JP2000247855A - 遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途 - Google Patents

遮蔽剤の相乗混合物に基づく抗日光化粧品組成物とその用途

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 良好な光保護力を有する化粧品用組成物及び
その用途を提供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル中に、
(ａ)第１の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和した
形態であっても良い、ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリ
デン-１０-ショウノウスルホン酸)と、(ｂ)第２の遮蔽
剤として、少なくとも１つのビス(レゾルシニル)トリア
ジン誘導体と、(ｃ)第３の遮蔽剤として、少なくとも２
つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１
つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１
つとを含有せしめ、該第１、第２及び第３の遮蔽剤を、
日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合にす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、紫外線から
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物(以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する)、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、(ａ)第
１の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和した形態で
あっても良いベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０
-ショウノウスルホン酸)と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、
少なくとも１つのビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体
と、(ｃ)第３の遮蔽剤として、少なくとも２つのベンゾ
アゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベンゾ
ジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを組合
せて含有し、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与さ
れる日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合
で、該組成物中に存在している抗日光組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ-Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ-Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ-Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ-Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ-Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ-Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
【０００３】皮膚の光(ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ)保護
を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提供さ
れている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場合、
水中油型エマルション(すなわち、分散させる水性連続
相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品とし
て許容可能なビヒクル)の形態で提供されており、有害
な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の親油
性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含有し
てなるもので、これらの遮蔽剤(及びその量)は、所望の
保護ファクター［保護ファクター(ＰＦ)は、ＵＶ遮蔽剤
を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必要な照射
時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形成され始
めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に表したも
のである］に従って選択される。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】実
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている３つの特定のサンスク
リーン剤を組合せると、顕著な相乗効果により、大幅に
改善された保護ファクターを有する抗日光組成物が得ら
れることを見いだした。この発見が本発明の基礎をな
す。
【０００５】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品として許容可能なビヒクル中に、(ａ)第１の遮蔽剤と
して、部分的に又は完全に中和した形態であっても良
い、ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-ショウ
ノウスルホン酸)と、(ｂ)第２の遮蔽剤として、少なく
とも１つのビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体と、
(ｃ)第３の遮蔽剤として、少なくとも２つのベンゾアゾ
リル基を有する化合物又は少なくとも１つのベンゾジア
ゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを含有し、
該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与される日光保護
ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組成物中
に存在していることを本質的に特徴とする新規化粧品用
組成物、特に抗日光組成物を提供することにある。
【０００６】本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
【０００７】また、本発明の他の主題事項は、本発明の
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。本発明の
他の特徴、側面及び利点は、以下の詳細な記載を読むこ
とにより、明らかになるであろう。
【０００８】よって、本発明の主題事項の一つにおいて
は、化粧品として許容可能なビヒクル中に： (ａ)第１の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和した
形態であっても良い、ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリ
デン-１０-ショウノウスルホン酸)と； (ｂ)第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのビス(レゾ
ルシニル)トリアジン誘導体と； (ｃ)第３の遮蔽剤として、１分子当たり少なくとも２つ
のベンゾアゾリル基を有する化合物、又は１分子当たり
少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物の
