JPH07235260A - 表示スクリーン上に被膜を設ける方法およびこの被膜を有する表示スクリーンを備えた表示装置 - Google Patents
表示スクリーン上に被膜を設ける方法およびこの被膜を有する表示スクリーンを備えた表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 多層静電気防止被膜の単純な製造方法を提供
する。 【構成】 陰極線管１の表示スクリーン３に導電性、例
えばＡＴＯ（Ｓｂ：ＳｎＯ2 ）粒子を含む静電気防止層
８を設ける。被膜は少なくとも１つの二酸化ケイ素の追
加の層１０を含む。
する。 【構成】 陰極線管１の表示スクリーン３に導電性、例
えばＡＴＯ（Ｓｂ：ＳｎＯ2 ）粒子を含む静電気防止層
８を設ける。被膜は少なくとも１つの二酸化ケイ素の追
加の層１０を含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表示スクリーン上の１
つ以上の層から成り、少なくとも１つの静電気防止層を
有する静電気防止被膜の製造方法に関する。本発明はま
た、静電気防止被膜を有する表示スクリーンに関する。
つ以上の層から成り、少なくとも１つの静電気防止層を
有する静電気防止被膜の製造方法に関する。本発明はま
た、静電気防止被膜を有する表示スクリーンに関する。
【０００２】静電気防止層は、表示装置の表示スクリー
ン、特にＣＲＴにおいて用いられる。上記被膜は十分な
導電性を有して、表示スクリーンの外面上に存在する高
い静電圧を数秒以内に確実に除去する。従って、使用者
は、スクリーンに触れた際に不快な衝撃を受けない。さ
らに、空気中の塵の吸着が低下する。
ン、特にＣＲＴにおいて用いられる。上記被膜は十分な
導電性を有して、表示スクリーンの外面上に存在する高
い静電圧を数秒以内に確実に除去する。従って、使用者
は、スクリーンに触れた際に不快な衝撃を受けない。さ
らに、空気中の塵の吸着が低下する。
【０００３】被膜の１層は、導電性化合物を含む静電気
防止層である。既知の被膜は、上記静電気防止層に加え
て、例えば反射防止またはグレア防止(antiglare) 効果
を有する層あるいは耐引っ掻き性を改善する層を有す
る。通常、上記の他の層は、シリカ層上に回転塗布また
は噴霧により設けられる。
防止層である。既知の被膜は、上記静電気防止層に加え
て、例えば反射防止またはグレア防止(antiglare) 効果
を有する層あるいは耐引っ掻き性を改善する層を有す
る。通常、上記の他の層は、シリカ層上に回転塗布また
は噴霧により設けられる。
【０００４】
【従来の技術】序文に記載したタイプの方法は、H. Toh
da等による"Japan Display '92, 第２８９〜２９２
頁："Anti-glare, Anti-reflection and antistatic (A
GRAS) Coating for CRTs""から知られている。上記の文
献において、表示スクリーンに導電性（静電気防止）Ｓ
ｎＯ層をＣＶＤ（化学蒸着法）により設け、次に中央ま
たは最外ＳｉＯ2 層を各々回転塗布、噴霧および熱処理
により設ける方法が記載されている。
da等による"Japan Display '92, 第２８９〜２９２
頁："Anti-glare, Anti-reflection and antistatic (A
GRAS) Coating for CRTs""から知られている。上記の文
献において、表示スクリーンに導電性（静電気防止）Ｓ
ｎＯ層をＣＶＤ（化学蒸着法）により設け、次に中央ま
たは最外ＳｉＯ2 層を各々回転塗布、噴霧および熱処理
により設ける方法が記載されている。
【０００５】この方法は極めて手間および時間がかか
る；ＣＶＤ方法は別個の反応空間において実施される。
ＳｎＯ層を設けた後に、表面を研磨または洗浄により処
理する。
る；ＣＶＤ方法は別個の反応空間において実施される。
ＳｎＯ層を設けた後に、表面を研磨または洗浄により処
理する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、多層
静電気防止被膜の単純な製造方法を提供することにあ
る。
静電気防止被膜の単純な製造方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明において、多層静
電気防止被膜の単純な製造方法を提供する本発明の目的
は、導電性粒子の層を表示スクリーン上に設け、次に化
合物の第２層を設け、上記化合物が第１層中に浸透し、
次に追加の第２層中で上記化合物を高温で処理すること
により転化することにより達成される。
電気防止被膜の単純な製造方法を提供する本発明の目的
は、導電性粒子の層を表示スクリーン上に設け、次に化
合物の第２層を設け、上記化合物が第１層中に浸透し、
次に追加の第２層中で上記化合物を高温で処理すること
により転化することにより達成される。
【０００８】化合物の浸透により、層は密封され，表示
スクリーンの表面上に接着する。第１層をさらに処理、
例えば研磨および洗浄して、第１層と第２層との間の十
分な接着を得ることはもはや不必要である。これによ
り、方法を著しく単純にすることができる。好ましく
は、導電性粒子の層は多孔質層である。これにより、化
合物の第１層への浸透が促進される。
スクリーンの表面上に接着する。第１層をさらに処理、
例えば研磨および洗浄して、第１層と第２層との間の十
分な接着を得ることはもはや不必要である。これによ
り、方法を著しく単純にすることができる。好ましく
は、導電性粒子の層は多孔質層である。これにより、化
合物の第１層への浸透が促進される。
【０００９】また、方法を比較的低い温度で好ましく実
施することができる。一般に、比較的低い温度を用いる
ことにより、加工時間および熱応力の結果としての損傷
の危険が低下する。
施することができる。一般に、比較的低い温度を用いる
ことにより、加工時間および熱応力の結果としての損傷
の危険が低下する。
【００１０】このために、本発明の例は、アンチモンを
ドープした酸化スズの導電性層の水性懸濁液を表示スク
リーン上に塗布し、次に乾燥し、これにより静電気防止
層を形成し、次に好ましくはアルコールまたは水性アル
コキシシランまたはチタン化合物である第２層を静電気
防止層上に設け、次に高温で処理することにより上記ア
ルコキシシラン化合物を二酸化ケイ素または二酸化チタ
ンに転化することを特徴とする。
ドープした酸化スズの導電性層の水性懸濁液を表示スク
リーン上に塗布し、次に乾燥し、これにより静電気防止
層を形成し、次に好ましくはアルコールまたは水性アル
コキシシランまたはチタン化合物である第２層を静電気
防止層上に設け、次に高温で処理することにより上記ア
ルコキシシラン化合物を二酸化ケイ素または二酸化チタ
ンに転化することを特徴とする。
【００１１】本発明の方法のこの例により、予め静電気
防止層を硬化させることなく、次の層を静電気防止層上
に設けることができる。アルコキシシラン化合物を二酸
化ケイ素に、比較的低い温度（２００℃まで）において
転化することができる。これにより、方法を単純にする
ことができる。
防止層を硬化させることなく、次の層を静電気防止層上
に設けることができる。アルコキシシラン化合物を二酸
化ケイ素に、比較的低い温度（２００℃まで）において
転化することができる。これにより、方法を単純にする
ことができる。
【００１２】二酸化ケイ素への転化は、例えば、１５０
〜１７０℃の範囲内の温度で少なくとも３０分間処理す
ることにより発生する。アルコキシシラン化合物のアル
コキシ基は酸性化した水によりヒドロキシ基に転化さ
れ、上記ヒドロキシ基は互いに、および表示スクリーン
のガラス表面のヒドロキシ基と反応する。乾燥および加
熱の間、安定に接着した二酸化ケイ素のネットワークが
縮重合により形成する。同様の転化がアルコキシチタン
化合物に関して発生する。
〜１７０℃の範囲内の温度で少なくとも３０分間処理す
ることにより発生する。アルコキシシラン化合物のアル
コキシ基は酸性化した水によりヒドロキシ基に転化さ
れ、上記ヒドロキシ基は互いに、および表示スクリーン
のガラス表面のヒドロキシ基と反応する。乾燥および加
熱の間、安定に接着した二酸化ケイ素のネットワークが
縮重合により形成する。同様の転化がアルコキシチタン
化合物に関して発生する。
【００１３】アンチモンをドープした酸化スズの粒子の
水性懸濁液を用いることは、これらが環境に比較的無害
であるという利点を有する。従って、環境汚染を防止す
るために、一層少ない測定が必要であるかまたは測定が
全く不必要となり、従って方法を単純にすることができ
る。他の利点は、得られた層のスクエア抵抗(squareres
istance) が低い、即ち約１〜１０ＭΩであることであ
る。この抵抗値は、別の方法により製造したＡＴＯに基
づいた導電性層で得られた値よりはるかに低い。水性懸
濁液の他の利点は、ＡＴＯ粒子の表示スクリーンへの付
着が、層を乾燥した後温度処理を実施するのに十分であ
り、従って第２層を、例えばアルコキシシランまたはチ
タン化合物の水溶液またはアルコール溶液から直接設け
ることができることである。ＡＴＯ粒子の被膜が乾燥し
