JPH07130173A - 半導体メモリ装置 - Google Patents

半導体メモリ装置

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JPH07130173A
JPH07130173A JP5298907A JP29890793A JPH07130173A JP H07130173 A JPH07130173 A JP H07130173A JP 5298907 A JP5298907 A JP 5298907A JP 29890793 A JP29890793 A JP 29890793A JP H07130173 A JPH07130173 A JP H07130173A
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semiconductor memory
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 チップ面積を増大させることなく、高歩留り
の期待できる半導体メモリ装置を提供する。 【構成】 分割デコード方式によるワードドライバ回路
を有する半導体メモリ装置において、セルフブート型の
ワードドライバ回路2a,2cのワード線フローティン
グ抑止用トランジスタQN8 ,QN8'の駆動を行うフリ
ップフロップ回路を設ける。ワード線WL,WL' のリ
セット時にはワード線と垂直方向に配線されたワード線
リセット信号φrでフリップフロップ回路を制御する。
従来、ワード線と平行に同一配線層で形成されていた相
補信号であるワード線駆動回路選択信号WLP0 とワー
ド線リセット信号との並設をなくし、配線ピッチを倍に
広げることで、ワード線選択信号配線形成時の加工性を
向上可能とし、ゴミ等による配線ショート確率を減少さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体メモリ装置に関
し、特に分割デコード方式によるワード駆動回路構成の
半導体メモリ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体メモリ装置は微細加工技術の進歩
に伴い集積度が著しく向上している。特に、メモリセル
の構造が簡単なDRAM(ダイナミックRAM)は高集
積化が著しく、現在では16MビットDRAMが量産さ
れており、64MビットDRAMもサンプル出荷されつ
つある。
【0003】64MビットDRAMでは、ワード線駆動
を高速化するために、各ワード線を複数に分割し、分割
されたワード線の各々に電流供給用のドライバを設けた
分割デコード方式の半導体メモリ装置が提案されてい
る。
【0004】図7はこの分割デコード方式の半導体メモ
リ装置の要部構成を示すブロック図である。複数のメモ
リセルMCmn(m,nは0を含む整数)からなるメモリ
セルアレイは、ワード線を分断する方向に複数グループ
(ブロック)に分割されている。メモリセルアレイのワ
ード方向には夫々ワード線WLmnが設けられており、こ
れ等ワード線の各々は分断されている。
【0005】これ等各分断ワード線を駆動するためのワ
ード線駆動回路2a〜2e,3a〜3e,4a〜4e
が、各ブロックの両側に夫々配置されている。そして、
各ワード線は交互にワード線駆動回路2a〜2e,3a
〜3e,4a〜4eに夫々接続されている。
【0006】各ワード線mnとビット線BLi (iは0を
含む整数)との交点に各メモリセルが夫々配置されてい
る。ビット線BL0 とBL1 とのデータを検知増幅する
ためにセンスアンプ6aが、ビット線BL2 とBL3 と
のデータを検知増幅するためにセンスアンプ6bが夫々
設けられている。他のビット線とセンスアンプとの関係
も同様である。
【0007】行デコーダ1は外部アドレスをデコードし
て複数のワード線駆動回路を選択的に活性制御するもの
で、そのためにこの行デコーダ1からはワード線駆動回
路選択信号WLP0 〜WLP2 とその相補信号であるワ
ード線リセット信号WLP0'〜WLP2'とがワード線駆
動回路2a〜2e,3a〜3e,4a〜4eの各々に送
出されている。
【0008】また、ワード線駆動のための駆動電流供給
