JP3735387B2 - 表示スクリーン上に被膜を設ける方法 - Google Patents
表示スクリーン上に被膜を設ける方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3735387B2 JP3735387B2 JP25055894A JP25055894A JP3735387B2 JP 3735387 B2 JP3735387 B2 JP 3735387B2 JP 25055894 A JP25055894 A JP 25055894A JP 25055894 A JP25055894 A JP 25055894A JP 3735387 B2 JP3735387 B2 JP 3735387B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- coating
- display screen
- antistatic
- particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05F—STATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
- H05F1/00—Preventing the formation of electrostatic charges
- H05F1/02—Preventing the formation of electrostatic charges by surface treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/867—Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
- H01J29/868—Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/89—Optical or photographic arrangements structurally combined or co-operating with the vessel
- H01J29/896—Anti-reflection means, e.g. eliminating glare due to ambient light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/445—Organic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
- C03C2217/475—Inorganic materials
- C03C2217/476—Tin oxide or doped tin oxide
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【産業上の利用分野】
本発明は、表示スクリーン上の1つ以上の層から成り、少なくとも1つの静電気防止層を有する静電気防止被膜の製造方法に関する。
本発明はまた、静電気防止被膜を有する表示スクリーンに関する。
【0002】
静電気防止層は、表示装置の表示スクリーン、特にCRTにおいて用いられる。上記被膜は十分な導電性を有して、表示スクリーンの外面上に存在する高い静電圧を数秒以内に確実に除去する。従って、使用者は、スクリーンに触れた際に不快な衝撃を受けない。さらに、空気中の塵の吸着が低下する。
【0003】
被膜の1層は、導電性化合物を含む静電気防止層である。既知の被膜は、上記静電気防止層に加えて、例えば反射防止またはグレア防止(antiglare) 効果を有する層あるいは耐引っ掻き性を改善する層を有する。通常、上記の他の層は、シリカ層上に回転塗布または噴霧により設けられる。
【0004】
【従来の技術】
序文に記載したタイプの方法は、H. Tohda等による"Japan Display '92, 第289〜292頁:"Anti-glare, Anti-reflection and antistatic (AGRAS) Coating for CRTs""から知られている。上記の文献において、表示スクリーンに導電性(静電気防止)SnO層をCVD(化学蒸着法)により設け、次に中央または最外SiO2 層を各々回転塗布、噴霧および熱処理により設ける方法が記載されている。
【0005】
この方法は極めて手間および時間がかかる;CVD方法は別個の反応空間において実施される。SnO層を設けた後に、表面を研磨または洗浄により処理する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、多層静電気防止被膜の単純な製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明において、多層静電気防止被膜の単純な製造方法を提供する本発明の目的は、直径が50nmより小さい導電性粒子の多孔質の層を表示スクリーン上に設け、次に転化により二酸化ケイ素または二酸化チタンを形成する化合物の第2層を設け、上記化合物が第1層中に浸透し、次に追加の第2層中で上記化合物を高温で処理することにより転化することにより達成される。
【0008】
化合物の浸透により、層は密封され,表示スクリーンの表面上に接着する。第1層をさらに処理、例えば研磨および洗浄して、第1層と第2層との間の十分な接着を得ることはもはや不必要である。これにより、方法を著しく単純にすることができる。導電性粒子の層は多孔質層である。これにより、化合物の第1層への浸透が促進される。
【0009】
また、方法を比較的低い温度で好ましく実施することができる。一般に、比較的低い温度を用いることにより、加工時間および熱応力の結果としての損傷の危険が低下する。
【0010】
このために、本発明の例は、アンチモンをドープした酸化スズの導電性層の水性懸濁液を表示スクリーン上に塗布し、次に乾燥し、これにより静電気防止層を形成し、次に好ましくはアルコールまたは水性アルコキシシランまたはチタン化合物である第2層を静電気防止層上に設け、次に高温で処理することにより上記アルコキシシラン化合物を二酸化ケイ素または二酸化チタンに転化することを特徴とする。
【0011】
本発明の方法のこの例により、予め静電気防止層を硬化させることなく、次の層を静電気防止層上に設けることができる。アルコキシシラン化合物を二酸化ケイ素に、比較的低い温度(200℃まで)において転化することができる。これにより、方法を単純にすることができる。
【0012】
