JP2000247857A - ベンゾトリアゾール誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物 - Google Patents
ベンゾトリアゾール誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有する化合物を含有する光保護用組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 良好な光保護力を有する化粧品用組成物を提
供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル中に、
（ａ）第１の遮蔽剤として少なくとも１つの特定のベン
ゾトリアゾール誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、
少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体
と、（ｃ）第３の遮蔽剤として、少なくとも２つのベン
ゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベン
ゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを含
有せしめ、該第１、第２及び第３の遮蔽剤を、日光保護
ファクターについて相乗活性を生じる割合にする。
供する。 【解決手段】 化粧品として許容可能なビヒクル中に、
（ａ）第１の遮蔽剤として少なくとも１つの特定のベン
ゾトリアゾール誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、
少なくとも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体
と、（ｃ）第３の遮蔽剤として、少なくとも２つのベン
ゾアゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベン
ゾジアゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを含
有せしめ、該第１、第２及び第３の遮蔽剤を、日光保護
ファクターについて相乗活性を生じる割合にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、紫外線から
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）
第１の遮蔽剤として少なくとも１つの特定のベンゾトリ
アゾール誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なく
とも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、
（ｃ）第３の遮蔽剤として、少なくとも２つのベンゾア
ゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベンゾジ
アゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを組合せ
て含有し、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与され
る日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合
で、該組成物中に存在している抗日光組成物に関する。
皮膚及び／又は毛髪を光保護することを意図し、局所的
に使用される新規の化粧品用組成物（以下、この組成物
を単に抗日光組成物と呼称する）、並びに上述した化粧
品用途におけるこれら組成物の使用に関する。さらに本
発明は、化粧品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）
第１の遮蔽剤として少なくとも１つの特定のベンゾトリ
アゾール誘導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なく
とも１つのビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、
（ｃ）第３の遮蔽剤として、少なくとも２つのベンゾア
ゾリル基を有する化合物又は少なくとも１つのベンゾジ
アゾリル基を有する化合物の少なくとも１つとを組合せ
て含有し、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与され
る日光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合
で、該組成物中に存在している抗日光組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は
日焼けし、特にＵＶ−Ｂとして知られている２８０と３
２０ｎｍの間の波長の光線により、自然なサンタン状態
の形成に有害なサンバーン状態となったり紅斑を形成す
る；よって、このＵＶ−Ｂは遮蔽されなければならな
い。また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、
皮膚をサンタン状態にするＵＶ−Ａも皮膚に悪い変化を
誘発するおそれがあり、敏感肌又は頻繁に太陽光線にさ
らされている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ
は、特に、皮膚の弾性を喪失させ、しわを出現せしめ、
皮膚を時期尚早の老化に導く原因となるものである。Ｕ
Ｖ−Ａは紅斑反応の惹起を誘発したり、ある個人におい
てはこの反応を増幅させ、光毒性又は光アレルギー反応
の原因にもなりうる。よって、ＵＶ−Ａもまた遮蔽する
ことが望ましい。
【０００３】皮膚の光（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ）
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、
所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、Ｕ
Ｖ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである］に従って選択される。
保護を意図した多数の化粧品用組成物が、現在までに提
供されている。これら抗日光組成物は、かなり多くの場
合、水中油型エマルション（すなわち、分散させる水性
連続相と分散させられた油性非連続相とからなる化粧品
として許容可能なビヒクル）の形態で提供されており、
有害な紫外線を選択的に吸収可能な一又は複数の通常の
親油性及び／又は親水性の有機遮蔽剤を種々の濃度で含
有してなるもので、これらの遮蔽剤（及びその量）は、
所望の保護ファクター［保護ファクター（ＰＦ）は、Ｕ
Ｖ遮蔽剤を用いた場合に紅斑が形成され始めるまでに必
要な照射時間の、ＵＶ遮蔽剤を用いない場合に紅斑が形
成され始めるまでに必要な時間に対する比率を数学的に
表したものである］に従って選択される。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】実
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている３つの特定のサンスク
リーン剤を、明確に定まった範囲の割合で組合せると、
顕著な相乗効果により、大幅に改善された保護ファクタ
ーを有し、遮蔽剤の一方又は他方を単独で使用した場合
に得られるものよりさらに高い保護ファクターをとにか
く有する抗日光組成物が得られることを見いだした。こ
の発見が本発明の基礎をなす。
際、上述した光保護の分野において鋭意研究を行ったと
ころ、本出願人は、驚くべきことに、また予期しないこ
とに、従来から既に知られている３つの特定のサンスク
リーン剤を、明確に定まった範囲の割合で組合せると、
顕著な相乗効果により、大幅に改善された保護ファクタ
ーを有し、遮蔽剤の一方又は他方を単独で使用した場合
に得られるものよりさらに高い保護ファクターをとにか
く有する抗日光組成物が得られることを見いだした。こ
の発見が本発明の基礎をなす。
【０００５】よって、本発明の主題事項の一つは、化粧
品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）第１の遮蔽剤
として、少なくとも１つの特定のベンゾトリアゾール誘
導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも１つの
ビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、（ｃ）第３の遮
蔽剤として、少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有す
る化合物又は少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有
する化合物の少なくとも１つとを含有し、該第１、第２
及び第３の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターに
ついて相乗活性を生じる割合で該組成物中に存在してい
ることを本質的に特徴とする新規化粧品用組成物、特に
抗日光組成物を提供することにある。
品として許容可能なビヒクル中に、（ａ）第１の遮蔽剤
として、少なくとも１つの特定のベンゾトリアゾール誘
導体と、（ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも１つの
ビスレゾルシニルトリアジン誘導体と、（ｃ）第３の遮
蔽剤として、少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有す
る化合物又は少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有
する化合物の少なくとも１つとを含有し、該第１、第２
及び第３の遮蔽剤が、付与される日光保護ファクターに
ついて相乗活性を生じる割合で該組成物中に存在してい
ることを本質的に特徴とする新規化粧品用組成物、特に
抗日光組成物を提供することにある。
【０００６】本発明の他の主題事項は、太陽光線等の紫
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
外線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した
化粧品用組成物の製造における、上記のような組成物の
使用にある。
【０００７】また、本発明の他の主題事項は、本発明の
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用することか
ら本質的になる、太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護するために美容処理方法にある。
【０００８】本発明の他の特徴、側面及び利点は、以下
の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろ
う。
の詳細な記載を読むことにより、明らかになるであろ
う。
【０００９】よって、本発明の主題事項の一つにおいて
は、化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、次の式（Ｉ）：
は、化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、次の式（Ｉ）：
【化２９】 ｛上式中： − Ａは水素又は二価の基−Ｌ−Ｗ−を示し； − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１−Ｃ１０ア
ルキル基、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ基又はス
ルホ基から選択され、後者の場合、同じ芳香核の２つの
隣接するＹ基が一緒になって、アルキリデン基が１〜２
の炭素原子を有するアルキリデンジオキシ基を形成可能
であると理解され、但し、Ｙ基はＡが水素以外である場
合にはスルホ基以外であり； − ｎは１、２又は３であり； − Ｌは次の式（ＩＩ）：
