JP2003503438A - 抗日光化粧品組成物及びその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に、特に化粧品的に許容可能な水中油型の支持体中に、(ａ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種のシリコン誘導体と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１種のケイ皮酸誘導体を含有する、特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するための局所使用用の化粧品組成物において、前記第１及び第２の遮蔽剤を、付与される日光保護ファクターに相乗活性を生じさせる割合で組成物中に存在させることを特徴とする組成物に関する。また、本発明は紫外線の影響から皮膚及び毛髪を保護するためのそれらの使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】 本発明は、化粧品的に許容可能な支持体中に、(ａ)第１の遮蔽剤として、ベン
ゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種のシリコン誘導体と、(ｂ)第２の
遮蔽剤として、少なくとも１種のケイ皮酸誘導体を含有する、特に皮膚及び／又
は毛髪を光保護するための、局所使用用の化粧品組成物において；前記第１及び
第２の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターに相乗活性を生じさせる割合で
組成物に存在していることを特徴とする組成物に関する。また、本発明は紫外線
の影響から皮膚及び毛髪を保護するためのそれらの用途に関する。

【０００２】 ２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光照射によりヒトの表皮は日焼けし、特
にＵＶ-Ｂ線として知られている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、
自然なサンタン状態の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成する；
よって、このＵＶ-Ｂ照射は遮蔽されなければならない。 また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、皮膚をサンタン状態にする
ＵＶ-Ａ線も皮膚に悪い変化を誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光
線にさらされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚
の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の皮膚老化に導く原因となるも
のである。ＵＶ-Ａ線は紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人においてはこの
反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。よって、Ｕ
Ｖ-Ａ照射もまた遮蔽することが望ましい。

【０００３】 皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護を意図した多数の化粧品組成物が、
これまでに提案されている。 これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、水中油型エマルション(すなわち
、分散させる水性連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品的に許
容可能な支持体)の形態で提供されており、有害な紫外線を選択的に吸収可能な
一又は複数の一般的な親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有
してなるもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の保護ファクター［(Ｓ
ＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な照射時
間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な時間に対
する比率を数学的に表したものである］の関数として選択される。

【０００４】 ＵＶ-Ａ照射の範囲とＵＶ-Ｂ照射の範囲の双方において良好な遮蔽特性を有す
る、ベンゾトリアゾール官能基を含有する親油性のシリコーン誘導体の化粧品用
ＵＶ遮蔽剤が、従来技術において知られている。それらは欧州特許公開第０３９
２８８３号：欧州特許公開第０６６０７０１号；欧州特許公開第０７０８１０８
号；欧州特許公開第０７１１７７８号；欧州特許公開第７１１７７９号に開示さ
れている。

【０００５】 欧州特許公開第０７４２００３号及び欧州特許公開第０８６０１６５号におい
ては、日光保護ファクターについて相乗的な活性が生じるように、ベンゾトリア
ゾール官能基を有するシリコーン性遮蔽剤を、スルホン官能基を有する特定の水
溶性遮蔽剤、すなわちベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-ショウノウス
ルホン酸)又は２-フェニルベンズイミダゾール-５-スルホン酸及びそれらの塩類
と組合せることが既に提案されている。これらの相乗的遮蔽系では、水溶性遮蔽
剤を溶解させるための少なくとも１つの水相とシリコーン遮蔽剤を溶解させるた
めの脂肪相の使用が必要であり；このために、処方の可能性が大幅に低減する。

【０００６】 欧州特許公開第０８３５０９４号においては、ベンゾトリアゾール官能基を有
するこれらシリコーン遮蔽剤を、２種の他の親油性遮蔽剤、すなわちジベンゾイ
ルメタン誘導体とβ,β'-ジフェニルアクリル酸アルキル誘導体と組合せること
が既に提案されている。この場合でもまた、３種の遮蔽剤が必ず存在するため、
抗日光製品の処方が複雑であった。