少なくとも１つ、を含有してなることを本質的な特徴と
し、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与される日光
保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組成
物中に存在している、新規の化粧品用及び／又は皮膚科
学的組成物、特に抗日光組成物が提供される。
【０００９】本明細書において「少なくとも２つのベン
ゾアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、
ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミ
ダゾリル型の少なくとも２つの基を有するものと理解さ
れる。本明細書において「少なくとも１つのベンゾジア
ゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベン
ゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイ
ミダゾリル型の基を有するものと理解される。
【００１０】ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０
-ショウノウスルホン酸)とその様々な塩類は、特にフラ
ンス国特許出願公開第２５２８４２０号及び同第２６３
９３４７号に記載され、２８０〜４００ｎｍの波長の紫
外線を吸収することができ、３２０〜４００ｎｍの間、
特に約３４５ｎｍに最大吸収帯域を持つそれ自体既に知
られている遮蔽剤(いわゆる広帯域遮蔽剤)である。
【００１１】これらの遮蔽剤は、次の式(Ｉ)：
【化２０】 ｛上式中、Ａは水素原子、アルカリ金属又は、基ＮＨ
(Ｒ)３ ＋（ここで、Ｒ基は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、Ｃ１-Ｃ４アルキル又はヒドロキシアル
キル基あるいは基Ｍｎ＋／ｎ(ここで、Ｍｎ＋は、ｎが
２、３又は４に等しい多価金属カチオンで、Ｍｎ＋は好
ましくはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍｇ２＋、Ｂａ ２＋、Ａ
ｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる金属カチオンである）
を表す｝に相当する。式(Ｉ)の化合物は一又は複数の二
重結合の周りに「シス−トランス」異性体を生じ、これ
らの異性体も全て本発明の範囲にあることは明らかに理
解される。
【００１２】ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０
-ショウノウスルホン酸)、及び／又はその様々な塩類
は、組成物の全重量に対して、一般に約０．１〜１５重
量％の全濃度、好ましくは約０．２〜１０重量％の濃度
で遮蔽組成物中に存在する。
【００１３】本発明に係るビス(レゾルシニル)トリアジ
ン誘導体は、好ましくは次の式(ＩＩ)：
【化２１】 ［上式中、(ｉ)Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アル
ケニル基又は式-ＣＨ２-ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ２-ＯＴ１(こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である)
の残基を示し； (ｉｉ)Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式(４)：
【化２２】 ｛上式中、 − ｍ１は１〜３の数であり； − Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシ
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ-もしくはジ(Ｃ
１−Ｃ５)アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あるい
は次の式(２)〜(７)：
【化２３】 （上式中、 − Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていても
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式-(ＣＨ２)ｍ２-ＯＴ１（ここで、ｍ２は
１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残基を
表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ (ｉｉｉ)Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式(８)：
【化２４】 （上式中、 − Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式-Ｃｍ ４Ｈ２ｍ４-もしくは-Ｃｍ４Ｈ
２ｍ４-Ｏ-（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の残基
を表し； − Ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式：
【化２５】 （上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式： ［上式中、 − Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し； − Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式-
(ＣＨ２ＣＨＲ１６-Ｏ)ｎ １Ｒ７（ここでｎ１は１〜１
６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上記
と同じ意味を有する-ＣＨ２-ＣＨ-(ＯＨ)-ＣＨ２ＯＴ１
の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は次の式(１)：
【化２６】 に相当する基である］の１つに対応する残基を示す］に
相当する化合物から好適には選択される。
【００１４】上述の式(ＩＩ)及び(１)〜(１２)におい
て： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-ブチル、
sec-ブチル、tert-ブチル、アミル、イソアミル、tert-
アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、
デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタ
デシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル又はオクタデシル
から選択することができ； − アルケニル基は、例えばアリル、メタリル、イソプ
ロペニル、２-ブテニル、３-ブテニル、イソブテニル、
ｎ-ペンタ-２,４-ジエニル、３-メチル-２-ブテニル、
ｎ-オクト(oct)-２-エニル、ｎ-ドデセ(dodec)-２-エニ
ル、イソドデセニル及びｎ-オクタデセ-４-エニルから
選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ-プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ-
ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、アミルオキ
シ、イソアミルオキシ及びtert-アミルオキシから選択
することができ； − Ｃ１−Ｃ５モノ-もしくはジアルキルアミノ基は、
例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミ
ノ、ｎ-ブチルアミノ、sec-ブチルアミノ、tert-ブチル
アミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択
することができ； − 金属カチオンはアルカリ金属、アルカリ土類金属、
又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カルシ
ウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金属カ