た後直ちに、アルコキシシラン溶液の層を設けることが
できる。
水性懸濁液を用いることは、これらが環境に比較的無害
であるという利点を有する。従って、環境汚染を防止す
るために、一層少ない測定が必要であるかまたは測定が
全く不必要となり、従って方法を単純にすることができ
る。他の利点は、得られた層のスクエア抵抗(squareres
istance) が低い、即ち約１〜１０ＭΩであることであ
る。この抵抗値は、別の方法により製造したＡＴＯに基
づいた導電性層で得られた値よりはるかに低い。水性懸
濁液の他の利点は、ＡＴＯ粒子の表示スクリーンへの付
着が、層を乾燥した後温度処理を実施するのに十分であ
り、従って第２層を、例えばアルコキシシランまたはチ
タン化合物の水溶液またはアルコール溶液から直接設け
ることができることである。ＡＴＯ粒子の被膜が乾燥し
た後直ちに、アルコキシシラン溶液の層を設けることが
できる。
【００１４】水性懸濁液を回転塗布により設けるのが好
ましい。次に厚さが、特に被膜の光学的および電気的特
性を決定する、第１層の厚さを精密に調整することがで
きる。第１層は、他の粒子を含んで、例えば上記第１層
の光学的特性、例えば透過性および／または屈折率に影
響を与える。
ましい。次に厚さが、特に被膜の光学的および電気的特
性を決定する、第１層の厚さを精密に調整することがで
きる。第１層は、他の粒子を含んで、例えば上記第１層
の光学的特性、例えば透過性および／または屈折率に影
響を与える。
【００１５】第２層を回転塗布により設けるのが好まし
い。アルコキシシランまたはチタン溶液の回転塗布によ
り、均一かつ平滑な層が形成する。随意に、界面活性剤
を溶液に、例えば０．００１〜５重量％の量で加えるこ
とができる。「回転塗布」とは一般に、層を回転してい
る部材、この場合には表示スクリーンに塗布する方法を
いう。好ましくは、第１および第２層の両方を、表示ス
クリーンの回転を中断させることなく回転塗布すること
により設ける。
い。アルコキシシランまたはチタン溶液の回転塗布によ
り、均一かつ平滑な層が形成する。随意に、界面活性剤
を溶液に、例えば０．００１〜５重量％の量で加えるこ
とができる。「回転塗布」とは一般に、層を回転してい
る部材、この場合には表示スクリーンに塗布する方法を
いう。好ましくは、第１および第２層の両方を、表示ス
クリーンの回転を中断させることなく回転塗布すること
により設ける。
【００１６】これは、２層被膜の製造を１つであり同一
の回転塗布装置で実施することができるという利点を有
する。位置を変化させることなく第２層を設けることが
できる。表示スクリーンは回転しつづけ、回転中に表示
スクリーンの上方に発生した空気流が維持されるため、
これにより塵が表示スクリーン上に堆積することが防止
される。これにより、方法が単純になり、被膜の品質が
改善される。
の回転塗布装置で実施することができるという利点を有
する。位置を変化させることなく第２層を設けることが
できる。表示スクリーンは回転しつづけ、回転中に表示
スクリーンの上方に発生した空気流が維持されるため、
これにより塵が表示スクリーン上に堆積することが防止
される。これにより、方法が単純になり、被膜の品質が
改善される。
【００１７】本発明の方法は、被膜を表示装置の表示ス
クリーン上に塗布するのに用いることができる。本発明
の範囲内で、好ましい方法を用いることができ、好まし
くは陰極線管の一部を形成する表示スクリーンに被膜を
塗布するのに用いることができることが明らかになっ
た。
クリーン上に塗布するのに用いることができる。本発明
の範囲内で、好ましい方法を用いることができ、好まし
くは陰極線管の一部を形成する表示スクリーンに被膜を
塗布するのに用いることができることが明らかになっ
た。
【００１８】上記のJapan Display からの記事に開示さ
れた方法においては、被膜を、別個の部分を構成する表
示スクリーンに設け、即ち第１に表示スクリーンに被膜
を塗布し、表示スクリーンに被膜を設けた後初めて陰極
性管を組み立てる。これには、被膜が、陰極線管の組み
立ての間に損傷されるという危険がある。この危険は、
陰極線管の一部を形成する表示スクリーン上に被膜を設
けることにより回避することができる。
れた方法においては、被膜を、別個の部分を構成する表
示スクリーンに設け、即ち第１に表示スクリーンに被膜
を塗布し、表示スクリーンに被膜を設けた後初めて陰極
性管を組み立てる。これには、被膜が、陰極線管の組み
立ての間に損傷されるという危険がある。この危険は、
陰極線管の一部を形成する表示スクリーン上に被膜を設
けることにより回避することができる。
【００１９】本発明の方法により形成した静電気防止層
は、導電性、例えばＡＴＯ（アンチモンをドープした酸
化スズ）の粒子を含み、このＡＴＯ粒子は、層の静電気
防止特性を提供する。
は、導電性、例えばＡＴＯ（アンチモンをドープした酸
化スズ）の粒子を含み、このＡＴＯ粒子は、層の静電気
防止特性を提供する。
【００２０】好ましくは、用いられる導電性（ＡＴＯ）
粒子は極めて小さい。例えばこれらの寸法は、好ましく
は５０ｎｍより小さい。これらの小さい寸法により、光
の見ることができる散乱は発生せず、形成した第１層は
透明である。Ｓｂ／Ｓｎのモル比が０．３より小さい場
合には、粒子は十分導電性を有する。
粒子は極めて小さい。例えばこれらの寸法は、好ましく
は５０ｎｍより小さい。これらの小さい寸法により、光
の見ることができる散乱は発生せず、形成した第１層は
透明である。Ｓｂ／Ｓｎのモル比が０．３より小さい場
合には、粒子は十分導電性を有する。
【００２１】粒度は好ましくは３０ｎｍより小さい。こ
れらのＡＴＯ粒子の小さい寸法により、ファンデルワー
ルス力が発生し、これによりＡＴＯ粒子のガラス基材へ
の付着が、第１層を損傷することなく第２層を設けるの
に十分になる。ＡＴＯ粒子を、水性の安定なＡＴＯ懸濁
液（ヒドロゾル）から表示スクリーン上に塗布する。懸
濁液中で，ＡＴＯ粒子は、立体的にではなく電荷が安定
化する。このような懸濁液を、約１〜２０ＭΩ／□の範
囲内の表面抵抗を有する極めて薄い層を製造するのに適
切に用いることができる。このようなＡＴＯ懸濁液の製
造は、米国特許第ＵＳ−Ａ−４７７５４１２号明細書に
記載されている。これらの小さい粒度により、層の機械
的強度および接着力は、中間の硬化工程なしに第２層を
直接設けるのに十分である。
れらのＡＴＯ粒子の小さい寸法により、ファンデルワー
ルス力が発生し、これによりＡＴＯ粒子のガラス基材へ
の付着が、第１層を損傷することなく第２層を設けるの
に十分になる。ＡＴＯ粒子を、水性の安定なＡＴＯ懸濁
液（ヒドロゾル）から表示スクリーン上に塗布する。懸
濁液中で，ＡＴＯ粒子は、立体的にではなく電荷が安定
化する。このような懸濁液を、約１〜２０ＭΩ／□の範
囲内の表面抵抗を有する極めて薄い層を製造するのに適
切に用いることができる。このようなＡＴＯ懸濁液の製
造は、米国特許第ＵＳ−Ａ−４７７５４１２号明細書に
記載されている。これらの小さい粒度により、層の機械
的強度および接着力は、中間の硬化工程なしに第２層を
直接設けるのに十分である。
【００２２】第１層に、反射防止またはグレア防止効果
を有する二酸化ケイ素の層を備えるのが好ましく、上記
の追加の層はまた耐引っ掻き性を増大させる。第２層
は、特に、第１層にＡＴＯ粒子を接着させる接着剤とし
ての役割を有する。アルコキシシラン化合物（例えばＴ
ＥＯＳ）は第１層中に浸透し、下部の表面に付着する。
好ましくは、第２層と第１層は一緒に２層反射防止層を
形成する。反射防止層を表示スクリーン上に用いて、透
過光の反射損を低下させ、画像の反射の妨害（鏡面反
射）を抑制する。グレア防止層を用いて周囲光の鏡面反
射を減少させる。
を有する二酸化ケイ素の層を備えるのが好ましく、上記
の追加の層はまた耐引っ掻き性を増大させる。第２層
は、特に、第１層にＡＴＯ粒子を接着させる接着剤とし
ての役割を有する。アルコキシシラン化合物（例えばＴ
ＥＯＳ）は第１層中に浸透し、下部の表面に付着する。
好ましくは、第２層と第１層は一緒に２層反射防止層を
形成する。反射防止層を表示スクリーン上に用いて、透
過光の反射損を低下させ、画像の反射の妨害（鏡面反
射）を抑制する。グレア防止層を用いて周囲光の鏡面反
射を減少させる。
【００２３】本発明の方法に適切に用いることができる
アルコキシシラン化合物はテトラエチルオルトケイ酸
（ＴＥＯＳ）である。あるいはまた、Ｓｉ（ＯＲ）4 の
タイプの他の既知のアルコキシシラン化合物およびこれ
らのオリゴマー（式中Ｒはアルキル基、好ましくはＣ1
〜Ｃ5 のアルキル基である）を用いることができる。溶
媒として、例えばメタノールまたはエタノールを用いる
ことができる。
アルコキシシラン化合物はテトラエチルオルトケイ酸
（ＴＥＯＳ）である。あるいはまた、Ｓｉ（ＯＲ）4 の
タイプの他の既知のアルコキシシラン化合物およびこれ
らのオリゴマー（式中Ｒはアルキル基、好ましくはＣ1
〜Ｃ5 のアルキル基である）を用いることができる。溶
媒として、例えばメタノールまたはエタノールを用いる
ことができる。
【００２４】本発明はまた、静電気防止，反射防止被膜
