敏感肌又
は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合にしかりで
ある。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、
しわを出現せしめ、時期尚早の老化に導く原因となるも
のである。ＵＶ-Ａ線は、紅斑反応の惹起を促進した
り、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒性又は
光アレルギー反応の原因にさえなる。従って、例えば皮
膚の本来の弾力性を保持するという化粧的及び美的理由
から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ−Ａ線の影響をコ
ントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ-Ａ線
も遮蔽することが望ましい。
【０００４】これに関し、特に有利なＵＶ-Ａ遮蔽剤の
一つに、ジベンゾイルメタン誘導体、特に、高い固有の
吸収力を持つ４-(tert-ブチル)-４-'メトキシジベンゾ
イルメタンからなるものがある。ＵＶ-Ａ領域に活性の
ある遮蔽剤としてそれ自体よく知られている生成物であ
るこれらジベンゾイルメタン誘導体は、特に、仏国特許
公開第２３２６４０５号及び仏国特許公開第２４４０９
３３号、並びに欧州特許公開第０１１４６０７号に記載
されており；さらに、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシ
ジベンゾイルメタンは、現在、ジボーダン(Givaudan)社
から「パーソル(PARSOL)1789」の商品名で販売されてい
る。
【０００５】残念なことに、ジベンゾイルメタン誘導体
は、紫外線(特に、ＵＶ-Ａ)の影響を比較的受けやすい
生成物であり、より詳細には、紫外線の作用下で程度の
差はあるが素早く劣化してしまうという好ましくない傾
向を有する生成物である。ジベンゾイルメタン誘導体
は、性質上それらが受ける紫外線に対して光化学的安定
性が大幅に欠乏しているために、長い間太陽にさらされ
る場合、変わらない保護性を保証することは不可能であ
り、よって、使用者に制約を与えるものであり、使用者
は、ＵＶに対し皮膚を有効に保護するためには、規則的
に短い時間間隔で繰り返し塗布しなければならなかっ
た。
【０００６】ジベンゾイルメタン誘導体の光の対する不
安定さを低減させるために、ベンザルマロナート誘導体
とジベンゾイルメタン誘導体を組合せることが、欧州特
許公開第０７０９０８０号公報において提案されてい
る。しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線
に対する光安定化の課題は、現時点においてもあまり満
足のいく程には解決されていない。
【０００７】また、仏国特許第２６０７９９６号及び国
際特許公開第９４／０４１３２号公報においては、前記
ジベンゾイルメタン誘導体の光に対する不安定さを低減
させるために、炭化水素ベースのベンジリデンショウノ
ウ誘導体、例えば３-(４-メチルベンジリデン)ショウノ
ウをジベンゾイルメタン誘導体と組合せることも提案さ
れている。
【０００８】ジベンゾイルメタン誘導体には上述のもの
とは別の他の困難性もあり、それはジベンゾイルメタン
誘導体が特に室温で固体状であるといった不利な特徴を
有する親油性の遮蔽剤であることである。従って、それ
らの抗日光化粧品用組成物への使用にはその処方とその
実施、特に単独であるいは他の遮蔽剤と組合せてそれを
溶解させるための溶媒を見出すことについて、ある種の
制約があった。この点について、今日では通常、例えば
エステル類のような油、特にＣ１２-Ｃ１５安息香酸ア
ルキル［ファインテックス社(Finetex)の「フィンソル
ブ(Finsolv)ＴＮ」］、又はトリグリセリド類、特にＣ
８-Ｃ１２脂肪酸トリグリセリド［ヒュルス社(Huels)の
「ミグリオール(Miglyol)812」］が使用されているが、
これら種々の製品は、上述の遮蔽剤に対する溶解性がな
お不充分なものである。
【０００９】仏国特許第２６０７９９６号及び国際特許
公開第９４／０４１３１号公報で使用されているような
３-(４-メチルベンジリデン)ショウノウとジベンゾイル
メタン誘導体をベースとした抗日光処方物でも、前記ジ
ベンゾイルメタン誘導体の溶解性の問題を満足には解決
できなかった。
【００１０】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
出願人は、驚くべきことに、ベンジリデンショウノウ官
能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物の有
効量を、上述したジベンゾイルメタン誘導体と組合せる
ことにより、これらのジベンゾイルメタン誘導体の光化
学安定性(すなわち光安定性)を実質的かつ顕著に改善す
ることができることを見出した。
【００１１】また、光安定化剤として本発明において使
用可能なベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン
又はオルガノシロキサン化合物が、ベンジリデンショウ
ノウから誘導された炭化水素ベースの有機遮蔽剤と比較
して非常に驚くべきことに、例えば４-(tert-ブチル)-
４'-メトキシジベンゾイルメタンのようなジベンゾイル
メタン誘導体型の遮蔽剤に対して特に顕著な溶媒を構成
することが見出されており、これが本発明に関連した更
なる利点の一つである；これにより、同量の溶媒に対し
て、より多くの量の遮蔽剤を使用することが可能にな
る。
【００１２】さらに、ベンジリデンショウノウ型の既知
の炭化水素系有機遮蔽剤の存在下で得られたジベンゾイ
ルメタン誘導体の光安定性が、本発明で使用可能なベン
ジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノ
シロキサン化合物によりさらに改善されることも見出さ
れている。
【００１３】よって、本発明の第１の主題は、ベンジリ
デンショウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロ
キサン化合物の有効量と、少なくとも１種のジベンゾイ
ルメタン誘導体を組合せることからなる、ジベンゾイル
メタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する新規方
法にある。
【００１４】本発明の方法で得られた化粧品用及び／又
は皮膚病用組成物は、長時間ＵＶ-Ａ及びＵＶ-Ｂ線にさ
らされた後でも、特に光安定しているといった利点を有
する。この光線は自然のもの(日光)でも人工のもの(Ｕ
Ｖランプ)でもよい。
【００１５】また、本発明の主題は、ベンジリデンショ
ウノウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化
合物からなり、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘
導体を含有する化粧品用及び／又は皮膚病用組成物の調
製において前記ジベンゾイルメタンのＵＶ線に対する安
定性を改善するために使用される薬剤にある。
【００１６】本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下
の詳細な記述を読むと明らかになるであろう。
【００１７】上述したように、本発明によって光安定化
されるジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体既によく
知られている生成物であり、特に、上述した仏国特許公
開第２３２６４０５号、仏国特許公開第２４４０９３３
号及び欧州特許公開第０１１４６０７号公報に記載され
ている。
【００１８】本発明においては、もちろん一又は複数の
ジベンゾイルメタン誘導体を使用することができる。本
発明で使用可能なジベンゾイルメタン誘導体としては、
限定されないが、特に： − ２-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
イルメタン、 − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
ン、 − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
ンゾイルメタン、 − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、を挙げる
ことができる。
【００１９】上述したジベンゾイルメタン誘導体の中で
も、本発明においては、特に、ジボーダン社から「パー
ソル1789」の商品名で販売されている４-(tert-ブチル)
-４'-メトキシジベンゾイルメタンが最も好ましく使用
され、この遮蔽剤は、次の構造式：
【化４６】 に相当するものである。
【００２０】本発明の他の好ましいジベンゾイルメタン
誘導体は、４-イソプロピルジベンゾイルメタンで、こ
の遮蔽剤はメルク(Merck)社から「ユーソレックス(Euso
lex)8020」の商標名で販売されているものであり、次の
構造式：
【化４７】 に相当するものである。
【００２１】ジベンゾイルメタン誘導体(類)は、本発明
の方法によって安定化された組成物中に、一般的に、組
成物の全重量に対して０．０１〜１０重量％、好ましく
は０．３〜５重量％の範囲の含有量で存在する。
【００２２】本発明の組成物における第２の化合物は、
ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオル
ガノシロキサン化合物である。これらの化合物はよく知
られており、例えば欧州特許公開第０３２５８８１号、
欧州特許公開第０３３５７７７号及び欧州特許公開第０
７１２８５５号公報(これらの文献は本出願の内容の一
部分を構成する)において記載され合成されている。
【００２３】本発明で使用可能なベンジリデンショウノ
ウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物
は、好ましくは次の式(Ｉ)：
【化４８】 ｛上式中： − Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ
基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０
アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキ
シ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つの
Ｒ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２
の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能で
あり； − ａは１〜３の範囲の整数であり； − Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、 − Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)： -CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ- (ＩＩａ) -CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ- (ＩＩｂ) の２価の基であり、ここで − Ｒ２及びＲ３は同一でも異なっていてもよく、水素
あるいは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表
し、 − Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽
和又は不飽和のＣ２-Ｃ ８アルキル基で置換されていて
もよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ 1-Ｃ６
ジイル(diyl)基であり、 − Ｙは、-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ
-、-(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ
４は水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり； − ｍは０〜１０の範囲の整数であり； − ｎは０又は１であり； − ｏは０又は１であり； − ｐは０又は１であり； − ｑは０又は１であり； − Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場
合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定
義を有するものであり、２つの基Ａ及びＡ１の一方のみ
が水素であると理解されるものであり； − Ｗは次の式(１)、(２)又は(３)：
【化４９】
【化５０】 又は -Ｓｉ(Ｒ６)３ (３) の基であり、ここで − Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は
分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル、３,３,３-ト
リフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から
選択され、数的にＲ６基の少なくとも８０％はメチルで
あり； − Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ６基及び次の
式：
【化５１】 (上式中、Ｒ１、Ｌ、Ｌ１及びａは上述したものと同様
の意味を有する)のＸ基から選択されるものであり； − ｒは０〜２００の整数であり、ｓは０〜５０の整数
であり、ｓ＝０の場合、２つの符合Ｂの少なくとも一方
はＸを示し； − ｕは１〜１０の整数であり、ｔは０〜１０の整数で
あり、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものである｝
に相当するものである。
【００２４】上述した化合物の中でも、以下の特徴： − Ｒ１がＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３であるか、隣接する２
つのＲ１基がメチレンジオキシを形成し、 − Ｒ２がＨ又はＣＨ３であり、 − ｎ＝０、 − ｑ＝１ の少なくとも１つ、好ましくは全てを有する種類のもの
を、特に挙げることができる。
【００２５】この種類の範囲内において、以下の特徴： − Ｒ６がメチルであり、 − Ｂがメチルであり、 − ｒが５〜２０であり、 − ｓが２〜１５であり、 − ｔ＋ｕが３〜１０であり、 − ｍ＝１であり、 − Ｒ３が水素又はメチル基である、の少なくとも１