チオンである。
【００１５】本発明の式(ＩＩ)のビス(レゾルシニル)ト
リアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤であ
る。それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号及び同
第０８７８４６９号に開示され、そこで示された合成法
に従い調製される(これらは本明細書の内容の一体部分
を形成する)。
【００１６】使用することができる式(ＩＩ)のビス(レ
ゾルシニル)トリアジン化合物の例としては、Ａ１基が
パラ-メトキシフェニル又はパラ-エトキシフェニルを示
し、Ｒ １及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、
次の構造：
【化２７】 ｛上式中、構造Ｒ３は、 − tert-ブチルオキシ； − ＯＨ； − ＯＭ（ここで、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造：
【化２８】 の基； − 構造Ｏ−Ｎ＋(ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ)３の基； − 次の構造：
【化２９】 （ここで、ｎは２〜１６まで変わりうる）の基； − 次の構造：
【化３０】 の基； − 次の構造：
【化３１】 の基から選択される｝を持つ基を表す。
【００１７】また、Ａ１基がパラ-ヒドロキシフェニル
を示し、Ｒ１及びＲ２基が同時に次の構造：
【化３２】 の基を表す式(ＩＩ)に相当するビス(レゾルシニル)トリ
アジン化合物が挙げられる。使用することができる式
(ＩＩ)の化合物の例として： − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
ドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,
５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒド
ロキシプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
ドロキシ]フェニル}-６-[４-(２-メトキシエチルオキシ
カルボキシル)フェニルアミノ]-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-トリス(トリメチルシロキシシリル
プロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メ
トキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２"-メチルプロペニルオキシ)-２
-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,
３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘ
プタメチル-トリシロキシ-２"-メチルプロピルオキシ)-
２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-
１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒド
ロキシプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
[４-(エチルカルボキシル)フェニルアミノ]-１,３,５-
トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
ドロキシ]フェニル}-６-(１-メチル-２-ピロリル)-１,
３,５-トリアジン；を挙げることができる。
【００１８】本発明において特に好ましいビス(レゾル
シニル)トリアジンから誘導される化合物は、 − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
ドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,
５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-トリス(トリメチルシロキシシリル
プロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メ
トキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘ
プタメチルトリシロキシ-２"-メチルプロピルオキシ)-
２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-
１,３,５-トリアジン；からなる群から選択される。
【００１９】ビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体型の
有機遮蔽剤(類)は、組成物の全重量に対して、０．１〜
１５重量％、好ましくは０．２〜１０重量％の全濃度で
本発明に係る遮蔽組成物中に存在する。
【００２０】本発明に係る少なくとも２つのベンゾアゾ
リル基を有する化合物として好ましく使用されるもの
は、次の一般式(ＩＩＩ)：
【化３３】 ［上式中： − Ｚ'は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベ
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する(ｐ２＋ｎ２)価の有機残基を表し； − Ｘ'はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１-Ｃ１８アルキル、Ｃ１-Ｃ４ア
ルコキシ、Ｃ５-Ｃ１５アリール、Ｃ２-Ｃ１８アシルオ
キシ、ＳＯ３Ｙ'又はＣＯＯＹ'を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１-Ｃ４アルキル又はＣ１-Ｃ４ヒド
ロキシアルキルを示し； − Ｙ'は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａｌ又は窒素性有機塩基による
遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し； − ｍ１は０又は１であり； − ｎ１は２〜６の数であり； − ｐ１は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に対応するもの
である。
【００２１】本発明の式(ＩＩＩ)の化合物は、欧州特許
公開第０６６９３２３号において既に公知の水溶性のＵ
Ｖ-Ａ遮蔽剤である。それらは米国特許第２４６３２６
４号及び欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され、
そこで示された合成法に従い調製される(これら２つの
公報は本明細書の内容の一体部分を形成する)。
【００２２】本発明の式(ＩＩＩ)の化合物として好まし
くは、Ｚ'基が： (ａ)例えば： −ＣＨ＝ＣＨ−、
−ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ−、又は次の式：
【化３４】 等の、Ｃ５-Ｃ１２アリール基又はＣ４-Ｃ１２ヘテロア
リールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２-Ｃ
６炭化水素系基； (ｂ)例えば、以下の式：
【化３５】 の基等の、不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２-Ｃ６炭化水素
系基が挿入され得るＣ５-Ｃ１５アリール基； (ｃ)例えば、次の式：
【化３６】 ［上式中、Ｒ６は上述した同一の意味を有する］の基等
の、Ｃ３-Ｃ１０ヘテロアリール残基；から選択され、
(ａ)項、(ｂ)項及び(ｃ)項で定義された上記Ｚ'基が、
Ｃ1-Ｃ６アルキル、Ｃ1-Ｃ６アルコキシ、フェノキシ、
ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ基で置換可
能で、アミノ基が一又は二のＣ1-Ｃ５アルキル基で置換
されていてもよいものを挙げることができる。
【００２３】使用可能な式(ＩＩＩ)の化合物の例とし
て、次の構造を有するもの：
【化３７】 及びその塩類を挙げることができる。これら全ての化合
物の中で、特に好ましいものは、次の構造を有する１,