ルキル基、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ基又はス
ルホ基から選択され、後者の場合、同じ芳香核の２つの
隣接するＹ基が一緒になって、アルキリデン基が１〜２
の炭素原子を有するアルキリデンジオキシ基を形成可能
であると理解され、但し、Ｙ基はＡが水素以外である場
合にはスルホ基以外であり； − ｎは１、２又は３であり； − Ｌは次の式（ＩＩ）：
【化３０】 ［上式中： − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］の２価の基であり； − Ｗは次の式（１）、（２）又は（３）：
【化３１】 又は
【化３２】 又は −Ｓｉ（Ｒ）３ （３） ［上式中： − Ｒは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１−Ｃ１０ア
ルキル、フェニル及び３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基から選択され、Ｒ基の数の少なくとも８０％はメチ
ルであり、 − Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ基及び次の
式：
ルキル、フェニル及び３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基から選択され、Ｒ基の数の少なくとも８０％はメチ
ルであり、 − Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ基及び次の
式：
【化３３】 （上式中、Ｙ、ｎ及びＬは上述したものと同一の意味を
有する）のＶ基から選択され； − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つのＢ基の少なくとも１つはＶ
を示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解される］の基である｝
の少なくとも１つのベンゾトリアゾール誘導体と； （ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と； （ｃ）第３の遮蔽剤として、１分子当たり少なくとも２
つのベンゾアゾリル基を有する化合物、又は１分子当た
り少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物
の少なくとも１つ、を含有してなることを本質的な特徴
とし、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与される日
光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組
成物中に存在している、新規の化粧品用及び／又は皮膚
科学的組成物、特に抗日光組成物が提供される。
有する）のＶ基から選択され； − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つのＢ基の少なくとも１つはＶ
を示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解される］の基である｝
の少なくとも１つのベンゾトリアゾール誘導体と； （ｂ）第２の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾ
ルシニルトリアジン誘導体と； （ｃ）第３の遮蔽剤として、１分子当たり少なくとも２
つのベンゾアゾリル基を有する化合物、又は１分子当た
り少なくとも１つのベンゾジアゾリル基を有する化合物
の少なくとも１つ、を含有してなることを本質的な特徴
とし、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、付与される日
光保護ファクターについて相乗活性を生じる割合で該組
成物中に存在している、新規の化粧品用及び／又は皮膚
科学的組成物、特に抗日光組成物が提供される。
【００１０】本明細書において「少なくとも２つのベン
ゾアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、
ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミ
ダゾリル型の少なくとも２つの基を有するものと理解さ
れる。本明細書において「少なくとも１つのベンゾジア
ゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベン
ゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイ
ミダゾリル型の基を有するものと理解される。
ゾアゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、
ベンゾオキサゾリル、ベンゾチアゾリル又はベンゾイミ
ダゾリル型の少なくとも２つの基を有するものと理解さ
れる。本明細書において「少なくとも１つのベンゾジア
ゾリル基を有する」という用語は、１分子当たり、ベン
ゾジオキサゾリル、ベンゾジチアゾリル又はベンゾジイ
ミダゾリル型の基を有するものと理解される。
【００１１】本発明の式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘
導体は、それ自体は既に知られている遮蔽剤である。そ
れらは米国特許第４３１６０３３号及び米国特許第４３
２８３４６号、欧州特許第０３５４１４５号、及び欧州
特許第０３９２８８３号、及び欧州特許第０６６０７０
１号に開示され、そこに示される合成法に従い調製され
る（本明細書の内容の一体部分を構成する）。
導体は、それ自体は既に知られている遮蔽剤である。そ
れらは米国特許第４３１６０３３号及び米国特許第４３
２８３４６号、欧州特許第０３５４１４５号、及び欧州
特許第０３９２８８３号、及び欧州特許第０６６０７０
１号に開示され、そこに示される合成法に従い調製され
る（本明細書の内容の一体部分を構成する）。
【００１２】本発明において使用することができる、Ａ
が水素を示す式（Ｉ）の非シリコーン化合物として、特
に： − ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール（ｎ＝１でＹ＝ＣＨ３）、例えばエ
ニケム・シンス社（Ｅｎｉｃｈｅｍ Ｓｙｎｔｈ）から
ユバゾール（Ｕｖａｚｏｌ）Ｐの名称で販売されている
製品、又はチバ−ガイギー社（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）
からチヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）Ｐの名称で販売されて
いる製品； − ２−（２’−ヒドロキシ−３’−ブチル−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール（ｎ＝２でＹ＝ＣＨ
３及び−Ｃ（ＣＨ３）３）、例えばエニケム・シンス社
からユバゾール２３６の名称で販売されている製品； − ２−（２’−ヒドロキシ−５’−（ｔ−オクチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール（ｎ＝１でＹ＝−Ｃ（Ｃ
Ｈ３）２−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）３）、例えばエニケム
・シンス社からユバゾール３１１の名称で販売されてい
る製品； − ２−（２’−ヒドロキシ−３’−（ｓｅｃ−ブチ
ル）−５’−スルホフェニル）ベンゾトリアゾール（ｎ
＝２でＹ＝ＳＯ３Ｈ、Ｙ＝−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−
ＣＨ３）、例えばチバ−ガイギー社からチバファスト
（Ｃｉｂａｆａｓｔ）の名称で販売されている製品；を
挙げることができる。
が水素を示す式（Ｉ）の非シリコーン化合物として、特
に： − ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール（ｎ＝１でＹ＝ＣＨ３）、例えばエ
ニケム・シンス社（Ｅｎｉｃｈｅｍ Ｓｙｎｔｈ）から
ユバゾール（Ｕｖａｚｏｌ）Ｐの名称で販売されている
製品、又はチバ−ガイギー社（Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ）
からチヌビン（Ｔｉｎｕｖｉｎ）Ｐの名称で販売されて
いる製品； − ２−（２’−ヒドロキシ−３’−ブチル−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール（ｎ＝２でＹ＝ＣＨ
３及び−Ｃ（ＣＨ３）３）、例えばエニケム・シンス社
からユバゾール２３６の名称で販売されている製品； − ２−（２’−ヒドロキシ−５’−（ｔ−オクチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール（ｎ＝１でＹ＝−Ｃ（Ｃ
Ｈ３）２−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ３）３）、例えばエニケム
・シンス社からユバゾール３１１の名称で販売されてい
る製品； − ２−（２’−ヒドロキシ−３’−（ｓｅｃ−ブチ
ル）−５’−スルホフェニル）ベンゾトリアゾール（ｎ
＝２でＹ＝ＳＯ３Ｈ、Ｙ＝−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−
ＣＨ３）、例えばチバ−ガイギー社からチバファスト
（Ｃｉｂａｆａｓｔ）の名称で販売されている製品；を
挙げることができる。
【００１３】上述した式（１）、（２）及び（３）の定
義において、Ａが２価の基−Ｌ−Ｗ−である場合の式
（Ｉ）のシリコーン化合物に対して、アルキル基は直鎖
状又は分枝状であってよく、特にメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ネオペンチ
ル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−
エチルヘキシル及びｔｅｒｔ−オクチル基から選択され
得る。本発明の好ましいＲアルキル基は、メチル、エチ
ル、プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル及び２−エチ
ルヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ基は全てメ
チル基である。
義において、Ａが２価の基−Ｌ−Ｗ−である場合の式
（Ｉ）のシリコーン化合物に対して、アルキル基は直鎖
状又は分枝状であってよく、特にメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ネオペンチ
ル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、２−
エチルヘキシル及びｔｅｒｔ−オクチル基から選択され
得る。本発明の好ましいＲアルキル基は、メチル、エチ
ル、プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチル及び２−エチ
ルヘキシル基である。さらに好ましくは、Ｒ基は全てメ
チル基である。
【００１４】Ａが２価の基−Ｌ−Ｗ−である場合の式
（Ｉ）のシリコーン化合物において、好ましくは、Ｗが
式（１）に相当するもの、すなわち直鎖状ジオルガノシ
ロキサンが使用される。
（Ｉ）のシリコーン化合物において、好ましくは、Ｗが
式（１）に相当するもの、すなわち直鎖状ジオルガノシ
ロキサンが使用される。
【００１５】本発明の範囲に入る直鎖状のジオルガノシ
ロキサン類として、特に好ましくは、次の特徴： − Ｒはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − Ｂはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜５であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル又はＣ１−Ｃ４アルコキシから選