【０００７】 溶解した形態のベンゾトリアゾールのシリコン誘導体をベースにし、少なくと
も１種のケイ皮酸誘導体を、該ケイ皮酸誘導体が該シリコーン性遮蔽剤を溶解さ
せるのに十分な量で含有した遮蔽組成物が、未公開の仏国特許第９８／１２０４
２号に記載されている。この公報は、特に、０．５重量％のステアリン酸、２．
５重量％のステアリルアルコール、２重量％のポリジメチルシロキサン、０．２
２％のアクリル増粘ポリマー、０．７２重量％のトリエタノールアミン、８重量
％の保湿剤、５重量％のドロメトリゾール(drometrizole)トリシロキサン及び１
０重量％のｐ-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシルを含有する、水中油型エマル
ションの形態の処方例を開示している。前記公報は、ベンゾトリアゾールシリコ
ン誘導体により、保護ファクターについて相乗効果を得ることを提案するもので
はない。

【０００８】 しかして、上述した光保護の分野において多くの研究を行ったところ、本出願
人は、驚くべきことに、また予期しないことに、ベンゾトリアゾールシリコン誘
導体型の遮蔽剤とケイ皮酸誘導体型の遮蔽剤を、明確に定まった範囲の割合で組
合せると、保護ファクターについて顕著な相乗効果が生じることを見出した。こ
のような組合せにより、日光保護ファクターが顕著に改善され、如何なる場合で
も遮蔽剤の一方を単独で使用した場合に得られるものよりかなり優れた抗日光組
成物を得ることが可能になる。 さらに、本発明の遮蔽剤の特定の組合せは、非常に広範囲の化粧品用支持体中
に容易に導入することができる。 この発見が本発明の基礎をなす。

【０００９】 よって、本発明の主題の一つは、化粧品的に許容可能な支持体中に： (ａ)第１の遮蔽剤として、ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１つの
シリコン誘導体； (ｂ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのケイ皮酸誘導体； を含有してなる化粧品組成物、特に抗日光組成物において； 前記第１及び第２の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターに相乗活性を生
じさせる割合で組成物に存在し；但し、該組成物が、０．５重量％のステアリン
酸、２．５重量％のステアリルアルコール、２重量％のポリジメチルシロキサン
、０．２２％のアクリル増粘ポリマー、０．７２重量％のトリエタノールアミン
、８重量％の保湿剤、５重量％のドロメトリゾールトリシロキサン及び１０重量
％のｐ-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシルを含有する水中油型エマルション以
外のものであることを特徴とする新規な組成物を提供することにある。

【００１０】 また本発明の主題は、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護する
ことを意図した化粧品組成物の製造における、上述した組成物の使用にある。 さらに本発明の主題は、付与される日光保護ファクターに相乗効果を生じさせ
ることを目的として、少なくとも１種のベンゾトリアゾールシリコン誘導体型の
遮蔽剤を含有する、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護すること
を意図した化粧品組成物を製造するための、ケイ皮酸誘導体の使用にある。 本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより、明
らかになるであろう。

【００１１】 本発明で使用されるベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体は、好
ましくは次の式(１)： Ｏ_{(３−ａ)／２}Ｓｉ(Ｒ_７)_ａ-Ｇ (１) ｛上式中： − Ｒ_７はハロゲン化されていてもよいＣ_１-Ｃ_１０アルキル基又はフェニル基
又はトリメチルシリルオキシ基を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは次の式(２)： [上式中： − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基、ハロゲン及びＣ
_１-Ｃ_４アルコキシ基から選択され、後者の場合、同じ芳香環上の２つの隣接す
るＹ基が共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアルキリデン
ジオキシ基を形成可能であると理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ_１-Ｃ_４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当し、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示す｝ の少なくとも１つの単位を含有する、ベンゾトリアゾール官能基を有するシロキ
サン類又はシラン類である。

【００１２】 これらの化合物は、特に欧州特許公開第０３９２８８２号；欧州特許公開第０
６６０７０１号；欧州特許公開第０７０８１０８号；欧州特許公開第０７１１７
７８号；欧州特許公開第７１１７７９号に開示されている。 本発明で使用されるシリコン誘導体は、特に欧州特許公開第０６６０７０１号
に記載されているベンゾトリアゾールシリコーン類の一般的なファミリーに属す
る。

【００１３】 本発明の実施に特に適したベンゾトリアゾールシリコーン類の一つのファミリ
ーは、次の式(５)又は(６)： 又は ［上式中： − Ｒ_７は同一でも異なっていてもよく、Ｃ_１-Ｃ_１０アルキル、フェニル、３,
３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、Ｒ_７ 基の数基準で少なくとも８０％はメチルであり、 − Ｄは同一でも異なっていてもよく、Ｒ_７基及びＧ基から選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数であり、ｓ＝０の場合、２
つの符号Ｄの少なくとも一方はＧを示し、 − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であ
ると理解されるものであり、 − 符号Ｇは上述した式(２)に相当するものである］ に相当する化合物と組合せたものである。