二酸化ケイ素への転化は、例えば、150〜170℃の範囲内の温度で少なくとも30分間処理することにより発生する。アルコキシシラン化合物のアルコキシ基は酸性化した水によりヒドロキシ基に転化され、上記ヒドロキシ基は互いに、および表示スクリーンのガラス表面のヒドロキシ基と反応する。乾燥および加熱の間、安定に接着した二酸化ケイ素のネットワークが縮重合により形成する。同様の転化がアルコキシチタン化合物に関して発生する。
【0013】
アンチモンをドープした酸化スズの粒子の水性懸濁液を用いることは、これらが環境に比較的無害であるという利点を有する。従って、環境汚染を防止するために、一層少ない測定が必要であるかまたは測定が全く不必要となり、従って方法を単純にすることができる。他の利点は、得られた層のスクエア抵抗(square resistance) が低い、即ち約1〜10MΩであることである。この抵抗値は、別の方法により製造したATOに基づいた導電性層で得られた値よりはるかに低い。水性懸濁液の他の利点は、ATO粒子の表示スクリーンへの付着が、層を乾燥した後温度処理を実施するのに十分であり、従って第2層を、例えばアルコキシシランまたはチタン化合物の水溶液またはアルコール溶液から直接設けることができることである。ATO粒子の被膜が乾燥した後直ちに、アルコキシシラン溶液の層を設けることができる。
【0014】
水性懸濁液を回転塗布により設けるのが好ましい。次に厚さが、特に被膜の光学的および電気的特性を決定する、第1層の厚さを精密に調整することができる。第1層は、他の粒子を含んで、例えば上記第1層の光学的特性、例えば透過性および/または屈折率に影響を与える。
【0015】
第2層を回転塗布により設けるのが好ましい。
アルコキシシランまたはチタン溶液の回転塗布により、均一かつ平滑な層が形成する。随意に、界面活性剤を溶液に、例えば0.001〜5重量%の量で加えることができる。
「回転塗布」とは一般に、層を回転している部材、この場合には表示スクリーンに塗布する方法をいう。
好ましくは、第1および第2層の両方を、表示スクリーンの回転を中断させることなく回転塗布することにより設ける。
【0016】
これは、2層被膜の製造を1つであり同一の回転塗布装置で実施することができるという利点を有する。位置を変化させることなく第2層を設けることができる。表示スクリーンは回転しつづけ、回転中に表示スクリーンの上方に発生した空気流が維持されるため、これにより塵が表示スクリーン上に堆積することが防止される。これにより、方法が単純になり、被膜の品質が改善される。
【0017】
本発明の方法は、被膜を表示装置の表示スクリーン上に塗布するのに用いることができる。本発明の範囲内で、好ましい方法を用いることができ、好ましくは陰極線管の一部を形成する表示スクリーンに被膜を塗布するのに用いることができることが明らかになった。
【0018】
上記のJapan Display からの記事に開示された方法においては、被膜を、別個の部分を構成する表示スクリーンに設け、即ち第1に表示スクリーンに被膜を塗布し、表示スクリーンに被膜を設けた後初めて陰極性管を組み立てる。これには、被膜が、陰極線管の組み立ての間に損傷されるという危険がある。この危険は、陰極線管の一部を形成する表示スクリーン上に被膜を設けることにより回避することができる。
【0019】
本発明の方法により形成した静電気防止層は、導電性、例えばATO(アンチモンをドープした酸化スズ)の粒子を含み、このATO粒子は、層の静電気防止特性を提供する。
【0020】
好ましくは、用いられる導電性(ATO)粒子は極めて小さい。例えばこれらの寸法は、好ましくは50nmより小さい。これらの小さい寸法により、光の見ることができる散乱は発生せず、形成した第1層は透明である。Sb/Snのモル比が0.3より小さい場合には、粒子は十分導電性を有する。
【0021】
粒度は好ましくは30nmより小さい。これらのATO粒子の小さい寸法により、ファンデルワールス力が発生し、これによりATO粒子のガラス基材への付着が、第1層を損傷することなく第2層を設けるのに十分になる。ATO粒子を、水性の安定なATO懸濁液(ヒドロゾル)から表示スクリーン上に塗布する。懸濁液中で,ATO粒子は、立体的にではなく電荷が安定化する。このような懸濁液を、約1〜20MΩ/□の範囲内の表面抵抗を有する極めて薄い層を製造するのに適切に用いることができる。このようなATO懸濁液の製造は、米国特許第US−A−4775412号明細書に記載されている。これらの小さい粒度により、層の機械的強度および接着力は、中間の硬化工程なしに第2層を直接設けるのに十分である。
【0022】
第1層に、反射防止またはグレア防止効果を有する二酸化ケイ素の層を備えるのが好ましく、上記の追加の層はまた耐引っ掻き性を増大させる。第2層は、特に、第1層にATO粒子を接着させる接着剤としての役割を有する。アルコキシシラン化合物(例えばTEOS)は第1層中に浸透し、下部の表面に付着する。好ましくは、第2層と第1層は一緒に2層反射防止層を形成する。反射防止層を表示スクリーン上に用いて、透過光の反射損を低下させ、画像の反射の妨害(鏡面反射)を抑制する。グレア防止層を用いて周囲光の鏡面反射を減少させる。
【0023】
本発明の方法に適切に用いることができるアルコキシシラン化合物はテトラエチルオルトケイ酸(TEOS)である。あるいはまた、Si(OR)4 のタイプの他の既知のアルコキシシラン化合物およびこれらのオリゴマー(式中Rはアルキル基、好ましくはC1 〜C5 のアルキル基である)を用いることができる。溶媒として、例えばメタノールまたはエタノールを用いることができる。
【0024】
本発明はまた、静電気防止,反射防止被膜を有する表示スクリーンを備えた表示装置に関する。本発明において、1つ以上の層から成り、少なくとも1つの静電気防止層を有する静電気防止被膜を有する表示窓を備えた表示装置は、静電気防止層が表示窓に直接接しており、直径が50nmより小さい導電性粒子の多孔質の層と、該導電性層中に浸透し、転化により形成した二酸化ケイ素または二酸化チタンとで構成され、前記導電性粒子が二酸化ケイ素又は二酸化チタン中に埋め込まれてなる第1層であり、該第1層が二酸化ケイ素または二酸化チタンを含む第2の平滑な層により覆われ、第1および第2層の組立体が可視光線に対する反射防止効果を有することを特徴とする。
【0025】
導電性(ATO)粒子を有する静電気防止層の屈折率は一般に、追加の二酸化ケイ素層の屈折率と異なり、これよりも高い(TiO2 に関して導電性層の屈折率をTiO2 層より低くすることができる)。2層被膜のそれぞれの層の厚さを、破壊的干渉が、可視範囲の中心的波長λ、例えば約550nmにおいて発生するように選択するのが好ましい。この波長、および上記波長の周辺の範囲の波長に関して、堆積した層は反射防止効果を有する。当業者には、層の光学的厚さn.t(式中nは屈折率であり、tは層の厚さである)はλ/4(式中λは中心的波長である)でなければならないことは明らかである。二酸化ケイ素または二酸化チタンのこのような追加の層を、アルコキシシランまたはチタン化合物のアルコール溶液を塗布し、次に高温で処理し、これにより二酸化ケイ素または二酸化チタンの層を設けることにより製造する。追加の層を回転塗布により設ける場合には、得られた層の厚さは、特に回転数および溶液の粘度に依存する。好ましくは、粒度は50nmより小さい。第1層は、例えば第1層の光学的特性、例えば透過性および/または屈折率に影響する他の粒子を含むことができる。反射防止効果は、第3または第4等の層と共に得ることができる。