択され、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを示す統計的
誘導体（ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ ｄｅｒｉｖａｔｉｖ
ｅｓ）又は明確に定まったブロック誘導体を挙げること
ができる。
ロキサン類として、特に好ましくは、次の特徴： − Ｒはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − Ｂはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜５であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル又はＣ１−Ｃ４アルコキシから選
択され、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、 のうち、少なくとも１つ、好ましくは全てを示す統計的
誘導体（ｓｔａｔｉｓｔｉｃａｌ ｄｅｒｉｖａｔｉｖ
ｅｓ）又は明確に定まったブロック誘導体を挙げること
ができる。
【００１６】上述した式（Ｉ）から明らかなように、ベ
ンゾトリアゾール単位への−（Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｐ−
ＣＨ（Ｚ）−ＣＨ２−の結合は、シリコーン鎖のケイ素
原子に対する該ベンゾトリアゾール単位の結合をもたら
すものであるが、これは、本発明によれば、次の式：
ンゾトリアゾール単位への−（Ｘ）ｍ−（ＣＨ２）ｐ−
ＣＨ（Ｚ）−ＣＨ２−の結合は、シリコーン鎖のケイ素
原子に対する該ベンゾトリアゾール単位の結合をもたら
すものであるが、これは、本発明によれば、次の式：
【化３４】 に示す、ベンゾトリアゾールの２つの芳香核によって提
供される利用可能な位置の何れにおいても起こり得る。
供される利用可能な位置の何れにおいても起こり得る。
【００１７】この結合は、好ましくは３−、４−又は５
−位（ヒドロキシル官能基を担持する芳香環）、又は
４’−位（トリアゾール環に隣接したベンゼン環）、さ
らに好ましくは３−、４−又は５−位で生じる。本発明
の好ましい実施態様では３−位で結合する。同様に、置
換基単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの利用可能な
他の位置の何れにおいても生じ得る。しかし、この結合
は、好ましくは３−、４−、４’−、５−及び／又は６
−位で生じる。本発明の好ましい実施態様においては、
５−位で結合する。
−位（ヒドロキシル官能基を担持する芳香環）、又は
４’−位（トリアゾール環に隣接したベンゼン環）、さ
らに好ましくは３−、４−又は５−位で生じる。本発明
の好ましい実施態様では３−位で結合する。同様に、置
換基単位Ｙの結合は、ベンゾトリアゾールの利用可能な
他の位置の何れにおいても生じ得る。しかし、この結合
は、好ましくは３−、４−、４’−、５−及び／又は６
−位で生じる。本発明の好ましい実施態様においては、
５−位で結合する。
【００１８】本発明に特に適した化合物のファミリー
は、次の一般式：
は、次の一般式：
【化３５】 ［上式中、０≦ｒ≦１５、好ましくは０≦ｒ≦１０、１
≦ｓ≦５、好ましくは１≦ｓ≦３であり、Ｄは、
≦ｓ≦５、好ましくは１≦ｓ≦３であり、Ｄは、
【化３６】 又は
【化３７】 の二価の基を表す］で定まるものである。
【００１９】本発明の特に好ましい実施態様において、
ベンゾトリアゾールシリコーンは、
ベンゾトリアゾールシリコーンは、
【化３８】 である、一般式（Ｉ’）に相当するものである。
【００２０】本発明の特に好ましい他の実施態様におい
て、ベンゾトリアゾールシリコーンは、
て、ベンゾトリアゾールシリコーンは、
【化３９】 である、一般式（Ｉ’）に相当するものである。
【００２１】式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体は、
常に組成物の全重量に対して、０．１〜１５重量％、好
ましくは０．２〜１０重量％の含有量で存在し；好まし
くは第１の遮蔽剤（ａ）と第２の遮蔽剤（ｂ）の混合物
の全含有量は、最終組成物の全重量に対して１５％を越
えない。
常に組成物の全重量に対して、０．１〜１５重量％、好
ましくは０．２〜１０重量％の含有量で存在し；好まし
くは第１の遮蔽剤（ａ）と第２の遮蔽剤（ｂ）の混合物
の全含有量は、最終組成物の全重量に対して１５％を越
えない。
【００２２】本発明に係るビスレゾルシニルトリアジン
誘導体は、好ましくは次の式：
誘導体は、好ましくは次の式：
【化４０】 ［上式中、 （ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（４）：
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（４）：
【化４１】 ｛上式中、 − ｍ１は１〜３の数であり； − Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシ
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ
（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あ
るいは次の式（５）〜（１０）：
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ
（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あ
るいは次の式（５）〜（１０）：
【化４２】 （上式中、 − Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていても
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ
２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残
基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ （ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていても
よく、次の式（１１）：
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ
２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残
基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ （ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていても
よく、次の式（１１）：
【化４３】 （上式中、 − Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４
Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の
残基を表し； − Ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式：
アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４
Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の
残基を表し； − Ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式：
【化４４】 （上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式：
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式：
【化４５】 ［上式中、 − Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し； − Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−
（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜
１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上
記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２
ＯＴ１の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は上述の式（４）：
（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜
１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上
記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２
ＯＴ１の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は上述の式（４）：
【化４６】 に相当する基である］の１つに対応する残基を示す］に
相当する化合物から好適には選択される。上述の式（Ｉ
ＩＩ）及び（４）〜（１５）において： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ； − Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基は、例えば、アリル、メ
タリル、イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニ
ル、イソブテニル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３
−メチルブテ（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ
−オクテ（ｏｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄ
ｅｃ）−２−エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデ
セ−４−エニルから選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミル
オキシから選択することができ； − モノ−もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ｎ−ブチ
ルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択す
ることができ； − 金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
相当する化合物から好適には選択される。上述の式（Ｉ
ＩＩ）及び（４）〜（１５）において： − アルキル基は、直鎖状又は分枝状で、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、イソ
アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ヘプチル、オクチル、イソ
オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシ
ル又はオクタデシルから選択することができ； − Ｃ２−Ｃ１８アルケニル基は、例えば、アリル、メ
タリル、イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニ
ル、イソブテニル、ｎ−ペンタ−２，４−ジエニル、３
−メチルブテ（ｍｅｔｈｙｌｂｕｔ）−２−エニル、ｎ
−オクテ（ｏｃｔ）−２−エニル、ｎ−ドデセ（ｄｏｄ
ｅｃ）−２−エニル、イソドデセニル又はｎ−オクタデ
セ−４−エニルから選択することができ； − アルコキシ基は直鎖状又は分枝状で、例えば、メト
キシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ
−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ又はｔｅｒｔ−アミル
オキシから選択することができ； − モノ−もしくはジアルキルアミノ基は、例えば、メ
チルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、ｎ−ブチ
ルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルア
ミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、ジブチルアミノ又はメチルエチルアミノから選択す
ることができ； − 金属カチオンＭはアルカリ金属、アルカリ土類金
属、又は例えば、リチウム、カリウム、ナトリウム、カ
ルシウム、マグネシウム、銅及び亜鉛から選択される金
属カチオンである。
【００２３】本発明の式（ＩＩＩ）のビスレゾルシニル
トリアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤であ
る。それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号及び同
第０８７８４６９号に開示され、そこで示された合成法
に従い調製される（これらは本明細書の内容の一体部分
を形成する）。
トリアジン誘導体は、それ自体既に知られた遮蔽剤であ
る。それらは、欧州特許公開第０７７５６９８号及び同
第０８７８４６９号に開示され、そこで示された合成法
に従い調製される（これらは本明細書の内容の一体部分
を形成する）。
【００２４】使用することができる式（ＩＩＩ）のビス
レゾルシニルトリアジン化合物の例としては、Ａ１基が
パラ−メトキシフェニル又は４−エトキシフェニルを示
し、Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、
次の構造：
レゾルシニルトリアジン化合物の例としては、Ａ１基が
パラ−メトキシフェニル又は４−エトキシフェニルを示
し、Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異なっていてもよく、
次の構造：
【化４７】 ｛上式中、構造Ｒ３は、 − ｔｅｒｔ−ブチルオキシ； − ＯＨ； − ＯＭ（ここで、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造：
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造：
【化４８】 の基； − 構造Ｏ−Ｎ＋（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３の基； − 次の構造：
【化４９】 （ここで、ｎは２〜１６まで変わりうる）の基； − 次の構造：
【化５０】 の基； − 次の構造：
【化５１】 の基から選択される｝を持つ基を表す。
【００２５】また、Ａ１基がパラ−ヒドロキシフェニル
を示し、Ｒ１及びＲ２基が同時に次の構造：
を示し、Ｒ１及びＲ２基が同時に次の構造：
【化５２】 の基を表す式（ＩＩＩ）に相当するビスレゾルシニルト
リアジン化合物が挙げられる。
リアジン化合物が挙げられる。
【００２６】使用することができる式（ＩＩＩ）の化合
物の例として： − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；を挙
げることができる。
物の例として： − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；を挙
げることができる。
【００２７】本発明において特に好ましいビスレゾルシ
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプ
ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択される。
ニルトリアジンから誘導される化合物は、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン；− ２，４−
ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ）シリルプ
ロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−
（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択される。
【００２８】ビスレゾルシニルトリアジン誘導体型のサ
ンスクリーン又はサンスクリーン類は、組成物の全重量
に対して、０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１
０重量％の含有量で組成物中に存在し；好ましくは第１
〜第３の遮蔽剤の混合物の全含有量は、最終組成物の全
重量に対して１５％を越えない。
ンスクリーン又はサンスクリーン類は、組成物の全重量
に対して、０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１
０重量％の含有量で組成物中に存在し；好ましくは第１
〜第３の遮蔽剤の混合物の全含有量は、最終組成物の全
重量に対して１５％を越えない。
【００２９】本発明の少なくとも２つのベンゾアゾリル
基を有する化合物として好ましく使用されるものは、次
の一般式（ＩＶ）：
基を有する化合物として好ましく使用されるものは、次
の一般式（ＩＶ）：
【化５３】 ［上式中： − Ｚ’は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベ
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し； − Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシ
ルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒ
ドロキシアルキルを示し； − Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基による
遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に対応するもの
である。
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し； − Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシ
ルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒ
ドロキシアルキルを示し； − Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基による
遊離の酸基の中和から得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に対応するもの
である。
【００３０】本発明の式（ＩＶ）の化合物は、欧州特許
公開第０６６９３２３号において既に公知の水溶性のＵ
Ｖ−Ａ遮蔽剤である。それらは米国特許第２４６３２６
４号及び欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され、
そこで示された合成法に従い調製される（これら２つの
公報は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
公開第０６６９３２３号において既に公知の水溶性のＵ
Ｖ−Ａ遮蔽剤である。それらは米国特許第２４６３２６
４号及び欧州特許公開第０６６９３２３号に開示され、
そこで示された合成法に従い調製される（これら２つの
公報は本明細書の内容の一体部分を形成する）。
【００３１】本発明の式（ＩＶ）の化合物として好まし
くは、Ｚ’基が： （ａ）例えば： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は次の式：
くは、Ｚ’基が： （ａ）例えば： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、又は次の式：
【化５４】 等の、Ｃ５−Ｃ１２アリール基又はＣ４−Ｃ１０ヘテロ
アリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−
Ｃ６炭化水素性（ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎａｃｅｏｕ
ｓ）基； （ｂ）例えば、以下の式：
アリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−
Ｃ６炭化水素性（ｈｙｄｒｏｃａｒｂｏｎａｃｅｏｕ
ｓ）基； （ｂ）例えば、以下の式：
【化５５】 の基等の、不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−Ｃ６炭化水素
性基が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基； （ｃ）例えば、次の式：
性基が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基； （ｃ）例えば、次の式：
【化５６】 ［上式中、Ｒ６は上述した同一の意味を有する］の基等
の、Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；から選択され、
（ａ）項、（ｂ）項及び（ｃ）項で定義された上記Ｚ’
基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、フ
ェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ
基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ５アル
キル基で置換されていてもよいものを挙げることができ
る。
の、Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；から選択され、
（ａ）項、（ｂ）項及び（ｃ）項で定義された上記Ｚ’
基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ、フ
ェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又はアミノ
基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ５アル
キル基で置換されていてもよいものを挙げることができ
る。
【００３２】使用可能な式（ＩＶ）の化合物の例とし
て、次の構造を有するもの：
て、次の構造を有するもの：
【化５７】 及びその塩類を挙げることができる。
【００３３】これら全ての化合物の中で、特に好ましい
ものは、次の構造を有する１，４−ビス（ベンゾイミダ
ゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−テトラスル
ホン酸（化合物４）：
ものは、次の構造を有する１，４−ビス（ベンゾイミダ
ゾリル）フェニレン−３，３’，５，５’−テトラスル
ホン酸（化合物４）：
【化５８】 及びその塩類である。
【００３４】少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有す
る化合物の他の例としては、次の化合物：
る化合物の他の例としては、次の化合物：
【化５９】 及びその塩類を挙げることができる。
【００３５】本発明で使用可能な少なくとも１つのベン
ゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合
物：
ゾジアゾリル基を有する化合物の例としては、次の化合
物：
【化６０】 及びその塩類を挙げることができる。
【００３６】本発明のベンゾアゾリル又はベンゾジアゾ
リル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量