【００１４】 上述した式(２)から明らかなように、ベンゾトリアゾール単位への鎖単位-(Ｘ
)_ｍ-(ＣＨ_２)_ｐ-ＣＨ(Ｚ)-ＣＨ_２-の結合は、シリコーン鎖のケイ素原子に対す
る前記ベンゾトリアゾール単位の結合を確実になすものであるが、これは、本発
明によれば、次の式： に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香環によって提供される全ての利用可能
な位置において起こり得る。

【００１５】 この結合は、好ましくは３、４、５位(ヒドロキシル官能基を担持する芳香環)
、又は４'位(トリアゾール環に隣接したベンゼン環)、さらに好ましくは３、４
又は５位で生じる。本発明の好ましい実施態様では３位で結合する。 同様に、一又は複数の置換基単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの利用可能
な他の位置の何れにおいても生じ得る。しかし、この結合は、好ましくは３、４
、４'、５及び／又は６位で生じる。本発明の好ましい実施態様においては、単
位Ｙは５位で結合する。

【００１６】 上述した式(５)及び(６)において、アルキル基は直鎖状又は分枝状であってよ
く、特にメチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、イソブチル
、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソアミル、ネオペンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプ
チル、ｎ-オクチル、２-エチルヘキシル及びtert-オクチル基から選択され得る
。本発明の好ましいＲ_７アルキル基は、メチル、エチル、プロピル、ｎ-ブチル
、ｎ-オクチル及び２-エチルヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ_７基は全
てメチル基である。 上述した式(５)又は(６)の化合物として、式(５)に相当するもの、すなわち直
鎖状の短鎖を有するジオルガノシロキサン類が好ましく使用される。 上述した式(５)の化合物としては、Ｄ基が両方ともＲ_７基であるものが好まし
く使用される。

【００１７】 本発明の範囲に入る直鎖状のジオルガノシロキサン類としては、次の特徴： − ＤはＲ_７基であり、 − Ｒ_７はアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜１０であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはそのときメチル、tert-ブチル
及びＣ_１-Ｃ_４アルコキシから選択され、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、更に好ましくは全てを示すランダム誘導体又は明確に
定まったブロック誘導体が特に好ましい。

【００１８】 本発明に特に適したベンゾトリアゾールシリコーン類のファミリーの一つは、
次の一般式(７)： ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、 Ｅは、 の二価の基を表す］ で定まるものである。

【００１９】 本発明の特に好ましい実施態様において、ベンゾトリアゾールシリコーンは、
次の式： に相当する化合物であるドロメトリゾールトリシロキサン(ＣＴＦＡ名)である。

【００２０】 上述した式(１)、(５)、(６)及び(７)の生成物を調製するのに適した方法は、
特に米国特許第３２２０９７２号、同３６９７４７３号、同４３４０７０９号、
同４３１６０３３号及び同４３２８３４６号及び欧州特許公開第０３９２８８３
号及び欧州特許公開第０７４２００３号に記載されている。

【００２１】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体は、組成物の全重量に対し
て、０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１５重量％の含有量で本発明の組
成物中に存在しうる。

【００２２】 本発明で使用可能なケイ皮酸誘導体としては、４-メトキシケイ皮酸イソペン
チル、４-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシル、ジイソプロピルケイ皮酸メチル
、４-メトキシケイ皮酸イソアミル及び４-メトキシケイ皮酸ジエタノールアミン
を挙げることができる。 上述したケイ皮酸誘導体の中でも、本発明においては、ジボーダン社(Givauda
n)から「パルソール(Parsol)ＭＣＸ」の商品名で販売されているｐ-メトキシケ
イ皮酸２-エチルヘキシルが特に好ましく使用され；この遮蔽剤は次の構造式：
に相当するものである。 本発明のケイ皮酸誘導体(類)は、組成物の全重量に対して０．１〜２０重量％
、好ましくは０．２〜１５重量％の範囲の含有量で存在している。

【００２３】 上述したように、本発明の一つの必須の機能的特徴では、２種類のサンスクリ
ーン剤は、共に、組合せた結果付与される保護ファクターについて顕著かつ大幅
で有意な相乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在すべきである。