【0026】
好ましくは、グレア防止効果を有する二酸化ケイ素の第3の層を設ける。この層を第1の追加の層上に、アルコキシシラン化合物のアルコール溶液を噴霧し、次に高温で処理し、これにより二酸化ケイ素の層を形成することにより設ける。得られた層は耐引っ掻き性を有し、噴霧により得られた表面組織のためにグレア防止特性を有する。グレア防止効果は、光の波長にほとんど依存しない。マット表面組織は、アルコキシシラン溶液を噴霧することにより得られ、従って層はグレア防止効果を示す。これにより、周囲光を拡散して反射することができる。
【0027】
二酸化ケイ素の追加の層の他の利点は、指紋がつきにくくなったこと並びに硬度および耐引っ掻き性が向上したことである。
【0028】
所要に応じて、追加の層の1つが光透過性に選択的に影響する顔料または染料を有することができる。このような顔料または染料は、陰極線管のリン光体により発光した光が選択的に透過され、一方、例えば表示スクリーンの後ろ側で反射される周囲光が吸収されるように選択する。顔料の例は、遷移金属酸化物、例えば酸化鉄および酸化クロムである。適切な染料の例はローダミンBである。
【0029】
本発明の例において、ポリピロールのラテックス粒子を(ATO)粒子の水溶液に加える。ポリピロール粒子は第1層の光吸収特性を提供する。乾燥後、第1層はポリピロールのラテックス粒子を有する。
【0030】
ポリピロール化合物に関して、ポリピロール、N置換ポリピロールおよびβ置換ポリピロールを用いることができる。置換体として:例えば5個までの炭素原子を有するアルキル基,アリール基、アルコキシ基、ニトロ基およびハロゲン原子を用いることができる。このような物質および特に静電気防止被膜に用いるラテックス粒子の製造は、米国特許第US−A−4959162号明細書に記載されている。また、この米国特許明細書には、このようにして製造されたラテックスを精製するための遠心分離工程および再分散工程が記載されている。好ましくは、ラテックス粒子は、未置換ポリピロールから成る。
【0031】
層の光学的特性、均一性および均質性のために、ラテックス粒子が均一な寸法を有することが望ましい。ラテックス粒子は球形であり、好ましくは50〜150nmの範囲内、好ましくは約60nmの平均直径を有する。このような例において、静電気防止および光吸収特性は単一層に組み合わされる。本発明の上記例による方法の結果、被膜は両方のタイプの粒子の均質混合物を含む。被膜の層の厚さは50〜200nmの範囲内である。被膜の色は無彩灰色であり、即ち透過は波長に依存しない。層の厚さおよび層中のポリピロールの濃度に依存して、透過率を、例えば90〜30%の範囲内で調整し、一方所要の静電気防止効果を維持することができる。十分な静電気防止効果は、層の表面抵抗が1010Ω/□以下、好ましくは104 〜1010Ω/□の範囲内である場合に得られる。
【0032】
上記のように、被膜と二酸化ケイ素の追加層との組み合わせは、これらの層の光学的な層の厚さが約λ/4に等しい場合に、反射防止効果を示す。所望の層の厚さは、経験的に容易に決定することができる。重要な方法パラメ−タは、回転塗布中の回転数、溶液の温度および粘度である。
【0033】
以下本発明を図面を参照して説明する。
図1は、表示スクリーン3、コーン4およびネック5を有するガラスエンベロープ2を備えた陰極線管1の破断図である。ネックにおいて、電子ビームを発生する電子銃6が設けられている。この電子ビームは、表示スクリーン3の内側7上のリン光体層上に集束する。操作中、電子ビームを、偏向コイル系(図示せず)により表示スクリーン3を介して2つの相互に垂直な方向に偏向させる。表示スクリーン3は、外側に本発明の静電気防止被膜8を備える。
【0034】
図2は、本発明の表示スクリーンの断面図式図である。静電気防止被膜8を表示スクリーン3上に設ける。上記静電気防止被膜8は、第1層9(AS)、第2層10および第3層11を有する。第1層9は、導電性粒子12、この場合第2の化合物、この例では二酸化ケイ素中に埋め込まれた、アンチモンをドープした酸化スズ粒子を有する。第2層は、第2に述べた化合物、この例では二酸化ケイ素製である。第1層および第2層は一緒に反射防止フィルター(AR)を形成する。このために、両方の層9および10の厚さは約λ/4(式中λは可視範囲、例えば500〜600nmである)である。第1層にポリピロールラテックス粒子を設けることができ、これにより第1層の透過特性を決定することができる。第3層11(AG)はグレア防止効果を提供し、例えば噴霧により設けた二酸化ケイ素から成る。
【0035】
図3a〜3cは、本発明の方法を例示する。
多孔質層31は、表示スクリーン3上に設けられている。これは、例えば、表示スクリーン上に導電性(ATO)粒子の水溶液を塗布し、上記粒子を乾燥することにより実施するのが好ましい。化合物の第2の層32を層31上に塗布し、上記化合物は第1層中に浸透する。第2層を設けた後、熱処理を実施する。この処理の結果、二酸化ケイ素層が形成する。次に、第3層を、例えば二酸化ケイ素グレア防止層を噴霧することにより設けて、グレア防止効果を得る。
【0036】
【実施例】
以下本発明を実施例により説明する。
実施例1
水性ATO懸濁液を、例えば米国特許第US−A−4775412号明細書に記載されたように製造した。この文献に従って、SnCl2 およびSbCl3 を希塩酸に溶解し、次に重炭酸アンモニウムを溶液に加えた。オートクレーブ中で、アンチモンをドープした酸化スズを熱水転化により形成した。ATO粒子は30nmより小さかった。代表例において、Sb/Snのモル比は0.3であった。水性ATO懸濁液の量は5重量%であった。このATO懸濁液を表示スクリーン上に塗布し、乾燥した。
【0037】
アルコキシシラン化合物の溶液を表1に従って製造した。
【0038】
【表1】
【0039】