に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０
重量％の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
リル基を有する化合物又は化合物類は、組成物の全重量
に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．２〜１０
重量％の濃度で、本発明の組成物中に存在する。
【００３７】上述したように、本発明の必須の特徴によ
れば、３種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与
される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相
乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在す
るのが好ましい。
れば、３種類のサンスクリーン剤が、組合せた結果付与
される保護ファクターについて顕著かつ大幅で有意な相
乗効果が得られるような各割合で最終組成物中に存在す
るのが好ましい。
【００３８】さらに一般的には、上述した式（Ｉ）のベ
ンゾトリアゾール誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン
誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有
する化合物の濃度及び比率は、最終組成物の日光保護フ
ァクターが好ましくは少なくとも２になるように選択さ
れる。
ンゾトリアゾール誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン
誘導体及びベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル基を有
する化合物の濃度及び比率は、最終組成物の日光保護フ
ァクターが好ましくは少なくとも２になるように選択さ
れる。
【００３９】さらに、本発明の好ましい実施態様におい
て、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可
能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
て、様々な種類の遮蔽剤が存在する化粧品として許容可
能なビヒクルは、水中油型エマルションである。
【００４０】もちろん、本発明の抗日光化粧品用組成物
は、上述した３つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又
はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第８６３１４５
号、同第５１７１０４号、同第５７０８３８号、同第７
９６８５１号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘
導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−ジフェニ
ルアクリラート誘導体、上記のもの以外のベンゾイミダ
ゾール誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポ
リマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開９３／０４
６６５号に開示されているものから選択される。
は、上述した３つの遮蔽剤以外にも、ＵＶ−Ａ及び／又
はＵＶ−Ｂ領域に対して活性のある、一又は複数の付加
的な親水性又は親油性のサンスクリーン剤（吸収剤）を
含有してもよい。これらの付加的な遮蔽剤は、特に、ケ
イ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、
トリアジン誘導体、例えば欧州特許出願第８６３１４５
号、同第５１７１０４号、同第５７０８３８号、同第７
９６８５１号に開示されているもの、ベンゾフェノン誘
導体、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β’−ジフェニ
ルアクリラート誘導体、上記のもの以外のベンゾイミダ
ゾール誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導体、又は遮蔽ポ
リマー及び遮蔽シリコーン、例えば国際公開９３／０４
６６５号に開示されているものから選択される。
【００４１】ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性の
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノ
ベンゾアート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミ
ノベンゾアート、Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−ｐ−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、２−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、４−
イソプロピルベンジルサリチラート、４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−４−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、４−メトキシケイ皮酸イソアミル、４−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリラート、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−ス
ルホン酸及びその塩類、３−（４’−トリメチルアンモ
ニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルフ
ァート、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０
−ショウノウスルホン酸）とその塩、ウロカニン酸、２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホナー
ト、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’
−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキシ）ベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチル
ベンゾフェノン、α−（２−オキソボルン−３−イリデ
ン）トルエン−４−スルホン酸及びその塩類、３−
（４’−スルホベンジリデン）ボルナン−２−オン及び
その塩類、３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，１
−ショウノウ、３−ベンジリデン−ｄ，１−ショウノ
ウ、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、２−［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ア
ニリノ］−４，６−ビス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、Ｎ−［（２−及び４−）［（２−オキソボ
ロン−３−イリデン）メチル］ベンジル］アクリルアミ
ドのポリマー、マロナート官能基を有するポリオルガノ
シロキサン類、を挙げることができる。
ある付加的なサンスクリーン剤の例としては：ｐ−アミ
ノ安息香酸、オキシエチレン化（２５モル）ｐ−アミノ
ベンゾアート、２−エチルヘキシル−ｐ−ジメチルアミ
ノベンゾアート、Ｎ−オキシプロピレン化ｐ−アミノ安
息香酸エチル、グリセロール−ｐ−アミノベンゾアー
ト、ホモメンチルサリチラート、２−エチルヘキシルサ
リチラート、トリエタノールアミンサリチラート、４−
イソプロピルベンジルサリチラート、４−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、４−イソプ
ロピルジベンゾイルメタン、２−エチルヘキシル−４−
メトキシシンナマート、ジイソプロピルケイ皮酸メチ
ル、４−メトキシケイ皮酸イソアミル、４−メトキシケ
イ皮酸ジエタノールアミン、アントラニル酸メンチル、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリラート、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリ
ル酸エチル、２−フェニルベンゾイミダゾール−５−ス
ルホン酸及びその塩類、３−（４’−トリメチルアンモ
ニオ）ベンジリデンボルナン−２−オン−メチルスルフ
ァート、ベンゼン−１，４−ジ（３−メチリデン−１０
−ショウノウスルホン酸）とその塩、ウロカニン酸、２
−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒド
ロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホナー
ト、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’
−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノ
ン、２−ヒドロキシ−４−（ｎ−オクトキシ）ベンゾフ
ェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４’−メチル
ベンゾフェノン、α−（２−オキソボルン−３−イリデ
ン）トルエン−４−スルホン酸及びその塩類、３−
（４’−スルホベンジリデン）ボルナン−２−オン及び
その塩類、３−（４’−メチルベンジリデン）−ｄ，１
−ショウノウ、３−ベンジリデン−ｄ，１−ショウノ
ウ、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、２−［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチルアミド）ア
ニリノ］−４，６−ビス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
トリアジン、Ｎ−［（２−及び４−）［（２−オキソボ
ロン−３−イリデン）メチル］ベンジル］アクリルアミ
ドのポリマー、マロナート官能基を有するポリオルガノ
シロキサン類、を挙げることができる。
【００４２】また、本発明の組成物は、人工的に皮膚を
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン
（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
日焼けした状態にする、及び／又は褐色にするための薬
剤（自己サンタン剤）、例えばジヒドロキシアセトン
（ＤＨＡ）をさらに含有してもよい。
【００４３】さらに本発明の化粧品用組成物は、被覆又
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体ＵＶ光
保護剤としてよく知られている、酸化チタン（アモルフ
ァス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの
ナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及
び／又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティ
ング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物の
ナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７
７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示され