を有する表示スクリーンを備えた表示装置に関する。本
発明において、１つ以上の層から成り、少なくとも１つ
の静電気防止層を有する静電気防止被膜を有する表示窓
を備えた表示装置は、静電気防止層が表示窓に直接接し
ており、二酸化ケイ素または二酸化チタン中に埋め込ま
れた直径が５０ｎｍより小さい導電性粒子を有し、上記
静電気防止層が二酸化ケイ素または二酸化チタンを含む
第２の平滑な層により覆われ、第１および第２層の組立
体が可視光線に対する反射防止効果を有することを特徴
とする。
を有する表示スクリーンを備えた表示装置に関する。本
発明において、１つ以上の層から成り、少なくとも１つ
の静電気防止層を有する静電気防止被膜を有する表示窓
を備えた表示装置は、静電気防止層が表示窓に直接接し
ており、二酸化ケイ素または二酸化チタン中に埋め込ま
れた直径が５０ｎｍより小さい導電性粒子を有し、上記
静電気防止層が二酸化ケイ素または二酸化チタンを含む
第２の平滑な層により覆われ、第１および第２層の組立
体が可視光線に対する反射防止効果を有することを特徴
とする。
【００２５】導電性（ＡＴＯ）粒子を有する静電気防止
層の屈折率は一般に、追加の二酸化ケイ素層の屈折率と
異なり、これよりも高い（ＴｉＯ2 に関して導電性層の
屈折率をＴｉＯ2 層より低くすることができる）。２層
被膜のそれぞれの層の厚さを、破壊的干渉が、可視範囲
の中心的波長λ、例えば約５５０ｎｍにおいて発生する
ように選択するのが好ましい。この波長、および上記波
長の周辺の範囲の波長に関して、堆積した層は反射防止
効果を有する。当業者には、層の光学的厚さｎ．ｔ（式
中ｎは屈折率であり、ｔは層の厚さである）はλ／４
（式中λは中心的波長である）でなければならないこと
は明らかである。二酸化ケイ素または二酸化チタンのこ
のような追加の層を、アルコキシシランまたはチタン化
合物のアルコール溶液を塗布し、次に高温で処理し、こ
れにより二酸化ケイ素または二酸化チタンの層を設ける
ことにより製造する。追加の層を回転塗布により設ける
場合には、得られた層の厚さは、特に回転数および溶液
の粘度に依存する。好ましくは、粒度は５０ｎｍより小
さい。第１層は、例えば第１層の光学的特性、例えば透
過性および／または屈折率に影響する他の粒子を含むこ
とができる。反射防止効果は、第３または第４等の層と
共に得ることができる。
層の屈折率は一般に、追加の二酸化ケイ素層の屈折率と
異なり、これよりも高い（ＴｉＯ2 に関して導電性層の
屈折率をＴｉＯ2 層より低くすることができる）。２層
被膜のそれぞれの層の厚さを、破壊的干渉が、可視範囲
の中心的波長λ、例えば約５５０ｎｍにおいて発生する
ように選択するのが好ましい。この波長、および上記波
長の周辺の範囲の波長に関して、堆積した層は反射防止
効果を有する。当業者には、層の光学的厚さｎ．ｔ（式
中ｎは屈折率であり、ｔは層の厚さである）はλ／４
（式中λは中心的波長である）でなければならないこと
は明らかである。二酸化ケイ素または二酸化チタンのこ
のような追加の層を、アルコキシシランまたはチタン化
合物のアルコール溶液を塗布し、次に高温で処理し、こ
れにより二酸化ケイ素または二酸化チタンの層を設ける
ことにより製造する。追加の層を回転塗布により設ける
場合には、得られた層の厚さは、特に回転数および溶液
の粘度に依存する。好ましくは、粒度は５０ｎｍより小
さい。第１層は、例えば第１層の光学的特性、例えば透
過性および／または屈折率に影響する他の粒子を含むこ
とができる。反射防止効果は、第３または第４等の層と
共に得ることができる。
【００２６】好ましくは、グレア防止効果を有する二酸
化ケイ素の第３の層を設ける。この層を第１の追加の層
上に、アルコキシシラン化合物のアルコール溶液を噴霧
し、次に高温で処理し、これにより二酸化ケイ素の層を
形成することにより設ける。得られた層は耐引っ掻き性
を有し、噴霧により得られた表面組織のためにグレア防
止特性を有する。グレア防止効果は、光の波長にほとん
ど依存しない。マット表面組織は、アルコキシシラン溶
液を噴霧することにより得られ、従って層はグレア防止
効果を示す。これにより、周囲光を拡散して反射するこ
とができる。
化ケイ素の第３の層を設ける。この層を第１の追加の層
上に、アルコキシシラン化合物のアルコール溶液を噴霧
し、次に高温で処理し、これにより二酸化ケイ素の層を
形成することにより設ける。得られた層は耐引っ掻き性
を有し、噴霧により得られた表面組織のためにグレア防
止特性を有する。グレア防止効果は、光の波長にほとん
ど依存しない。マット表面組織は、アルコキシシラン溶
液を噴霧することにより得られ、従って層はグレア防止
効果を示す。これにより、周囲光を拡散して反射するこ
とができる。
【００２７】二酸化ケイ素の追加の層の他の利点は、指
紋がつきにくくなったこと並びに硬度および耐引っ掻き
性が向上したことである。
紋がつきにくくなったこと並びに硬度および耐引っ掻き
性が向上したことである。
【００２８】所要に応じて、追加の層の１つが光透過性
に選択的に影響する顔料または染料を有することができ
る。このような顔料または染料は、陰極線管のリン光体
により発光した光が選択的に透過され、一方、例えば表
示スクリーンの後ろ側で反射される周囲光が吸収される
ように選択する。顔料の例は、遷移金属酸化物、例えば
酸化鉄および酸化クロムである。適切な染料の例はロー
ダミンＢである。
に選択的に影響する顔料または染料を有することができ
る。このような顔料または染料は、陰極線管のリン光体
により発光した光が選択的に透過され、一方、例えば表
示スクリーンの後ろ側で反射される周囲光が吸収される
ように選択する。顔料の例は、遷移金属酸化物、例えば
酸化鉄および酸化クロムである。適切な染料の例はロー
ダミンＢである。
【００２９】本発明の例において、ポリピロールのラテ
ックス粒子を（ＡＴＯ）粒子の水溶液に加える。ポリピ
ロール粒子は第１層の光吸収特性を提供する。乾燥後、
第１層はポリピロールのラテックス粒子を有する。
ックス粒子を（ＡＴＯ）粒子の水溶液に加える。ポリピ
ロール粒子は第１層の光吸収特性を提供する。乾燥後、
第１層はポリピロールのラテックス粒子を有する。
【００３０】ポリピロール化合物に関して、ポリピロー
ル、Ｎ置換ポリピロールおよびβ置換ポリピロールを用
いることができる。置換体として：例えば５個までの炭
素原子を有するアルキル基，アリール基、アルコキシ
基、ニトロ基およびハロゲン原子を用いることができ
る。このような物質および特に静電気防止被膜に用いる
ラテックス粒子の製造は、米国特許第ＵＳ−Ａ−４９５
９１６２号明細書に記載されている。また、この米国特
許明細書には、このようにして製造されたラテックスを
精製するための遠心分離工程および再分散工程が記載さ
れている。好ましくは、ラテックス粒子は、未置換ポリ
ピロールから成る。
ル、Ｎ置換ポリピロールおよびβ置換ポリピロールを用
いることができる。置換体として：例えば５個までの炭
素原子を有するアルキル基，アリール基、アルコキシ
基、ニトロ基およびハロゲン原子を用いることができ
る。このような物質および特に静電気防止被膜に用いる
ラテックス粒子の製造は、米国特許第ＵＳ−Ａ−４９５
９１６２号明細書に記載されている。また、この米国特
許明細書には、このようにして製造されたラテックスを
精製するための遠心分離工程および再分散工程が記載さ
れている。好ましくは、ラテックス粒子は、未置換ポリ
ピロールから成る。
【００３１】層の光学的特性、均一性および均質性のた
めに、ラテックス粒子が均一な寸法を有することが望ま
しい。ラテックス粒子は球形であり、好ましくは５０〜
１５０ｎｍの範囲内、好ましくは約６０ｎｍの平均直径
を有する。このような例において、静電気防止および光
吸収特性は単一層に組み合わされる。本発明の上記例に
よる方法の結果、被膜は両方のタイプの粒子の均質混合
物を含む。被膜の層の厚さは５０〜２００ｎｍの範囲内
である。被膜の色は無彩灰色であり、即ち透過は波長に
依存しない。層の厚さおよび層中のポリピロールの濃度
に依存して、透過率を、例えば９０〜３０％の範囲内で
調整し、一方所要の静電気防止効果を維持することがで
きる。十分な静電気防止効果は、層の表面抵抗が１０10
Ω／□以下、好ましくは１０4 〜１０10Ω／□の範囲内
である場合に得られる。
めに、ラテックス粒子が均一な寸法を有することが望ま
しい。ラテックス粒子は球形であり、好ましくは５０〜
１５０ｎｍの範囲内、好ましくは約６０ｎｍの平均直径
を有する。このような例において、静電気防止および光
吸収特性は単一層に組み合わされる。本発明の上記例に
よる方法の結果、被膜は両方のタイプの粒子の均質混合
物を含む。被膜の層の厚さは５０〜２００ｎｍの範囲内
である。被膜の色は無彩灰色であり、即ち透過は波長に
依存しない。層の厚さおよび層中のポリピロールの濃度
に依存して、透過率を、例えば９０〜３０％の範囲内で
調整し、一方所要の静電気防止効果を維持することがで
きる。十分な静電気防止効果は、層の表面抵抗が１０10
Ω／□以下、好ましくは１０4 〜１０10Ω／□の範囲内
である場合に得られる。
【００３２】上記のように、被膜と二酸化ケイ素の追加