【００２４】 さらに一般的には、上述したベンゾトリアゾールシリコン誘導体とケイ皮酸誘
導体の濃度と比率が、最終組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも
２になるように選択される。 ベンゾトリアゾールシリコン誘導体に対するケイ皮酸誘導体の重量比は、好ま
しくは０．５／６．５〜６．７５／０．２５の範囲内である。

【００２５】 言うまでもなく、本発明の抗日光化粧品組成物は、上述した２つの遮蔽剤以外
にも、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域において活性のある一又は複数の付加的な
親水性又は親油性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含有してもよい。これらの付加
的な遮蔽剤は、特に、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体；トリアジン誘導体
、例えば欧州特許出願第８６３１４５号、同５１７１０４号、同５７０８３８号
、同７９６８５１号、同７７５６９８号及び同８７８４６９号に開示されている
もの；ベンゾフェノン誘導体；ジベンゾイルメタン誘導体；β,β'-ジフェニル
アクリラート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；ｐ-アミノ安息香酸誘導体；
炭化水素ベースのビス(ベンゾトリアゾリル-フェノール)誘導体、例えば英国特
許公開第２３０３５４９号、独国特許公開第１９７２６１８４号及び欧州特許公
開第８９３１１９号に開示されているもの；少なくとも２つのベンザゾリル(ben
zazolyl)基を有する化合物、例えば欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され
ているもの；及び遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開９３／０４
６６５号に開示されているものから選択することができる。

【００２６】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある付加的なサンスクリーン剤の例と
しては： ｐ-アミノ安息香酸、 オキシエチレン化(２５モル)ｐ-アミノベンゾアート、 ｐ-ジメチルアミノ安息香酸２-エチルヘキシル、 Ｎ-オキシプロピレン化ｐ-アミノ安息香酸エチル、 ｐ-アミノ安息香酸グリセリル、 サリチル酸ホモメンチル、 サリチル酸２-エチルヘキシル、 サリチル酸トリエタノールアミン、 サリチル酸４-イソプロピルベンジル、 ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン、 ４-イソプロピルジベンゾイルメタン、 アントラニル酸メンチル、 ２-シアノ-３,３'-ジフェニルアクリル酸２-エチルヘキシル、 ２-シアノ-３,３'-ジフェニルアクリル酸エチル、 ２-フェニルベンゾイミダゾール-５-スルホン酸とその塩類、 ３-(４'-トリメチルアンモニウム)ベンジリデンボルナン-２-オン-メチルスルフ
ァート、 ２-ヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノン、 ２-ヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノン-５-スルホナート、 ２,４-ジヒドロキシベンゾフェノン、 ２,２',４,４'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、 ２,２'-ジヒドロキシ-４,４'-ジメトキシベンゾフェノン、 ２-ヒドロキシ-４-ｎ-オクトキシベンゾフェノン、 ２-ヒドロキシ-４-メトキシ-４'-メチルベンゾフェノン、 α-(２-オキソボルン-３-イリデン)トリル-４-スルホン酸及びその塩類、 ３-(４'-スルホ)ベンジリデンボルナン-２-オン及びその塩類、 ３-(４'-メチルベンジリデン)-ｄ,ｌ-ショウノウ、 ３-ベンジリデン-ｄ,ｌ-ショウノウ、 ベンゼン-１,４-ジ(３-メチリデン-１０-ショウノウスルホン酸)とその塩類、 ウロカニン酸、 ２,４,６-トリス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ]-１
,３,５-トリアジン、 ２-[ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-４,６-ビス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１
'-オキシカルボニル)アニリノ]-１,３,５-トリアジン、 ２,４-ビス{[４-２-エチル-ヘキシルオキシ)]-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４
-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン、 Ｎ-[(２及び４)-[(２-オキソボルン-３-イリデン)メチル]ベンジル]アクリルア
ミドのポリマー、 ４,４-ビス-ベンズイミダゾリル-フェニレン-３,３',５,５'-テトラスルホン酸
とその塩類、 ２,２'-メチレンビス[６-(２Ｈ-ベンゾトリアゾール-２-イル)-４-(１,１,３,３
-テトラメチルブチル)フェノール]、 マロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン類、 を挙げることができる。

【００２７】 また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び／又は
褐色にするための薬剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)
をさらに含有してもよい。