回路7a〜7dが設けられており、駆動電流供給回路7
a,7bはワード線駆動電流供給信号RA0 ,RA2 を
夫々生成してワード線駆動回路2a,3a,4a,2
c,3c,4c及び2e,3e,4eへ夫々供給する。
【0009】駆動電流供給回路7c,7dはワード線駆
動電流供給信号RA1 ,RA3 を生成してワード線駆動
回路2b,3b,4b及び2d,3d,4dへ夫々供給
する。
【0010】各ワード線は全て平行に配置され、各ビッ
ト線はこのワード線に直交して配置される。またワード
線駆動電流供給信号線はこれまたワード線に直交して配
置され、更にワード線駆動回路選択信号WLPi とワー
ド線リセット信号WLPi'とはワード線に平行して配置
されている。
【0011】ワード線駆動回路は、図8に回路2aを代
表して示す如く、セルフブート型の駆動回路2台で構成
されている。
【0012】例えば、N型トランジスタQN8 ,QN8'
がオフ状態になって、信号WLP0によって節点N1 ,
N1'が接地電位から電源電位よりN型トランジスタQN
4 ,QN4'のしきい値電圧を引いた値まで上がった後、
図示せぬ昇圧回路によって昇圧された信号RA0 によっ
て、トランジスタのセルフブートが発生してN1 の電位
が昇圧されたRA0 よりもさらに高い電位に上昇し、ワ
ード線WL00が信号RA0 と同じ電位まで上昇する。
【0013】このとき、他のワード線駆動回路2aだけ
でなく2c,2eでも同様にして信号WL01,WL02,
WL03の電位が上昇しメモリセルMC00,MC01,MC
02,MC03が選択される。
【0014】図9は上述した図7に示した回路のうちワ
ード線に対して電流供給を行うワードドライバ回路の要
部構成を詳細に示す回路図である。
【0015】本従来例はアドレス信号によって選択され
るデコーダ部1とワード線をドライブする複数のドライ
バ部より構成されるもので、図にはドライバ2a,2c
の各1部が示されている。また、本従来例の構成はメモ
リセルの各ワード線に対してそれぞれ設けられるもので
あるが、ここでは特定のワード線WL(WL00)及びW
L’(WL01,WL02)についてのみ示している。
【0016】次に、本従来例の動作について説明する。
図10は本従来例の動作について示したタイミングチャ
ートである。リセット時にはプリチャージ信号φpは接
地電位とされ、行アドレス信号も全て接地電位である。
この時ワード線リセット信号WLP0'はP型トランジス
タQP1 により電源電圧レベルとなっており、選択信号
WLP0 はインバータINV1 により接地電位となって
いる。信号WLP0 が接地電位のためトランジスタQN
7 (QN7')はオフ状態、信号WLP0'によりトランジ
スタQN8 (QN8')はオン状態であるので、ワード線
WL(WL' )は接地電位に抑えられている。
【0017】次に、メモリセルの選択時には、プリチャ
ージ信号φpは電源電位まで遷移し、トランジスタQP
1 が完全にオフ状態になった後、行アドレス信号が活性
化してデコーダ部の選択がなされる。行アドレス信号に
よってデコーダ部1が選択されると、各トランジスタQ
N1 〜QN3 がオン状態となって信号WLP0'の電位が
接地電位になり、また、インバータINV1 の出力WL
P0 によって節点N2(N2')の電位がVCC−Vt の
電位まで充電される。ここで、Vt はトランジスタQN
4 (QN4')のしきい値電圧である。
【0018】その後、ワード線ドライブ電流供給信号R
A0 が活性化すると、節点N2 (N2')の電位は、トラ
ンジスタQN7 (QN7')のセルフブートによってVC
C以上の電圧となり、ワード線選択信号φWL(φW
L’)が活性化される。
【0019】このように、複数のドライバ部2a,2c
よりそれぞれ活性化されるワード線WL,WL’による
電流供給がなされて、分割ワード線WL00,WL01,W
L02,WL03が同時に選択され1本のワード線WLが活
性化されその1本のワード線に属する全てのメモリセル
が選択される。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の分割デ
コード方式によるワードドライバ回路を具備する半導体
メモリ装置においては、ワード線ポリシリ等で形成さ
れ、WLP0 ,WLP0'に代表されるワード線駆動回路
選択信号及びワード線リセット信号は、ワード線と平行
にアルミ等の金属配線で同一の配線層に形成される。
【0021】この場合、WLP0 とWLP0'は相補信号
であるため、常にハイレベルの信号線とロウレベルの信
号線が交互に並走することになる。本従来例によれば、
ワード線4本に対してWLP0 とWLP0'が1本ずつ必
要となるので、ワード線駆動回路選択信号の配線ピッチ
はワード線のたかが2倍である。
【0022】DRAMにおけるワード線の配線ピッチ
は、一般にその製造プロセスで許容される最小の寸法を
とることが多いので、ワード線駆動回路選択信号の配線
ピッチも十分に余裕のあるものとは言えず、製造工程中
のゴミ等により隣りあう配線同士がショートする確率が
かなり高い。
【0023】前述したようにワード線駆動回路選択信号
は相補信号であるので、ショートが発生すると、電源電
圧レベルから接地レベルへ直流電流が流れることにな
る。この場合ファクンクション的には、リダンダンシー
メモリセル(冗長メモリセル)による置き換えが可能な
場合もあるが、ワード線駆動回路選択信号とワード線リ
セット信号配線間ショートによる、電源電圧レベルから
接地レベルへの直流電流は止められないので、ほとんど
の場合スタンバイ電流不良となるという問題がある。
【0024】また、DRAMにおいては微細化に伴い、
電荷蓄積用キャパシタの容量を確保するためキャパシタ
の構造が積み上げ型セルのように3次元化されている場
合が多く、Al(アルミ)等の金属配線を形成する工程
におけるメモリセル領域と周辺回路領域の段差が大きく
なる。一方半導体装置の微細化が進むと、微細な寸法を
加工するためにフォトレジスト工程における露光装置の
レンズ開口数が大きくなり、また露光用の光の波長も短
くなるため、一般に露光時の焦点深度が浅くなる。
【0025】従って、DRAMの微細化が進むと、Al
等の金属配線は加工が困難になる。すなわちメモリセル
領域と周辺領域とに同時に焦点を合わせることが不可能
であるため、例えば周辺領域に焦点を合わせた場合に
は、メモリセル領域では焦点が合わないので解像度が著
しく悪くなる。従って、本従来例のようにワード線選択
信号の配線ピッチがたかだかワード線の2倍程度だと最
悪の場合、フォトレジスト工程においてパターンが解像
されず配線ショートを引き起こすという問題がある。
【0026】また、本従来例のような構成において、ワ
ード線駆動回路選択信号の配線ピッチをさらにその2倍
程度にすることも可能であるが、この場合前述したワー
ド線駆動電流供給回路の台数が倍になり、又ワード線駆
動回路領域を走るワード線駆動電流供給信号の配線数も
倍になるので、著しい面積の増大を招くという問題があ
る。
【0027】本発明は、上述したような従来の技術が有
する問題点に鑑みてなされたものであって、著しくチッ
プ面積を増大させることなく、ワード線駆動回路選択信
号及びワード線リセット信号の相補信号並走をなくし、
かつ配線ピッチを緩和することで高歩留りの期待できる
半導体メモリ装置を提供することを目的とする。
【0028】
【問題を解決するための手段】本発明による半導体メモ
リ装置は、複数グループに分割されたメモリセルアレイ
と、これ等メモリセルアレイのワード方向に夫々対応し
て設けられたワード線を夫々駆動すべく前記グループ対
応に設けられた複数のワード線駆動手段と、外部アドレ
スをデコードすることによりワード線選択信号を生成し
て前記複数のワード線駆動手段を選択的に活性制御する
デコード手段とを含む半導体メモリ装置であって、ワー
ド線選択動作時前のリセット時にアクティブとなって前
記ワード線をリセットするためのワード線リセット信号
を生成する手段を含み、前記ワード線駆動手段の各々
は、前記ワード線選択信号により活性制御されて前記ワ
ード線に駆動電流を供給制御する駆動電流供給手段と、
前記ワード線リセット信号を共通に受けてこの信号のア
クティブ時に前記ワード線をリセットし、前記信号の非
アクティブ時でかつ前記ワード線選択信号の非アクティ
ブ時に当該ワード線をリセット状態に維持するワード線
フローティング抑止手段と、を有することを特徴とす
る。