上記したように(導電性粒子を含む乾燥層(例えばATO))得られた第1層の上に、表1に従って製造したTEOS溶液の層を、例えば回転塗布により塗布した。層を160℃に約90分間維持し、これにより安定に接着した二酸化ケイ素の平滑層が形成した。この二酸化ケイ素の追加の層は例えば135nmの層の厚さおよび1.44の屈折率を有していた。この層は、ATO粒子を含み、中に二酸化ケイ素が浸透し、屈折率が1.62であり、層の厚さが60nmである静電気防止層と共に反射防止効果を示した。層を塗布したシーケンスは重要である。ATO粒子を含む層の前に二酸化ケイ素層を設けていた場合には、これは被膜の接着に悪影響を与え、ATO粒子を含む層の屈折率は異なる、即ち約1.4であり、上記層は、二酸化ケイ素をほとんどまたは全く含んでいなかったと考えられる。さらに、反射防止効果はほとんど存在しなかった(両方の層の屈折率はほとんど異なっていなかった)と考えられる。
【0040】
従って、第1および第2層の組立体の光学的および機械的特性は、層が設けられるシーケンスに依存する。好ましくは、静電気防止層および第2層を回転塗布により設ける。好ましくは、これを、表示スクリーンの回転工程を中断させることなく1つであり同一の回転塗布装置において実施する。この結果方法が単純になり、塵が表示スクリーン上に堆積することが防止される。
【0041】
次に、所要に応じて、TEOS溶液および同様の温度処理を用いて、回転塗布により二酸化ケイ素の第2の追加の層を設ける。この層は、グレア防止効果を有するマット表面組織を有する。従って、得られた被膜は、比較的指紋がつきにくい。さらに、入射光が拡散散乱するため、反射は波長に比較的依存しない。上記の方法を用いて、ばらの表示スクリーン、即ち陰極線管の一部を(まだ)形成していない表示スクリーン上に被膜(2層以上の多層)を設けることができる。しかし、好ましくは、この方法を用いて、陰極線管の一部を形成する表示スクリーン上に被膜を設けることができる。被膜が損傷される危険はこれにより小さくなる。
【0042】
実施例2
この実施例において、第1層中にポリピロールを含ませることにより、第1層が可視光線の透過に影響する方法および表示装置について記載する。
【0043】
ポリピロールラテックス粒子を、0.938gのピロール、8.65gのFeCl3 ・6H2 Oおよび1gのポリビニルアルコール(立体安定剤)の混合物を100ミリリットルの水中で少なくとも10時間、透明な溶液が得られるまではげしくかきまぜることにより調製した。ポリピロール粒子の形成が、混合物の黒色化により確認された。得られた懸濁液を脱イオン水で透析してFe2+イオンおよびCl- イオンを除去した。透析後、数ミリリットルのエタノール、ブタノールおよび酢酸エチルを懸濁液に加えた。最後に、懸濁液をポリアミドの5μmおよび0.2μmのフィルターを介して通過させた。電子顕微鏡により、ラテックス粒子が、規則的な球形の形状を有し、これらが平均粒度が80nmである単分散系であることが示された。
【0044】
ATO懸濁液の調製を実施例1と同様に実施した。
【0045】
次に、両方の懸濁液を等量混合し、これによりATOおよびポリピロール粒子の安定な懸濁液が形成した。次に、この懸濁液を回転塗布により表示スクリーン上に塗布した。乾燥後、60nmの厚さを有し、1MΩ/□の抵抗を有する均質であり無彩灰色の被膜が得られた。これは、所望の静電気防止効果を得るのに十分であり(104 〜1010Ωの表面抵抗が望ましい)、これにより、光透過特性を、層の厚さおよびポリピロールの濃度を変化させることにより所望の値に調整し、一方所要の静電気防止効果を維持することができる。得られた被膜の波長λ(nm)の関数としての透過率T(%)を図4に示す。本発明の被膜の抵抗値は、立体安定剤を有するATO粒子またはポリピロール粒子が分散した二酸化ケイ素層の値よりはるかに低かった。このような層は、約100MΩの抵抗を有する。
【0046】
以下の組成を有するアルコキシシラン化合物の溶液を調製した:
0.9モルのテトラエチルオルトケイ酸(TEOS)、3.6モルの水、5・10-4モルの硝酸、これにエタノールを加えることにより1リットルとした。
【0047】
実施例2において得られた第1層に上記TEOS溶液の層を回転塗布により設けた。層を160℃の温度に30分間維持し、これにより安定に接着した二酸化ケイ素の平滑層が形成した。この二酸化ケイ素の追加の層は135nmの層の厚さおよび1.44の屈折率を有していた。この層は、ATOおよびポリピロール粒子を含み、1.62の屈折率および60nmの層の厚さを有する被膜と共に反射防止効果を示した。層の厚さをわずかに変化させる、例えば第1層の厚さを約100nmとし、第2層の厚さを約80nmとすることにより、反射防止効果を微調整することができる。
【0048】
次に、同一のTEOS溶液を用い、同様の温度処理を実施して、噴霧により二酸化ケイ素の第2の追加の層を設けた。この層は、グレア防止効果を有するマット表面組織を有していた。この結果、得られた被膜は、比較的指紋がつきにくい。さらに、入射光が拡散散乱するため、反射は波長に比較的依存しない。
【0049】
図5aは、二酸化ケイ素の追加の層およびグレア防止層(曲線A)を設けた上記のATO粒子の層(実施例1)から成る被膜の波長λ(nm)の関数としての相対反射率R(%)を示す。測定工程において、被覆されていない表示スクリーンガラスを対照材料として用いた。
【0050】
図5bは、二酸化ケイ素の追加の層(曲線A)を設けた上記のATOおよびポリピロール粒子の層(実施例2)から成る被膜の波長λ(nm)の関数としての相対反射率R(%)を示す。測定工程において、被覆されていない表示スクリーンガラスを対照材料として用いた。曲線Bは追加のグレア防止層の効果を示す。被膜の反射防止効果は、波長に比較的依存しなくなった。
【0051】
最外層の耐引っ掻き性を、円錐形ダイヤモンドにより試験し、これを表面上を50gの力で移動させ、肉眼で観察しうる引っ掻き傷は形成しなかった。
【0052】
硬度を鉛筆硬度試験により試験し、ここで種々の硬度を有する鉛筆を45°の角度および0.05m/sの速度で移動させることにより、表面上に7.5Nの力を加えた。この試験により、本発明の層は、3H〜4Hの程度の硬度を有していた。
【0053】
本発明の上記の例により、単純な方法で、有効な静電気防止被膜および所要に応じて光吸収被膜を製造し、陰極線管を有する表示スクリーン上に設け、上記被膜により、波長の作用にかかわらず、光透過特性を調整することができる。
【0054】
本発明の範囲内で、他の多くの例が可能であることは明らかである。例えば以下の実施例3に、ATO層をTiO2 層で被覆した例を示す。
【0055】
実施例3
上記の実施例1に記載したようなATO懸濁液を表示スクリーンに塗布し、乾燥した(乾燥とは本発明の概念において放置して乾燥することもまた意味する)。アルコキシチタン化合物の溶液を表2に従って調製した。
【0056】
【表2】
【0057】