層との組み合わせは、これらの層の光学的な層の厚さが
約λ／４に等しい場合に、反射防止効果を示す。所望の
層の厚さは、経験的に容易に決定することができる。重
要な方法パラメ−タは、回転塗布中の回転数、溶液の温
度および粘度である。
層との組み合わせは、これらの層の光学的な層の厚さが
約λ／４に等しい場合に、反射防止効果を示す。所望の
層の厚さは、経験的に容易に決定することができる。重
要な方法パラメ−タは、回転塗布中の回転数、溶液の温
度および粘度である。
【００３３】以下本発明を図面を参照して説明する。図
１は、表示スクリーン３、コーン４およびネック５を有
するガラスエンベロープ２を備えた陰極線管１の破断図
である。ネックにおいて、電子ビームを発生する電子銃
６が設けられている。この電子ビームは、表示スクリー
ン３の内側７上のリン光体層上に集束する。操作中、電
子ビームを、偏向コイル系（図示せず）により表示スク
リーン３を介して２つの相互に垂直な方向に偏向させ
る。表示スクリーン３は、外側に本発明の静電気防止被
膜８を備える。
１は、表示スクリーン３、コーン４およびネック５を有
するガラスエンベロープ２を備えた陰極線管１の破断図
である。ネックにおいて、電子ビームを発生する電子銃
６が設けられている。この電子ビームは、表示スクリー
ン３の内側７上のリン光体層上に集束する。操作中、電
子ビームを、偏向コイル系（図示せず）により表示スク
リーン３を介して２つの相互に垂直な方向に偏向させ
る。表示スクリーン３は、外側に本発明の静電気防止被
膜８を備える。
【００３４】図２は、本発明の表示スクリーンの断面図
式図である。静電気防止被膜８を表示スクリーン３上に
設ける。上記静電気防止被膜８は、第１層９（ＡＳ）、
第２層１０および第３層１１を有する。第１層９は、導
電性粒子１２、この場合第２の化合物、この例では二酸
化ケイ素中に埋め込まれた、アンチモンをドープした酸
化スズ粒子を有する。第２層は、第２に述べた化合物、
この例では二酸化ケイ素製である。第１層および第２層
は一緒に反射防止フィルター（ＡＲ）を形成する。この
ために、両方の層９および１０の厚さは約λ／４（式中
λは可視範囲、例えば５００〜６００ｎｍである）であ
る。第１層にポリピロールラテックス粒子を設けること
ができ、これにより第１層の透過特性を決定することが
できる。第３層１１（ＡＧ）はグレア防止効果を提供
し、例えば噴霧により設けた二酸化ケイ素から成る。
式図である。静電気防止被膜８を表示スクリーン３上に
設ける。上記静電気防止被膜８は、第１層９（ＡＳ）、
第２層１０および第３層１１を有する。第１層９は、導
電性粒子１２、この場合第２の化合物、この例では二酸
化ケイ素中に埋め込まれた、アンチモンをドープした酸
化スズ粒子を有する。第２層は、第２に述べた化合物、
この例では二酸化ケイ素製である。第１層および第２層
は一緒に反射防止フィルター（ＡＲ）を形成する。この
ために、両方の層９および１０の厚さは約λ／４（式中
λは可視範囲、例えば５００〜６００ｎｍである）であ
る。第１層にポリピロールラテックス粒子を設けること
ができ、これにより第１層の透過特性を決定することが
できる。第３層１１（ＡＧ）はグレア防止効果を提供
し、例えば噴霧により設けた二酸化ケイ素から成る。
【００３５】図３ａ〜３ｃは、本発明の方法を例示す
る。多孔質層３１は、表示スクリーン３上に設けられて
いる。これは、例えば、表示スクリーン上に導電性（Ａ
ＴＯ）粒子の水溶液を塗布し、上記粒子を乾燥すること
により実施するのが好ましい。化合物の第２の層３２を
層３１上に塗布し、上記化合物は第１層中に浸透する。
第２層を設けた後、熱処理を実施する。この処理の結
果、二酸化ケイ素層が形成する。次に、第３層を、例え
ば二酸化ケイ素グレア防止層を噴霧することにより設け
て、グレア防止効果を得る。
る。多孔質層３１は、表示スクリーン３上に設けられて
いる。これは、例えば、表示スクリーン上に導電性（Ａ
ＴＯ）粒子の水溶液を塗布し、上記粒子を乾燥すること
により実施するのが好ましい。化合物の第２の層３２を
層３１上に塗布し、上記化合物は第１層中に浸透する。
第２層を設けた後、熱処理を実施する。この処理の結
果、二酸化ケイ素層が形成する。次に、第３層を、例え
ば二酸化ケイ素グレア防止層を噴霧することにより設け
て、グレア防止効果を得る。
【００３６】
【実施例】以下本発明を実施例により説明する。 実施例１ 水性ＡＴＯ懸濁液を、例えば米国特許第ＵＳ−Ａ−４７
７５４１２号明細書に記載されたように製造した。この
文献に従って、ＳｎＣｌ2 およびＳｂＣｌ3 を希塩酸に
溶解し、次に重炭酸アンモニウムを溶液に加えた。オー
トクレーブ中で、アンチモンをドープした酸化スズを熱
水転化により形成した。ＡＴＯ粒子は３０ｎｍより小さ
かった。代表例において、Ｓｂ／Ｓｎのモル比は０．３
であった。水性ＡＴＯ懸濁液の量は５重量％であった。
このＡＴＯ懸濁液を表示スクリーン上に塗布し、乾燥し
た。
７５４１２号明細書に記載されたように製造した。この
文献に従って、ＳｎＣｌ2 およびＳｂＣｌ3 を希塩酸に
溶解し、次に重炭酸アンモニウムを溶液に加えた。オー
トクレーブ中で、アンチモンをドープした酸化スズを熱
水転化により形成した。ＡＴＯ粒子は３０ｎｍより小さ
かった。代表例において、Ｓｂ／Ｓｎのモル比は０．３
であった。水性ＡＴＯ懸濁液の量は５重量％であった。
このＡＴＯ懸濁液を表示スクリーン上に塗布し、乾燥し
た。
【００３７】アルコキシシラン化合物の溶液を表１に従
って製造した。
って製造した。
【００３８】
【表１】
【００３９】上記したように（導電性粒子を含む乾燥層
（例えばＡＴＯ））得られた第１層の上に、表１に従っ
て製造したＴＥＯＳ溶液の層を、例えば回転塗布により
塗布した。層を１６０℃に約９０分間維持し、これによ
り安定に接着した二酸化ケイ素の平滑層が形成した。こ
の二酸化ケイ素の追加の層は例えば１３５ｎｍの層の厚
さおよび１．４４の屈折率を有していた。この層は、Ａ
ＴＯ粒子を含み、中に二酸化ケイ素が浸透し、屈折率が
１．６２であり、層の厚さが６０ｎｍである静電気防止
層と共に反射防止効果を示した。層を塗布したシーケン
スは重要である。ＡＴＯ粒子を含む層の前に二酸化ケイ
素層を設けていた場合には、これは被膜の接着に悪影響
を与え、ＡＴＯ粒子を含む層の屈折率は異なる、即ち約
１．４であり、上記層は、二酸化ケイ素をほとんどまた
は全く含んでいなかったと考えられる。さらに、反射防
止効果はほとんど存在しなかった（両方の層の屈折率は
ほとんど異なっていなかった）と考えられる。
（例えばＡＴＯ））得られた第１層の上に、表１に従っ
て製造したＴＥＯＳ溶液の層を、例えば回転塗布により
塗布した。層を１６０℃に約９０分間維持し、これによ
り安定に接着した二酸化ケイ素の平滑層が形成した。こ
の二酸化ケイ素の追加の層は例えば１３５ｎｍの層の厚
さおよび１．４４の屈折率を有していた。この層は、Ａ
ＴＯ粒子を含み、中に二酸化ケイ素が浸透し、屈折率が
１．６２であり、層の厚さが６０ｎｍである静電気防止
層と共に反射防止効果を示した。層を塗布したシーケン
スは重要である。ＡＴＯ粒子を含む層の前に二酸化ケイ
素層を設けていた場合には、これは被膜の接着に悪影響
を与え、ＡＴＯ粒子を含む層の屈折率は異なる、即ち約
１．４であり、上記層は、二酸化ケイ素をほとんどまた
は全く含んでいなかったと考えられる。さらに、反射防
止効果はほとんど存在しなかった（両方の層の屈折率は
ほとんど異なっていなかった）と考えられる。
【００４０】従って、第１および第２層の組立体の光学
的および機械的特性は、層が設けられるシーケンスに依
存する。好ましくは、静電気防止層および第２層を回転
塗布により設ける。好ましくは、これを、表示スクリー
ンの回転工程を中断させることなく１つであり同一の回
転塗布装置において実施する。この結果方法が単純にな
り、塵が表示スクリーン上に堆積することが防止され
る。
的および機械的特性は、層が設けられるシーケンスに依
存する。好ましくは、静電気防止層および第２層を回転
塗布により設ける。好ましくは、これを、表示スクリー
ンの回転工程を中断させることなく１つであり同一の回
転塗布装置において実施する。この結果方法が単純にな
り、塵が表示スクリーン上に堆積することが防止され
る。
【００４１】次に、所要に応じて、ＴＥＯＳ溶液および
同様の温度処理を用いて、回転塗布により二酸化ケイ素
の第２の追加の層を設ける。この層は、グレア防止効果
を有するマット表面組織を有する。従って、得られた被
膜は、比較的指紋がつきにくい。さらに、入射光が拡散
散乱するため、反射は波長に比較的依存しない。上記の
方法を用いて、ばらの表示スクリーン、即ち陰極線管の
一部を（まだ）形成していない表示スクリーン上に被膜
（２層以上の多層）を設けることができる。しかし、好
ましくは、この方法を用いて、陰極線管の一部を形成す
る表示スクリーン上に被膜を設けることができる。被膜
が損傷される危険はこれにより小さくなる。
同様の温度処理を用いて、回転塗布により二酸化ケイ素
の第２の追加の層を設ける。この層は、グレア防止効果
を有するマット表面組織を有する。従って、得られた被