【００２８】 さらに本発明の化粧品組成物は、被覆又は非被覆金属酸化物からなる顔料又は
ナノ顔料類(一次粒子の平均粒径：一般的に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１
０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体ＵＶよく知られている光保護剤である、
酸化チタン(アモルファス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸化鉄
、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料類をさらに含有して
もよい。また、標準的なコーティング剤はアルミナ及び／又はステアリン酸アル
ミニウムである。このような被覆又は非被覆金属酸化物のナノ顔料類は、特に、
欧州特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に記載さ
れている。

【００２９】 また、本発明の組成物は、特に、脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化
防止剤、乳白剤、安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタ
ミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩
基性又は酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組成物
の製造に通常使用されている任意の他の成分から選択される標準的な化粧品用ア
ジュバントをさらに含有してもよい。

【００３０】 脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、脂肪
酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、植物性
油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、流動パラフィン、揮発性又は非
揮発性のシリコーン油、イソパラフィン類、ポリ-α-オレフィン類、フッ化及び
過フッ化油類から選択することができる。同様に、ロウは、それ自体公知である
動物性、化石、植物性、鉱物性又は合成ロウから選択することができる。

【００３１】 有機溶媒としては低級アルコール類及びポリオール類を挙げることができる。 増粘剤は、特に、架橋したアクリル酸ホモポリマー及び変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロースガム、例えばヒドロキシプロピル化グアーガム、メチルヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキ
シエチルセルロースから選択することができる。

【００３２】 当業者であれば、本発明の遮蔽剤の２つの組合せに固有の有利な特性、特に光
保護効果が、考慮される添加によって全く又は実質的に悪影響を受けないように
留意して、上述した任意の補足的な化合物及び／又はそれらの量を選択するであ
ろうことは明らかである。

【００３３】 本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型
のエマルション、又は無水組成物の調製を意図した技術により調製することがで
きる。

【００３４】 この組成物は、特に単一又は複合エマルションの形態(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／
Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)、例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム-ゲル、又
はパウダー、固形組成物又は柔軟なペーストの形態にすることもでき、エアゾー
ルとして包装されてもよく、またフォーム又はスプレーの形態であってもよい。

【００３５】 組成物がエマルションの場合、その水相は、公知の方法［バンガム(Bangham)
、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J. Mol. Biol.13,238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００
８号］により調製される非イオン性の小胞体分散液を含んでもよい。

【００３６】 本発明の化粧品組成物は、抗日光組成物又はメークアップ用製品のような、紫
外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として使用することができ
る。

【００３７】 本発明の化粧品組成物がＵＶ線からヒトの表皮を保護するため、すなわち抗日
光組成物として使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は懸濁した
形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油
型エマルションの形態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリーム
ゲル、スティック、柔軟なペースト、エアゾールフォーム又はスプレーの形態で
あってよい。

【００３８】 本発明の化粧品組成物が毛髪を保護するために使用される場合、それは、シャ
ンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
であってよく、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、
パーマネントウエーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適用されて
すすがれる組成物、スタイリング又はトリートメント用のローションもしくはゲ
ル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエー
ブ又は毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することもできる。

【００３９】 組成物が、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用製品、例えば、表皮のトリー
トメントクリーム、ファンデーション、口紅、アイシャドウ、ほほ紅、マスカラ
又はアイライナーとして使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無水
又は水性の形態、例えば水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小
胞体分散液又は懸濁液であってよい。

【００４０】 水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物に対して目安
を示すと、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全処方物に対して、一般的
に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤
を含有する)は、全処方物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量
％、(共)乳化剤(類)は、全処方物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２〜
１０重量％である。

【００４１】 本発明の特定の一形態は、上述した少なくとも１つの組成物を含有する唇の手
入れ及び／又はメークアップ用スティックである。

【００４２】 本明細書の最初に示したように、本発明の他の主題事項は、上述した化粧品組
成物の有効量を皮膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響からそれら
を保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処理方法にある。