ATO粒子の第1層の上に表2のTEOTi溶液の第2層を、例えば回転塗布により塗布した。次に、二重層を160℃の温度に約90分間保持した。チタン化合物がATO粒子を含む層中に浸透したため、形成した被膜は、TiO2 マトリックス中にATO粒子を含む層の上に、約2.0の屈折率を有するTiO2 の第2層を有する。上記底部層は約1.8〜1.9の屈折率を有していた。底部層は、例えば約60nmの厚さを有する一方、第2層は例えば200nmの厚さを有することができる。TiO2 層の上にSiO2 層を、例えばシラン化合物の層をTiO2 層の上に回転塗布することにより設けることができる。
【0058】
また、第1層が他の粒子を含んで、例えば上記第1層の光学的特性、例えば透過性および/または屈折率に影響を与えることができる。上記に、第1層が、第1層およびこれと共に設けた被膜の透過性に影響するラテックス粒子を含む例を示した。また、第1層が、導電性粒子に加えて第1層の他の特性、例えば屈折率に影響する粒子を含むことができる。以下の実施例4に、上記第1層が第1層の屈折率に影響する粒子を含む例を示す。屈折率に影響を与えることにより、光学的特性、さらに特に被膜の反射特性の微調整を達成することができる。
【0059】
実施例4
導電性粒子と例えばアノーガニックコロイド酸化物(anorganic colloidal oxide) 、例えばSiO2 またはAl3 O2 とを混合することにより、第1層の屈折率に影響を与えることができる。好ましい上記酸化物粒子は100nmより小さい。
【0060】
例えば、100gのATO溶液(12重量%)に、7gのコロイドSiO2 溶液(40重量%のSiO2 )を加えた。この溶液をアルコール溶液で1:4に希釈し、スクリーンに回転塗布により塗布した。上記層が乾燥した際に、TEOTi溶液(例えば実施例3参照)を回転塗布によりスクリーンに塗布した。上記第2層が乾燥した際に、TEOS溶液の第3層(例えば実施例参照)を回転塗布によりスクリーンに塗布した。次に、3層被膜を高温で処理して被膜を硬化させた。第1層(ATO粒子およびSiO2 粒子を含む)が70nmの厚さおよび1.75の屈折率を有し、第2層(TiO2 )が102nmの厚さおよび1.95の屈折率を有し、第3層SiO2 が90nmの厚さおよび1.44の屈折率を有するこの例の被膜は優れた反射防止特性を有していた。可視範囲において、反射能は大幅に低下し、約400〜600nmでは、反射能は、被膜がない場合の反射能の10%未満まで低下した。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の表示装置を示す図である。
【図2】本発明の表示装置の表示窓の断面の図式図である。
【図3】aは本発明の方法の1つの実施例を示す図であり、
bは本発明の方法の他の実施例を示す図であり、
cは本発明の方法の尚他の実施例を示す図である。
【図4】本発明の被膜の波長λ(nm)の関数としての透過率T(%)を示すグラフである。
【図5】aは本発明の被膜の波長λ(nm)の関数としての相対反射率R(%)を示すグラフであり、
bは本発明の他の例の被膜の波長λ(nm)の関数としての相対反射率R(%)を示すグラフである。
【符号の説明】
1 陰極線管
2 ガラスエンベロープ
3 表示スクリーン
4 コーン
5 ネック
6 電子銃
7 リン光体層
8 静電気防止被膜
9 第1層
10 第2層
11 第3層
12 導電性粒子
31 多孔質層
32 化合物の第2層
Claims (8)
- 表示スクリーン上の1つ以上の層から成り、少なくとも1つの静電気防止層を有する静電気防止被膜を製造するにあたり、直径が50nmより小さい導電性粒子の多孔質の層を設け、次に転化により二酸化ケイ素または二酸化チタンを形成する化合物の第2層を設け、上記化合物が第1層中に浸透し、次に追加の第2層中で上記化合物を高温で処理することにより転化することを特徴とする静電気防止被膜の製造方法。
- 請求項1記載の表示スクリーン上の1つ以上の層から成り、少なくとも1つの静電気防止層を有する静電気防止被膜を製造するにあたり、アンチモンをドープした酸化スズの導電性層の水性懸濁液を表示スクリーン上に塗布し、次に乾燥し、これにより静電気防止層を形成し、次に第2層を設けることを特徴とする静電気防止被膜の製造方法。
- 第2層がアルコールまたは水性アルコキシシランまたはチタン化合物であり、これを塗布し、次に高温で処理することにより上記アルコキシシランまたはチタン化合物を二酸化ケイ素または二酸化チタンに転化することを特徴とする請求項2記載の方法。
- 第1および第2層を、表示スクリーンの回転を中断させることなく回転塗布することにより設けることを特徴とする請求項1、2または3記載の方法。
- 静電気防止被膜を陰極線管の一部を形成する表示スクリーン上に設けることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つの項記載の方法。
- 導電性層が50nmより小さいことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つの項記載の方法。
- ポリピロールのラテックス粒子をATO粒子の水溶液に加えることを特徴とする請求項2、4または6記載の方法。
- アルコキシシラン化合物のアルコール溶液の第3層を第2層上に噴霧することにより設け、次に高温で処理することによりアルコキシシラン化合物を二酸化ケイ素の他の追加の層に転化し、上記の追加の層がグレア防止効果を奏することを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つの項記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
BE9301103A BE1007662A3 (nl) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Beeldweergeefinrichting met een beeldscherm voorzien van een antistatische en lichtabsorberende bekledingslaag. |
BE09301103 | 1993-10-18 | ||
BE09301338 | 1993-12-06 | ||
BE9301338A BE1007855A3 (nl) | 1993-12-06 | 1993-12-06 | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekledingslaag op een beeldscherm en een beeldweergaveinrichting met een beeldscherm voorzien van een bekledingslaag. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07235260A JPH07235260A (ja) | 1995-09-05 |