ているものがある。
は非被覆金属酸化物からなる顔料又はナノ顔料類（一次
粒子の平均粒径：一般的に、５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ま
しくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ）、例えば、それ自体ＵＶ光
保護剤としてよく知られている、酸化チタン（アモルフ
ァス、又はルチル及び／又はアナターゼ型の結晶）、酸
化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムの
ナノ顔料類をさらに含有してもよい。また、アルミナ及
び／又はステアリン酸アルミニウムは常套的なコーティ
ング剤である。このような被覆又は非被覆金属酸化物の
ナノ顔料類としては、特に、欧州特許公開第０５１８７
７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に開示され
ているものがある。
【００４４】また、本発明の組成物は、特に、脂肪物
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基性又は
酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態
の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の
成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントを
さらに含有してもよい。
質、有機溶媒、増粘剤、柔軟剤、酸化防止剤、乳白剤、
安定剤、エモリエント、ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿
剤、ビタミン類、香料、防腐剤、界面活性剤、フィラ
ー、金属イオン封鎖剤、ポリマー、噴霧剤、塩基性又は
酸性化剤、染料、又は化粧品、特にエマルションの形態
の抗日光組成物の製造に通常使用されている任意の他の
成分から選択される従来からの化粧品用アジュバントを
さらに含有してもよい。
【００４５】脂肪物質類は、油又はロウ又はそれらの混
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
合物からなるものであってよく、脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステル類が含まれる。油は、動物性油、
植物性油、鉱物性油又は合成油、特に、流動ワセリン、
流動パラフィン、揮発性又は非揮発性のシリコーン油、
イソパラフィン類、ポリ−α−オレフィン類、又はフッ
化及び過フッ化油類から選択することができる。同様
に、ロウは、それ自体公知である動物性ロウ、化石ロ
ウ、植物性ロウ、鉱物性ロウ、又は合成ロウから選択す
ることができる。
【００４６】有機溶媒としては低級アルコール類及びポ
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
リオール類を挙げることができる。増粘剤は、特に、架
橋したアクリル酸ホモポリマー、変性又は未変性のグア
ーガム及びセルロース、例えば、ヒドロキシプロピル化
グアーガム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒド
ロキシプロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチル
セルロースから選択することができる。
【００４７】もちろん、当業者であれば、本発明の遮蔽
剤の３つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レ
ベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪
影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な
化合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
剤の３つの組合せに固有の有利な特性、特に日光保護レ
ベルが、考慮される添加において、全く又は実質的に悪
影響を受けないように留意して、これら任意の付加的な
化合物及び／又はそれらの量を選択するであろう。
【００４８】本発明の組成物は、当業者によく知られた
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調
製を意図した技術により調製することができる。
【００４９】この組成物は、特に単一又は複合エマルシ
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム、ミルク、ゲル又はクリーム−ゲル、パ
ウダー又はチューブ状固体の形態で提供することもで
き、エアゾールとして包装されてもよく、またフォーム
又はスプレーの形態で提供することもできる。
【００５０】エマルションの場合、エマルションの水相
は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタ
ンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗ
ａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．，１３，２
３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏
国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン
性の小胞体分散液を含有してもよい。
は、公知の方法［バングハム（Ｂａｎｇｈａｍ）、スタ
ンディッシュ（Ｓｔａｎｄｉｓｈ）及びワトキンス（Ｗ
ａｔｋｉｎｓ）の、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．，１３，２
３８（１９６５）、仏国特許第２３１５９９１号及び仏
国特許第２４１６００８号］により調製される非イオン
性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００５１】本発明の化粧品用組成物は、抗日光組成物
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
又はメークアップ用製品のような、紫外線からヒトの表
皮又は毛髪を保護するための組成物として使用すること
ができる。
【００５２】本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒ
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォー
ム又はスプレーの形態で提供することができる。
トの表皮を保護するため、すなわち抗日光組成物として
使用される場合、それは、脂肪物質又は溶媒に分散又は
懸濁した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又は
エマルション、好ましくは水中油型エマルションの形
態、例えばクリーム又はミルク、又は膏薬、ゲル、クリ
ームゲル、チューブ状固体、棒状体、エアゾールフォー
ム又はスプレーの形態で提供することができる。
【００５３】本発明の化粧品用組成物が、毛髪の保護用
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、
ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形
態として提供することができ、また、例えばシャンプー
の前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウ
エーブ又は毛髪のストレート化の前、処理中又は後に適
用されてすすがれる組成物、スタイリング又はトリート
メント用のローションもしくはスタイリング又はトリー
トメント用のゲル、ブロー乾燥又は毛髪のセット用のロ
ーション又はゲル、パーマネントウエーブ又は毛髪のス
トレート化、染色又は脱色用の組成物を構成することも
できる。
【００５４】組成物が、まつげ、眉毛又は皮膚のメーク
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
アップ用製品、例えば、表皮のトリートメントクリー
ム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャド
ウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとし
て使用される場合、それは、無水又は水性、固体状又は
ペースト状の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエ
マルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とし
て提供することができる。
【００５５】目安を示すと、水中油型エマルション型の
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全
組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．
５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
ビヒクルを有する本発明の抗日光組成物において、水相
（特に親水性の遮蔽剤を含有する）は、全組成物に対し
て、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０
重量％、油相（特に親油性の遮蔽剤を含有する）は、全
組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０
重量％、（共）乳化剤（類）は、全組成物に対して０．
５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
【００５６】本明細書の最初に示したように、本発明の
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
他の主題事項は、上述した化粧品用組成物の有効量を皮
膚又は毛髪に適用することからなる、紫外線の影響から
それらを保護することを意図した皮膚又は毛髪の美容処
理方法にある。
【００５７】
【実施例】次に本発明の実施例を例証するが、これらは
本発明の範囲を限定するものではない。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）Ａ０、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ社 （ｗｉｔｃｏ）］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）− ２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ ェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ ｒ＝０、ｓ＝１であり、Ｄが
本発明の範囲を限定するものではない。 実施例１ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）Ａ０、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ社 （ｗｉｔｃｏ）］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキシ）− ２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキシフ ェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ ｒ＝０、ｓ＝１であり、Ｄが