膜は、比較的指紋がつきにくい。さらに、入射光が拡散
散乱するため、反射は波長に比較的依存しない。上記の
方法を用いて、ばらの表示スクリーン、即ち陰極線管の
一部を（まだ）形成していない表示スクリーン上に被膜
（２層以上の多層）を設けることができる。しかし、好
ましくは、この方法を用いて、陰極線管の一部を形成す
る表示スクリーン上に被膜を設けることができる。被膜
が損傷される危険はこれにより小さくなる。
【００４２】実施例２ この実施例において、第１層中にポリピロールを含ませ
ることにより、第１層が可視光線の透過に影響する方法
および表示装置について記載する。
ることにより、第１層が可視光線の透過に影響する方法
および表示装置について記載する。
【００４３】ポリピロールラテックス粒子を、０．９３
８ｇのピロール、８．６５ｇのＦｅＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏお
よび１ｇのポリビニルアルコール（立体安定剤）の混合
物を１００ミリリットルの水中で少なくとも１０時間、
透明な溶液が得られるまではげしくかきまぜることによ
り調製した。ポリピロール粒子の形成が、混合物の黒色
化により確認された。得られた懸濁液を脱イオン水で透
析してＦｅ2+イオンおよびＣｌ- イオンを除去した。透
析後、数ミリリットルのエタノール、ブタノールおよび
酢酸エチルを懸濁液に加えた。最後に、懸濁液をポリア
ミドの５μｍおよび０．２μｍのフィルターを介して通
過させた。電子顕微鏡により、ラテックス粒子が、規則
的な球形の形状を有し、これらが平均粒度が８０ｎｍで
ある単分散系であることが示された。
８ｇのピロール、８．６５ｇのＦｅＣｌ3 ・６Ｈ2 Ｏお
よび１ｇのポリビニルアルコール（立体安定剤）の混合
物を１００ミリリットルの水中で少なくとも１０時間、
透明な溶液が得られるまではげしくかきまぜることによ
り調製した。ポリピロール粒子の形成が、混合物の黒色
化により確認された。得られた懸濁液を脱イオン水で透
析してＦｅ2+イオンおよびＣｌ- イオンを除去した。透
析後、数ミリリットルのエタノール、ブタノールおよび
酢酸エチルを懸濁液に加えた。最後に、懸濁液をポリア
ミドの５μｍおよび０．２μｍのフィルターを介して通
過させた。電子顕微鏡により、ラテックス粒子が、規則
的な球形の形状を有し、これらが平均粒度が８０ｎｍで
ある単分散系であることが示された。
【００４４】ＡＴＯ懸濁液の調製を実施例１と同様に実
施した。
施した。
【００４５】次に、両方の懸濁液を等量混合し、これに
よりＡＴＯおよびポリピロール粒子の安定な懸濁液が形
成した。次に、この懸濁液を回転塗布により表示スクリ
ーン上に塗布した。乾燥後、６０ｎｍの厚さを有し、１
ＭΩ／□の抵抗を有する均質であり無彩灰色の被膜が得
られた。これは、所望の静電気防止効果を得るのに十分
であり（１０4 〜１０10Ωの表面抵抗が望ましい）、こ
れにより、光透過特性を、層の厚さおよびポリピロール
の濃度を変化させることにより所望の値に調整し、一方
所要の静電気防止効果を維持することができる。得られ
た被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての透過率Ｔ（％）
を図４に示す。本発明の被膜の抵抗値は、立体安定剤を
有するＡＴＯ粒子またはポリピロール粒子が分散した二
酸化ケイ素層の値よりはるかに低かった。このような層
は、約１００ＭΩの抵抗を有する。
よりＡＴＯおよびポリピロール粒子の安定な懸濁液が形
成した。次に、この懸濁液を回転塗布により表示スクリ
ーン上に塗布した。乾燥後、６０ｎｍの厚さを有し、１
ＭΩ／□の抵抗を有する均質であり無彩灰色の被膜が得
られた。これは、所望の静電気防止効果を得るのに十分
であり（１０4 〜１０10Ωの表面抵抗が望ましい）、こ
れにより、光透過特性を、層の厚さおよびポリピロール
の濃度を変化させることにより所望の値に調整し、一方
所要の静電気防止効果を維持することができる。得られ
た被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての透過率Ｔ（％）
を図４に示す。本発明の被膜の抵抗値は、立体安定剤を
有するＡＴＯ粒子またはポリピロール粒子が分散した二
酸化ケイ素層の値よりはるかに低かった。このような層
は、約１００ＭΩの抵抗を有する。
【００４６】以下の組成を有するアルコキシシラン化合
物の溶液を調製した：０．９モルのテトラエチルオルト
ケイ酸（ＴＥＯＳ）、３．６モルの水、５・１０-4モル
の硝酸、これにエタノールを加えることにより１リット
ルとした。
物の溶液を調製した：０．９モルのテトラエチルオルト
ケイ酸（ＴＥＯＳ）、３．６モルの水、５・１０-4モル
の硝酸、これにエタノールを加えることにより１リット
ルとした。
【００４７】実施例２において得られた第１層に上記Ｔ
ＥＯＳ溶液の層を回転塗布により設けた。層を１６０℃
の温度に３０分間維持し、これにより安定に接着した二
酸化ケイ素の平滑層が形成した。この二酸化ケイ素の追
加の層は１３５ｎｍの層の厚さおよび１．４４の屈折率
を有していた。この層は、ＡＴＯおよびポリピロール粒
子を含み、１．６２の屈折率および６０ｎｍの層の厚さ
を有する被膜と共に反射防止効果を示した。層の厚さを
わずかに変化させる、例えば第１層の厚さを約１００ｎ
ｍとし、第２層の厚さを約８０ｎｍとすることにより、
反射防止効果を微調整することができる。
ＥＯＳ溶液の層を回転塗布により設けた。層を１６０℃
の温度に３０分間維持し、これにより安定に接着した二
酸化ケイ素の平滑層が形成した。この二酸化ケイ素の追
加の層は１３５ｎｍの層の厚さおよび１．４４の屈折率
を有していた。この層は、ＡＴＯおよびポリピロール粒
子を含み、１．６２の屈折率および６０ｎｍの層の厚さ
を有する被膜と共に反射防止効果を示した。層の厚さを
わずかに変化させる、例えば第１層の厚さを約１００ｎ
ｍとし、第２層の厚さを約８０ｎｍとすることにより、
反射防止効果を微調整することができる。
【００４８】次に、同一のＴＥＯＳ溶液を用い、同様の
温度処理を実施して、噴霧により二酸化ケイ素の第２の
追加の層を設けた。この層は、グレア防止効果を有する
マット表面組織を有していた。この結果、得られた被膜
は、比較的指紋がつきにくい。さらに、入射光が拡散散
乱するため、反射は波長に比較的依存しない。
温度処理を実施して、噴霧により二酸化ケイ素の第２の
追加の層を設けた。この層は、グレア防止効果を有する
マット表面組織を有していた。この結果、得られた被膜
は、比較的指紋がつきにくい。さらに、入射光が拡散散
乱するため、反射は波長に比較的依存しない。
【００４９】図５ａは、二酸化ケイ素の追加の層および
グレア防止層（曲線Ａ）を設けた上記のＡＴＯ粒子の層
（実施例１）から成る被膜の波長λ（ｎｍ）の関数とし
ての相対反射率Ｒ（％）を示す。測定工程において、被
覆されていない表示スクリーンガラスを対照材料として
用いた。
グレア防止層（曲線Ａ）を設けた上記のＡＴＯ粒子の層
（実施例１）から成る被膜の波長λ（ｎｍ）の関数とし
ての相対反射率Ｒ（％）を示す。測定工程において、被
覆されていない表示スクリーンガラスを対照材料として
用いた。
【００５０】図５ｂは、二酸化ケイ素の追加の層（曲線
Ａ）を設けた上記のＡＴＯおよびポリピロール粒子の層
（実施例２）から成る被膜の波長λ（ｎｍ）の関数とし
ての相対反射率Ｒ（％）を示す。測定工程において、被
覆されていない表示スクリーンガラスを対照材料として
用いた。曲線Ｂは追加のグレア防止層の効果を示す。被
膜の反射防止効果は、波長に比較的依存しなくなった。
Ａ）を設けた上記のＡＴＯおよびポリピロール粒子の層
（実施例２）から成る被膜の波長λ（ｎｍ）の関数とし
ての相対反射率Ｒ（％）を示す。測定工程において、被
覆されていない表示スクリーンガラスを対照材料として
用いた。曲線Ｂは追加のグレア防止層の効果を示す。被
膜の反射防止効果は、波長に比較的依存しなくなった。
【００５１】最外層の耐引っ掻き性を、円錐形ダイヤモ
ンドにより試験し、これを表面上を５０ｇの力で移動さ
せ、肉眼で観察しうる引っ掻き傷は形成しなかった。
ンドにより試験し、これを表面上を５０ｇの力で移動さ
せ、肉眼で観察しうる引っ掻き傷は形成しなかった。
【００５２】硬度を鉛筆硬度試験により試験し、ここで
種々の硬度を有する鉛筆を４５°の角度および０．０５
ｍ／ｓの速度で移動させることにより、表面上に７．５
Ｎの力を加えた。この試験により、本発明の層は、３Ｈ
〜４Ｈの程度の硬度を有していた。
種々の硬度を有する鉛筆を４５°の角度および０．０５
ｍ／ｓの速度で移動させることにより、表面上に７．５
Ｎの力を加えた。この試験により、本発明の層は、３Ｈ
〜４Ｈの程度の硬度を有していた。
【００５３】本発明の上記の例により、単純な方法で、
有効な静電気防止被膜および所要に応じて光吸収被膜を
製造し、陰極線管を有する表示スクリーン上に設け、上
記被膜により、波長の作用にかかわらず、光透過特性を
調整することができる。
有効な静電気防止被膜および所要に応じて光吸収被膜を
製造し、陰極線管を有する表示スクリーン上に設け、上