つ、好ましくは全てを有する化合物が好ましく使用され
る。
【００２６】これらの化合物及びその調製方法は、例え
ば欧州特許公開第０３３５７７７号公報に記載されてい
る。
【００２７】好ましい第２の化合物の種類は、ｓ＝０で
ある式(Ｉ)の化合物を組合せたものである。
【００２８】特に好ましい式(Ｉ)の化合物の例として、
以下の式：
【化５２】
【化５３】
【化５４】
【化５５】
【化５６】
【化５７】
【化５８】
【化５９】
【化６０】
【化６１】 の生成物を挙げることができる。
【００２９】上述した式(Ｉ)の化合物の中には新規なも
のもあり、これが本発明の他の主題を構成している。こ
れは、上述した式(Ｉ)において、ｐが１であり、Ｚ基
が、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和又は
不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基を有する直鎖状又は分枝
状で飽和又は不飽和のＣ１-Ｃ６ジイル基である化合物
の場合である。
【００３０】式(Ｉ)の新規の化合物の他の種類は、Ｗが
式(３)の基であり、ｎが０であるシラン化合物からな
る。これらの化合物として、上述した式(１０)、(１１)
及び(１２)の化合物を挙げることができる。
【００３１】本発明において、「ベンジリデンショウノ
ウ官能基を有するシラン又はオルガノシロキサン化合物
の有効量」という表現は、組成物中に含まれるジベンゾ
イルメタン誘導体(類)の光安定性を有意かつ顕著に改善
するのに十分な量を意味するものである。使用される安
定剤の最小量は、組成物に対して選択される化粧品的に
許容可能な支持体の性質に依存して変わるが、例えば仏
国特許公開第２６０７７００号に記載されているよう
な、光安定性を測定するための通常のテストにより、何
ら困難なことなく決定することができる。
【００３２】ベンジリデンショウノウ官能基を有するシ
ラン又はオルガノシロキサン化合物は、組成物の全重量
に対して０．５重量％以上の含有量で、一般的に本発明
の組成物中に存在する。さらに好ましくは、この含有量
は組成物の全重量に対して０．５〜２０重量％の範囲に
ある。
【００３３】言うまでもなく、本発明が対象としている
化粧品用及び／又は皮膚病用組成物は、上述した２つの
遮蔽剤以外にも、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ範囲に活性
のある一又は複数の補足的な親水性又は親油性サンスク
リーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの補足的な
遮蔽剤は、特に、ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、
ベンゾフェノン誘導体、ベンゾトリアゾール誘導体、ベ
ンゾイミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、ベンザル
マロナート誘導体、β,β-ジフェニルアクリラート誘導
体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、国際特許出願公開第９
３／０４６６５号に記載されている遮蔽シリコーン類及
び遮蔽ポリマー類から選択することができる。有機遮蔽
剤の他の例は欧州特許公開第０４８７４０４号に示され
ている。
【００３４】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(Ｄ
ＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００３５】さらに、本発明の化粧品用及び／又は皮膚
病用組成物は、被覆又は非被覆の金属酸化物の顔料又は
ナノ顔料(一次粒子の平均粒径：一般に５nm〜１００n
m、好ましくは１０nm〜５０nm)、例えば、酸化チタン
(非晶質又はルチル型及び／又はアナターゼ型結晶)、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの
ナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体
よく知られているＵＶ光保護剤であり、ＵＶ線を物理的
に遮蔽(反射及び／又は散乱)する。さらに、従来の被覆
剤はアルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムであ
る。このような、被覆又は非被覆の金属酸化物のナノ顔
料は、特に欧州特許公開第０５１８７７２号及び欧州特
許公開第０５１８７７３号に記載されている。
【００３６】またさらに、本発明の組成物は、特に、脂
肪物質類、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘
剤、柔軟剤、酸化防止剤、抗フリーラジカル剤、不透明
化剤、安定剤、エモリエント、シリコーン類、ヒドロキ
シ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界
面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー類、
噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、染料、又は化粧品及び
／又は皮膚科学の分野で通常使用されている任意の他の
成分、特に、エマルションの剤型の抗日光組成物を製造
するためのものから選択される従来からの化粧品用アジ
ュバントを含有することができる。言うまでもなく、本
発明の組成物に導入することができる任意の付加的な成
分は、ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又
はオルガノシロキサン化合物がジベンゾイルメタン誘導
体に対して作用する光安定化効果に実質的に悪影響を及
ぼさないかこれを阻害しないものでなければならない。
【００３７】脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合
物からなるものであってよい。「油」とは、室温で液状
の化合物を意味する。「ロウ」とは、室温で固体又は実
質的に固体の化合物を意味するものであり、その融点は
一般に３５℃を越える。油としては、鉱物性油(ペトロ
ラタム)；植物性油［スイートアルモンド油、マカダミ
ア油、クロフサスグリ種子油又はホホバ油］；合成油、
例えばペルヒドロスクワレン、脂肪アルコール、脂肪酸
又は脂肪エステル［例えば、カプリン及び／又はカプリ
ル酸トリグリセリドを含むトリグリセリド類、ラノリン
酸イソプロピル、パルミチン酸オクチル、ファインテッ
クス社から「フィンソルブＴＮ」の商品名で販売されて
いるＣ１２-Ｃ１５安息香酸アルキル］、オキシエチレ
ン化又はオキシプロピレン化された脂肪エステル類及び
エーテル類、シリコーン油(シクロメチコーン、ポリジ
メチルシロキサン類又はＰＤＭＳ)又はフッ化油及びポ
リアルキレン類を挙げることができる。ロウ状化合物と
しては、パラフィン、カルナウバロウ、ミツロウ及び硬
化ヒマシ油を挙げることができる。
【００３８】有機溶媒としては、低級アルコール及びポ
リオールを挙げることができる。増粘剤は、特に、架橋
したポリアクリル酸、変性又は未変性のグアガム及びセ
ルロースガム、例えばヒドロキシプロピルグアガム、メ
チルヒドロキシエチルセルロース及びヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースから選択することができる。