JP3735387B2 true JP3735387B2 (ja) | 2006-01-18 |
Family
ID=25662794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25055894A Expired - Fee Related JP3735387B2 (ja) | 1993-10-18 | 1994-10-17 | 表示スクリーン上に被膜を設ける方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5869129A (ja) |
EP (1) | EP0649160B1 (ja) |
JP (1) | JP3735387B2 (ja) |
KR (1) | KR100341701B1 (ja) |
DE (1) | DE69428320T2 (ja) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09186949A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-15 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 映像装置 |
KR19990036350A (ko) * | 1996-06-11 | 1999-05-25 | 다테모토쇼이치 | 투명 도전막, 저 반사 투명 도전막 및 표시장치 |
JPH1069866A (ja) | 1996-08-29 | 1998-03-10 | Hitachi Ltd | 陰極線管 |
US6163109A (en) * | 1996-08-29 | 2000-12-19 | Hitachi, Ltd. | Cathode ray tube having high and low refractive index films on the outer face of the glass panel thereof |
US6280838B1 (en) * | 1997-01-10 | 2001-08-28 | U. S. Philips Corporation | Optical element, a display device provided with said optical element, and a method of manufacturing the optical element |
TW392189B (en) * | 1997-01-17 | 2000-06-01 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing a cathode ray tube and a cathode ray tube |
JPH10223160A (ja) | 1997-02-12 | 1998-08-21 | Hitachi Ltd | カラー陰極線管 |
KR19990003207A (ko) * | 1997-06-25 | 1999-01-15 | 구자홍 | 저저항용 반사방지 음극선관 제조방법 |
TW432397B (en) | 1997-10-23 | 2001-05-01 | Sumitomo Metal Mining Co | Transparent electro-conductive structure, progess for its production, transparent electro-conductive layer forming coating fluid used for its production, and process for preparing the coating fluid |
US6447909B1 (en) | 1999-01-14 | 2002-09-10 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Transparent conductive layered structure and method of producing the same, and coating liquid for forming transparent conductive layer used in production of transparent conductive layered structure and method of producing the same |
TW452169U (en) * | 1999-05-07 | 2001-08-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Display device provided with anti-AEF strip |
JP2002083518A (ja) | 1999-11-25 | 2002-03-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電性基材とその製造方法並びにこの透明導電性基材が適用された表示装置、および透明導電層形成用塗液とその製造方法 |
KR100346547B1 (ko) | 1999-11-26 | 2002-07-26 | 삼성에스디아이 주식회사 | 화상 표시장치 |
JP2001242302A (ja) | 1999-12-22 | 2001-09-07 | Sony Corp | 光吸収性反射防止膜、表示装置およびそれらの製造方法 |
US6669524B2 (en) | 2000-04-07 | 2003-12-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of treating surface of face panel for image display |
US6337771B1 (en) * | 2000-05-03 | 2002-01-08 | Applied Vacuum Coating Technologies Co., Ltd. | Anti-reflection high conductivity multi-layer coating on CRT surface made by vacuum sputtering and wet coating |
US6587097B1 (en) | 2000-11-28 | 2003-07-01 | 3M Innovative Properties Co. | Display system |