記被膜により、波長の作用にかかわらず、光透過特性を
調整することができる。
【００５４】本発明の範囲内で、他の多くの例が可能で
あることは明らかである。例えば以下の実施例３に、Ａ
ＴＯ層をＴｉＯ2 層で被覆した例を示す。
あることは明らかである。例えば以下の実施例３に、Ａ
ＴＯ層をＴｉＯ2 層で被覆した例を示す。
【００５５】実施例３ 上記の実施例１に記載したようなＡＴＯ懸濁液を表示ス
クリーンに塗布し、乾燥した（乾燥とは本発明の概念に
おいて放置して乾燥することもまた意味する）。アルコ
キシチタン化合物の溶液を表２に従って調製した。
クリーンに塗布し、乾燥した（乾燥とは本発明の概念に
おいて放置して乾燥することもまた意味する）。アルコ
キシチタン化合物の溶液を表２に従って調製した。
【００５６】
【表２】
【００５７】ＡＴＯ粒子の第１層の上に表２のＴＥＯＴ
ｉ溶液の第２層を、例えば回転塗布により塗布した。次
に、二重層を１６０℃の温度に約９０分間保持した。チ
タン化合物がＡＴＯ粒子を含む層中に浸透したため、形
成した被膜は、ＴｉＯ2 マトリックス中にＡＴＯ粒子を
含む層の上に、約２．０の屈折率を有するＴｉＯ2 の第
２層を有する。上記底部層は約１．８〜１．９の屈折率
を有していた。底部層は、例えば約６０ｎｍの厚さを有
する一方、第２層は例えば２００ｎｍの厚さを有するこ
とができる。ＴｉＯ2 層の上にＳｉＯ2 層を、例えばシ
ラン化合物の層をＴｉＯ2 層の上に回転塗布することに
より設けることができる。
ｉ溶液の第２層を、例えば回転塗布により塗布した。次
に、二重層を１６０℃の温度に約９０分間保持した。チ
タン化合物がＡＴＯ粒子を含む層中に浸透したため、形
成した被膜は、ＴｉＯ2 マトリックス中にＡＴＯ粒子を
含む層の上に、約２．０の屈折率を有するＴｉＯ2 の第
２層を有する。上記底部層は約１．８〜１．９の屈折率
を有していた。底部層は、例えば約６０ｎｍの厚さを有
する一方、第２層は例えば２００ｎｍの厚さを有するこ
とができる。ＴｉＯ2 層の上にＳｉＯ2 層を、例えばシ
ラン化合物の層をＴｉＯ2 層の上に回転塗布することに
より設けることができる。
【００５８】また、第１層が他の粒子を含んで、例えば
上記第１層の光学的特性、例えば透過性および／または
屈折率に影響を与えることができる。上記に、第１層
が、第１層およびこれと共に設けた被膜の透過性に影響
するラテックス粒子を含む例を示した。また、第１層
が、導電性粒子に加えて第１層の他の特性、例えば屈折
率に影響する粒子を含むことができる。以下の実施例４
に、上記第１層が第１層の屈折率に影響する粒子を含む
例を示す。屈折率に影響を与えることにより、光学的特
性、さらに特に被膜の反射特性の微調整を達成すること
ができる。
上記第１層の光学的特性、例えば透過性および／または
屈折率に影響を与えることができる。上記に、第１層
が、第１層およびこれと共に設けた被膜の透過性に影響
するラテックス粒子を含む例を示した。また、第１層
が、導電性粒子に加えて第１層の他の特性、例えば屈折
率に影響する粒子を含むことができる。以下の実施例４
に、上記第１層が第１層の屈折率に影響する粒子を含む
例を示す。屈折率に影響を与えることにより、光学的特
性、さらに特に被膜の反射特性の微調整を達成すること
ができる。
【００５９】実施例４ 導電性粒子と例えばアノーガニックコロイド酸化物(ano
rganic colloidal oxide) 、例えばＳｉＯ2 またはＡｌ
3 Ｏ2 とを混合することにより、第１層の屈折率に影響
を与えることができる。好ましい上記酸化物粒子は１０
０ｎｍより小さい。
rganic colloidal oxide) 、例えばＳｉＯ2 またはＡｌ
3 Ｏ2 とを混合することにより、第１層の屈折率に影響
を与えることができる。好ましい上記酸化物粒子は１０
０ｎｍより小さい。
【００６０】例えば、１００ｇのＡＴＯ溶液（１２重量
％）に、７ｇのコロイドＳｉＯ2 溶液（４０重量％のＳ
ｉＯ2 ）を加えた。この溶液をアルコール溶液で１：４
に希釈し、スクリーンに回転塗布により塗布した。上記
層が乾燥した際に、ＴＥＯＴｉ溶液（例えば実施例３参
照）を回転塗布によりスクリーンに塗布した。上記第２
層が乾燥した際に、ＴＥＯＳ溶液の第３層（例えば実施
例参照）を回転塗布によりスクリーンに塗布した。次
に、３層被膜を高温で処理して被膜を硬化させた。第１
層（ＡＴＯ粒子およびＳｉＯ2 粒子を含む）が７０ｎｍ
の厚さおよび１．７５の屈折率を有し、第２層（ＴｉＯ
2 ）が１０２ｎｍの厚さおよび１．９５の屈折率を有
し、第３層ＳｉＯ2 が９０ｎｍの厚さおよび１．４４の
屈折率を有するこの例の被膜は優れた反射防止特性を有
していた。可視範囲において、反射能は大幅に低下し、
約４００〜６００ｎｍでは、反射能は、被膜がない場合
の反射能の１０％未満まで低下した。
％）に、７ｇのコロイドＳｉＯ2 溶液（４０重量％のＳ
ｉＯ2 ）を加えた。この溶液をアルコール溶液で１：４
に希釈し、スクリーンに回転塗布により塗布した。上記
層が乾燥した際に、ＴＥＯＴｉ溶液（例えば実施例３参
照）を回転塗布によりスクリーンに塗布した。上記第２
層が乾燥した際に、ＴＥＯＳ溶液の第３層（例えば実施
例参照）を回転塗布によりスクリーンに塗布した。次
に、３層被膜を高温で処理して被膜を硬化させた。第１
層（ＡＴＯ粒子およびＳｉＯ2 粒子を含む）が７０ｎｍ
の厚さおよび１．７５の屈折率を有し、第２層（ＴｉＯ
2 ）が１０２ｎｍの厚さおよび１．９５の屈折率を有
し、第３層ＳｉＯ2 が９０ｎｍの厚さおよび１．４４の
屈折率を有するこの例の被膜は優れた反射防止特性を有
していた。可視範囲において、反射能は大幅に低下し、
約４００〜６００ｎｍでは、反射能は、被膜がない場合
の反射能の１０％未満まで低下した。
【図１】本発明の表示装置を示す図である。
【図２】本発明の表示装置の表示窓の断面の図式図であ
る。
る。
【図３】ａは本発明の方法の１つの実施例を示す図であ
り、ｂは本発明の方法の他の実施例を示す図であり、ｃ
は本発明の方法の尚他の実施例を示す図である。
り、ｂは本発明の方法の他の実施例を示す図であり、ｃ
は本発明の方法の尚他の実施例を示す図である。
【図４】本発明の被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての
透過率Ｔ（％）を示すグラフである。
透過率Ｔ（％）を示すグラフである。
【図５】ａは本発明の被膜の波長λ（ｎｍ）の関数とし
ての相対反射率Ｒ（％）を示すグラフであり、ｂは本発
明の他の例の被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての相対
反射率Ｒ（％）を示すグラフである。
ての相対反射率Ｒ（％）を示すグラフであり、ｂは本発
明の他の例の被膜の波長λ（ｎｍ）の関数としての相対
反射率Ｒ（％）を示すグラフである。
１ 陰極線管 ２ ガラスエンベロープ ３ 表示スクリーン ４ コーン ５ ネック ６ 電子銃 ７ リン光体層 ８ 静電気防止被膜 ９ 第１層 １０ 第２層 １１ 第３層 １２ 導電性粒子 ３１ 多孔質層 ３２ 化合物の第２層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユルヘン パウル アルベルト ヘイムビ ーク オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ１ (72)発明者 マルカス ヨゼフ ファン ボーメル オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ １ (72)発明者 アンヘラ セリーヌ ルドフィカ ファン デ プル オランダ国 5621 ベーアー アインドー フェン フルーネヴァウツウェッハ１
Claims (16)
- 【請求項１】 表示スクリーン上の１つ以上の層から成
り、少なくとも１つの静電気防止層を有する静電気防止
被膜を製造するにあたり、 導電性粒子の層を設け、次に化合物の第２層を設け、上
記化合物が第１層中に浸透し、次に追加の第２層中で上
記化合物を高温で処理することにより転化することを特
徴とする静電気防止被膜の製造方法。 - 【請求項２】 導電性粒子の層が多孔質層であることを
特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 請求項２記載の表示スクリーン上の１つ
以上の層から成り、少なくとも１つの静電気防止層を有
する静電気防止被膜を製造するにあたり、 アンチモンをドープした酸化スズの導電性層の水性懸濁
液を表示スクリーン上に塗布し、次に乾燥し、これによ
り静電気防止層を形成し、次に第２層を設けることを特
徴とする静電気防止被膜の製造方法。 - 【請求項４】 第２層がアルコールまたは水性アルコキ
シシランまたはチタン化合物であり、これを塗布し、次
に高温で処理することにより上記アルコキシシランまた
はチタン化合物を二酸化ケイ素または二酸化チタンに転
化することを特徴とする請求項３記載の方法。 - 【請求項５】 第１および第２層を、表示スクリーンの
回転を中断させることなく回転塗布することにより設け
ることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つの項記
載の方法。 - 【請求項６】 静電気防止被膜を陰極線管の一部を形成
する表示スクリーン上に設けることを特徴とする請求項
１〜５のいずれか１つの項記載の方法。 - 【請求項７】 導電性層が５０ｎｍより小さいことを特
徴とする請求項１〜６のいずれか１つの項記載の方法。 - 【請求項８】 ポリピロールのラテックス粒子をＡＴＯ
粒子の水溶液に加えることを特徴とする請求項３、５ま
たは７記載の方法。 - 【請求項９】 アルコキシシラン化合物のアルコール溶
液の第３層を第２層上に噴霧することにより設け、次に
高温で処理することによりアルコキシシラン化合物を二
酸化ケイ素の他の追加の層に転化し、上記の追加の層が
グレア防止効果を奏することを特徴とする請求項１〜８
のいずれか１つの項記載の方法。 - 【請求項１０】 １つ以上の層から成り、少なくとも１
つの静電気防止層を有する静電気防止被膜を有する表示
窓を備えた表示装置において、 静電気防止層が表示窓に直接接しており、二酸化ケイ素
または二酸化チタン中に埋め込まれた直径が５０ｎｍよ
り小さい導電性粒子を有し、上記静電気防止層が二酸化
ケイ素または二酸化チタンを含む第２の平滑な層により
覆われ、第１および第２層の組立体が可視光線に対する
反射防止効果を有することを特徴とする表示装置。 - 【請求項１１】 導電性層がアンチモンをドープした酸
化スズ（ＡＴＯ）を有することを特徴とする請求項１０
記載の表示装置。 - 【請求項１２】 静電気防止層および第２層が各々λ／
４（λは可視光線の範囲内の波長である）の光学的厚さ
を有することを特徴とする請求項１０または１１記載の
表示装置。 - 【請求項１３】 グレア防止効果を有する二酸化ケイ素
の第３層が第２層上に設けられていることを特徴とする
請求項１０、１１または１２記載の表示装置。 - 【請求項１４】 少なくとも１つの追加の層が光透過性
に選択的に影響する顔料または染料を有することを特徴
とする請求項１０〜１３のいずれか１つの項記載の表示
装置。 - 【請求項１５】 第１層がポリピロールラテックス粒子
を有することを特徴とする請求項１０〜１４のいずれか
１つの項記載の表示装置。 - 【請求項１６】 被膜が１〜２０ＭΩ／□の範囲内の表
面抵抗率を有することを特徴とする請求項１０、１１ま
たは１２記載の表示装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE9301103A BE1007662A3 (nl) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Beeldweergeefinrichting met een beeldscherm voorzien van een antistatische en lichtabsorberende bekledingslaag. |
| BE09301103 | 1993-10-18 | ||
| BE09301338 | 1993-12-06 | ||
| BE9301338A BE1007855A3 (nl) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekledingslaag op een beeldscherm en een beeldweergaveinrichting met een beeldscherm voorzien van een bekledingslaag. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07235260A true JPH07235260A (ja) | 1995-09-05 |
| JP3735387B2 JP3735387B2 (ja) | 2006-01-18 |
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|---|---|---|---|
| JP25055894A Expired - Fee Related JP3735387B2 (ja) | 1993-10-18 | 1994-10-17 | 表示スクリーン上に被膜を設ける方法 |
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|---|---|
| US (2) | US5869129A (ja) |
| EP (1) | EP0649160B1 (ja) |
| JP (1) | JP3735387B2 (ja) |
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| DE (1) | DE69428320T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186949A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 映像装置 |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990036350A (ko) * | 1996-06-11 | 1999-05-25 | 다테모토쇼이치 | 투명 도전막, 저 반사 투명 도전막 및 표시장치 |
| JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
| US6163109A (en) * | 1996-08-29 | 2000-12-19 | Hitachi, Ltd. | Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof |
| US6280838B1 (en) * | 1997-01-10 | 2001-08-28 | U. S. Philips Corporation | Optical element, a display device provided with said optical element, and a method of manufacturing the optical element |
| TW392189B (en) * | 1997-01-17 | 2000-06-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing a cathode ray tube and a cathode ray tube |
| JPH10223160A (ja) | 1997-02-12 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
| KR19990003207A (ko) * | 1997-06-25 | 1999-01-15 | 구자홍 | 저저항용 반사방지 음극선관 제조방법 |
| TW432397B (en) | 1997-10-23 | 2001-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparent electro-conductive structure, progess for its production, transparent electro-conductive layer forming coating fluid used for its production, and process for preparing the coating fluid |
| US6447909B1 (en) | 1999-01-14 | 2002-09-10 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Transparent conductive layered structure and method of producing the same, and coating liquid for forming transparent conductive layer used in production of transparent conductive layered structure and method of producing the same |
| TW452169U (en) * | 1999-05-07 | 2001-08-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Display device provided with anti-AEF strip |
| JP2002083518A (ja) | 1999-11-25 | 2002-03-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電性基材とその製造方法並びにこの透明導電性基材が適用された表示装置、および透明導電層形成用塗液とその製造方法 |
| KR100346547B1 (ko) | 1999-11-26 | 2002-07-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 화상 표시장치 |