【００４３】 本発明を限定しないで例証するための具体的な実施例を以下に示す。実施例１ないし７ ： ドロメトリゾールトリシロキサンは次の構造を有する： 以下の各実施例１ないし７に対して、その日光保護ファクター(ＳＰＦ)を測定
した。これは、ビー・エル・ディフェイ(B.L. Diffey)らによりJ. Soc. Cosmet.
Chem. 40, 127-133, (1989)に開示されているインビトロ法を使用して決定した
。測定は、キセノンランプ及び集積化球体を具備したオプトメトリクス(Optomet
rics)のＳＰＦ２９０ＳモデルＵＶ-可視光線分光光度計を使用して行った。 各々の化粧品処方例を、石英スライドに付着させた３Ｍのトランスポア(Trans
pore)接着テープ上に２ｍｇ／ｃｍ^２の割合で均質で一様な付着物の形で塗布し
た。 様々な処方の組成物を調べ、得られた平均日光保護ファクター(５回のテスト
の平均)に関する結果を、以下の表にまとめた。

【００４４】 これらの結果には、０．５０／６．５０〜６．７５／０．２５の範囲のベンゾ
トリアゾールシリコン誘導体に対するケイ皮酸誘導体の重量比でケイ皮酸誘導体
とベンゾトリアゾールシリコン誘導体を組合せることにより、顕著な相乗効果が
得られることが示されている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C083 AA082 AA122 AB211 AB231 AB241 AC012 AC211 AC311 AC342 AC391 AC392 AC481 AC851 AD022 AD161 AD162 AD512 AD642 AD662 BB21 CC12 CC13 DD11 DD31 EE17 EE29