WO2003011958A1 (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Optically clear and antistatic pressure sensitive adhesives |
GB0119707D0 (en) * | 2001-08-13 | 2001-10-03 | Liquid Display Ltd | Display |
JP3876811B2 (ja) | 2001-11-02 | 2007-02-07 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電層形成用塗液の製造方法 |
US20030100830A1 (en) * | 2001-11-27 | 2003-05-29 | Sheng-Ping Zhong | Implantable or insertable medical devices visible under magnetic resonance imaging |
US20040143180A1 (en) * | 2001-11-27 | 2004-07-22 | Sheng-Ping Zhong | Medical devices visible under magnetic resonance imaging |
US7151532B2 (en) * | 2002-08-09 | 2006-12-19 | 3M Innovative Properties Company | Multifunctional multilayer optical film |
EP1524247A1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-20 | Asahi Glass Company, Limited | Infrared shielding film-coated glass and process for its production |
EP1634929A1 (en) * | 2004-09-13 | 2006-03-15 | DSM IP Assets B.V. | Objet comprising a non-insulative coating |
WO2007029508A1 (ja) * | 2005-09-02 | 2007-03-15 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | 近赤外線吸収材料及びその製造方法 |
US8264466B2 (en) * | 2006-03-31 | 2012-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern |
WO2008128073A2 (en) * | 2007-04-13 | 2008-10-23 | 3M Innovative Properties Company | Antistatic optically clear pressure sensitive adhesive |
DE102009007874B4 (de) * | 2009-02-06 | 2010-10-28 | Irlbacher Blickpunkt Glas Gmbh | Platte aus dielektrischem Material mit ESD-geschützter Oberfläche und Herstellverfahren für eine solche Platte |
TWI436139B (zh) * | 2011-06-20 | 2014-05-01 | E Ink Holdings Inc | 彩色電子紙裝置、顯示器及其製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62223019A (ja) | 1986-03-19 | 1987-10-01 | Taki Chem Co Ltd | 結晶質酸化スズ・アンチモンゾル及びその製造方法 |
US4945282A (en) * | 1987-12-10 | 1990-07-31 | Hitachi, Ltd. | Image display panel having antistatic film with transparent and electroconductive properties and process for processing same |
KR920000328B1 (ko) * | 1988-09-29 | 1992-01-11 | 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 | 대전방지 처리형 음극선관의 제조방법 |
US4959162A (en) | 1989-02-03 | 1990-09-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Colloidal polypyrrole |
US5281365A (en) * | 1990-03-13 | 1994-01-25 | Samsung Electron Devices Co., Ltd. | Antistatic coating composition for non-glaring picture displaying screen |
US5150004A (en) * | 1990-07-27 | 1992-09-22 | Zenith Electronics Corporation | Cathode ray tube antiglare coating |
KR940011569B1 (ko) * | 1990-10-24 | 1994-12-21 | 미쯔비시덴끼 가부시끼가이샤 | 저 반사막을 갖는 음극선관 |
TW266301B (ja) * | 1991-09-19 | 1995-12-21 | Philips Nv | |
US5219611A (en) * | 1991-09-30 | 1993-06-15 | Cornell Research Foundation, Inc. | Preparing densified low porosity titania sol gel forms |
EP0538937B1 (en) | 1991-10-23 | 1996-01-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Antireflective and antistatic coating for, in particular, a cathode ray tube |