４-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン-３,３',５,
５'-テトラスルホン酸(化合物４)：
【化３８】 及びその塩類である。
【００２４】少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有す
る化合物の他の例としては、次の化合物：
【化３９】 及びその塩類を挙げることができる。
【００２５】本発明で使用可能な少なくとも１つのベン
ゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合
物：
【化４０】 及びその塩類を挙げることができる。
【００２６】本発明のベンゾアゾリル又はベンゾジアゾ
リル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量
に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０
重量％の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
【００２７】上述したように、本発明の必須の特徴によ
れば、３種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与
される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相
乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在す
るのが好ましい。
【００２８】さらに一般的には、上述したベンゼン-１,
４-ビス(３-メチリデン-１０-ショウノウスルホン酸)、
ビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体及びベンゾアゾリ
ル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物の濃度及び比
率は、最終組成物の日光保護ファクターが好ましくは少
なくとも２になるように選択される。
【００２９】さらに、本発明の好ましい実施態様におい
て、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可
能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
【００３０】もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物
は、上述した２つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ-Ａ及び／又
はＵＶ-Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤(吸収剤)を含
有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケイ
皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、上
述のもの以外のトリアジン誘導体、例えば欧州特許出願
第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５７０８
３８号、同第７９６８５１号に開示されているもの、ベ
ンゾフェノン誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β,
β'-ジフェニルアクリラート誘導体、ベンゾイミダゾー
ル誘導体の上述のもの以外のもの；ｐ-アミノ安息香酸
誘導体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン、例えば
国際公開９３／０４６６５号に開示されているものから
選択される。
【００３１】ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のあ
る付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ-アミノ
安息香酸、オキシエチレン化(２５モル)ｐ-アミノベン
ゾアート、２-エチルヘキシル-ｐ-ジメチルアミノベン
ゾアート、Ｎ-オキシプロピレン化ｐ-アミノ安息香酸エ
チル、グリセロール-ｐ-アミノベンゾアート、ホモメン
チルサリチラート、２-エチルヘキシルサリチラート、
トリエタノールアミンサリチラート、４-イソプロピル
ベンジルサリチラート、４-tert-ブチル-４'-メトキシ
ジベンゾイルメタン、４-イソプロピルジベンゾイルメ
タン、２-エチルヘキシル-４-メトキシシンナマート、
ジイソプロピルケイ皮酸メチル、４-メトキシケイ皮酸
イソアミル、４-メトキシケイ皮酸ジエタノールアミ
ン、アントラニル酸メンチル、２-エチルヘキシル-２-
シアノ-３,３'-ジフェニルアクリラート、２-シアノ-
３,３-ジフェニルアクリル酸エチル、２-フェニルベン
ゾイミダゾール-５-スルホン酸及びその塩類、３-(４'-
トリメチルアンモニオ)ベンジリデンボルナン-２-オン-
メチルスルファート、２-ヒドロキシ-４-メトキシベン
ゾフェノン、２-ヒドロキシ-４-メトキシベンゾフェノ
ン-５-スルホナート、２,４-ジヒドロキシベンゾフェノ
ン、２,２',４,４'-テトラヒドロキシベンゾフェノン、
２,２'-ジヒドロキシ-４,４'-ジメトキシベンゾフェノ
ン、２-ヒドロキシ-４-(ｎ-オクトキシ)ベンゾフェノ
ン、２-ヒドロキシ-４-メトキシ-４'-メチルベンゾフェ
ノン、ウロカニン酸、α-(２-オキソ-３-ボルニリデン)
-４-トルエンスルホン酸及びその塩類、３-(４'-スル
ホ)ベンジリデン-２-ボルナノン及びその塩類、３-(４'
-メチルベンジリデン)-ｄ,ｌ-ショウノウ、３-ベンジリ
デン-ｄ,ｌ-ショウノウ、２,４,６-トリス［ｐ-(２'-エ
チルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-１,
３,５-トリアジン、２-［ｐ-(tert-ブチルアミド)アニ
リノ］-４,６-ビス［ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキ
シカルボニル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン、Ｎ-
(２-及び４-){[(２-オキソ-３-ボルニリデン)メチル]-
ベンジル}アクリルアミドポリマー、ドロメトリゾール
トリシロキサン(ＩＮＣＩ名)、マロナート官能基を有す
るポリオルガノシロキサン類、を挙げることができる。
【００３２】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤(自己サンタン剤)、例えばジヒドロキシアセトン(Ｄ
ＨＡ)をさらに含有してもよい。
【００３３】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類(一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、それ自体ＵＶ光
保護剤としてよく知られている、酸化チタン(アモルフ
ァス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶)、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの
ナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及
び／又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティ
ング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物の
ナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７
７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示され
ているものがある。
【００３４】また、本発明の組成物は、特に、脂肪物
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、
染料、又は化粧品、特にエマルションの形態の抗日光組
成物の製造に通常使用されている任意の他の成分から選
択される従来からの化粧品用アジュバントをさらに含有
してもよい。