【００３９】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製のための技術により調製できる。
【００４０】この組成物は、特に、単一又は複合エマル
ション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の
形態、例えばクリーム又はミルク、ゲル又はクリーム−
ゲル、パウダー、チューブ状固体の形態であってもよ
く、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、
ムース又はスプレーの形態であってもよい。好ましく
は、本発明の組成物は、水中油型エマルションの形態で
ある。
【００４１】エマルションである場合、その水相は、公
知の方法［バングハム(Bangham)、スタンディッシュ(St
andish)及びワトキンス(Watkins)の、J.Mol.Biol.13,23
8(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第
２４１６００８号］により調製される非イオン性の小胞
体分散液を含有してもよい。
【００４２】本発明の化粧品用及び／又は皮膚病用組成
物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、
紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物
として使用することができる。
【００４３】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した
形態、非イオン性の小胞体分散体の形態、又はエマルシ
ョン、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えば
クリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、
チューブ状固体、スティック、エアゾールムース又はス
プレーの形態とすることができる。
【００４４】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、シャンプー、ローション、ゲル、エ
マルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とする
ことができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色
又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ処理又は毛
髪のストレート化処理の前、処理中、後に適用されて洗
い流される組成物、スタイリング又はトリートメント用
のローション又はゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用
のローション又はゲル、パーマネントウエーブ処理又は
毛髪のストレート化処理、染色又は脱色用の組成物を構
成し得る。
【００４５】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚用のメー
クアップ製品、例えば、表皮用トリートメントクリー
ム、ファンデーション、リップスティック、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、固体状又はペースト状、無水又は水
性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルショ
ン、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【００４６】指針として、水中油型エマルション型の支
持体を有する本発明の抗日光組成物の場合、水性相(特
に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、
一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量
％、油性相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成
物に対して、一般的に５〜５０重量％、好ましくは１０
〜３０重量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して、
一般的に０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量
％である。
【００４７】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、これは本
発明を限定するものではない。実施例１： 式(４)の誘導体の調製：
【化６２】 ３７．５３ｇ(０．１６９モル)のヘプタメチルトリシロ
キサンを、８０℃にした１４０ｍｌの乾燥トルエン中に
触媒［ヒュルス・ペトラーチ(Huels・Petrarch)社のＰ
Ｃ０８５である、シクロビニルメチルシロキサン中に３
〜３．５重量％のＰｔを含有する錯体：２００μｌ］と
仏国特許公開第２４３０９３８号の実施例８に従い調製
された３-(４-アリルオキシ-ベンジリデン)-１,７,７-
トリメチルビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(５
０ｇ、０．１６９モル)を含む溶液に、３０分以上かけ
て滴下した。混合物をこの温度で６時間放置した。反応
混合物を濃縮した。残査をジクロロメタンに溶解し、こ
の溶液をセライト床に通過させた。得られた淡黄色の油
をヘプタンで結晶化させた。このようにして白色パウダ
ー状の実施例１の誘導体が３１ｇ(収率：４１％)得られ
た： 融点：４７−４８℃ − ＵＶ(９５％エタノール)λｍａｘ＝３１８ｎｍ、ε
ｍａｘ＝２７,０００ − Ｃ２７Ｈ４６Ｏ４Ｓｉ３としての元素分析 理論値： C62.50 H8.94 Si16.24 実測値： C62.43 H9.00 Si16.26
【００４８】実施例２： 式(５)の誘導体の調製：
【化６３】 １２．２ｇ(０．０５５モル)のヘプタメチルトリシロキ
サンを、８０℃にした３５ｍｌの乾燥トルエン中に触媒
［ヒュルス・ペトラーチ社のＰＣ０８５である、シクロ
ビニルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％のＰｔを
含有する錯体：１００μｌ］と１,７,７-トリメチル-３
-［４-(２-メチルアリルオキシ)ベンジリデン］ビシク
ロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(１５．５ｇ、０．０
５モル)を含む溶液に３０分以上かけて滴下した。混合
物をこの温度で３時間放置した。反応混合物を濃縮し、
シリカによるクロマトグラフィー(溶離剤：ヘプタン／
ジクロロメタンが５０／５０)にかけたところ、実施例
２の無色油状の誘導体が２３ｇ(収率：８６％)得られ
た： − ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ
＝２６,２００ − Ｃ２８Ｈ４８Ｏ４Ｓｉ３としての元素分析 理論値： C63.10 H9.08 Si15.81 実測値： C63.02 H9.00 Si15.64
【００４９】実施例３： 式(６)の誘導体の調製：
【化６４】 ５０ｇ(０．１１７モル)のα,ω-ドデカメチルヘキサシ