【化６１】 の式（Ｉ’）のベンゾトリアゾールシリコーン ３ｇ グリセロール １５ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 ２ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００５８】 実施例２ 組成 グリセロール−モノ／ジステアラート／ポリエ チレングリコール（１００Ｅ０）ステアラート混合物 ［アルラセル（Ａｒｌａｃｅｌ）１６５ＦＬ、ＩＣＩ社］ ２ｇ ステアリルアルコール ［ラネット（Ｌａｎｅｔｔｅ）１８、ヘンケル社］ １ｇ パーム油ステアリン酸 ［ステアリン（Ｓｔｅａｒｉｎｅ）ＴＰ、ステアリヌリ・ デュボア社（Ｓｔｅａｒｉｎｅｒｉｅ Ｄｕｂｏｉｓ）］ ２．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング２００フルイド、ダウ・コーニ ング社］ ０．５ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノールＴＮ、ウィトコ社］ ２０ｇ トリエタノールアミン ０．５ｇ ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキシ） シリル−プロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝ −６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン ２．５ｇ ｒ＝０、ｓ＝１であり、Ｄが
【化６２】 の式（Ｉ’）のベンゾトリアゾールシリコーン ２．５ｇ グリセロール ５ｇ ヘキサデシルホスファート、カリウム塩 ［アンフィソール（Ａｍｐｈｉｓｏｌ）Ｋ、ホフマン−ラ ロシュ社（Ｈｏｆｆｍａｎ−Ｌａｒｏｓｈｅ）］ １ｇ ポリアクリル酸 ［シンタレン（Ｓｙｎｔｈａｌｅｎ）Ｋ、３Ｖ社］ ０．３ｇ ヒドロキシプロピルメチルセルロース ［メトセル（Ｍｅｔｈｏｃｅｌ）Ｆ４Ｍ、ダウ・ケミカル社 （Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ）］ ０．１ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 １．５ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
【００５９】 実施例３ 組成 セテアリールアルコールとオキシエチレン化 （３３ＥＯ）されたセテアリールアルコールの ８０／２０の混合物 ［シンノワックス（Ｓｉｎｎｏｗａｘ）Ａ０、ヘンケル社 （Ｈｅｎｋｅｌ）］ ７ｇ グリセロールモノ−及びジステアラートの混合 物 ［セラシント（Ｃｅｒａｓｙｎｔ）ＳＤ−Ｖ、ＩＳＰ社］ ２ｇ セチルアルコール １．５ｇ ポリジメチルシロキサン ［ダウ・コーニング（Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ）２００フルイド、 ダウ・コーニング社］ １ｇ Ｃ１２／Ｃ１５アルコールのベンゾアート ［ウィトコノール（Ｗｉｔｃｏｎｏｌ）ＴＮ、ウィトコ（Ｗ ｉｔｃｏ）社］ １５ｇ ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，５’，５’，５’ −ヘプタメチルトリシロキシ−２”−メチルプロピル オキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ シフェニル）−１，３，５−トリアジン ２ｇ ｒ＝０、ｓ＝１であり、Ｄが
【化６３】 の式（Ｉ’）のベンゾトリアゾールシリコーン ３ｇ グリセロール １５ｇ １，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレン −３，３’，５，５’−テトラスルホン酸 １．５ｇ トリエタノールアミン ｐＨを７にする量 防腐剤 適量 脱塩水 全体を１００ｇにする量
Claims (36)
- 【請求項１】 化粧品として許容可能なビヒクル中に： （ａ）第１の遮蔽剤として、少なくとも１つの次の式
（Ｉ）： 【化１】 ｛上式中： − Ａは水素又は二価の基−Ｌ−Ｗ−を示し； − ｎは１、２又は３であり； − Ｙは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１−Ｃ１０ア
ルキル基、ハロゲン、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ基又はス
ルホ基から選択され、後者の場合、同じ芳香環の２つの
隣接するＹ基は、アルキリデン基が１〜２の炭素原子を
有するアルキリデンジオキシ基を形成可能であり、但
し、Ｙ基はＡが水素以外である場合にスルホ基以外であ
り； − Ｌは次の式（ＩＩ）： 【化２】 ［上式中： − ＸはＯ又はＮＨを表し、 − Ｚは、水素又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、 − ｎは０〜３の整数であり、 − ｍは０又は１であり、 − ｐは１〜１０の整数を表す］の２価の基であり； − Ｗは次の式（１）、（２）又は（３）： 【化３】 又は 【化４】 又は −Ｓｉ（Ｒ）３ （３） ［上式中： − Ｒは同一でも異なっていてもよく、Ｃ１−Ｃ１０ア
ルキル、フェニル及び３，３，３−トリフルオロプロピ
ル基から選択され、Ｒ基の数の少なくとも８０％はメチ
ルであり、 − Ｂは同一でも異なっていてもよく、Ｒ基及び次の
式： 【化５】 （上式中、Ｙ、ｎ及びＬは上述したものと同一の意味を
有する）のＶ基から選択され； − ｒは０〜５０の整数であり、ｓは０〜２０の整数で
あり、ｓ＝０の場合、２つのＢ基の少なくとも１つはＶ
を示し； − ｕは１〜６の整数であり、ｔは０〜１０の整数であ
り、ｔ＋ｕは３以上であると理解されるものである］の
基である｝のベンゾトリアゾール誘導体と、（ｂ）第２
の遮蔽剤として、少なくとも１つのビスレゾルシニルト
リアジン誘導体と、（ｃ）第３の遮蔽剤として、１分子
当たり少なくとも２つのベンゾアゾリル基を有する化合
物、及び／又は１分子当たり少なくとも１つのベンゾジ
アゾリル基を有する化合物の少なくとも１つと、を含有
し、該第１、第２及び第３の遮蔽剤が、日光保護ファク
ターに関し、相乗活性が生じる割合で存在していること
を特徴とする、皮膚及び／又は毛髪の光保護用に局所的
に使用される化粧品用組成物。 - 【請求項２】 式（Ｉ）の化合物が： − ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）
ベンゾトリアゾール； − ２−（２’−ヒドロキシ−３’−ブチル−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾール； − ２−（２’−ヒドロキシ−５’−（ｔ−オクチル）
フェニル）ベンゾトリアゾール； − ２−（２’−ヒドロキシ−３’−（ｓｅｃ−ブチ
ル）−５’−スルホフェニル）ベンゾトリアゾール；か
らなる群から選択されることを特徴とする請求項１に記
載の組成物。 - 【請求項３】 式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体
が、Ａが二価の基−Ｌ−Ｗ−であり、Ｗが式（１）の構
造に相当するものであって、次の特徴： − Ｒはアルキル、好ましくはメチルであり、 − Ｂはアルキル、好ましくはメチルであり、 − ｒは０〜１５；ｓは１〜５であり、 − ｎは０ではなく、好ましくは１であり、Ｙはメチ
ル、ｔｅｒｔ−ブチル又はＣ１−Ｃ４アルコキシから選
択され、 − Ｚは水素又はメチルであり、 − ｍ＝０、又は［ｍ＝１及びＸ＝Ｏ］、 − ｐは１である、の少なくとも１つを示すものから選
択されることを特徴とする請求項１に記載の組成物。 - 【請求項４】 前記式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導
体が、請求項３に記載の組成物の特徴の全てを示すもの
であることを特徴とする請求項３に記載の組成物。 - 【請求項５】 ベンゾトリアゾール誘導体が、次の一般
式（Ｉ’）： 【化６】 ［上式中、０≦ｒ≦１５、１≦ｓ≦５であり、Ｄは、 【化７】 又は 【化８】 の二価の基を表す］の化合物から選択されることを特徴
とする請求項３又は４に記載の組成物。 - 【請求項６】 ベンゾトリアゾール誘導体が、 【化９】 である、一般式（Ｉ’）に相当するものであることを特
徴とする請求項５に記載の組成物。 - 【請求項７】 ベンゾトリアゾール誘導体が、 【化１０】 である、一般式（Ｉ’）に相当するものであることを特
徴とする請求項５に記載の組成物。 - 【請求項８】 式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体の
濃度が、組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％で
あることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項
に記載の組成物。 - 【請求項９】 前記濃度が、組成物の全重量に対して
０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項８に
記載の組成物。 - 【請求項１０】 ビスレゾルシニルトリアジン誘導体
が、次の式： 【化１１】 ［上式中、 （ｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、Ｃ３−Ｃ１８アルキル基、Ｃ２−Ｃ１８アルケニル
基又は式−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−ＯＴ１（こ
こで、Ｔ１は水素原子かＣ１−Ｃ８アルキル基である）
の残基を示し； （ｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていてもよ
く、次の式（４）： 【化１２】 ｛上式中、 − ｍ１は１〜３の数であり； − Ｒ３は、ヒドロキシル基；一又は複数のヒドロキシ
ル基で置換されるか非置換のＣ１−Ｃ５アルキル基；Ｃ
１−Ｃ５アルコキシ基；アミノ基；モノ−もしくはジ
（Ｃ１−Ｃ５）アルキルアミノ基；金属カチオンＭ；あ
るいは次の式（５）〜（１０）： 【化１３】 （上式中、 − Ｒ４、Ｒ５及びＲ６基は、同一でも異なっていても
よく、一又は複数のヒドロキシル基で置換されるか非置
換のＣ１−Ｃ１４アルキル基を表し；ｍ３は２〜１４の
数を表し； − Ｒ７は、水素原子、金属カチオンＭ、Ｃ１−Ｃ５ア
ルキル基又は式−（ＣＨ２）ｍ２−ＯＴ１（ここで、ｍ
２は１〜４の数でＴ１は上述と同じ意味を有する）の残
基を表す）の一つから選ばれる残基を示す｝ （ｉｉｉ）Ｒ１及びＲ２基は、同一でも異なっていても
よく、次の式（１１）： 【化１４】 （上式中、 − Ｒ８は、共有結合、直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ４
アルキル基又は式−Ｃｍ４Ｈ２ｍ４−もしくは−Ｃｍ４
Ｈ２ｍ４−Ｏ−（ここで、ｍ４は１〜４の数である）の
残基を表し； − ｐ１は０〜５の数であり； − Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１基は、同一でも異なってい
てもよく、Ｃ１−Ｃ１８アルキル基、Ｃ１−Ｃ１８アル
コキシ基又は次の式： 【化１５】 （上式中、Ｒ１２はＣ１−Ｃ５アルキル基である）の残
基を示す）の残基を示すことができ； − Ａ１は、次の式： ［上式中、 − Ｒ７は上述のものと同じ意味を有し； − Ｒ１３は水素原子、Ｃ１−Ｃ１０アルキル基、式−
（ＣＨ２ＣＨＲ１６−Ｏ）ｎ１Ｒ７（ここでｎ１は１〜
１６の数であり、Ｒ１６は水素又はメチルか、Ｔ１が上
記と同じ意味を有する−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２
ＯＴ１の構造の残基である）の基を示し； − Ｑ１はＣ１−Ｃ１８アルキル基であり； − Ｒ１４は上述の式（４）： 【化１６】 に相当する基である］の１つに対応する残基を示す］に
相当する請求項１ないし９のいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項１１】式（ＩＩＩ）の化合物が、 （１）Ａ１基がパラ−メトキシフェニル又はパラ−エト
キシフェニルを示し、Ｒ１及びＲ２基が、同一でも異な