【００３５】脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ-α-オレフィン類、又はフッ化
及び過フッ化油類から選択することができる。同様に、
ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロウ、植
物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択すること
ができる。
【００３６】有機溶媒としては低級アルコール類及びポ
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
【００３７】もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽
剤の３つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レ
ベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪
影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な
化合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００３８】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
【００３９】この組成物は、特に単一又は複合エマルシ
ョン(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)、例
えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム-ゲル、パウ
ダー又はチューブ状固体の形態で提供することもでき、
エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム又は
スプレーの形態で提供することもできる。
【００４０】エマルションの場合、エマルションの水相
は、公知の方法［バングハム(Bangham)、スタンディッ
シュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)の、J. Mol. B
iol.13, 238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び
仏国特許第２４１６００８号］により調製される非イオ
ン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００４１】本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
【００４２】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォー
ム又はスプレーの形態で提供することができる。
【００４３】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはゲル、ブロー乾燥又は毛
髪のセット用のローション又はゲル、パーマネントウエ
ーブ又は毛髪のストレート化、染色又は脱色用の組成物
を構成することもできる。
【００４４】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメーク
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
【００４５】目安を示すと、水中油型エマルション型の
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組
成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重
量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２
０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００４６】本明細書の最初に示したように、本発明の
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
【００４７】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、これらは
本発明の範囲を限定するものではない。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 (３３ＥＯ)されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス(Sinnowax)AO、ヘンケル社 (Henkel)］ ７ｇ グリセロールモノ-及びジステアラートの混合 物 ［セラシント(Cerasynt)SD-V、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング(Dow Corning)200フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルキルのベンゾアート[ウィトコ ノール(Witconol)TN、ウィトコ社(Witco)] １５ｇ ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)- ２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフ ェニル)-１,３,５-トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ １,４-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン -３,３',５,５'-テトラスルホン酸 ２ｇ ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-シ ョウノウスルホン酸)(メキソリル(Mexoryl)ＳＸ -チメックス(Chimex)) ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００４８】 実施例２ 組成 グリセロール-モノ／ジステアラート／ポリエ チレングリコール(100EO)ステアラート混合物 ［アルラセル(Arlacel)165FL、ＩＣＩ社］ ２ｇ ステアリルアルコール ［ラネット(Lanette)18、ヘンケル社］ １ｇ パーム油ステアリン酸 ［ステアリン(Stearine)TP、ステアリネリー・ デュボア社(Stearinerie Dubois)］ ２．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング200フルイド、ダウ・コーニ ング社］ ０．５ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルキルのベンゾアート[ウィトコ ノールTN、ウィトコ社］ ２０ｇ トリエタノールアミン ０．５ｇ ２,４-ビス{[４-トリス(トリメチルシロキシ- シリルプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニ ル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリ アジン ２．５ｇ グリセロール ５ｇ アルキルヘキサデシルホスファート、カリウム塩 ［アンフィソール(Amphisol)K、ホフマン-ラ ロシュ社(Hoffman-Laroshe)］ １ｇ ポリアクリル酸 ［シンタレン(Synthalen)K、３Ｖ社］ ０．３ｇ ヒドロキシプロピルメチルセルロース ［メトセル(Methocel)F4M、ダウ・ケミカル社 (Dow Chemical)］ ０．１ｇ １,４-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン -３,３',５,５'-テトラスルホン酸 １．５ｇ ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-シ ョウノウスルホン酸)(メキソリル(Mexoryl)ＳＸ -チメックス(Chimex)) １．５ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００４９】 実施例３ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 (３３ＥＯ)されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス(Sinnowax)AO、ヘンケル社 (Henkel)］ ７ｇ グリセロールモノ-及びジステアラートの混合 物 ［セラシント(Cerasynt)SD-V、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング(Dow Corning)200フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルキルのベンゾアート[ウィトコ ノール(Witconol)TN、ウィトコ社(Witco)社］ １５ｇ ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'- ヘプタメチルトリシロキシ-２"-メチルプロピル オキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキ シフェニル)-１,３,５-トリアジン ２ｇ グリセロール １５ｇ １,４-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン -３,３',５,５'-テトラスルホン酸 １．５ｇ ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１０-シ ョウノウスルホン酸)(メキソリル(Mexoryl)ＳＸ -チメックス(Chimex)) ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量

Claims (31)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 化粧品として許容可能なビヒクル中に： (ａ)第１の遮蔽剤として、部分的に又は完全に中和した
    形態であっても良い、ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリ
    デン-１０-ショウノウスルホン酸)と、(ｂ)第２の遮蔽
    剤として、少なくとも１つのビス(レゾルシニル)トリア
    ジン誘導体と、(ｃ)第３の遮蔽剤として、１分子当たり
    少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合物又は
    １分子当たり少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有
    する化合物の１つと、を含有し、該第１、第２及び第３
    の遮蔽剤が、日光保護ファクターに関し、相乗活性が生
    じる割合で存在していることを特徴とする、特に皮膚及
    び／又は毛髪の光保護のために、局所的に使用される化
    粧品用組成物。
  2. 【請求項２】 ビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体
    が、次の式(ＩＩ)： 【化１】 ［上式中、(ｉ)Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なってい
    てもよく、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アル
    ケニル基又は式-ＣＨ２-ＣＨ(ＯＨ)-ＣＨ２-ＯＴ１(こ
    こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である)
    の残基を示し； (ｉｉ)Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
    く、次の式(１)： 【化２】 ｛上式中、 − ｍ１は１〜３の数であり； − Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシ
    ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
    １−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ-もしくはジ(Ｃ
    １−Ｃ５)アルキルアミノ基；金属カチオンｍ；あるい
    は次の式(２)〜(７)： 【化３】 （上式中、 − Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていても
    よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
    換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
    数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオン、Ｃ１−Ｃ５アル
    キル基又は式-(ＣＨ２) ｍ２-ＯＴ１（ここで、ｍ２は１
    〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残基を表
    す）の一つから選ばれる残基を示す｝ (ｉｉｉ)Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
    く、次の式(８)： 【化４】 （上式中、 − Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
    アルキル基又は式-Ｃｍ ４Ｈ２ｍ４-もしくは-Ｃｍ４Ｈ
    ２ｍ４-Ｏ-（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の残基
    を表し； − Ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
    てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
    コキシ基又は次の式： 【化５】 （上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
    基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式： ［上式中、 − Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し； − Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式-
    (ＣＨ２ＣＨＲ１６-Ｏ)ｎ １Ｒ７（ここでｎ１は１〜１
    ６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上記
    と同じ意味を有する-ＣＨ２-ＣＨ-(ＯＨ)-ＣＨ２ＯＴ１
    の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は次の式(１)： 【化６】 に相当する基である］の１つに対応する残基を示す］に
    相当する請求項１に記載の組成物。
  3. 【請求項３】 式(ＩＩ)の化合物が、(ａ)Ａ１基がパラ
    -メトキシフェニル又は４-エトキシフェニルを示し、Ｒ
    １及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、次の構
    造： 【化７】 ｛上式中、構造Ｒ３は、 − tert-ブチルオキシ； − ＯＨ； − ＯＭ（ここで、Ｍは、銅、マグネシウム又は亜鉛か
    ら選択されるアルカリ金属又はアルカリ土類金属カチオ
    ンである）； − 次の構造： 【化８】 の基； − 構造Ｏ−Ｎ＋(ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ)３の基； − 次の構造： 【化９】 （ここで、ｎは２〜１６の範囲である）の基； − 次の構造： 【化１０】 の基； − 次の構造： 【化１１】 の基から選択される｝を持つ基を表すもの； (ｂ)Ａ１基がパラ-ヒドロキシフェニルを示し、Ｒ１及
    びＲ２基が同時に次の構造： 【化１２】 の基を表す式(ＩＩ)に相当するビス(レゾルシニル)トリ
    アジン化合物；から選択されることを特徴とする請求項
    ２に記載の組成物。
  4. 【請求項４】 式(ＩＩ)の化合物が、 − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
    ドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,
    ５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒド
    ロキシプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
    (４-メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
    ドロキシ]フェニル}-６-[４-(２-メトキシエチルオキシ
    カルボニル)フェニルアミノ]-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-トリス(トリメチルシロキシ-シリ
    ルプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-
    メトキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２"-メチルプロペニルオキシ)-２
    -ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,
    ３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘ
    プタメチル-トリシロキシ-２"-メチルプロピルオキシ)-
    ２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-
    １,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(３-(２-プロピルオキシ)-２-ヒド
    ロキシプロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-
    [４-(エチルカルボキシル)フェニルアミノ]-１,３,５-
    トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
    ドロキシ]フェニル}-６-(１-メチル-２-ピロリル)-１,
    ３,５-トリアジン；からなる群から選択されることを特
    徴とする請求項２に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 式(ＩＩ)の化合物が、 − ２,４-ビス{[４-(２-エチルヘキシルオキシ)-２-ヒ
    ドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-１,３,
    ５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-トリス(トリメチルシロキシシリル
    プロピルオキシ)-２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メ
    トキシフェニル)-１,３,５-トリアジン； − ２,４-ビス{[４-(１',１',１',３',５',５',５'-ヘ
    プタメチル-トリシロキシ-２"-メチルプロピルオキシ)-
    ２-ヒドロキシ]フェニル}-６-(４-メトキシフェニル)-
    １,３,５-トリアジン；からなる群から選択されること
    を特徴とする請求項４に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 ビス(レゾルシニル)トリアジン誘導体の
    濃度が組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％であ
    ることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に
    記載の組成物。
  7. 【請求項７】 前記濃度が組成物の全重量に対して０．
    ２〜１０重量％であることを特徴とする請求項６に記載
    の組成物。
  8. 【請求項８】 ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１
    ０-ショウノウスルホン酸)、及び／又はその塩類が、次
    の式： 【化１３】 ｛上式中、Ｄは水素原子、アルカリ金属又は、基ＮＨ
    (Ｒ２５)３ ＋（ここで、Ｒ ２５基は同一でも異なってい
    てもよく、水素原子、Ｃ１-Ｃ４アルキル又はヒドロキ
    シアルキル基あるいは基Ｍｎ＋／ｎ(ここで、Ｍ
    ｎ＋は、ｎが２、３又は４に等しい多価金属カチオン
    で、Ｍｎ＋は好ましくはＣａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｍ
    ｇ２ ＋、Ｂａ２＋、Ａｌ３＋及びＺｒ４＋から選ばれる
    金属カチオンである）を表す｝に相当することを特徴と
    する請求項１ないし７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 【請求項９】 ベンゼン-１,４-ビス(３-メチリデン-１
    ０-ショウノウスルホン酸)、又はその塩類の１つが、組
    成物の全重量に対して、一般に約０．１〜１５重量％の
    濃度で存在していることを特徴とする請求項１ないし８
    のいずれか１項に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 濃度が組成物の全重量に対して約０．
    ２〜１０重量％であることを特徴とする請求項９に記載
    の組成物。
  11. 【請求項１１】 少なくとも２つのベンゾアゾリル基を
    有する化合物が、次の一般式(ＩＩＩ)： 【化１４】 ［上式中： − Ｚ'は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベ
    ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
    た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
    二重結合を有する(ｐ２＋ｎ２)価の有機残基を表し； − Ｘ'はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１-Ｃ１８アルキル、Ｃ１-Ｃ４ア
    ルコキシ、Ｃ５-Ｃ１５アリール、Ｃ２-Ｃ１８アシルオ
    キシ、ＳＯ３Ｙ'又はＣＯＯＹ'を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
    てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
    有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１-Ｃ４アルキル又はＣ１-Ｃ４ヒド
    ロキシアルキルを示し； − Ｙ'は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
    ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａｌ又は窒素性有機塩基により
    遊離の酸基を中和した結果得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に相当するもの
    であることを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか
    １項に記載の組成物。
  12. 【請求項１２】 Ｚ'基が： (ａ)Ｃ5-Ｃ１２アリール基又はＣ４-Ｃ１０ヘテロアリ
    ール基が挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２-Ｃ
    ６炭化水素性基； (ｂ)不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２-Ｃ６炭化水素性基が
    挿入され得るＣ５-Ｃ１５アリール基； (ｃ)Ｃ３-Ｃ１０ヘテロアリール残基；からなる群から
    選択され、該Ｚ'基が、Ｃ1-Ｃ６アルキル、Ｃ1-Ｃ６ア
    ルコキシ、フェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキ
    シ又はアミノ基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ
    1-Ｃ５アルキル基で置換されていてもよいものであるこ
    とを特徴とする請求項１１に記載の組成物。
  13. 【請求項１３】 Ｚ'基が次の基： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ-ＣＨ＝ＣＨ−、 次の式： 【化１５】 ［上式中、Ｒ６は請求項１０に記載したものと同一の意
    味を有する］からなる群から選択されることを特徴とす
    る請求項１１又は１２に記載の組成物。
  14. 【請求項１４】 式(ＩＩＩ)の化合物が次の化合物： 【化１６】 又はその塩類から選択されることを特徴とする請求項１
    １ないし１３のいずれか１項に記載の組成物。
  15. 【請求項１５】 式(ＩＩＩ)の化合物が、次の構造： 【化１７】 を有する１,４-ビス(ベンゾイミダゾリル)フェニレン-
    ３,３',５,５'-テトラスルホン酸(化合物４)又はその塩
    類であることを特徴とする請求項１１ないし１４のいず
    れか１項に記載の組成物。
  16. 【請求項１６】 少なくとも２つのベンゾアゾリル基を
    有する化合物が、次の化合物： 【化１８】 又はその塩類から選択されることを特徴とする請求項１
    １ないし１３のいずれか１項に記載の組成物。
  17. 【請求項１７】 少なくとも１つのベンゾジアゾリル基
    を有する化合物が次の化合物： 【化１９】 又はその塩類から選択されることを特徴とする請求項１
    ないし１０のいずれか１項に記載の組成物。
  18. 【請求項１８】 ベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル
    基を有する化合物又は化合物類が、組成物の全重量に対
    して０．１〜１５重量％の濃度で存在していることを特
    徴とする請求項１ないし１７のいずれか１項に記載の組
    成物。
  19. 【請求項１９】 前記濃度が、組成物の全重量に対して
    ０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項１８
    に記載の組成物。
  20. 【請求項２０】 前記化粧品として許容可能なビヒクル
    が、水中油型エマルションの形態で提供されることを特
    徴とする請求項１ないし１９のいずれか１項に記載の組
    成物。
  21. 【請求項２１】 前記第１、第２及び第３の遮蔽剤以外
    の、ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域に活性のある一又は
    複数の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに
    含有していることを特徴とする請求項１ないし２０のい
    ずれか１項に記載の組成物。
  22. 【請求項２２】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸
    誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、請求項
    １ないし２１に記載のもの以外のトリアジン誘導体、請
    求項１ないし２０のいずれか１項に記載のもの以外のベ
    ンゾイミダゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体類、ジ
    ベンゾイルメタン誘導体、β,β'-ジフェニルアクリラ
    ート誘導体、ｐ-アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポリ
    マー及び遮蔽シリコーンから選択されることを特徴とす
    る請求項２１に記載の組成物。
  23. 【請求項２３】 付加的なＵＶ光保護剤として、被覆又
    は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料
    をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし２２
    のいずれか１項に記載の組成物。
  24. 【請求項２４】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
    被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム
    及び酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択される
    ことを特徴とする請求項２３に記載の組成物。
  25. 【請求項２５】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
    及び／又は褐色にする少なくとも１つの薬剤をさらに含
    有していることを特徴とする請求項１ないし２４のいず
    れか１項に記載の組成物。
  26. 【請求項２６】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟
    剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒ
    ドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐
    剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマ
    ー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、及び染料から選択
    される少なくとも１つのアジュバントをさらに含有して
    いることを特徴とする請求項１ないし２５のいずれか１
    項に記載の組成物。
  27. 【請求項２７】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光
    組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、水中油型
    エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲ
    ル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チュー
    ブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるも
    のであることを特徴とする請求項１ないし２６のいずれ
    か１項に記載の組成物。
  28. 【請求項２８】 分散液、懸濁液又はエマルションの形
    態、あるいはペースト状又は固体状、水性又は無水の形
    態で提供され、睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組
    成物であることを特徴とする請求項１ないし２６のいず
    れか１項に記載の組成物。
  29. 【請求項２９】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組
    成物において、該組成物がシャンプー、ローション、ゲ
    ル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態
    で提供されるものであることを特徴とする請求項１ない
    し２６のいずれか１項に記載の組成物。
  30. 【請求項３０】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
    は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造
    における、請求項１ないし２６のいずれか１項に記載の
    組成物の使用。
  31. 【請求項３１】 請求項１ないし２９のいずれか１項に
    記載の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用する
    ことからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線か
    ら皮膚及び／又は毛髪を保護するための美容処理方法。
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