| JP2001242302A (ja) | 1999-12-22 | 2001-09-07 | Sony Corp | 光吸収性反射防止膜、表示装置およびそれらの製造方法 |
| US6669524B2 (en) | 2000-04-07 | 2003-12-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of treating surface of face panel for image display |
| US6337771B1 (en) * | 2000-05-03 | 2002-01-08 | Applied Vacuum Coating Technologies Co., Ltd. | Anti-reflection high conductivity multi-layer coating on CRT surface made by vacuum sputtering and wet coating |
| US6587097B1 (en) | 2000-11-28 | 2003-07-01 | 3M Innovative Properties Co. | Display system |
| WO2003011958A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Optically clear and antistatic pressure sensitive adhesives |
| GB0119707D0 (en) * | 2001-08-13 | 2001-10-03 | Liquid Display Ltd | Display |
| JP3876811B2 (ja) | 2001-11-02 | 2007-02-07 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電層形成用塗液の製造方法 |
| US20030100830A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-05-29 | Sheng-Ping Zhong | Implantable or insertable medical devices visible under magnetic resonance imaging |
| US20040143180A1 (en) * | 2001-11-27 | 2004-07-22 | Sheng-Ping Zhong | Medical devices visible under magnetic resonance imaging |
| US7151532B2 (en) * | 2002-08-09 | 2006-12-19 | 3M Innovative Properties Company | Multifunctional multilayer optical film |
| EP1524247A1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-20 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass and process for its production |
| EP1634929A1 (en) * | 2004-09-13 | 2006-03-15 | DSM IP Assets B.V. | Objet comprising a non-insulative coating |
| WO2007029508A1 (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 近赤外線吸収材料及びその製造方法 |
| US8264466B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern |
| WO2008128073A2 (en) * | 2007-04-13 | 2008-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic optically clear pressure sensitive adhesive |
| DE102009007874B4 (de) * | 2009-02-06 | 2010-10-28 | Irlbacher Blickpunkt Glas Gmbh | Platte aus dielektrischem Material mit ESD-geschützter Oberfläche und Herstellverfahren für eine solche Platte |
| TWI436139B (zh) * | 2011-06-20 | 2014-05-01 | E Ink Holdings Inc | 彩色電子紙裝置、顯示器及其製造方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62223019A (ja) | 1986-03-19 | 1987-10-01 | Taki Chem Co Ltd | 結晶質酸化スズ・アンチモンゾル及びその製造方法 |
| US4945282A (en) * | 1987-12-10 | 1990-07-31 | Hitachi, Ltd. | Image display panel having antistatic film with transparent and electroconductive properties and process for processing same |
| KR920000328B1 (ko) * | 1988-09-29 | 1992-01-11 | 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 | 대전방지 처리형 음극선관의 제조방법 |
| US4959162A (en) | 1989-02-03 | 1990-09-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Colloidal polypyrrole |
| US5281365A (en) * | 1990-03-13 | 1994-01-25 | Samsung Electron Devices Co., Ltd. | Antistatic coating composition for non-glaring picture displaying screen |
| US5150004A (en) * | 1990-07-27 | 1992-09-22 | Zenith Electronics Corporation | Cathode ray tube antiglare coating |
| KR940011569B1 (ko) * | 1990-10-24 | 1994-12-21 | 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 | 저 반사막을 갖는 음극선관 |
| TW266301B (ja) * | 1991-09-19 | 1995-12-21 | Philips Nv | |
| US5219611A (en) * | 1991-09-30 | 1993-06-15 | Cornell Research Foundation, Inc. | Preparing densified low porosity titania sol gel forms |
| EP0538937B1 (en) | 1991-10-23 | 1996-01-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Antireflective and antistatic coating for, in particular, a cathode ray tube |
| JP3219450B2 (ja) | 1992-01-24 | 2001-10-15 | 旭硝子株式会社 | 導電膜の製造方法、低反射導電膜とその製造方法 |
-
1994
- 1994-10-14 EP EP94202991A patent/EP0649160B1/en not_active Expired - Lifetime
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1998
- 1998-12-07 US US09/206,439 patent/US6087769A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09186949A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 映像装置 |
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