っていてもよく、次の構造： 【化１７】 ｛上式中、構造Ｒ３は、 − ｔｅｒｔ−ブチルオキシ； − ＯＨ； − ＯＭ（ここで、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土類
金属カチオン又は銅、マグネシウム又は亜鉛から選択さ
れるカチオンである）； − 次の構造： 【化１８】 の基； − 構造Ｏ−Ｎ＋（ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）３の基； − 次の構造： 【化１９】 （ここで、ｎは２〜１６まで変わりうる）の基； − 次の構造： 【化２０】 の基； − 次の構造： 【化２１】 の基から選択される｝を持つ基を表すもの； （２）Ａ１基がパラ−ヒドロキシフェニルを示し、Ｒ１
及びＲ２基が同時に次の構造： 【化２２】 の基を表す式（ＩＩＩ）に相当するビスレゾルシニルト
リアジン化合物；から選択されることを特徴とする請求
項１０に記載の組成物。 - 【請求項１２】 式（ＩＩＩ）の化合物が、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，
３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−［４−（２−
メトキシエチルオキシカルボニル）フェニルアミノ］−
１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２”−メチルプロペニルオ
キシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メト
キシフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン； − ２，４−ビス｛［４−（３−（２−プロピルオキ
シ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ）−２−ヒドロキ
シ］フェニル｝−６−［４−（エトキシカルボニル）フ
ェニルアミノ］−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（１−メチル
ピロール−２−イル）−１，３，５−トリアジン；から
なる群から選択されることを特徴とする請求項１０に記
載の組成物。 - 【請求項１３】 式（ＩＩＩ）の化合物が、 − ２，４−ビス｛［４−（２−エチルヘキシルオキ
シ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝−６−（４−メトキ
シフェニル）−１，３，５−トリアジン； − ２，４−ビス｛［４−（トリス（トリメチルシロキ
シ）シリルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニ
ル｝−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−ト
リアジン； − ２，４−ビス｛［４−（１’，１’，１’，３’，
５’，５’，５’−ヘプタメチルトリシロキシ−２”−
メチルプロピルオキシ）−２−ヒドロキシ］フェニル｝
−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリア
ジン；からなる群から選択されることを特徴とする請求
項１２に記載の組成物。 - 【請求項１４】 ビスレゾルシニルトリアジン誘導体の
濃度が組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％であ
ることを特徴とする請求項１ないし１３のいずれか１項
に記載の組成物。 - 【請求項１５】 前記濃度が組成物の全重量に対して
０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項１４
に記載の組成物。 - 【請求項１６】 少なくとも２つのベンゾアゾリル基を
有する化合物が、次の一般式（ＩＶ）： 【化２３】 ［上式中： − Ｚ’は、角括弧内に記載された少なくとも２つのベ
ンゾアゾリル基の二重結合系を完結させ、完全に共役し
た単位を形成するように位置せしめられた一又は複数の
二重結合を有する（ｐ２＋ｎ２）価の有機残基を表し； − Ｘ’はＳ、Ｏ又はＮＲ６を示し； − Ｒ１は、水素、Ｃ１−Ｃ１８アルキル、Ｃ１−Ｃ４
アルコキシ、Ｃ５−Ｃ１５アリール、Ｃ２−Ｃ１８アシ
ルオキシ、ＳＯ３Ｙ’又はＣＯＯＹ’を示し； − Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５基は同一でも異なってい
てもよく、ニトロ基を示すか、又はＲ１と同一の意味を
有し； − Ｒ６は水素、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ヒ
ドロキシアルキルを示し； − Ｙ’は水素、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、ＮＨ４、１／２Ｃ
ａ、１／２Ｍｇ、１／３Ａ１又は窒素性有機塩基により
遊離の酸基を中和した結果得られるカチオンを示し； − ｍ５は０又は１であり； − ｎ２は２〜６の数であり； − ｐ２は１〜４の数であり； − 但し、ｐ２＋ｎ２は６を越えない］に相当するもの
であることを特徴とする請求項１ないし１５のいずれか
１項に記載の組成物。 - 【請求項１７】 Ｚ’基が： （ａ）Ｃ５−Ｃ１２アリール基又はＣ４−Ｃ１０ヘテロ
アリールが挿入され得る不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−
Ｃ６炭化水素性基； （ｂ）不飽和で直鎖状の脂肪族Ｃ２−Ｃ６炭化水素性基
が挿入され得るＣ５−Ｃ１５アリール基； （ｃ）Ｃ３−Ｃ１０ヘテロアリール残基；からなる群か
ら選択され、 該Ｚ’基が、Ｃ１−Ｃ６アルキル、Ｃ１−Ｃ６アルコキ
シ、フェノキシ、ヒドロキシル、メチレンジオキシ又は
アミノ基で置換可能で、アミノ基が一又は二のＣ１−Ｃ
５アルキル基で置換されていてもよいものであることを
特徴とする請求項１６に記載の組成物。 - 【請求項１８】 Ｚ’基が次の基： −ＣＨ＝ＣＨ−、 −ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、 次の式： 【化２４】 ［上式中、Ｒ６は請求項１０に記載したものと同一の意
味を有する］からなる群から選択されることを特徴とす
る、請求項１６又は１７に記載の組成物。 - 【請求項１９】 式（ＩＶ）の化合物が次の化合物： 【化２５】 又はその塩類の１つから選択されることを特徴とする請
求項１６ないし１８のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２０】 式（ＩＶ）の化合物が、次の構造： 【化２６】 を有する１，４−ビス（ベンゾイミダゾリル）フェニレ
ン−３，３，’５，５’−テトラスルホン酸（化合物
４）及びその塩類の１つであることを特徴とする請求項
１６ないし１９のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２１】 少なくとも２つのベンゾアゾリル基を
有する化合物が、次の化合物： 【化２７】 又はその塩類の１つから選択されることを特徴とする請
求項１ないし１５のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２２】 少なくとも１つのベンゾジアゾリル基
を有する化合物が次の化合物： 【化２８】 又はその塩類の１つから選択されることを特徴とする請
求項１ないし１５のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２３】 ベンゾアゾリル又はベンゾジアゾリル
基を有する化合物又は化合物類が、組成物の全重量に対
して０．１〜１５重量％の濃度で存在していることを特
徴とする請求項１ないし２２のいずれか１項に記載の組
成物。 - 【請求項２４】 該濃度が、組成物の全重量に対して
０．２〜１０重量％であることを特徴とする請求項２３
に記載の組成物。 - 【請求項２５】 前記化粧品として許容可能なビヒクル
が、水中油型エマルションの形態で提供されることを特
徴とする請求項１ないし２３のいずれか１項に記載の組
成物。 - 【請求項２６】 前記第１及び第２の遮蔽剤以外の、Ｕ
Ｖ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ領域に活性のある一又は複数
の付加的な親水性又は親油性の有機遮蔽剤をさらに含有
していることを特徴とする請求項１ないし２５のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項２７】 前記付加的な有機遮蔽剤が、ケイ皮酸
誘導体、サリチル酸誘導体、ショウノウ誘導体、請求項
１ないし２６のいずれか１項に記載のもの以外のトリア
ジン誘導体、請求項１ないし２６のいずれか１項に記載
のもの以外のベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体類、ジベンゾイルメタン誘導体、β，β−ジフ
ェニルアクリラート誘導体、ｐ−アミノ安息香酸誘導
体、又は遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選択され
ることを特徴とする請求項２６に記載の組成物。 - 【請求項２８】 付加的なＵＶ光保護剤として、被覆又
は非被覆金属酸化物により形成される顔料又はナノ顔料
をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし２７
のいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項２９】 前記顔料又はナノ顔料が、被覆又は非
被覆酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウム、及びそれらの混合物から選択される
ことを特徴とする請求項２８に記載の組成物。 - 【請求項３０】 皮膚を人工的にサンタン状態にする、
及び／又は褐色にする少なくとも１つの薬剤をさらに含
有していることを特徴とする請求項１ないし２９のいず
れか１項に記載の組成物。 - 【請求項３１】 脂肪物質、有機溶媒、増粘剤、柔軟
剤、酸化防止剤、乳白剤、安定化剤、エモリエント、ヒ
ドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、香料、防腐
剤、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、ポリマ
ー類、噴霧剤、塩基性又は酸性化剤、又は染料から選択
される少なくとも１つのアジュバントをさらに含有して
いることを特徴とする請求項１ないし３０のいずれか１
項に記載の組成物。 - 【請求項３２】 ヒトの表皮の保護用組成物又は抗日光
組成物であって、非イオン性の小胞体分散液、水中油型
エマルション等のエマルション、クリーム、ミルク、ゲ
ル、クリームゲル、懸濁液、分散液、パウダー、チュー
ブ状固体、フォーム又はスプレーの形態で提供されるも
のであることを特徴とする請求項１ないし３１のいずれ
か１項に記載の組成物。 - 【請求項３３】 分散液、懸濁液又はエマルションのペ
ースト状又は固体状、水性又は無水の形態で提供され、
睫毛、眉毛又は皮膚のメークアップ用組成物であること
を特徴とする請求項１ないし３２のいずれか１項に記載
の組成物。 - 【請求項３４】 紫外線からの毛髪の保護を意図した組
成物であって、シャンプー、ローション、ゲル、エマル
ション又は非イオン性の小胞体分散液の形態で提供され
るものであることを特徴とする請求項１ないし３２のい
ずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項３５】 太陽光線等の紫外線から皮膚及び／又
は毛髪を保護することを意図した化粧品用組成物の製造
における、請求項１ないし３２のいずれか１項に記載の
組成物の使用。 - 【請求項３６】 請求項１ないし３４のいずれか１項に
記載の組成物を有効量、皮膚及び／又は毛髪に適用する
ことからなることを特徴とする、太陽光線等の紫外線か
ら皮膚及び／又は毛髪を保護するための美容処理方法。
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