ロキサンを、８０℃にした１１０ｍｌの乾燥トルエン中
に触媒［ヒュルス・ペトラーチ社のＰＣ０８５である、
シクロビニルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％の
Ｐｔを含有する錯体：１００μｌ］と１,７,７-トリメ
チル-３-［４-(２-メチルアリルオキシ)ベンジリデン］
ビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(６９．８ｇ、
０．２３５モル)を含む溶液に１時間３０分以上かけて
滴下した。混合物をこの温度で１時間３０分放置した。
反応混合物を濃縮し、シリカによるクロマトグラフィー
(溶離剤：ヘプタン／酢酸エチルが９８／２からヘプタ
ン／酢酸エチルが５０／５０まで勾配をかけたもの)に
かけたところ、粘性があり淡黄色で油状の実施例３の誘
導体が４７．５ｇ(収率：４０％)得られた： − ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ
＝２６,２００ − Ｃ５２Ｈ８６Ｏ９Ｓｉ６としての元素分析 理論値： C61.01 H8.47 Si16.46 実測値： C61.04 H8.52 Si16.10
【００５０】実施例４： 式(７)の誘導体の調製：
【化６５】 テトラブチルアンモニウムブロミド(０．６ｇ)の存在下
で、３-(４-ヒドロキシベンジリデン)１,７,７-トリメ
チル-Ｎ-ビシクロ［２.２.１］ヘプタン-２-オン(１０
ｇ、０．０３９モル)と３-グリシジルオキシプロピル-
ビス-(トリメチルシロキシ)メチルシラン(１４．８ｇ、
０．０４４モル)の混合物を、窒素をバブリングしなが
ら、１１０℃で６時間保持した。得られた粗油をシリカ
クロマトグラフィー(溶離剤：酢酸エチル／ヘプタンが
２０／８０)にかけたところ、中間のフラクションに、
無色油状の実施例４の誘導体が１０ｇ(収率：４３％)得
られた： − ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３１８ｎｍ、εｍａｘ
＝２６,９００ − Ｃ３０Ｈ５２Ｏ６Ｓｉ３としての元素分析 理論値： C60.76 H8.84 Si14.21 実測値： C60.54 H8.87 Si13.96
【００５１】実施例５： 式(１０)の誘導体の調製：
【化６６】 ５．３７ｇ(０．０５２５モル)のジエチルメチルシラン
を、７０℃にした１０ｍｌの乾燥トルエン中に触媒［ヒ
ュルス・ペトラーチ社のＰＣ０８５である、シクロビニ
ルメチルシロキサン中に３〜３．５重量％のＰｔを含有
する錯体：２００μｌ］と１,７,７-トリメチル-３-
［４-(２-メチルアリルオキシ)ベンジリデン］ビシクロ
［２.２.１］ヘプタン-２-オン(１５．５ｇ、０．０５
モル)を含む溶液に２０分以上かけて滴下した。混合物
をこの温度で４８時間放置した。反応混合物を濃縮し、
シリカクロマトグラフィー(溶離剤：ヘプタン／ジクロ
ロメタン)にかけたところ、結晶化した粘性のある無色
油状の実施例５の誘導体が１１．８ｇ(収率：５７％)得
られた： − 融点：３９−４０℃ − ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ
＝２８,２３０ − Ｃ２６Ｈ４０Ｏ２Ｓｉとしての元素分析 理論値： C75.67 H9.77 Si6.81 実測値： C75.42 H9.77 Si7.10
【００５２】実施例６： 式(１１)の誘導体の調製：
【化６７】 ａ)第１工程：３-メトキシ-４-(３-トリメチルシラニル
プロピルオキシ)ベンズアルデヒドの調製：３-クロロプ
ロピルトリメチルシラン(３３．１４ｇ、０．２２モル)
を、窒素下で８０℃にした１５０ｍｌの乾燥ＤＭＦ、炭
酸カリウム(３０．４ｇ、０．２２モル)とバニリン(３
０．４ｇ、０．２モル)の混合物に２０分以上かけて滴
下した。混合物を９５−１１０℃で４時間放置した。反
応混合物を冷却し、氷冷水に注いだ。水性相をジクロロ
メタンで３回抽出した。有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥させ、真空下で濃縮した。真空(０．０４ｍｍＨｇ)下
で蒸留した後、１１２−１１４℃で蒸留されるわずかに
ピンク色がかった油状の３-メトキシ-４-(３-トリメチ
ルシラニルプロピルオキシ)ベンズアルデヒドが４７．
５ｇ(収率：８９％)得られ、これをさらに精製すること
なく次の工程で使用した。
【００５３】ｂ)第２工程：実施例６の誘導体の調製 ４０ｍｌの乾燥ジメトキシエタン中に油中５０％のＮａ
Ｈ(２．６４ｇ、０．０５５モル；乾燥ヘプタン、つい
で乾燥ジメトキシエタンですすいだもの)とショウノウ
(８．３６ｇ、０．０５５モル)を含む混合物を８０℃で
３０分間加熱した。３０ｍｌのジメトキシエタンに上述
した誘導体(１３．３２ｇ、０．０５モル)を溶解し、そ
こにこれを８０℃で２０分以上かけて滴下した。混合物
を８０℃で３時間攪拌した。冷却後、混合物を氷冷水に
注いだ。得られた沈殿物を水で洗浄し、ついでエタノー
ルで再結晶させたところ、白色パウダー状の実施例６の
誘導体が１２．４ｇ(収率：６２％)得られた： − 融点：７９−８０℃ − ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３３１ｎｍ、εｍａｘ
＝２１,３００ − Ｃ２４Ｈ３６Ｏ３Ｓｉとしての元素分析 理論値： C71.95 H9.06 Si7.01 実測値： C71.80 H9.05 Si6.80
【００５４】実施例７： 式(１２)の誘導体の調製：
【化６８】 ａ)第１工程：４-(３-トリメチルシラニルプロピルオキ
シ)ベンズアルデヒドの調製：３-クロロプロピルトリメ
チルシラン(３３．１４ｇ、０．２２モル)を、窒素下で
１２０℃に維持された１５０ｍｌの乾燥ＤＭＦ、炭酸カ
リウム(３０．４ｇ、０．２２モル)と４-ヒドロキシベ
ンズアルデヒド(２４．４ｇ、０．２モル)の混合物に１
０分以上かけて滴下した。混合物を１２０−１３０℃で
２時間３０分放置した。反応混合物を冷却し、氷冷水に
注いだ。水性相をジクロロメタンで３回抽出した。有機
相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、真空下で濃縮した。
真空(０．２ｍｍＨｇ)下で蒸留した後、１１０−１１４
℃で蒸留される無色油状の４-(３-トリメチルシラニル
プロピルオキシ)ベンズアルデヒドが４０．５ｇ(収率：
８６％)得られ、これをさらに精製することなく次の工
程で使用した。
【００５５】ｂ)第２工程：実施例７の誘導体の調製 ５０ｍｌの乾燥ジメトキシエタン中に油中５０％のＮａ
Ｈ(４．８ｇ、０．１モル；乾燥ヘプタン、ついで乾燥
ジメトキシエタンですすいだもの)とショウノウ(１５．
２ｇ、０．１モル)を含む混合物を８０℃で３０分間加
熱した。３０ｍｌのジエトキシエタンに上述した誘導体
(２１．３ｇ、０．０９モル)を溶解し、そこにこれを８
０℃で２０分以上かけて滴下した。混合物を８０℃で２
時間攪拌した。冷却後、混合物を氷冷水に注いだ。得ら
れた沈殿物を水で洗浄し、ついでエタノールで再結晶さ
せたところ、白色パウダー状の実施例７の誘導体が２
０．６ｇ(収率：６０％)得られた： − 融点：１００−１０１℃ − ＵＶ(エタノール)λｍａｘ＝３２０ｎｍ、εｍａｘ
＝２６,５３０ − Ｃ２３Ｈ３４Ｏ２Ｓｉとしての元素分析 理論値： C74.54 H9.25 Si7.58 実測値： C74.62 H9.17 Si7.80
【００５６】実施例８：以下の組成物を調製した(量は