JP3219450B2 (ja) | 1992-01-24 | 2001-10-15 | 旭硝子株式会社 | 導電膜の製造方法、低反射導電膜とその製造方法 |
-
1994
- 1994-10-14 EP EP94202991A patent/EP0649160B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-10-14 DE DE69428320T patent/DE69428320T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-17 JP JP25055894A patent/JP3735387B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-10-18 KR KR1019940026593A patent/KR100341701B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-09-06 US US08/706,630 patent/US5869129A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-12-07 US US09/206,439 patent/US6087769A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR950012526A (ko) | 1995-05-16 |
US5869129A (en) | 1999-02-09 |
DE69428320D1 (de) | 2001-10-25 |
US6087769A (en) | 2000-07-11 |
JPH07235260A (ja) | 1995-09-05 |
EP0649160B1 (en) | 2001-09-19 |
DE69428320T2 (de) | 2002-07-04 |
KR100341701B1 (ko) | 2002-11-18 |
EP0649160A1 (en) | 1995-04-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3735387B2 (ja) | 表示スクリーン上に被膜を設ける方法 | |
EP0805474B1 (en) | Composition for anti-glare, anti-static coating | |
US5470606A (en) | Method of manufacturing an antistatic coating on a substrate, in particular, a cathode ray tube, comprising latex particles of a polypyrrole compound in a silicon dioxide matrix | |
US6638630B2 (en) | Composition and method for a coating providing anti-reflective and anti-static properties | |
JP3266323B2 (ja) | 複合機能材 | |
EP0649161B1 (en) | Display device comprising a display screen having an antistatic and light-absorbing coating | |
JP3460484B2 (ja) | 透明導電膜 | |
TW382724B (en) | Method of manufacturing a coating on a display window and a display device comprising a display window provided with a coating | |
BE1007855A3 (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekledingslaag op een beeldscherm en een beeldweergaveinrichting met een beeldscherm voorzien van een bekledingslaag. | |
JP3451808B2 (ja) | 低反射性透明導電膜とその形成方法 | |
JPH0570181A (ja) | 低反射帯電防止膜およびその製造方法 | |
JPH0580205A (ja) | 低反射帯電防止膜の製造方法及び低反射帯電防止膜 | |
JPH06139822A (ja) | 透明導電膜、低反射帯電防止膜およびこれらの製造方法 | |
JPH05234538A (ja) | 特に陰極線管用の反射防止及び帯電防止コーティング及びその製造方法 | |
JPH052988A (ja) | 表示装置の反射防止膜形成方法 | |
JP2000001339A (ja) | 着色膜およびこの着色膜を備えた表示装置 | |
JPH09161561A (ja) | 暗色系透明導電膜形成用塗布液 | |
JP2002117790A (ja) | 陰極線管用パネル | |
JPH09120785A (ja) | 低抵抗膜形成用塗布液、低抵抗膜、多層低抵抗膜及びガラス物品 | |
KR20050022205A (ko) | 선택적 광흡수성을 가진 다층막 및 이를 포함한 음극선관 | |
JPH08337439A (ja) | 低抵抗膜形成用塗布液、低抵抗膜、多層低抵抗膜及びこれらの膜を形成したガラス物品 | |
JPH0737494A (ja) | 電界シールド用透明導電膜の形成方法 | |
JPH0785788A (ja) | 帯電防止膜形成用塗布液、帯電防止膜及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041102 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20050202 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20050207 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050614 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051004 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051024 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |