JPH07172862A - 波長２７００〜３３００ｎｍにおいて高伝導性を有する透明または半透明な無機材料 - Google Patents
波長２７００〜３３００ｎｍにおいて高伝導性を有する透明または半透明な無機材料Info
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- JPH07172862A JPH07172862A JP6141771A JP14177194A JPH07172862A JP H07172862 A JPH07172862 A JP H07172862A JP 6141771 A JP6141771 A JP 6141771A JP 14177194 A JP14177194 A JP 14177194A JP H07172862 A JPH07172862 A JP H07172862A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C10/00—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
- C03C10/0018—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents
- C03C10/0027—Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition containing SiO2, Al2O3 and monovalent metal oxide as main constituents containing SiO2, Al2O3, Li2O as main constituents
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 加熱部材から調理用品へのエネルギー移動が
改良された調理システムを提供する。 【構成】 次の組成（重量％）：Ｌｉ２Ｏ、２．５〜
６．０；Ｎａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜４．０；
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、０〜３．
０；ＺｎＯ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．５；Ｃａ
Ｏ、０〜１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２Ｏ３、１
８〜２８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、１．０〜
７．０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２、
１．０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０を有し、
得られる透明または半透明な無機材料が０．０３モル／
リットル以下の含水量を示し、２．７〜３．３μｍの波
長領域において高い伝導率を示し、さらに−５０℃〜７
００℃の温度範囲において平均熱縦方向膨脹係数、α、
−１ｘ１０−６〜＋２ｘ１０−６Ｋ−１を有する。
改良された調理システムを提供する。 【構成】 次の組成（重量％）：Ｌｉ２Ｏ、２．５〜
６．０；Ｎａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜４．０；
Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、０〜３．
０；ＺｎＯ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．５；Ｃａ
Ｏ、０〜１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２Ｏ３、１
８〜２８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、１．０〜
７．０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２、
１．０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０を有し、
得られる透明または半透明な無機材料が０．０３モル／
リットル以下の含水量を示し、２．７〜３．３μｍの波
長領域において高い伝導率を示し、さらに−５０℃〜７
００℃の温度範囲において平均熱縦方向膨脹係数、α、
−１ｘ１０−６〜＋２ｘ１０−６Ｋ−１を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、透明または半透明な無
機材料に関する。さらに詳細には、本発明は次の組成
（重量％）からなり、−５０℃〜７００℃の温度範囲に
おいて−１ｘ１０−６Ｋ−１〜＋２ｘ１０−６Ｋ−１の
低熱膨脹係数αを有するガラスセラミックスおよび／ま
たは複合材料に関する：Ｌｉ２Ｏ、２．５〜６．０；Ｎ
ａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜４．０；Ｎａ２Ｏ＋
Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、０〜３．０；Ｚｎ
Ｏ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．５；ＣａＯ、０〜
１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２Ｏ３、１８〜２
８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、１．０〜７．
０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２、１．
０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０であって、必
要により、次の着色剤（重量％）：Ｖ２Ｏ５、０〜２．
０；Ｃｒ２Ｏ３、０〜２．０；ＭｎＯ、０〜２．０；Ｆ
ｅ２Ｏ３、０〜２．０；ＣｏＯ、０〜２．０；およびＮ
ｉＯ、０〜２．０、さらに必要により、前記材料はＡｓ
２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＮａＣｌおよびＣｅ２Ｏ３等の清
浄剤、および必須結晶相としての高石英（ｈ−石英）お
よび／またはキータイト（ｋｅａｔｉｔｅ）混合結晶を
含んでも良い。
機材料に関する。さらに詳細には、本発明は次の組成
（重量％）からなり、−５０℃〜７００℃の温度範囲に
おいて−１ｘ１０−６Ｋ−１〜＋２ｘ１０−６Ｋ−１の
低熱膨脹係数αを有するガラスセラミックスおよび／ま
たは複合材料に関する：Ｌｉ２Ｏ、２．５〜６．０；Ｎ
ａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜４．０；Ｎａ２Ｏ＋
Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、０〜３．０；Ｚｎ
Ｏ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．５；ＣａＯ、０〜
１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２Ｏ３、１８〜２
８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、１．０〜７．
０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２、１．
０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０であって、必
要により、次の着色剤（重量％）：Ｖ２Ｏ５、０〜２．
０；Ｃｒ２Ｏ３、０〜２．０；ＭｎＯ、０〜２．０；Ｆ
ｅ２Ｏ３、０〜２．０；ＣｏＯ、０〜２．０；およびＮ
ｉＯ、０〜２．０、さらに必要により、前記材料はＡｓ
２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＮａＣｌおよびＣｅ２Ｏ３等の清
浄剤、および必須結晶相としての高石英（ｈ−石英）お
よび／またはキータイト（ｋｅａｔｉｔｅ）混合結晶を
含んでも良い。
【０００２】かかる材料は、調整可能な（ｓｅｔｔａｂ
ｌｅ）波長伝導性を示し、例えばプレート、パイプまた
は成型品の製造に適している。本発明は、さらにかかる
材料の製造方法およびその用途に関する。
ｌｅ）波長伝導性を示し、例えばプレート、パイプまた
は成型品の製造に適している。本発明は、さらにかかる
材料の製造方法およびその用途に関する。
【０００３】
【従来の技術】可視領域で透明または半透明であり、温
度破壊に対して高い安定性を示し、さらにホットプレー
ト等に利用されるガラス−セラミックス等の無機材料
は、公知であり市販されている。これらのガラス−セラ
ミックスはＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ｃ
ｒ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５およびＣｕＯ等の着色剤により着色
されている。これら着色剤酸化物の効果は、可視波長領
域における吸収である。
度破壊に対して高い安定性を示し、さらにホットプレー
ト等に利用されるガラス−セラミックス等の無機材料
は、公知であり市販されている。これらのガラス−セラ
ミックスはＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ｃ
ｒ２Ｏ３、Ｖ２Ｏ５およびＣｕＯ等の着色剤により着色
されている。これら着色剤酸化物の効果は、可視波長領
域における吸収である。
【０００４】ＤＥ−ＡＳ １，５９６，８５８は、個々
の酸化物、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＮｉＯおよびＦｅ２Ｏ
３の効果について記載し、さらにＭｎＯ２およびＣｕＯ
と結合したＣｏＯの可視波長領域における伝導（transm
ission) 性について開示されている。
の酸化物、ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＮｉＯおよびＦｅ２Ｏ
３の効果について記載し、さらにＭｎＯ２およびＣｕＯ
と結合したＣｏＯの可視波長領域における伝導（transm
ission) 性について開示されている。
【０００５】ＵＳ 特許３，７８８，８６５は、Ｃｏ
Ｏ、ＮｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３、ＭｎＯ２および
ＣｕＯから選ばれた２酸化物の組み合わせに関し、波長
４００〜７００ｎｍにおける伝導性の効果について調べ
ている。そのうえ、３酸化物、ＮｉＯ、ＣｏＯおよびＦ
ｅ２Ｏ３、さらにはＶ２Ｏ５を加えた伝導性に関する同
時効果についても記載している。測定データは与えられ
ていないが、Ｖ２Ｏ５含有ガラス−セラミックは赤外領
域において良好な透明性を示すことが指摘されている。
Ｏ、ＮｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３，Ｃｒ２Ｏ３、ＭｎＯ２および
ＣｕＯから選ばれた２酸化物の組み合わせに関し、波長
４００〜７００ｎｍにおける伝導性の効果について調べ
ている。そのうえ、３酸化物、ＮｉＯ、ＣｏＯおよびＦ
ｅ２Ｏ３、さらにはＶ２Ｏ５を加えた伝導性に関する同
時効果についても記載している。測定データは与えられ
ていないが、Ｖ２Ｏ５含有ガラス−セラミックは赤外領
域において良好な透明性を示すことが指摘されている。
【０００６】ドイツ特許 ２，４２９，５６３は、４酸
化物、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３およびＭｎＯ２の伝
導性に関する結合効果を開示している。７００〜８００
ｎｍの波長領域において、赤外伝導率はある波長では１
０％以下に低下するけれども、伝導光の色調に依存する
けども７０％以上の伝導率が観測される。
化物、ＣｏＯ、ＮｉＯ、Ｆｅ２Ｏ３およびＭｎＯ２の伝
導性に関する結合効果を開示している。７００〜８００
ｎｍの波長領域において、赤外伝導率はある波長では１
０％以下に低下するけれども、伝導光の色調に依存する
けども７０％以上の伝導率が観測される。
【０００７】ＵＳ特許 ４，２１１，８２０には、染色
効果がＴｉＯ２およびＶ２Ｏ５から得られる褐色ガラス
−セラミックについて記載されている。これらの酸化物
に加えて、Ｆｅ２Ｏ３だけが着色酸化物として少量含ま
れている。伝導性の特性は不十分であり、褐色化だけが
λ＝８００ｎｍにおいて５ｍｍ厚さの試料の伝導率を測
定することにより得られることが示されている。赤外領
域における伝導性に関するデータはないのである。
効果がＴｉＯ２およびＶ２Ｏ５から得られる褐色ガラス
−セラミックについて記載されている。これらの酸化物
に加えて、Ｆｅ２Ｏ３だけが着色酸化物として少量含ま
れている。伝導性の特性は不十分であり、褐色化だけが
λ＝８００ｎｍにおいて５ｍｍ厚さの試料の伝導率を測
定することにより得られることが示されている。赤外領
域における伝導性に関するデータはないのである。
【０００８】最後に、ＥＰ ０ ２２０ ３３３ Ｂ１
には、付随する光が黒色であり伝導光が紫または褐色か
ら暗赤色に見える高石英混合結晶を含有する透明なガラ
ス−セラミックが記載されている。特にそのガラス−セ
ラミックは、温度応力によって生じる線形膨脹係数およ
び伝導率の変化が少ないホットプレートの製造に適して
いる。赤外（ＩＲ）領域における伝導率は、８００ｎｍ
と２．６μｍの間で可変的で調整でき、そのガラス−セ
ラミック原料は次の組成を有する（重量％）：Ｓｉ
Ｏ２、６２〜６９；Ａｌ２Ｏ３、１９．５〜２２．５；
Ｌｉ２Ｏ、３．０〜４．０；Ｎａ２Ｏ、０〜１．０；Ｋ
２Ｏ、０〜１．０；ＢａＯ、１．５〜３．５；ＣａＯ、
０〜１．０；ＭｇＯ、０〜０．５；ＺｎＯ、０．５〜
２．５；ＴｉＯ２、１．５〜５．０；ＺｒＯ２、０〜
３．０；ＭｎＯ２、０〜０．４；Ｆｅ２Ｏ３、０〜０．
２；ＣｏＯ、０〜０．３；ＮｉＯ、０〜０．３；Ｖ２Ｏ
５、０〜０．８；Ｃｒ２Ｏ３、０〜０．２；Ｆ、０〜
０．２；Ｓｂ２Ｏ３、０〜２．０；Ａｓ２Ｏ３、０〜
２．０；ΣＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．５〜１．５；ΣＢａ
Ｏ＋ＣａＯ、１．５〜４．０；ΣＴｉＯ２＋ＺｒＯ２、
３．５〜５．５；およびΣＳｂ２Ｏ３＋Ａｓ２Ｏ３、
０．５〜２．５であり、着色剤はＶ２Ｏ５、ＮｉＯ、Ｃ
ｏＯ、ＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３およびＣｒ２Ｏ３からなる
群より選ばれた酸化物を混合することにより造ることが
できる。このガラスーセラミックは、このガラスーセラ
ミック出発原料から６８０〜９２０℃の温度処理により
造る。
には、付随する光が黒色であり伝導光が紫または褐色か
ら暗赤色に見える高石英混合結晶を含有する透明なガラ
ス−セラミックが記載されている。特にそのガラス−セ
ラミックは、温度応力によって生じる線形膨脹係数およ
び伝導率の変化が少ないホットプレートの製造に適して
いる。赤外（ＩＲ）領域における伝導率は、８００ｎｍ
と２．６μｍの間で可変的で調整でき、そのガラス−セ
ラミック原料は次の組成を有する（重量％）：Ｓｉ
Ｏ２、６２〜６９；Ａｌ２Ｏ３、１９．５〜２２．５；
Ｌｉ２Ｏ、３．０〜４．０；Ｎａ２Ｏ、０〜１．０；Ｋ
２Ｏ、０〜１．０；ＢａＯ、１．５〜３．５；ＣａＯ、
０〜１．０；ＭｇＯ、０〜０．５；ＺｎＯ、０．５〜
２．５；ＴｉＯ２、１．５〜５．０；ＺｒＯ２、０〜
３．０；ＭｎＯ２、０〜０．４；Ｆｅ２Ｏ３、０〜０．
２；ＣｏＯ、０〜０．３；ＮｉＯ、０〜０．３；Ｖ２Ｏ
５、０〜０．８；Ｃｒ２Ｏ３、０〜０．２；Ｆ、０〜
０．２；Ｓｂ２Ｏ３、０〜２．０；Ａｓ２Ｏ３、０〜
２．０；ΣＮａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．５〜１．５；ΣＢａ
Ｏ＋ＣａＯ、１．５〜４．０；ΣＴｉＯ２＋ＺｒＯ２、
３．５〜５．５；およびΣＳｂ２Ｏ３＋Ａｓ２Ｏ３、
０．５〜２．５であり、着色剤はＶ２Ｏ５、ＮｉＯ、Ｃ
ｏＯ、ＭｎＯ２、Ｆｅ２Ｏ３およびＣｒ２Ｏ３からなる
群より選ばれた酸化物を混合することにより造ることが
できる。このガラスーセラミックは、このガラスーセラ
ミック出発原料から６８０〜９２０℃の温度処理により
造る。
【０００９】前述の特許から明らかなように、ｈ−石英
混合結晶含有ガラスーセラミックスの可視領域における
伝導率に関する着色剤の影響は、詳細に調べられてい
る。その技術の基づいて、随伴光が不透明（黒色）であ
り伝導光が紫、褐色、から暗赤色である約４ｍｍの厚み
である加熱可能なプレートを制御された方法で製造する
ことが可能である。これらの特性に基づいて、調理板と
伴に使用されまたは同様に適用される加熱部材は、作業
中は明らかに目視でき、一方、使用しない状態では調理
板全体が目視することができない。
混合結晶含有ガラスーセラミックスの可視領域における
伝導率に関する着色剤の影響は、詳細に調べられてい
る。その技術の基づいて、随伴光が不透明（黒色）であ
り伝導光が紫、褐色、から暗赤色である約４ｍｍの厚み
である加熱可能なプレートを制御された方法で製造する
ことが可能である。これらの特性に基づいて、調理板と
伴に使用されまたは同様に適用される加熱部材は、作業
中は明らかに目視でき、一方、使用しない状態では調理
板全体が目視することができない。
【００１０】可視領域における伝導率に対して、波長
２．６μｍ以上のＩＲ領域における着色酸化物の伝導率
に及ぼす影響は、今だ詳細に研究されていないのであ
る。
２．６μｍ以上のＩＲ領域における着色酸化物の伝導率
に及ぼす影響は、今だ詳細に研究されていないのであ
る。
【００１１】ＵＳ特許 ４，０５７，４３４には、熱膨
脹係数（２０〜７００℃）が１５ｘ１０−７／Ｋ以下、
優れた化学安定性、および波長３．５μｍにおいて厚さ
４．２５ｍｍの研磨プレートの赤外伝導率が４０％以上
である不透明なガラスーセラミックが開示されている。
そのガラスーセラミックは、単結晶相として２．５〜
４．５％のＬｉ２Ｏ；０．７５〜３．５％のＺｎＯ；１
７．５〜２１％のＡｌ２Ｏ３；６５〜７１％のＳｉ
Ｏ２；および３．５〜６％（以上すべて重量％）のＴｉ
Ｏ２からなるβ−スポジュメン（spodumene ）を有し、
Ｌｉ２ＯおよびＺｒＯ２を除くアルカリ土類酸化物およ
びアルカリ酸化物を欠いている。
脹係数（２０〜７００℃）が１５ｘ１０−７／Ｋ以下、
優れた化学安定性、および波長３．５μｍにおいて厚さ
４．２５ｍｍの研磨プレートの赤外伝導率が４０％以上
である不透明なガラスーセラミックが開示されている。
そのガラスーセラミックは、単結晶相として２．５〜
４．５％のＬｉ２Ｏ；０．７５〜３．５％のＺｎＯ；１
７．５〜２１％のＡｌ２Ｏ３；６５〜７１％のＳｉ
Ｏ２；および３．５〜６％（以上すべて重量％）のＴｉ
Ｏ２からなるβ−スポジュメン（spodumene ）を有し、
Ｌｉ２ＯおよびＺｒＯ２を除くアルカリ土類酸化物およ
びアルカリ酸化物を欠いている。
【００１２】ＵＳ特許 ４，５７５，４９３には、２５
〜３００℃で測定して４．２４ｘ１０−６／℃以下の熱
膨脹係数を有し、ＺｎＯ、１５〜３０（モル％、以下同
様）；Ａｌ２Ｏ３、２〜１０；Ｔａ２Ｏ５、２〜１５；
およびＧｅＯ２、４０〜７５の組成を有する赤外透過性
ガラスが記載されている。
〜３００℃で測定して４．２４ｘ１０−６／℃以下の熱
膨脹係数を有し、ＺｎＯ、１５〜３０（モル％、以下同
様）；Ａｌ２Ｏ３、２〜１０；Ｔａ２Ｏ５、２〜１５；
およびＧｅＯ２、４０〜７５の組成を有する赤外透過性
ガラスが記載されている。
【００１３】例えば、コーニングコード９６３２（Corn
ing)等の市販のガラスーセラミックス中で、Ｖ２Ｏ５で
着色されたガラスーセラミックスが１〜２．６μｍのＩ
Ｒ領域において高い伝導率、即ち厚さ４ｍｍの試料で約
８０％を有するガラスーセラミックスが知られている。
同様に、セラン（CERAN TM) 、ハイトランス（HIGH TRA
NS TM)等のＶ２Ｏ５で着色したショットから市販されて
いるガラスーセラミック調理表面版は、３ｍｍの厚みの
試料で約８０％の高いＩＲ伝導率を示す（λ＝２．６μ
ｍまで）。
ing)等の市販のガラスーセラミックス中で、Ｖ２Ｏ５で
着色されたガラスーセラミックスが１〜２．６μｍのＩ
Ｒ領域において高い伝導率、即ち厚さ４ｍｍの試料で約
８０％を有するガラスーセラミックスが知られている。
同様に、セラン（CERAN TM) 、ハイトランス（HIGH TRA
NS TM)等のＶ２Ｏ５で着色したショットから市販されて
いるガラスーセラミック調理表面版は、３ｍｍの厚みの
試料で約８０％の高いＩＲ伝導率を示す（λ＝２．６μ
ｍまで）。
【００１４】しかし２．７〜３．３μｍの波長範囲にお
いて、現在市販されているガラスーセラミックスのＩＲ
伝導率は極めて低く、例えば厚み３ｍｍのガラスーセラ
ミック板では２．８μｍの波長において５％以下であ
る。
いて、現在市販されているガラスーセラミックスのＩＲ
伝導率は極めて低く、例えば厚み３ｍｍのガラスーセラ
ミック板では２．８μｍの波長において５％以下であ
る。
【００１５】例えばホットプレートが調理表面に使用さ
れる場合には、ＩＲ伝導率は調理システムの良好な効
率、すなわち予熱時間の短縮および低エネルギー消費、
の変位を決定する因子の１つである。開放型加熱コイル
を有する大部分の一般的な加熱部材は、２．７〜３．３
μｍにおいて最大放出量の８０〜９５％で放出する。し
かし、正確にはこの範囲は現在市販されている材料では
吸収される。従って、放出エネルギーはパン（pan)の底
で直接的に利用されるというよりはむしろ加熱調理表面
の熱伝導または２次放熱の手段により利用される。
れる場合には、ＩＲ伝導率は調理システムの良好な効
率、すなわち予熱時間の短縮および低エネルギー消費、
の変位を決定する因子の１つである。開放型加熱コイル
を有する大部分の一般的な加熱部材は、２．７〜３．３
μｍにおいて最大放出量の８０〜９５％で放出する。し
かし、正確にはこの範囲は現在市販されている材料では
吸収される。従って、放出エネルギーはパン（pan)の底
で直接的に利用されるというよりはむしろ加熱調理表面
の熱伝導または２次放熱の手段により利用される。
【００１６】ドイツ特許 ２，４３７，０２６またはシ
ョット情報２／８４（Schott Information 2/84)には、
調理用品表面の形状変更のため調理システムを最適化す
ることは困難であるが、かかる最適化は調理表面のＩＲ
伝導率を変化させることにより、実質的な部分におい
て、可能であることが示されている。
ョット情報２／８４（Schott Information 2/84)には、
調理用品表面の形状変更のため調理システムを最適化す
ることは困難であるが、かかる最適化は調理表面のＩＲ
伝導率を変化させることにより、実質的な部分におい
て、可能であることが示されている。
【００１７】同様に、ガラスーセラミック用の加熱ユニ
ットも開発されている。例えば、現在とは異なる放熱特
性を有する将来の加熱システム、すなわち、加熱ユニッ
トおよび／または異なる放出温度および／または特性の
種々の加熱ゾーンから構成されたもの、を想像すること
ができる。
ットも開発されている。例えば、現在とは異なる放熱特
性を有する将来の加熱システム、すなわち、加熱ユニッ
トおよび／または異なる放出温度および／または特性の
種々の加熱ゾーンから構成されたもの、を想像すること
ができる。
【００１８】これらの加熱システムと伴に最適化された
ガラス−セラミックの開発も考慮されるべきである。
ガラス−セラミックの開発も考慮されるべきである。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、加熱
部材から調理用品へのエネルギー移動が改良された調理
システムを提供することにある。エネルギー移動は曲げ
られたパン底のため熱散逸に関して好ましくない特性を
有する調理用品の場合に特に改良されるべきであり、取
扱い特性は良好な調理用品の場合よりも実質的に好まし
くないことはないのである。同時に、調理用表面のその
他の必須な特徴は保持されるべきである。可視範囲にお
いて、伝導率はスイッチを入れた加熱部材が低出力、し
かし、高出力においてさえも目視できるようにセットさ
れているので、看者の目は光の放出およびぎらぎらから
保護される。プレートは、付随する光が非加熱帯におい
て不透明になるように、光を吸収すべきである。同様
に、従来満足できた材料組成の変更はできるかぎり少な
くすべきである。
部材から調理用品へのエネルギー移動が改良された調理
システムを提供することにある。エネルギー移動は曲げ
られたパン底のため熱散逸に関して好ましくない特性を
有する調理用品の場合に特に改良されるべきであり、取
扱い特性は良好な調理用品の場合よりも実質的に好まし
くないことはないのである。同時に、調理用表面のその
他の必須な特徴は保持されるべきである。可視範囲にお
いて、伝導率はスイッチを入れた加熱部材が低出力、し
かし、高出力においてさえも目視できるようにセットさ
れているので、看者の目は光の放出およびぎらぎらから
保護される。プレートは、付随する光が非加熱帯におい
て不透明になるように、光を吸収すべきである。同様
に、従来満足できた材料組成の変更はできるかぎり少な
くすべきである。
【００２０】ＩＲ領域における伝導率を多様化するため
に、利用される着色酸化物の組み合わせは従来知られて
いるものより拡大すべきである；さもなければ約６００
ｎｍまでの可視領域における強い吸収およびＩＲ領域に
おける多様な吸収を同時に得ることは不可能である。２
種類の着色酸化物、Ｃｒ２Ｏ３およびＶ２Ｏ５の中で、
ｈ−石英混合結晶含有ガラス−セラミックスにおける約
６００ｎｍまでの強力な吸収の場合および約１０００ｎ
ｍから始まる透明性が極めて良好な場合には、例えばＣ
ｒ２Ｏ３を非常に少量用いることができる。なぜなら
ば、失透温度上限はさらに高められ、結合ガラスは加工
することができないからである。
に、利用される着色酸化物の組み合わせは従来知られて
いるものより拡大すべきである；さもなければ約６００
ｎｍまでの可視領域における強い吸収およびＩＲ領域に
おける多様な吸収を同時に得ることは不可能である。２
種類の着色酸化物、Ｃｒ２Ｏ３およびＶ２Ｏ５の中で、
ｈ−石英混合結晶含有ガラス−セラミックスにおける約
６００ｎｍまでの強力な吸収の場合および約１０００ｎ
ｍから始まる透明性が極めて良好な場合には、例えばＣ
ｒ２Ｏ３を非常に少量用いることができる。なぜなら
ば、失透温度上限はさらに高められ、結合ガラスは加工
することができないからである。
【００２１】しかし、このことは着色酸化物の組み合わ
せによってＩＲ伝導率を調節するなかで生ずる多くの困
難性の単なる１つであり、その際、調節性はさらに波長
範囲２．６μｍまでに限定される。
せによってＩＲ伝導率を調節するなかで生ずる多くの困
難性の単なる１つであり、その際、調節性はさらに波長
範囲２．６μｍまでに限定される。
【００２２】本発明のその他の目的は、無機材料、例え
ば可視領域における着色用の着色剤の存在により近赤外
（６００ｎｍ〜２μｍ）領域における伝導率が低い、全
伝導率が改良されたガラスーセラミックスを提供するこ
とにある。
ば可視領域における着色用の着色剤の存在により近赤外
（６００ｎｍ〜２μｍ）領域における伝導率が低い、全
伝導率が改良されたガラスーセラミックスを提供するこ
とにある。
【００２３】また、本発明の目的は、無機材料、特にｈ
−石英および／またはキータイト混合結晶を含有し、例
えば調理用表面材料、調理用品または飛行機のＩＲ検出
機用ドームとして使用される場合に生ずる温度／時間応
力に関する極端な条件の基でも十分な安定性を有するガ
ラスーセラミックを提供することにある。
−石英および／またはキータイト混合結晶を含有し、例
えば調理用表面材料、調理用品または飛行機のＩＲ検出
機用ドームとして使用される場合に生ずる温度／時間応
力に関する極端な条件の基でも十分な安定性を有するガ
ラスーセラミックを提供することにある。
【００２４】さらに、本発明の目的は、上記無機材料を
製造する方法を提供することにある。 上記ガラスーセ
ラミックスに変換する場合の安定性は、各種の方法で具
体的に述べられる。ドイツ特許２，４２９，５６３で
は、セラミック化（ceraming)プログラムが反復して実
施され、変換サイクル数に依存するけれども、線形熱膨
脹係数の変化は２０〜７００℃（α２０／７００）の温
度範囲で測定される。前記「セラミック化」は、混合結
晶をガラス中で形成し、ガラスーセラミックを調製する
方法を意味する。
製造する方法を提供することにある。 上記ガラスーセ
ラミックスに変換する場合の安定性は、各種の方法で具
体的に述べられる。ドイツ特許２，４２９，５６３で
は、セラミック化（ceraming)プログラムが反復して実
施され、変換サイクル数に依存するけれども、線形熱膨
脹係数の変化は２０〜７００℃（α２０／７００）の温
度範囲で測定される。前記「セラミック化」は、混合結
晶をガラス中で形成し、ガラスーセラミックを調製する
方法を意味する。
【００２５】明細書および添付の請求の範囲をさらに検
討すると、当業者には本発明の目的および効果がさらに
明らかとなる。
討すると、当業者には本発明の目的および効果がさらに
明らかとなる。
【００２６】驚くべきことに本発明の目的は、約２．７
〜３．３μｍの波長領域において調整可能であり、固定
できるＩＲ伝導率および水含有量が０．０３ モル／リ
ットル以下である無機材料により達成されることが見出
だされた。新規材料の２．７〜３．３μｍ波長領域にお
ける伝導率は、既知の材料と比較して非常に増加してい
る。既知の材料は、１．０〜２．５μｍのスペクトル領
域においてのみ有効であった。
〜３．３μｍの波長領域において調整可能であり、固定
できるＩＲ伝導率および水含有量が０．０３ モル／リ
ットル以下である無機材料により達成されることが見出
だされた。新規材料の２．７〜３．３μｍ波長領域にお
ける伝導率は、既知の材料と比較して非常に増加してい
る。既知の材料は、１．０〜２．５μｍのスペクトル領
域においてのみ有効であった。
【００２７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
ように、着色性酸化物とドープする核剤の対応する選択
および広い範囲からセラミックパラメーターの選択によ
り、可視および近赤外スペクトル領域において伝導率を
固定することも可能である。同様に、ガラスーセラミッ
クの水含量を調節することにより約２．５μｍ以上のス
ペクトル領域における伝導率を測定し固定することも可
能である。このスペクトル領域における高伝導率は、ガ
ラスーセラミックスに適用する場合に有効なことが多
い。このように、例えば、調理用に利用されている従来
の加熱部材の熱放出率は、本発明の新規な材料を調理用
表面材料として使用することにより４０％増加させるこ
とができる。
ように、着色性酸化物とドープする核剤の対応する選択
および広い範囲からセラミックパラメーターの選択によ
り、可視および近赤外スペクトル領域において伝導率を
固定することも可能である。同様に、ガラスーセラミッ
クの水含量を調節することにより約２．５μｍ以上のス
ペクトル領域における伝導率を測定し固定することも可
能である。このスペクトル領域における高伝導率は、ガ
ラスーセラミックスに適用する場合に有効なことが多
い。このように、例えば、調理用に利用されている従来
の加熱部材の熱放出率は、本発明の新規な材料を調理用
表面材料として使用することにより４０％増加させるこ
とができる。
【００２８】本願の発明は次のように特定される。
【００２９】（１） 次の組成（重量％）：Ｌｉ２Ｏ、
２．５〜６．０；Ｎａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜
４．０；Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、
０〜３．０；ＺｎＯ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．
５；ＣａＯ、０〜１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２
Ｏ３、１８〜２８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、
１．０〜７．０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋Ｚ
ｒＯ２、１．０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０
を有し、得られる無機材料が０．０３モル／リットル以
下の含水量を示し、２．７〜３．３μｍの波長領域にお
いて高含水量の材料と比較して高い伝導率を示すことを
特徴とする−５０℃〜７００℃の温度範囲において平均
縦方向熱膨脹係数、α、−１ｘ１０−６〜＋２ｘ１０
−６Ｋ−１を有する透明または半透明な無機材料。
２．５〜６．０；Ｎａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜
４．０；Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、
０〜３．０；ＺｎＯ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．
５；ＣａＯ、０〜１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２
Ｏ３、１８〜２８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、
１．０〜７．０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋Ｚ
ｒＯ２、１．０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０
を有し、得られる無機材料が０．０３モル／リットル以
下の含水量を示し、２．７〜３．３μｍの波長領域にお
いて高含水量の材料と比較して高い伝導率を示すことを
特徴とする−５０℃〜７００℃の温度範囲において平均
縦方向熱膨脹係数、α、−１ｘ１０−６〜＋２ｘ１０
−６Ｋ−１を有する透明または半透明な無機材料。
【００３０】また、前記無機材料は、必要により着色剤
（重量％）：Ｖ２Ｏ５、０〜２．０；Ｃｒ２Ｏ３、０〜
２．０；ＭｎＯ、０〜２．０；Ｆｅ２Ｏ３、０〜２．
０；ＣｏＯ、０〜２．０；およびＮｉＯ、０〜２．０、
さらに必要により、ガラス−セラミックス用の必須結晶
相としての高石英および／またはキータイト（ｋｅａｔ
ｉｔｅ）混合結晶、および必要により、従来の清澄剤を
含んでいてもよい。
（重量％）：Ｖ２Ｏ５、０〜２．０；Ｃｒ２Ｏ３、０〜
２．０；ＭｎＯ、０〜２．０；Ｆｅ２Ｏ３、０〜２．
０；ＣｏＯ、０〜２．０；およびＮｉＯ、０〜２．０、
さらに必要により、ガラス−セラミックス用の必須結晶
相としての高石英および／またはキータイト（ｋｅａｔ
ｉｔｅ）混合結晶、および必要により、従来の清澄剤を
含んでいてもよい。
【００３１】上記含水量は、好ましくは０．０００１〜
０．０３モル／リットルの範囲である。
０．０３モル／リットルの範囲である。
【００３２】（２） 前記含水量が０．０１モル／リッ
トル以下である前記１に記載の無機材料。
トル以下である前記１に記載の無機材料。
【００３３】（３） 前記含水量が０．００５モル／リ
ットル以下である前記１に記載の無機材料。
ットル以下である前記１に記載の無機材料。
【００３４】（４） 厚み３ｍｍの前記材料の伝導率が
２７００〜３３００ｎｍの全波長領域において１０％以
上である前記１に記載の無機材料。
２７００〜３３００ｎｍの全波長領域において１０％以
上である前記１に記載の無機材料。
【００３５】（５） 厚み３ｍｍの前記材料の伝導率が
２７００〜３３００ｎｍの全波長領域において４０％以
上である前記２に記載の無機材料。
２７００〜３３００ｎｍの全波長領域において４０％以
上である前記２に記載の無機材料。
【００３６】（６） 厚み３ｍｍの前記材料の伝導率が
２７００〜３３００ｎｍの全波長領域において６０％以
上である前記２に記載の無機材料。
２７００〜３３００ｎｍの全波長領域において６０％以
上である前記２に記載の無機材料。
【００３７】（７） 前記材料が必須結晶相として高石
英および／またはキータイト混合結晶を有するガラスー
セラミックである前記１に記載の無機材料。
英および／またはキータイト混合結晶を有するガラスー
セラミックである前記１に記載の無機材料。
【００３８】（８） 前記清澄剤がＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２
Ｏ３、ＮａＣｌ、Ｃｅ２Ｏ３およびそれらの混合物から
なる群より選ばれた少なくとも１つである前記１に記載
の無機材料。
Ｏ３、ＮａＣｌ、Ｃｅ２Ｏ３およびそれらの混合物から
なる群より選ばれた少なくとも１つである前記１に記載
の無機材料。
【００３９】（９） 無機材料を造る成分の混合物を調
製し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材料
を得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含水
量を前記溶融物を減圧状態にすることにより調整するこ
とを特徴とする前記１に記載の無機材料の製造方法。
製し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材料
を得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含水
量を前記溶融物を減圧状態にすることにより調整するこ
とを特徴とする前記１に記載の無機材料の製造方法。
【００４０】（１０） 前記減圧度が５００ｍｂａｒ以
下である前記９に記載の方法。
下である前記９に記載の方法。
【００４１】（１１） さらに前記混合物にハロゲン化
物の形態であるＣｌ、Ｆ、ＢｒおよびＩよりなる群から
選ばれる少なくとも１つのハロゲンを０．１〜２．５重
量％加える前記９に記載の方法。
物の形態であるＣｌ、Ｆ、ＢｒおよびＩよりなる群から
選ばれる少なくとも１つのハロゲンを０．１〜２．５重
量％加える前記９に記載の方法。
【００４２】（１２） 無機材料を造る成分の混合物を
調製し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材
料を得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含
水量を乾燥ガスを溶融物に導入することにより調整する
ことを特徴とする前記１に記載の無機材料の製造方法。
調製し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材
料を得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含
水量を乾燥ガスを溶融物に導入することにより調整する
ことを特徴とする前記１に記載の無機材料の製造方法。
【００４３】（１３） 前記乾燥ガスを前記溶融物の中
にバブリングさせる前記１２に記載の方法。
にバブリングさせる前記１２に記載の方法。
【００４４】（１４） 前記乾燥ガスの露点が−３０℃
以下である前記１２に記載の方法。 （１５） 前記乾燥ガスの露点が−７０℃以下である前
記１２に記載の方法。 （１６） 前記乾燥ガスがＣＯ２、Ｎ２、Ｏ２、ＮＯｘ
および希ガスからなる群より選ばれた少なく１つである
前記１２に記載の方法。
以下である前記１２に記載の方法。 （１５） 前記乾燥ガスの露点が−７０℃以下である前
記１２に記載の方法。 （１６） 前記乾燥ガスがＣＯ２、Ｎ２、Ｏ２、ＮＯｘ
および希ガスからなる群より選ばれた少なく１つである
前記１２に記載の方法。
【００４５】（１７） 前記乾燥ガスがＨｅおよび／ま
たはＯ２である前記１２に記載の方法。
たはＯ２である前記１２に記載の方法。
【００４６】（１８） 前記２種類以上のガスが同時に
および／または時間および場所に関して別々に前記溶融
物に導入される前記１２に記載の方法。
および／または時間および場所に関して別々に前記溶融
物に導入される前記１２に記載の方法。
【００４７】（１９） さらにハロゲン化物の形態のＣ
ｌ、Ｆ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれた少なくと
も１つを０．１〜２．５重量％前記混合物に加える前記
１２に記載の方法。
ｌ、Ｆ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれた少なくと
も１つを０．１〜２．５重量％前記混合物に加える前記
１２に記載の方法。
【００４８】（２０） 無機材料を造る成分の混合物を
調製し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材
料を得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含
水量を０．０１〜２重量％の純粋、元素状、および／ま
たはカーバイドおよび／または有機炭素化合物の形態の
炭素を前記混合物に加えることにより調整することを特
徴とする前記１に記載の無機材料の製造方法。
調製し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材
料を得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含
水量を０．０１〜２重量％の純粋、元素状、および／ま
たはカーバイドおよび／または有機炭素化合物の形態の
炭素を前記混合物に加えることにより調整することを特
徴とする前記１に記載の無機材料の製造方法。
【００４９】（２１） 前記１に記載の無機材料を含む
調理またはグリル用の加熱表面部材。
調理またはグリル用の加熱表面部材。
【００５０】
【作用】従来のガラスーセラミック組成物の代表的な水
含量は、０．０４重量％（＝０．０６ モル／リット
ル）またはそれ以上である。
含量は、０．０４重量％（＝０．０６ モル／リット
ル）またはそれ以上である。
【００５１】ガラスーセラミック等の無機材料の水含量
は、例えば、次の手順によって、厚さ３ｍｍの試料を赤
外スペクトロメーター（Perkin-Elemer Model 682)を用
いて、２．５〜５．０μｍの波長領域伝導率により決定
される（図１〜７を参照のこと）：伝導率の測定から、
Ｔ値は約２．８μｍにおける水帯で決定され、吸光度
（Ｅ）は次式から計算される： Ｅ＝１／ｄ ｘ ｌｏｇ１０ １／Ｔｉ （ｃｍ−１） （ただし、式中、ｄは試料の厚み（ｃｍ）、Ｔｉは真の
伝導率を表す）。 Ｔｉは次式により計算される： Ｔｉ＝Ｔ／Ｐ ［ただし、式中、Ｐは反射因子＝２ｎ／ｎ２＋１（ただ
し、ｎは材料の屈折率である）を表す。］。 水含量
（Ｃ）は、次式から計算される： Ｃ＝Ｅ／ε （ｍｏｌ／ｌ） （ただし、デケード（decadic)吸光度係数、ε、（１
ｘ ｍｏｌ−１ ｘ ｃｍ−１）は、例えばフランツ、
シュルツ（Gastechn. Berichte [Glass Technology Rep
orts] 36,1963,p.350;H.Franz, Glastechn. Berichte 3
8, 1965,p. 57; H. Franz, J. Am. Ceram. Soc. 49, 19
66, p.475)の研究から誘導できる。）。
は、例えば、次の手順によって、厚さ３ｍｍの試料を赤
外スペクトロメーター（Perkin-Elemer Model 682)を用
いて、２．５〜５．０μｍの波長領域伝導率により決定
される（図１〜７を参照のこと）：伝導率の測定から、
Ｔ値は約２．８μｍにおける水帯で決定され、吸光度
（Ｅ）は次式から計算される： Ｅ＝１／ｄ ｘ ｌｏｇ１０ １／Ｔｉ （ｃｍ−１） （ただし、式中、ｄは試料の厚み（ｃｍ）、Ｔｉは真の
伝導率を表す）。 Ｔｉは次式により計算される： Ｔｉ＝Ｔ／Ｐ ［ただし、式中、Ｐは反射因子＝２ｎ／ｎ２＋１（ただ
し、ｎは材料の屈折率である）を表す。］。 水含量
（Ｃ）は、次式から計算される： Ｃ＝Ｅ／ε （ｍｏｌ／ｌ） （ただし、デケード（decadic)吸光度係数、ε、（１
ｘ ｍｏｌ−１ ｘ ｃｍ−１）は、例えばフランツ、
シュルツ（Gastechn. Berichte [Glass Technology Rep
orts] 36,1963,p.350;H.Franz, Glastechn. Berichte 3
8, 1965,p. 57; H. Franz, J. Am. Ceram. Soc. 49, 19
66, p.475)の研究から誘導できる。）。
【００５２】必須結晶相として高石英混合結晶を有する
Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２に基づくガラスーセラ
ミックスが広範な温度に渡り低熱膨脹を示すことは知ら
れている。このガラスーセラミックを製造するために、
高石英混合結晶形成に必要な主要な成分Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ
２Ｏ３、およびＳｉＯ２に加えて、その後の結晶化用の
核剤であるＴｉＯ２および必要によりＺｒＯ２を含有す
るガラスを最初に溶融する。しばしば、ＧｅＯ２、Ｍｇ
Ｏ、ＺｎＯおよびＰ２Ｏ５も同様に加える。ＧｅＯ
２は、ＳｉＯ２と同様にガラス形成方法を改良する。Ｌ
ｉ２Ｏ、ＭｇＯ、ＺｎＯおよびＰ２Ｏ５の相対的な濃度
が変わる場合には、ガラスーセラミックの熱膨脹挙動は
制御し得る。これらの酸化物を添加することにより、低
熱膨脹が観察される温度範囲を拡大または制限すること
ができる。Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏ、さらにＢａＯ、Ｃａ
ＯおよびＳｒＯを加えると、ガラスの溶融性を改良でき
る。その後ガラスは、溶融物から直接に、例えば回転も
しくは引き抜きによりプレートに、または対応する形状
の金型を用いて引き抜くことによりチューブおよび棒に
形成される。第２温度ステップにおいて、いわゆるセラ
ミック化、高石英混合結晶はガラス中で形成され、熱膨
脹は零付近に固定される。ガラス中の核剤ＴｉＯ２およ
びＺｒＯ２の含量は調整され、セラミック化パラメータ
ーが好適な結晶密度を得るように選択されるので、この
方法で透明度の高いガラスーセラミックスが製造し得
る。Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎ、ＣｒおよびＶ等の着色成
分を添加すると、所定の透明度の変化をセットでき、そ
の結果ガラスーセラミックスの色相も調整できる。ガラ
スセラミック特性を検討すると、例えば、試料を４℃／
分で７２０℃に加熱し、その温度で１時間保持し、２℃
／分で８８０℃まで９０分間で加熱し、最後に加熱炉の
電源を切って室温まで冷却する。
Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２に基づくガラスーセラ
ミックスが広範な温度に渡り低熱膨脹を示すことは知ら
れている。このガラスーセラミックを製造するために、
高石英混合結晶形成に必要な主要な成分Ｌｉ２Ｏ、Ａｌ
２Ｏ３、およびＳｉＯ２に加えて、その後の結晶化用の
核剤であるＴｉＯ２および必要によりＺｒＯ２を含有す
るガラスを最初に溶融する。しばしば、ＧｅＯ２、Ｍｇ
Ｏ、ＺｎＯおよびＰ２Ｏ５も同様に加える。ＧｅＯ
２は、ＳｉＯ２と同様にガラス形成方法を改良する。Ｌ
ｉ２Ｏ、ＭｇＯ、ＺｎＯおよびＰ２Ｏ５の相対的な濃度
が変わる場合には、ガラスーセラミックの熱膨脹挙動は
制御し得る。これらの酸化物を添加することにより、低
熱膨脹が観察される温度範囲を拡大または制限すること
ができる。Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏ、さらにＢａＯ、Ｃａ
ＯおよびＳｒＯを加えると、ガラスの溶融性を改良でき
る。その後ガラスは、溶融物から直接に、例えば回転も
しくは引き抜きによりプレートに、または対応する形状
の金型を用いて引き抜くことによりチューブおよび棒に
形成される。第２温度ステップにおいて、いわゆるセラ
ミック化、高石英混合結晶はガラス中で形成され、熱膨
脹は零付近に固定される。ガラス中の核剤ＴｉＯ２およ
びＺｒＯ２の含量は調整され、セラミック化パラメータ
ーが好適な結晶密度を得るように選択されるので、この
方法で透明度の高いガラスーセラミックスが製造し得
る。Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎ、ＣｒおよびＶ等の着色成
分を添加すると、所定の透明度の変化をセットでき、そ
の結果ガラスーセラミックスの色相も調整できる。ガラ
スセラミック特性を検討すると、例えば、試料を４℃／
分で７２０℃に加熱し、その温度で１時間保持し、２℃
／分で８８０℃まで９０分間で加熱し、最後に加熱炉の
電源を切って室温まで冷却する。
【００５３】かかるガラスーセラミックスは、温度破壊
に対する高い安定性および／または温度反復において寸
法安定性が要求される領域において広範に利用される。
に対する高い安定性および／または温度反復において寸
法安定性が要求される領域において広範に利用される。
【００５４】好ましい実施態様において、ガラスーセラ
ミックにおける水含有量が少ないことは２７００〜３３
００ｎｍの波長領域において高伝導率を誘導するので、
本発明のガラスーセラミックの水含量は０．０１モル／
リットル以下、好ましくは０．００５ モル／リットル
以下の値にセットされる。例えば、４０％以上、好まし
くは６０％以上の伝導率が得られる（厚さ３ｍｍのガラ
スに対して）。
ミックにおける水含有量が少ないことは２７００〜３３
００ｎｍの波長領域において高伝導率を誘導するので、
本発明のガラスーセラミックの水含量は０．０１モル／
リットル以下、好ましくは０．００５ モル／リットル
以下の値にセットされる。例えば、４０％以上、好まし
くは６０％以上の伝導率が得られる（厚さ３ｍｍのガラ
スに対して）。
【００５５】次の方法は、約２．５〜３．５μｍの波長
領域λにおいて吸収するガラスにおいてＯＨイオンを減
少および広く除去、即ち水含量を減少させることに適し
ている： １．化学的脱水反応 この方法において、ガラスネットワークに強く結合して
いるＯＨ基（遊離ＯＨ基および水素橋結合）は、容易に
蒸発できる化合物に変換する。ＵＳ特許３，５３１，２
０５参照のこと。
領域λにおいて吸収するガラスにおいてＯＨイオンを減
少および広く除去、即ち水含量を減少させることに適し
ている： １．化学的脱水反応 この方法において、ガラスネットワークに強く結合して
いるＯＨ基（遊離ＯＨ基および水素橋結合）は、容易に
蒸発できる化合物に変換する。ＵＳ特許３，５３１，２
０５参照のこと。
【００５６】この様に脱水反応は、例えばＣｌ、Ｆ、Ｂ
ｒ、またはＩ等のハロゲン化物を混合物に添加し、また
はハロゲン化物をガラスに組み込むことにより達成でき
る。例えば、脱水反応は次式に基づいて生ずる：
ｒ、またはＩ等のハロゲン化物を混合物に添加し、また
はハロゲン化物をガラスに組み込むことにより達成でき
る。例えば、脱水反応は次式に基づいて生ずる：
【００５７】
【化１】
【００５８】ガス状のハロゲンを導入することは可能で
あるが、技術的に困難である。
あるが、技術的に困難である。
【００５９】化学脱水反応のその他の方法は、炭素、例
えばグラファイトのような純粋に元素状炭素；カーバイ
ド；金属オキザレートのような有機炭素化合物を添加す
ることである。それにより、ＯＨ基はメタン等の易揮発
性有機化合物の形成に分配される。炭素は、混合物（bl
end)の０．０１〜２．０重量％加えることが好ましい。
えばグラファイトのような純粋に元素状炭素；カーバイ
ド；金属オキザレートのような有機炭素化合物を添加す
ることである。それにより、ＯＨ基はメタン等の易揮発
性有機化合物の形成に分配される。炭素は、混合物（bl
end)の０．０１〜２．０重量％加えることが好ましい。
【００６０】しかし、この様な強い還元性条件のため、
この方法は実質的に多価成分を欠き、さらに特に元素状
態に易還元性成分を実質的に含まないガラスの溶融にだ
けに利用される。
この方法は実質的に多価成分を欠き、さらに特に元素状
態に易還元性成分を実質的に含まないガラスの溶融にだ
けに利用される。
【００６１】２．物理的脱水 この方法では、溶融物上のＨ２Ｏ分圧は、溶融物中のＯ
Ｈ含量が拡散現象によって減少する程度まで減少する。
例えば、英国特許９４８，３０１を参照のこと。
Ｈ含量が拡散現象によって減少する程度まで減少する。
例えば、英国特許９４８，３０１を参照のこと。
【００６２】このため、例えば炉の空間を排気すること
により溶融物の上部を減圧にする。好ましくは、５００
ｍｂａｒ以下に減圧される。しかし、拡散現象が実質
的に溶融物の表面だけで生じる限り、この方法を利用し
て連続的に処理するために極めて高価な装置を必要とす
る、即ち、十分に脱水するために溶融物中で上昇流が得
られなければならない。
により溶融物の上部を減圧にする。好ましくは、５００
ｍｂａｒ以下に減圧される。しかし、拡散現象が実質
的に溶融物の表面だけで生じる限り、この方法を利用し
て連続的に処理するために極めて高価な装置を必要とす
る、即ち、十分に脱水するために溶融物中で上昇流が得
られなければならない。
【００６３】真空法のその他の問題は、例えばアルカリ
酸化物等の低蒸気圧を示すガラス成分は少なくとも部分
的に蒸発し、それによって制御できない方法でガラス組
成を変更することにある。
酸化物等の低蒸気圧を示すガラス成分は少なくとも部分
的に蒸発し、それによって制御できない方法でガラス組
成を変更することにある。
【００６４】従って、とにかく脱水目的で溶融物に乾燥
ガスを通過させることが効果的である。例えば、ガスを
好ましい手段によって溶融物中に泡立たせることであ
る。
ガスを通過させることが効果的である。例えば、ガスを
好ましい手段によって溶融物中に泡立たせることであ
る。
【００６５】例えば、極めて低Ｈ２Ｏ分圧を示す泡中に
ＯＨイオンを拡散させることにより、溶融物は通常のコ
ストで有効に脱水できる。その際に、Ｈｅ、ＣＯ２、Ｏ
２、Ｎ２、ＮＯｘ、および／または希ガス、特にＨｅお
よび／またはＯ２等の溶融物から容易に除去でき、か
つ、溶融成分と反応しないガスを使用するべきである。
ＯＨイオンを拡散させることにより、溶融物は通常のコ
ストで有効に脱水できる。その際に、Ｈｅ、ＣＯ２、Ｏ
２、Ｎ２、ＮＯｘ、および／または希ガス、特にＨｅお
よび／またはＯ２等の溶融物から容易に除去でき、か
つ、溶融成分と反応しないガスを使用するべきである。
【００６６】３．化学的および物理的な脱水の組み合わ
せ 例えば、ハロゲン化物をドープした溶融物に乾燥ガスを
導入する方法は、赤外スペクトル領域のＯＨ吸収がかな
り減少するまで溶融物から脱水させるために特に効果的
でかつ経済的な方法である。
せ 例えば、ハロゲン化物をドープした溶融物に乾燥ガスを
導入する方法は、赤外スペクトル領域のＯＨ吸収がかな
り減少するまで溶融物から脱水させるために特に効果的
でかつ経済的な方法である。
【００６７】さらに推敲することなく、当業者は前記に
基づき、本発明を最高に利用することができると信じら
れる。次に記載の好ましい実施態様は、単なる例示であ
っていかなる方法によっても開示の部分を限定するもの
ではないのである。
基づき、本発明を最高に利用することができると信じら
れる。次に記載の好ましい実施態様は、単なる例示であ
っていかなる方法によっても開示の部分を限定するもの
ではないのである。
【００６８】前述および後述の実施例において、すべて
の温度表示は未補正の℃（Celsiusdegree) を示し、特
に指示がなければすべての部およびパーセントは重量部
である。
の温度表示は未補正の℃（Celsiusdegree) を示し、特
に指示がなければすべての部およびパーセントは重量部
である。
【００６９】ここに引用されている全ての出願、特許お
よび刊行物、および対応するドイツＰ４３ ２１ ３７
３．１（１９９３年６月２６日出願）の全ての開示はこ
こに引用されている。
よび刊行物、および対応するドイツＰ４３ ２１ ３７
３．１（１９９３年６月２６日出願）の全ての開示はこ
こに引用されている。
【００７０】
【実施例】以下、本発明の実施例に基づき本発明をより
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００７１】実施例１ 次の組成（重量％）：ＳｉＯ２、６４；Ａｌ２Ｏ３、２
２．１；Ｌｉ２Ｏ、３．５；Ｎａ２Ｏ、０．６；Ｂａ
Ｏ、２．０；ＺｎＯ、１．７；ＭｇＯ、０．５；ＴｉＯ
２、２．４；ＺｒＯ２、１．６；Ｓｂ２Ｏ３、１．３お
よびＶ２Ｏ５、０．３からなる結晶性ガラス系Ｌｉ２Ｏ
−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２からガラス−セラミックの製造
するための基礎ガラスは、５リットルの白金るつぼ中に
おいて１５８０℃で従来の出発原料から溶融した。
２．１；Ｌｉ２Ｏ、３．５；Ｎａ２Ｏ、０．６；Ｂａ
Ｏ、２．０；ＺｎＯ、１．７；ＭｇＯ、０．５；ＴｉＯ
２、２．４；ＺｒＯ２、１．６；Ｓｂ２Ｏ３、１．３お
よびＶ２Ｏ５、０．３からなる結晶性ガラス系Ｌｉ２Ｏ
−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２からガラス−セラミックの製造
するための基礎ガラスは、５リットルの白金るつぼ中に
おいて１５８０℃で従来の出発原料から溶融した。
【００７２】溶融段階において、１分当たり２．５リッ
トルのＣＯ２ガスを数個のエジェクションノズルを有す
る入り口パイプから溶融物に導入した。
トルのＣＯ２ガスを数個のエジェクションノズルを有す
る入り口パイプから溶融物に導入した。
【００７３】使用ガスは、予めシリカゲルおよびモレキ
ュラーシーブカラムで乾燥した（露点約−７０℃）。
ュラーシーブカラムで乾燥した（露点約−７０℃）。
【００７４】混合物を完全に溶融した後、１分当たり５
リットルのＣＯ２ガスをさらに２時間溶融物に流した。
リットルのＣＯ２ガスをさらに２時間溶融物に流した。
【００７５】その後、Ｏ２は３０分間 ５ リットル／
分の割合で導入した、もちろんその酸素もあらかじめ乾
燥してある。
分の割合で導入した、もちろんその酸素もあらかじめ乾
燥してある。
【００７６】さらに、溶融物は１５２０〜１６００℃で
３時間清澄化された。
３時間清澄化された。
【００７７】もし条件的にるつぼを被覆することが可能
であれば、炉空間および／または溶融物のガスパージが
行われる。
であれば、炉空間および／または溶融物のガスパージが
行われる。
【００７８】実施例において、溶融物の処理の間中溶融
物に乾燥アルゴンを８ リットル／分の割合で流した。
物に乾燥アルゴンを８ リットル／分の割合で流した。
【００７９】清澄後、溶融物を均質化し、金型に流し込
み、７℃／時間の割合で冷却した。冷却したガラスの塊
の一部を、次のように、セラミックとした：ガラスの塊
を４℃／分の割合で７２０℃に加熱し、１時間その温度
で保持し、２℃／分の割合で８８０℃に加熱し、９０分
間その温度で保持し、最後に炉の電源を切り室温まで冷
却した。
み、７℃／時間の割合で冷却した。冷却したガラスの塊
の一部を、次のように、セラミックとした：ガラスの塊
を４℃／分の割合で７２０℃に加熱し、１時間その温度
で保持し、２℃／分の割合で８８０℃に加熱し、９０分
間その温度で保持し、最後に炉の電源を切り室温まで冷
却した。
【００８０】図１は冷却したガラスの伝導率を；図２は
セラミック化した目的の試料の伝導率を示す。試料の厚
みは、両者ともに３ｍｍであった。
セラミック化した目的の試料の伝導率を示す。試料の厚
みは、両者ともに３ｍｍであった。
【００８１】なお、ガラスーセラミックの水含量は、
０．００４モル／リットルであった。 実施例２ 次の組成（重量％）：ＳｉＯ２、６３；Ａｌ２Ｏ３、２
３．３；Ｌｉ２Ｏ、３．７；Ｎａ２Ｏ、０．５；Ｍｇ
Ｏ、０．５；ＺｎＯ、１．６；ＢａＯ、２．０；ＴｉＯ
２、２．４；ＺｒＯ２、１．７；Ｖ２Ｏ５、０．３およ
びＮａＣｌ、１．０からなるハロゲン化物含有ガラス
を、実施例１のように、白金るつぼ中で大気圧下１５８
０℃で溶融した。
０．００４モル／リットルであった。 実施例２ 次の組成（重量％）：ＳｉＯ２、６３；Ａｌ２Ｏ３、２
３．３；Ｌｉ２Ｏ、３．７；Ｎａ２Ｏ、０．５；Ｍｇ
Ｏ、０．５；ＺｎＯ、１．６；ＢａＯ、２．０；ＴｉＯ
２、２．４；ＺｒＯ２、１．７；Ｖ２Ｏ５、０．３およ
びＮａＣｌ、１．０からなるハロゲン化物含有ガラス
を、実施例１のように、白金るつぼ中で大気圧下１５８
０℃で溶融した。
【００８２】その後の工程は、ＣＯ２ガスの代わりにヘ
リウムを使用した以外は、実施例１と同じ方法である。
リウムを使用した以外は、実施例１と同じ方法である。
【００８３】図３はこの方法によって得られた冷却した
ガラス塊の伝導率を示す。図４はセラミック化された試
料の伝導率を示す（厚さ３ｍｍ）。
ガラス塊の伝導率を示す。図４はセラミック化された試
料の伝導率を示す（厚さ３ｍｍ）。
【００８４】なお、ガラスーセラミックの水含量は、
０．０１８モル／リットルであった。実施例３ 次の組成（重量％）：ＳｉＯ２、５５；Ａｌ２Ｏ３、２
６．５；Ｌｉ２Ｏ、３．６；Ｋ２Ｏ、０．６；ＭｇＯ、
１．１；ＺｎＯ、１．５；ＴｉＯ２、２．２；Ｚｒ
Ｏ２、１．８；Ｐ２Ｏ５、７．０；Ａｓ２Ｏ３、０．７
およびＮａＦ、１．５からなるガラス−セラミックの製
造するための基礎ガラスは、乾燥ヘリウム−酸素混合物
（それぞれ５０容量％）を導入すると伴に同時に乾燥空
気を通過させ（ガスの露点は約−７０℃）、溶融物を１
５８０℃として電気的に加熱したタンク炉で脱水した。
０．０１８モル／リットルであった。実施例３ 次の組成（重量％）：ＳｉＯ２、５５；Ａｌ２Ｏ３、２
６．５；Ｌｉ２Ｏ、３．６；Ｋ２Ｏ、０．６；ＭｇＯ、
１．１；ＺｎＯ、１．５；ＴｉＯ２、２．２；Ｚｒ
Ｏ２、１．８；Ｐ２Ｏ５、７．０；Ａｓ２Ｏ３、０．７
およびＮａＦ、１．５からなるガラス−セラミックの製
造するための基礎ガラスは、乾燥ヘリウム−酸素混合物
（それぞれ５０容量％）を導入すると伴に同時に乾燥空
気を通過させ（ガスの露点は約−７０℃）、溶融物を１
５８０℃として電気的に加熱したタンク炉で脱水した。
【００８５】この目的のため、数個のエジェクションノ
ズルを有するガス挿入用の攪拌機を、導入ガスを均等に
分配し、泡の平均直径が溶融物容器の大部分において約
５ｍｍになるように、溶融段階において溶融物に装入し
た。溶融物のその後の清澄化は、従来公知の方法に従っ
た。
ズルを有するガス挿入用の攪拌機を、導入ガスを均等に
分配し、泡の平均直径が溶融物容器の大部分において約
５ｍｍになるように、溶融段階において溶融物に装入し
た。溶融物のその後の清澄化は、従来公知の方法に従っ
た。
【００８６】図５は、この実施例に従って得られた、ガ
ラス（セラミックではない）の伝導率を示す。図６はセ
ラミック化ガラス−セラミック試料（厚み３ｍｍ）の伝
導率を示す。
ラス（セラミックではない）の伝導率を示す。図６はセ
ラミック化ガラス−セラミック試料（厚み３ｍｍ）の伝
導率を示す。
【００８７】図７は、従来のガラス−セラミック（CERA
N "HIGHTRANS")および本発明のガラス−セラミックの波
長（ｎｍ）に関する伝導率（％）を示す。
N "HIGHTRANS")および本発明のガラス−セラミックの波
長（ｎｍ）に関する伝導率（％）を示す。
【００８８】図７は、従来品に比べて、本発明の実施例
１のガラス−セラミックにおいて２５００ｎｍ〜３５０
０ｎｍの波長領域における顕著な伝導率の増加を表す。
従来のガラス−セラミックにおいて、この領域の伝導率
は３％以下（約２９００ｎｍにおいて）に低下するけれ
ども、本発明のガラス−セラミックスの伝導率は常に６
０％以上に保たれる。
１のガラス−セラミックにおいて２５００ｎｍ〜３５０
０ｎｍの波長領域における顕著な伝導率の増加を表す。
従来のガラス−セラミックにおいて、この領域の伝導率
は３％以下（約２９００ｎｍにおいて）に低下するけれ
ども、本発明のガラス−セラミックスの伝導率は常に６
０％以上に保たれる。
【００８９】なお、ガラスーセラミックの水含量は、
０．００３モル／リットルであった。 発明の適用例 本発明に基づく材料の調理用表面材料への用途は、本発
明の１つの有利な応用例である。
０．００３モル／リットルであった。 発明の適用例 本発明に基づく材料の調理用表面材料への用途は、本発
明の１つの有利な応用例である。
【００９０】今日、短時間加熱は、平坦な状態で接触す
る調理用品を使用することによって、ガラス−セラミッ
ク表面を有する調理用こんろで達成される。しかし、消
費者が出っ張った底の調理用品をもっている場合には、
加熱時間は飛躍的に増加する。従来の表面材料を使用す
る場合には、曲率４．５ｍｍのエナメル製の”貧弱な”
調理用品では２リットルの水を沸騰させる加熱時間は１
２．４分であるが、一方、１ｍｍ以下の曲率を有する”
好ましい”調理用品の場合では沸騰させる時間は高々１
０．４分である。
る調理用品を使用することによって、ガラス−セラミッ
ク表面を有する調理用こんろで達成される。しかし、消
費者が出っ張った底の調理用品をもっている場合には、
加熱時間は飛躍的に増加する。従来の表面材料を使用す
る場合には、曲率４．５ｍｍのエナメル製の”貧弱な”
調理用品では２リットルの水を沸騰させる加熱時間は１
２．４分であるが、一方、１ｍｍ以下の曲率を有する”
好ましい”調理用品の場合では沸騰させる時間は高々１
０．４分である。
【００９１】本発明のガラス−セラミックを使用する場
合、加熱時間は、直接放射の割合が高いため、前記”好
ましい”調理用品の場合と比べても短く、２リットルの
水を沸騰させるのにたった９．７分である。より重要な
ことは、”貧弱な”調理用品が改良される事である。こ
の場合、加熱時間は１０．７分である（前記１２．４分
と比較して）。本発明の材料を使用する調理設備は、こ
のように調理用品の特徴とは別の強力な加熱能力を提供
できる。もし、熱放射を十分に吸収しないステンレス製
調理用品を利用する場合、２リットルの水を沸騰させる
のに１３．２分なのに対して１２．２加熱時間という、
従来の物と比べてかなりの改良される。容器の加熱時間
依存性は２／３に減少する。
合、加熱時間は、直接放射の割合が高いため、前記”好
ましい”調理用品の場合と比べても短く、２リットルの
水を沸騰させるのにたった９．７分である。より重要な
ことは、”貧弱な”調理用品が改良される事である。こ
の場合、加熱時間は１０．７分である（前記１２．４分
と比較して）。本発明の材料を使用する調理設備は、こ
のように調理用品の特徴とは別の強力な加熱能力を提供
できる。もし、熱放射を十分に吸収しないステンレス製
調理用品を利用する場合、２リットルの水を沸騰させる
のに１３．２分なのに対して１２．２加熱時間という、
従来の物と比べてかなりの改良される。容器の加熱時間
依存性は２／３に減少する。
【００９２】市販のセラン（CERAN TM）着色製品のカバ
ープレートのある温度およびスペクトル伝導率における
黒体放射のスペクトル放射から計算された、グリル串ま
たは裸の加熱コイル（７５０〜１０００℃）の放射の全
伝導率は、本発明の請求の範囲に従って処理した場合に
は、例えば１８％から２５％に増加する（１．４倍）。
ープレートのある温度およびスペクトル伝導率における
黒体放射のスペクトル放射から計算された、グリル串ま
たは裸の加熱コイル（７５０〜１０００℃）の放射の全
伝導率は、本発明の請求の範囲に従って処理した場合に
は、例えば１８％から２５％に増加する（１．４倍）。
【００９３】前記実施例は、前記実施例で使用された本
発明の一般的または特殊な反応物および／または操作条
件を置き換えることにより、同様に繰り返すことができ
る。前の記述から当業者は、この発明の必須の特徴を容
易に確認でき、本発明の精神および態様から外れること
なく種々の用途および条件に適応するように本発明を種
々に変更および修正することができる。
発明の一般的または特殊な反応物および／または操作条
件を置き換えることにより、同様に繰り返すことができ
る。前の記述から当業者は、この発明の必須の特徴を容
易に確認でき、本発明の精神および態様から外れること
なく種々の用途および条件に適応するように本発明を種
々に変更および修正することができる。
【００９４】
【発明の効果】本発明によれば、２．７〜３．３μｍの
波長領域において従来品よりも高い伝導率を有する透明
または半透明な無機材料を提供できる。
波長領域において従来品よりも高い伝導率を有する透明
または半透明な無機材料を提供できる。
【００９５】このスペクトル領域における高伝導率は、
ガラスーセラミックス等の無機材料を広範な分野に使用
することができる。例えば、本発明の新規な材料を調理
用表面材料として使用すると、加熱部材の熱放出伝導率
は、従来のものと比較して４０％方増加させることがで
きる。
ガラスーセラミックス等の無機材料を広範な分野に使用
することができる。例えば、本発明の新規な材料を調理
用表面材料として使用すると、加熱部材の熱放出伝導率
は、従来のものと比較して４０％方増加させることがで
きる。
【図１】は、本願の実施例に基づいて調製された材料の
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
【図２】は、本願の実施例に基づいて調製された材料の
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
【図３】は、本願の実施例に基づいて調製された材料の
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
【図４】は、本願の実施例に基づいて調製された材料の
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
【図５】は、本願の実施例に基づいて調製された材料の
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
【図６】は、本願の実施例に基づいて調製された材料の
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
波長範囲における伝導率を示すグラフである。
【図７】は、本願の実施例に基づいて調製された材料お
よび従来品の波長範囲における伝導率を示すグラフであ
る。
よび従来品の波長範囲における伝導率を示すグラフであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０３Ｃ 10/04 10/14 Ｆ２４Ｃ 7/04 Ｂ 15/10 Ｃ Ｆ２６Ｂ 3/30 (72)発明者 ペーター ナス ドイツ連邦共和国 6500 マインツ オベ ーレ ボゲンガッセ 25 (72)発明者 クルト シャウパート ドイツ連邦共和国 ホフハイム リューデ シャイマー シュトラーセ 46
Claims (21)
- 【請求項１】 次の組成（重量％）：Ｌｉ２Ｏ、２．５
〜６．０；Ｎａ２Ｏ、０〜４．０；Ｋ２Ｏ、０〜４．
０；Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ、０．２〜４．０；ＭｇＯ、０〜
３．０；ＺｎＯ、０〜３．０；ＢａＯ、０〜３．５；Ｃ
ａＯ、０〜１．０；ＳｒＯ、０〜１．０；Ａｌ２Ｏ３、
１８〜２８；ＳｉＯ２、５０〜７０；ＴｉＯ２、１．０
〜７．０；ＺｒＯ２、０〜３．５；ＴｉＯ２＋Ｚｒ
Ｏ２、１．０〜７．０；およびＰ２Ｏ５、０〜８．０を
有し、得られる無機材料が０．０３モル／リットル以下
の含水量を示し、２．７〜３．３μｍの波長領域におい
て高含水量の材料と比較して高い伝導率を示すことを特
徴とする−５０℃〜７００℃の温度範囲において平均縦
方向熱膨脹係数、α、−１ｘ１０−６〜＋２ｘ１０−６
Ｋ−１を有する透明または半透明な無機材料。 - 【請求項２】 前記含水量が０．０１モル／リットル以
下である請求項１に記載の無機材料。 - 【請求項３】 前記含水量が０．００５モル／リットル
以下である請求項１に記載の無機材料。 - 【請求項４】 厚み３ｍｍの前記材料の伝導率が２７０
０〜３３００ｎｍの全波長領域において１０％以上であ
る請求項１に記載の無機材料。 - 【請求項５】 厚み３ｍｍの前記材料の伝導率が２７０
０〜３３００ｎｍの全波長領域において４０％以上であ
る請求項２に記載の無機材料。 - 【請求項６】 厚み３ｍｍの前記材料の伝導率が２７０
０〜３３００ｎｍの全波長領域において６０％以上であ
る請求項２に記載の無機材料。 - 【請求項７】 前記材料が必須結晶相として高石英およ
び／またはキータイト混合結晶を有するガラスーセラミ
ックである請求項１に記載の無機材料。 - 【請求項８】 前記清澄剤がＡｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、
ＮａＣｌ、Ｃｅ２Ｏ３およびそれらの混合物からなる群
より選ばれた少なくとも１つである請求項１に記載の無
機材料。 - 【請求項９】 無機材料を造る成分の混合物を調製し、
その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材料を得る
ために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含水量を前
記溶融物を減圧状態にすることにより調整することを特
徴とする請求項１に記載の無機材料の製造方法。 - 【請求項１０】 前記減圧度が５００ｍｂａｒ以下であ
る請求項９に記載の方法。 - 【請求項１１】 さらに前記混合物にハロゲン化物の形
態であるＣｌ、Ｆ、ＢｒおよびＩよりなる群から選ばれ
る少なくとも１つのハロゲンを０．１〜２．５重量％加
える請求項９に記載の方法。 - 【請求項１２】 無機材料を造る成分の混合物を調製
し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材料を
得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含水量
を乾燥ガスを溶融物に導入することにより調整すること
を特徴とする請求項１に記載の無機材料の製造方法。 - 【請求項１３】 前記乾燥ガスを前記溶融物の中にバブ
リングさせる請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１４】 前記乾燥ガスの露点が−３０℃以下で
ある請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１５】 前記乾燥ガスの露点が−７０℃以下で
ある請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１６】 前記乾燥ガスがＣＯ２、Ｎ２、Ｏ２、
ＮＯｘおよび希ガスからなる群より選ばれた少なく１つ
である請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１７】 前記乾燥ガスがＨｅおよび／またはＯ
２である請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１８】 前記２種類以上のガスが同時におよび
／または時間および場所に関して別々に前記溶融物に導
入される請求項１２に記載の方法。 - 【請求項１９】 さらにハロゲン化物の形態のＣｌ、
Ｆ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれた少なくとも１
つを０．１〜２．５重量％前記混合物に加える請求項１
２に記載の方法。 - 【請求項２０】 無機材料を造る成分の混合物を調製
し、その組成の溶融物を調製し、さらに前記無機材料を
得るために前記溶融物を冷却し、前記無機材料の含水量
を０．０１〜２重量％の純粋、元素状、および／または
カーバイドおよび／または有機炭素化合物の形態の炭素
を前記混合物に加えることにより調整することを特徴と
する請求項１に記載の無機材料の製造方法。 - 【請求項２１】 請求項１に記載の無機材料を含む調理
またはグリル用の加熱表面部材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4321373A DE4321373C2 (de) | 1993-06-26 | 1993-06-26 | Glaskeramik mit hoher Transmission im Wellenlängenbereich von 2700 bis 3300 nm, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
| DE4321373.1 | 1993-06-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07172862A true JPH07172862A (ja) | 1995-07-11 |
Family
ID=6491354
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6141771A Pending JPH07172862A (ja) | 1993-06-26 | 1994-06-23 | 波長２７００〜３３００ｎｍにおいて高伝導性を有する透明または半透明な無機材料 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5446008A (ja) |
| JP (1) | JPH07172862A (ja) |
| DE (1) | DE4321373C2 (ja) |
| FR (1) | FR2709484B1 (ja) |
| GB (1) | GB2279343B (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10139479A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-26 | Ohara Inc | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板 |
| JP2001342036A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Ngk Insulators Ltd | ガラス材料並びに結晶化ガラス製品及び結晶化ガラス材料の製造方法 |
| JP2004131372A (ja) * | 2002-08-16 | 2004-04-30 | Carl-Zeiss-Stiftung | アルミノ珪酸リチウムガラスセラミックからなる部材 |
| WO2004050568A1 (ja) | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | ガラス溶融炉及びガラスの製造方法 |
| JP2005325017A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Schott Ag | ガラスセラミック品を作製する方法 |
| JP2006523605A (ja) * | 2003-04-15 | 2006-10-19 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | ヘリウムの泡を用いたガラス融液の清澄 |
| JP2007022910A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Schott Ag | 耐食性ガラスセラミック物品を備える装置 |
| US9388064B2 (en) | 2008-06-27 | 2016-07-12 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Tempered glass and manufacturing method for the same |
| JP2016520503A (ja) * | 2013-05-13 | 2016-07-14 | サーギーヴナ ディムシス、オルガ | 耐熱衝撃性の合成宝石材料 |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6060412A (en) * | 1995-09-26 | 2000-05-09 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Crystalline glass, crystallized glass, crystallized glass article, and process for producing crystallized glass article |
| US5824127A (en) † | 1996-07-19 | 1998-10-20 | Corning Incorporated | Arsenic-free glasses |
| DE19816380C1 (de) * | 1998-04-11 | 1999-10-07 | Schott Glas | Cadmiumfreie, farbige Anlaufgläser auf Basis einer Glaskeramik, Verfahren zu deren Herstellung und ihre Verwendung |
| US6420287B1 (en) * | 1998-11-24 | 2002-07-16 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Ceramic article |
| DE19857117C2 (de) * | 1998-12-10 | 2001-05-03 | Schott Glas | Kochfläche aus Glaskeramik mit geringer Schmutzauffälligkeit |
| DE19907038C2 (de) * | 1999-02-19 | 2003-04-10 | Schott Glas | Transluzente oder opake Glaskeramik mit Hochquarz-Mischkristallen als vorherrschender Kristallphase und deren Verwendung |
| DE19920493C2 (de) * | 1999-05-05 | 2002-07-18 | Schott Glas | Zubehörteile von Backöfen und darin verwendbare Geschirre |
| US6593258B1 (en) † | 1999-05-28 | 2003-07-15 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Li2O-Al2O3-SiO2 transparent crystallized glass and crystallizable |
| JP3767260B2 (ja) | 1999-08-02 | 2006-04-19 | 日本電気硝子株式会社 | Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶化ガラス及び結晶性ガラス |
| JP4000500B2 (ja) | 1999-08-02 | 2007-10-31 | 日本電気硝子株式会社 | Ｌｉ２Ｏ−Ａｌ２Ｏ３−ＳｉＯ２系結晶化ガラス及び結晶性ガラス |
| DE19939787C2 (de) * | 1999-08-21 | 2003-11-27 | Schott Glas | Transparente, mit Vanadiumoxid-Zusatz dunkel einfärbbare Glaskeramik mit Hochquarz-Mischkristallen als vorherrschende Kristallphase, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| DE10017696B4 (de) * | 2000-04-08 | 2006-05-11 | Schott Ag | Transparente Abdeckung der Strahlungsquelle von Leuchten |
| DE10017698B9 (de) * | 2000-04-08 | 2007-11-29 | Schott Ag | Reinigungsfreundlicher Glaskeramikkörper |
| DE10017701C2 (de) * | 2000-04-08 | 2002-03-07 | Schott Glas | Gefloatetes Flachglas |
| CN1278973C (zh) † | 2000-08-24 | 2006-10-11 | 肖特股份有限公司 | 透明玻璃陶瓷及其生产方法和用途 |
| DE10110225C2 (de) | 2001-03-02 | 2003-07-17 | Schott Glas | Glaskeramisches Trägermaterial, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
| WO2002079110A2 (fr) * | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Yury Yurievich Merkulov | Ceramique vitrifiee, procede de fabrication de cette ceramique et structure de protection basee sur une ceramique vitrifiee |
| DE10123601C2 (de) * | 2001-05-15 | 2003-11-20 | Schott Glas | Kochsystem |
| US7056848B2 (en) * | 2001-06-23 | 2006-06-06 | Schott Ag | Nonporous keatite glass ceramic support plate for transporting products during heat treatment, method of making same and method of transporting products therewith |
| US20030125184A1 (en) * | 2001-12-21 | 2003-07-03 | Schott Glas | Glass ceramic product with variably adjustable zero crossing of the CTE-T curve |
| JP2003249309A (ja) * | 2002-02-26 | 2003-09-05 | Sumitomo Wiring Syst Ltd | 分割コネクタ |
| CN1784363A (zh) * | 2003-04-01 | 2006-06-07 | 康宁股份有限公司 | 灯光反射器基材,玻璃、玻璃陶瓷材料以及它们的制造方法 |
| JP4941872B2 (ja) | 2003-09-02 | 2012-05-30 | 日本電気硝子株式会社 | 液晶ディスプレイ用透明無アルカリガラス基板 |
| DE10362074B4 (de) * | 2003-10-14 | 2007-12-06 | Schott Ag | Hochschmelzendes Glas oder Glaskeramik sowie der Verwendung |
| CN100569680C (zh) * | 2003-10-20 | 2009-12-16 | 日本电气硝子株式会社 | 玻璃组合物及玻璃物品的制造方法 |
| US7727917B2 (en) * | 2003-10-24 | 2010-06-01 | Schott Ag | Lithia-alumina-silica containing glass compositions and glasses suitable for chemical tempering and articles made using the chemically tempered glass |
| FR2863607B1 (fr) | 2003-12-11 | 2006-09-29 | Snc Eurokera | Vitroceramiques a surface modifiee et leur preparation |
| FR2864071A1 (fr) * | 2003-12-17 | 2005-06-24 | Snc Eurokera | Vitroceramiques, verres precurseurs, articles en lesdites vitroceramiques, elaboration desdits vitroceramiques et articles |
| DE102004022629B9 (de) * | 2004-05-07 | 2008-09-04 | Schott Ag | Gefloatetes Lithium-Aluminosilikat-Flachglas mit hoher Temperaturbeständigkeit, das chemisch und thermisch vorspannbar ist und dessen Verwendung |
| DE102004024583A1 (de) * | 2004-05-12 | 2005-12-08 | Schott Ag | Transluzente oder opake Kochfläche bestehend aus einer einfärbbaren Glaskeramik sowie deren Verwendung |
| KR101419957B1 (ko) * | 2006-08-30 | 2014-07-16 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리 제조 방법 |
| DE102007023497B4 (de) * | 2007-05-18 | 2010-08-05 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Gläsern, Glaskeramiken oder Keramiken sowie deren Verwendung |
| DE202008017803U1 (de) | 2008-10-07 | 2010-08-12 | Schott Ag | Transparente, eingefärbte Kochfläche mit verbesserter farbiger Anzeigefähigkeit |
| DE102009013127B9 (de) * | 2009-03-13 | 2015-04-16 | Schott Ag | Transparente, eingefärbte Kochfläche und Verfahren zum Anzeigen eines Betriebszustandes einer solchen |
| WO2011068064A1 (ja) * | 2009-12-01 | 2011-06-09 | 旭硝子株式会社 | ＴｉＯ2を含有するシリカガラス |