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 特に皮膚及び／又は毛髪を光保護するための、局所使用用の
   化粧品組成物において、化粧品的に許容可能な支持体中に、 (ｉ)ベンゾトリアゾール官能基を有する少なくとも１種のシリコン誘導体(Ａ)を
   第１の遮蔽剤として、 (ｉｉ)少なくとも１種のケイ皮酸誘導体(Ｂ)を第２の遮蔽剤として、 含有してなり； 前記第１及び第２の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターに相乗活性を生
   じさせる割合で組成物に存在し； 但し、前組成成物は、０．５重量％のステアリン酸、２．５重量％のステアリ
   ルアルコール、２重量％のポリジメチルシロキサン、０．２２％のアクリル増粘
   ポリマー、０．７２重量％のトリエタノールアミン、８重量％の保湿剤、５重量
   ％のドロメトリゾールトリシロキサン及び１０重量％のｐ-メトキシケイ皮酸２-
   エチルヘキシルを含有する水中油型エマルション以外であることを特徴とする組
   成物。
2. 【請求項２】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、次の
   式(１)： Ｏ_{(３−ａ)／２}Ｓｉ(Ｒ_７)_ａ-Ｇ (１) ｛上式中： − Ｒ_７はハロゲン化されていてもよいＣ_１-Ｃ_１０アルキル基又はフェニル基
   又はトリメチルシリルオキシ基を表し、 − ａは０〜３から選択される整数であり、 − 符号Ｇは次の式(２)： [上式中： − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ_１-Ｃ_８アルキル基、ハロゲン及びＣ
   _１-Ｃ_４アルコキシ基から選択され、後者の場合、同じ芳香環の２つの隣接する
   Ｙ基が共同して、アルキリデン基が１又は２の炭素原子を有するアルキリデンジ
   オキシ基を形成可能であると理解され、 − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ_１-Ｃ_４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］ に相当し、ケイ素原子に直接結合する一価の基を示す｝ の少なくとも１つの単位を含有する、ベンゾトリアゾール官能基を有するポリオ
   ルガノシロキサン類及びシラン類から選択される請求項１に記載の組成物。
3. 【請求項３】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、次の
   式(５)又は(６)： 又は ［上式中： − Ｒ_７は同一でも異なっていてもよく、Ｃ_１-Ｃ_１０アルキル、フェニル、３,
   ３,３-トリフルオロプロピル及びトリメチルシリルオキシ基から選択され、Ｒ_７ 基の数基準で少なくとも８０％はメチルであり、 − Ｄは同一でも異なっていてもよく、Ｒ_７基及びＧ基から選択され、 − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数であり、ｓ＝０の場合、２
   つの符号Ｄの少なくとも一方はＧを示し、 − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であり、ｔ＋ｕは３以上であ
   ると理解されるものであり、 − 符号Ｇは請求項２に記載された式(２)に相当するものである］ のいずれかに相当するものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の組成
   物。
4. 【請求項４】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が次の式
   (７)： ［上式中、０≦ｒ≦１０、１≦ｓ≦１０であり、 Ｅは、 の二価の基を表す］ に相当するものであることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
5. 【請求項５】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が次の式
   ： に相当するドロメトリゾールトリシロキサンであることを特徴とする請求項４に
   記載の組成物。
6. 【請求項６】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体が、組成
   物の全重量に対して、０．１〜２０重量％、好ましくは０．２〜１５重量％の範
   囲の含有量で存在していることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に
   記載の組成物。
7. 【請求項７】 ケイ皮酸誘導体が、４-メトキシケイ皮酸イソペンチル、４-
   メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシル、ジイソプロピルケイ皮酸メチル、４-メト
   キシケイ皮酸イソアミル及び４-メトキシケイ皮酸ジエタノールアミンから選択
   される請求項１ないし６のいずれか１項に記載の組成物。
8. 【請求項８】 ケイ皮酸誘導体が次の構造式： に相当するｐ-メトキシケイ皮酸２-エチルヘキシルである請求項７に記載の組成
   物。
9. 【請求項９】 ケイ皮酸誘導体が、組成物の全重量に対して０．１〜２０重
   量％、好ましくは０．２〜１５重量％の範囲の含有量で存在している請求項１な
   いし８のいずれか１項に記載の組成物。
10. 【請求項１０】 ベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体とケイ
    皮酸化合物の濃度が、組成物の日光保護ファクターが好ましくは少なくとも２に
    なるように選択される請求項１ないし９のいずれか１項に記載の組成物。
11. 【請求項１１】 ベンゾトリアゾールシリコン誘導体に対するケイ皮酸誘導
    体の重量比が０．５／６．５〜６．７５／０．２５の範囲にある請求項１ないし
    １０のいずれか１項に記載の組成物。
12. 【請求項１２】 ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域において活性のある一又は
    複数の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有することを特徴とす
    る請求項１ないし１１のいずれか１項に記載の組成物。
13. 【請求項１３】 前記付加的な有機遮蔽剤がサリチル酸誘導体、ショウノウ
    誘導体、トリアジン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体
    、β,β-ジフェニルアクリラート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、ビス(ベン
    ゾトリアゾリルフェノール)誘導体、少なくとも２つのベンザゾリル基を有する
    化合物及び遮蔽ポリマー及びベンゾトリアゾール官能基を有するシリコン誘導体
    以外の遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とする請求項１２に記載の組成
    物。
14. 【請求項１４】 付加的な光保護剤として、反射及び／又は散乱により物理
    的にＵＶ線を遮蔽可能な金属酸化物の被覆又は非被覆の顔料又はナノ顔料をさら
    に含有することを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項に記載の組成物
    。
15. 【請求項１５】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非被覆の酸化チタン、
    酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム及びそれらの混合物から
    選択されることを特徴とする請求項１４に記載の組成物。
16. 【請求項１６】 人工的に皮膚を日焼けした状態にする、及び／又は褐色に
    するための少なくとも１種の薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項１な
    いし１５のいずれか１項に記載の組成物。
17. 【請求項１７】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白
    剤、安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料
    、防腐剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基
    性又は酸性化剤及び染料から選択される少なくとも１種のアジュバントをさらに
    含有することを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１項に記載の組成物。
18. 【請求項１８】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光組成物であって、非
    イオン性の小胞体分散液、水中油型エマルション等のエマルション、クリーム、
    ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散体、パウダー、棒状固体、フォーム
    又はスプレーの形態であることを特徴とする請求項１ないし１７のいずれか１項
    に記載の組成物。
19. 【請求項１９】 固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、又はエマル
    ション、懸濁液又は分散体の形態であり、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用
    組成物であることを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成
    物。
20. 【請求項２０】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組成物であって、シャ
    ンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
    であることを特徴とする請求項１ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。
21. 【請求項２１】 請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の少なくとも１
    つの組成物を含んでなることを特徴とする唇の手入れ及び／又はメークアップ用
    スティック。
22. 【請求項２２】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するこ
    とを意図した化粧品の製造における、請求項１ないし２０のいずれか１項に記載
    の組成物の使用。
23. 【請求項２３】 ＵＶ遮蔽剤として請求項１ないし６のいずれか１項に記載
    の少なくとも１種のベンゾトリアゾールシリコン誘導体を含有する、太陽光線等
    の紫外線から皮膚及び／又は毛髪を保護するための化粧品組成物の製造における
    、付与される日光保護ファクターに相乗効果を生じさせるための、請求項７又は
    ８に記載のケイ皮酸誘導体型の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤の使用。