組成物の全重量に対する重量％として表している)：組成物Ａ(比較例)：
【表１】
【００５７】組成物Ａ'(比較例)：
【表２】
【００５８】また組成物ＢないしＥ(本発明例)は、本発
明のシリコーン-ベンジリデンショウノウ化合物を５重
量％さらに含有する。
【表３】
【００５９】これら各々の組成物についてＵＶ線を照射
した後の残留パーソル1789(４-tert-ブチル-４'-メトキ
シジベンゾイルメタン)のパーセンテージを以下の手順
により決定した：各々の組成物について、３つの対照サ
ンプルと３つの試験サンプルとを調製した。２μｌ／ｃ
ｍ２の組成物をすりガラスプレート上に手で広げた。つ
いでプレートを、自然のＵＶ線を模倣するために、約３
５−４０℃の温度に調節されたチャンバー内［ヘレウス
サンテスト(Heraeus・Suntest)ＣＰＳ］で、ＵＶ-Ａフ
ラックスに対して表して、３０Ｊ／ｃｍ２の曝露を得る
ために必要な時間の間照射し、対照パネルは他のプレー
トの照射の間、暗所に保管しておいた。
【００６０】ついで、サンプルを次の方法で分析した：
遮蔽剤を溶解させるために、各プレートを５０ｇのエタ
ノールに浸して遮蔽剤を抽出した。ついで、プレートと
遮蔽剤を含有する溶媒を、効果的な抽出を行うために、
１５分間超音波で処理した。得られた溶液を各々の遮蔽
剤のλｍａｘでの分光光度計測により分析した。各々の
試験組成物に対して、照射後の４-tert-ブチル-４'-メ
トキシジベンゾイルメタンの残留量を、照射されないサ
ンプルの濃度に対する、照射されたサンプルの濃度の比
で示す。
【００６１】残留した４-tert-ブチル-４'-メトキシジ
ベンゾイルメタンのパーセンテージとして、結果を次の
表(Ｉ)に示す。
【表４】
【００６２】これらの結果には、ベンジリデンショウノ
ウ基を有するシラン又はオルガノシロキサンにより、４
-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンの光安
定性が改善されていることがはっきりと示されている。
またこれらの結果には、炭化水素ベースのベンジリデン
ショウノウ化合物の存在下で得られた４-tert-ブチル-
４'-メトキシジベンゾイルメタンの光安定性が、該化合
物の代わりにベンジリデンショウノウ基を有するシラン
又はオルガノシロキサン化合物を使用することで、さら
に改善されることが示されている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−225582（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−299210（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−110666（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−277213（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−215619（ＪＰ，Ａ) 仏国特許出願公開2684551（ＦＲ，Ａ １) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61K 7/40 - 7/44 C07F 7/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)

Claims (27)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘
    導体のＵＶ線に対する安定性を改善する方法において、
    ベンジリデンショウノウ官能基を有するシラン又はオル
    ガノシラン化合物の有効量を上記ジベンゾイルメタン誘
    導体に組合せることを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 ベンジリデンショウノウ官能基を有する
    シラン又はオルガノシラン化合物が、次の式(Ｉ)： 【化１】 ｛上式中： − Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ
    基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０
    アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキ
    シ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つの
    Ｒ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２
    の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能で
    あり； − ａは１〜３の範囲の整数であり； − Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、 − Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)： -CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ- (ＩＩａ) -CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ- (ＩＩｂ) の２価の基であって、該式の左側にＷが結合し、ここで − Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水
    素又は直鎖状もしくは分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を
    表し、 − Ｚは、ヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽
    和又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていて
    もよい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６
    ジイル基であり、 − Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、
    -(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は
    水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり； − ｍは０〜１０の範囲の整数であり； − ｎは０又は１であり； − ｏは０又は１であり； − ｐは０又は１であり； − ｑは０又は１であり； − Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場
    合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定
    義を有するものであり、 ２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解
    されるものであり； − Ｗは次の式 ( ３ )： -Ｓｉ(Ｒ６)３ (３) の基であり、ここで − Ｒ６は、同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は