| WO2014035791A2 (en) * | 2012-08-28 | 2014-03-06 | Corning Incorporated | Colored and opaque glass-ceramic(s), associated colorable and ceramable glass(es), and associated process(es) |
| FR3002532B1 (fr) | 2013-02-28 | 2015-02-27 | Eurokera | Vitroceramique du type aluminosilicate de lithium contenant une solution solide de beta-spodumene |
| JP6761344B2 (ja) | 2013-08-30 | 2020-09-23 | コーニング インコーポレイテッド | イオン交換可能なガラス、ガラスセラミック、およびその製造方法 |
| ES2930664T3 (es) * | 2014-05-16 | 2022-12-21 | Ivoclar Vivadent Ag | Uso de vitrocerámica con cuarzo alfa como fase cristalina principal de un material dental |
| CN111517656B (zh) * | 2017-12-01 | 2022-04-22 | 成都光明光电股份有限公司 | 微晶玻璃及其基板 |
| DE102018110910A1 (de) | 2017-12-22 | 2018-06-21 | Schott Ag | Einrichtungs- und Ausstattungsgegenstände für Küchen oder Labore mit Leuchtelement |
| DE102018110909A1 (de) * | 2017-12-22 | 2018-06-21 | Schott Ag | Abdeckplatte mit farbneutraler Beschichtung |
| DE202018102534U1 (de) | 2017-12-22 | 2018-05-15 | Schott Ag | Transparente, eingefärbte Lithiumaluminiumsilikat-Glaskeramik |
| DE202018102514U1 (de) | 2017-12-22 | 2018-05-22 | Schott Ag | Glaskeramik mit reduziertem Lithium-Gehalt |
| DE102018110897A1 (de) | 2017-12-22 | 2018-06-21 | Schott Ag | Einrichtungs- und Ausstattungsgegenstände für Küchen oder Labore mit Anzeigeeinrichtung |
| JP2022512405A (ja) | 2018-12-12 | 2022-02-03 | コーニング インコーポレイテッド | イオン交換可能なリチウム含有アルミノケイ酸塩ガラス |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL221432A (ja) * | 1956-11-19 | |||
| NL267528A (ja) * | 1960-07-26 | |||
| US3788865A (en) * | 1964-07-31 | 1974-01-29 | C Babcock | Crystallized glass ceramics and process for forming same |
| US3531306A (en) * | 1966-12-29 | 1970-09-29 | Corning Glass Works | Method of making infrared transmitting silicate glasses |
| US3531305A (en) * | 1967-03-06 | 1970-09-29 | Corning Glass Works | Method of making infrared transmitting germanate glasses |
| DE1596858B1 (de) * | 1967-06-29 | 1970-05-14 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Glasversaetze zum Herstellen von durchsichtigen ss-Eukryptitmischkristall-haltigen Glaskeramiken |
| NL7507155A (nl) * | 1974-06-20 | 1975-12-23 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Werkwijze voor de bereiding van donkerrood, door- zichtig glaskeramisch materiaal met een variabele hoge warmtespanningsfactor, meer in het bijzonder voor de vervaardiging van vuurvaste platen. |
| DE2437026C3 (de) * | 1974-08-01 | 1978-06-08 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Kochfläche aus Glaskeramik |
| US4057434A (en) * | 1975-08-11 | 1977-11-08 | Corning Glass Works | Opaque infra-red transmitting glass-ceramic articles |
| US4057670A (en) * | 1976-01-28 | 1977-11-08 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen. | Cooking surfaces of glass-ceramic plates with layers with different values for radiation transmission |
| JPS52110717A (en) * | 1976-03-15 | 1977-09-17 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of producing high transparent glass of low moisture content |
| US4100001A (en) * | 1977-04-15 | 1978-07-11 | Owens-Illinois, Inc. | Thermally crystallizable glasses and glass-ceramics made therefrom |
| US4211820A (en) * | 1979-02-02 | 1980-07-08 | Corning Glass Works | Brown glass-ceramic articles |
| US4575493A (en) * | 1982-03-16 | 1986-03-11 | General Electric Co. | Low expansion, multiband transmitting glasses and glass-ceramics |
| GB2159514B (en) * | 1984-05-23 | 1987-12-02 | Zeiss Stiftung | Glass ceramic with specific thermal expansion behaviour |
| ATE51214T1 (de) * | 1985-10-26 | 1990-04-15 | Schott Glaswerke | Durchsichtige farbige glaskeramik mit guter temperaturbelastbarkeit und variabel einstellbarer transmission im ir-bereich. |
-
1993
- 1993-06-26 DE DE4321373A patent/DE4321373C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-14 US US08/165,877 patent/US5446008A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-05-27 GB GB9410748A patent/GB2279343B/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-23 FR FR9407700A patent/FR2709484B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1994-06-23 JP JP6141771A patent/JPH07172862A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10139479A (ja) * | 1996-11-14 | 1998-05-26 | Ohara Inc | 磁気情報記憶媒体用ガラスセラミックス基板 |
| JP2001342036A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-12-11 | Ngk Insulators Ltd | ガラス材料並びに結晶化ガラス製品及び結晶化ガラス材料の製造方法 |
| JP2004131372A (ja) * | 2002-08-16 | 2004-04-30 | Carl-Zeiss-Stiftung | アルミノ珪酸リチウムガラスセラミックからなる部材 |
| WO2004050568A1 (ja) | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | ガラス溶融炉及びガラスの製造方法 |
| US7497094B2 (en) | 2002-11-29 | 2009-03-03 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Glass melting furnace and method for producing glass |
| JP2006523605A (ja) * | 2003-04-15 | 2006-10-19 | プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド | ヘリウムの泡を用いたガラス融液の清澄 |
| JP2005325017A (ja) * | 2004-05-12 | 2005-11-24 | Schott Ag | ガラスセラミック品を作製する方法 |
| JP2007022910A (ja) * | 2005-07-14 | 2007-02-01 | Schott Ag | 耐食性ガラスセラミック物品を備える装置 |
| US9388064B2 (en) | 2008-06-27 | 2016-07-12 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Tempered glass and manufacturing method for the same |
| JP2016520503A (ja) * | 2013-05-13 | 2016-07-14 | サーギーヴナ ディムシス、オルガ | 耐熱衝撃性の合成宝石材料 |
| US9801435B2 (en) | 2013-05-13 | 2017-10-31 | Karen Khorenovich Avakyan | Heat-resistant synthetic jewelry material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2709484A1 (fr) | 1995-03-10 |
| DE4321373A1 (de) | 1995-01-05 |
| GB9410748D0 (en) | 1994-07-13 |
| US5446008A (en) | 1995-08-29 |
| GB2279343A (en) | 1995-01-04 |
| GB2279343B (en) | 1996-09-11 |
| DE4321373C2 (de) | 1995-12-14 |
| FR2709484B1 (fr) | 1997-07-04 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040712 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040921 |