    分枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択さ
    れる｝に相当するものであることを特徴とする請求項１
    に記載の方法。
  3. 【請求項３】 式(Ｉ)の化合物が、以下の特徴： − Ｒ１がＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３であるか、隣接する２
    つのＲ１基がメチレンジオキシを形成し、 − Ｒ２がＨ又はＣＨ３であり、 − ｎ＝０、 − ｑ＝１ の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とす
    る請求項２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 式(Ｉ)の化合物が、さらに以下の特徴： − Ｒ６がメチルであり、 − ｍ＝１であり、 − Ｒ３が水素又はメチル基である、 の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とす
    る請求項２に記載の方法。
  5. 【請求項５】 式(Ｉ)の化合物が、次の式： 【化２】 【化３】 【化４】 の化合物から選択されることを特徴とする請求項２に記
    載の方法。
  6. 【請求項６】 式(Ｉ)の化合物が、ｐが１であり、Ｚ基
    がヒドロキシルを有する直鎖状又は分枝状で飽和又は不
    飽和のＣ１-Ｃ６ジイル基であるものから選択されるこ
    とを特徴とする請求項２に記載の方法。
  7. 【請求項７】 ジベンゾイルメタン誘導体が： − ２-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
    ン、 − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
    イルメタン、 − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
    イルメタン、 − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
    ン、 − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
    ンゾイルメタン、から選択されることを特徴とする請求
    項１ないし６のいずれか１項に記載の方法。
  8. 【請求項８】 ジベンゾイルメタン誘導体が４-(tert-
    ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであることを
    特徴とする請求項７に記載の方法。
  9. 【請求項９】 ジベンゾイルメタン誘導体が４-イソプ
    ロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求
    項７に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 化粧品的に許容可能な支持体に少なく
    とも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含有するタイプ
    の、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を局所
    的に光保護する光安定性遮蔽化粧品用組成物において、
    ベンジリデンショウノウ官能基を有する少なくとも１種
    のシラン又はオルガノシランを有効量、さらに含有する
    ことを特徴とする組成物。
  11. 【請求項１１】 ジベンゾイルメタン誘導体が： − ２-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-メチルジベンゾイルメタン、 − ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン、 − ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン、 − ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
    ン、 − ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾ
    イルメタン、 − ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾ
    イルメタン、 − ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタ
    ン、 − ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベ
    ンゾイルメタン、 から選択されることを特徴とする請求項１０に記載の組
    成物。
  12. 【請求項１２】 ジベンゾイルメタン誘導体が４-(tert
    -ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであること
    を特徴とする請求項１１に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 ジベンゾイルメタン誘導体が４-イソ
    プロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請
    求項１１に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 ジベンゾイルメタン誘導体の含有量が
    組成物の全重量に対して０．０１〜１０重量％であるこ
    とを特徴とする請求項１０ないし１３のいずれか１項に
    記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 前記含有量が組成物の全重量に対して
    ０．１〜６重量％であることを特徴とする請求項１４に
    記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 ベンジリデンショウノウ官能基を有す
    るシラン又はオルガノシラン化合物が次の式(Ｉ)： 【化５】 ｛上式中： − Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ
    基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０
    アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキ
    シ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つの
    Ｒ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２
    の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能で
    あり； − ａは１〜３の範囲の整数であり； − Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、 − Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)： -CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ- (ＩＩａ) -CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-(Z)ｐ-(Y)ｑ- (ＩＩｂ) の２価の基であって、該式の左側にＷが結合し、ここで − Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水
    素あるいは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を
    表し、 − Ｚはヒドロキシルあるいは直鎖状又は分枝状で飽和
    又は不飽和のＣ２-Ｃ８アルキル基で置換されていても
    よい、直鎖状又は分枝状で飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジ
    イル基であり、 − Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、
    -(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は
    水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり； − ｍは０〜１０の範囲の整数であり； − ｎは０又は１であり； − ｏは０又は１であり； − ｐは０又は１であり； − ｑは０又は１であり； − Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場
    合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定
    義を有するものであり、 ２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解
    されるものであり；− Ｗは次の式 ( ３ )： -Ｓｉ(Ｒ６)３ (３) の基であり、ここで − Ｒ６は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
    枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択され
    る｝に相当するものであることを特徴とする請求項１４
    ないし１９のいずれか１項に記載の組成物。
  17. 【請求項１７】 式(Ｉ)の化合物が、以下の特徴： − Ｒ１がＨ、ＯＣＨ３、ＣＨ３であるか、隣接する２
    つのＲ１基がメチレンジオキシを形成し、 − Ｒ２がＨ又はＣＨ３であり、 − ｎ＝０、 − ｑ＝１ の少なくとも１つに相当するものであることを特徴とす
    る請求項１６に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 式(Ｉ)の化合物が、さらに以下の特
    徴： − Ｒ６がメチルであり、 − ｍ＝１であり、 − Ｒ３が水素又はメチル基である、の少なくとも１つ
    に相当するものであることを特徴とする請求項１６に記
    載の組成物。
  19. 【請求項１９】 式(Ｉ)の化合物が、次の式： 【化６】 【化７】 【化８】 の化合物から選択されることを特徴とする請求項１６に
    記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 式(Ｉ)の化合物が、ｐが１であり、Ｚ
    基がヒドロキシルを有する直鎖状又は分枝状で飽和又は
    不飽和のＣ１-Ｃ６ジイル基であるものから選択される
    ことを特徴とする請求項１６に記載の組成物。
  21. 【請求項２１】 シラン又はオルガノシロキサン化合物
    の含有量が、組成物の全重量に対して０．５重量％以上
    であることを特徴とする請求項１０ないし２０のいずれ
    か１項に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 前記含有量が組成物の全重量に対して
    ０．５〜２０重量％の範囲内にあることを特徴とする請
    求項２１に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 次の式(Ｉ)： 【化９】 ｛上式中： − Ｒ１は、同一でも異なっていてもよく、水素、ＯＨ
    基、飽和又は不飽和で直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０
    アルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ１０アルコキ
    シ基又は-ＯＳｉ(ＣＨ３)３基を表し、隣接する２つの
    Ｒ１基は、互いに共同して、アルキリデン基が１又は２
    の炭素原子を含むアルキリデンジオキシ基を形成可能で
    あり； − ａは１〜３の範囲の整数であり； − Ａは水素又は式-Ｌ-Ｗの基であり、 − Ｌは次の式(ＩＩａ)又は(ＩＩｂ)： -CH２-CHR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-Z-(Y)ｑ- (ＩＩａ) -CH=CR２-［C(R３)２］ｍ-(CO)ｎ-(O)ｏ-Z-(Y)ｑ- (ＩＩｂ) の２価の基であって、該式の左側にＷが結合し、ここで − Ｒ２及びＲ３は同一でも異なっていてもよく、水素
    あるいは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ５アルキル基を表
    し、 − Ｚはヒドロキシル基を有する、直鎖状又は分枝状で
    飽和又は不飽和のＣ1-Ｃ６ジイル基であり、 − Ｙは-Ｏ-、-ＮＲ４-、-ＳＯ２ＮＨ-、-(ＣＯ)Ｏ-、
    -(ＣＯ)ＮＨ-又は-Ｏ(ＣＯ)ＮＨ-を表し、ここでＲ４は
    水素又はＣ１-Ｃ５アルキル基であり； − ｍは０〜１０の範囲の整数であり； − ｎは０又は１であり； − ｏは０又は１であり； − ｑは０又は１であり； − Ａ１は水素又は式-Ｌ１-Ｗの基であり、ｑ＝１の場
    合にＹが-ＳＯ２ＮＨ-を表すという条件でＬ１はＬの定
    義を有するものであり、 ２つの基Ａ及びＡ１の一方のみが必ず水素であると理解
    されるものであり； − Ｗは次の式 ( ３ )： -Ｓｉ(Ｒ６)３ (３) の基であり、ここで − Ｒ６は同一でも異なっていてもよく、直鎖状又は分
    枝状のＣ１-Ｃ３０アルキル、フェニル基から選択され
    る｝に相当する化合物。
  24. 【請求項２４】 次の構造： 【化１０】 の化合物。
  25. 【請求項２５】 次の構造： 【化１１】 の化合物。
  26. 【請求項２６】 次の構造： 【化１２】 の化合物。
  27. 【請求項２７】 ベンジリデンショウノウ官能基を有す
    るシラン又はオルガノシロキサン化合物からなり、少な
    くとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含有する化粧
    品用及び／又は皮膚病用組成物の調製において該ジベン
    ゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善する
    ために使用される薬剤。
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