【0029】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
説明する。
【0030】図1は本発明の一実施例の要部構成を示す
回路図であり、図7と同等部分は同一符号にて示してい
る。
【0031】本実施例においては、ワード線駆動回路選
択信号は相補信号ではなくワード線と平行にWLP0 〜
WLP2 のみが走る。ワード線のリセット信号として、
ワード線リセット信号発生回路5の出力φrが全ワード
線に対して共通にかつ垂直に各ワード線駆動回路領域を
走る。
【0032】ワード線駆動回路2a〜2e,3a〜3
e,4a〜4eは図2に示すように、セルフブート型の
駆動回路2台で構成されており、図8と同等部分は同一
符号にて示す。
【0033】例えば、信号WLP0 とRA0 が選択され
たとすると、まずワード線リセット信号φr 信号がロー
レベルとなりトランジスタQN5がオフ状態になる。そ
の後信号WLP0 によって節点N1 ,N1'が接地電位か
ら電源電位よりN型トランジスタQN4 ,QN4'のしき
い値電圧を引いた値まで上がった後、図示せぬ昇圧回路
によって昇圧された信号RA0 によってトランジスタの
セルフブートが発生して節点N1 の電位が、昇圧された
信号RA0 よりもさらに高い電位に上昇し、ワード線W
L00が信号RA0 と同じ電位まで上昇する。
【0034】さらに、ワード線WL00の電位の上昇によ
りトランジスタQN6 がオンし、トランジスタQN8 の
ゲート電位を接地レベルとしトランジスタQN8 をオフ
状態にする。このとき図2において、ワード線駆動回路
2aだけでなく2c,2eでも同様にし、分割ワード線
WL01,WL02,WL03の電位が上昇し、これ等分割ワ
ード線WL00〜WL03による1本のワード線が選択され
ることになり、このワード線に属するメモリセルMC0
0,MC01,MC02,MC03が選択される。
【0035】本実施例においては、各ワード線駆動回路
は2台のセルフブート型駆動回路で構成されているが、
3台以上のセルフブート型駆動回路で構成されていても
良い。この場合、ワード線駆動回路に供給されるワード
線と垂直に走るワード線駆動電流供給信号の本数をそれ
に応じて増やせば良い。
【0036】また、ワード線リセット信号が入力される
トランジスタは、複数のセルフブート型駆動回路に共通
に設けられているが、それぞれ独立に設けても良い。
【0037】図3は上述した図2に示した回路のうちの
ワード線に対して、電流供給を行うワードドライバ回路
の要部構成を詳述に示す回路図であり、図9と同等部分
は同一符号にて示す。
【0038】本実施例は、アドレス信号によって選択さ
れるデコーダ部1とワード線をドライブする複数のドラ
イバ部より構成されるもので、図にはドライバ部2a,
2cの各1部が示されている。また、本実施例の構成は
メモリセルの各ワード線に対してそれぞれ設けられるも
のであるが、ここでは特定のワード線WL(WL00)及
びWL´(WL01,WL02)についてのみ示している。
【0039】次に、本実施例の動作について説明する。
図4は本実施例の動作について示したタイミングチャー
トである。リセット時にはプリチャージ信号φpは接地
電位とされ、ワード線リセット信号φrは電源電圧レベ
ルである。また行アドレス信号は全て接地電位である。
従って、この時信号WLP0 は接地電位であり、トラン
ジスタQN7 (QN7')はオフ状態である。
【0040】また、ワード線リセット信号φrによりト
ランジスタQN5 (QN5')はオン状態であり、ワード
線WL(WL' )は接地電位であるので、トランジスタ
QN6 (QN6')がオフ状態であり、トランジスタQN
8 (QN8')のゲートレベルがハイレベルとなってトラ
ンジスタQN8 (QN8')がオン状態になっている。こ
れによりワード線WL(WL' )がノイズ等により、メ
モリセル選択トランジスタのしきい値電圧を越えて浮き
上がることを防止しており、ワード線のフローティング
を防止している。
【0041】メモリセルの選択時には、まずプリチャー
ジ信号φpが電源電圧レベルまで遷移し、トランジスタ
QP2 が完全にオフ状態になった後、行アドレス信号が
活性化してデコーダ部の選択がなされる。この時、ワー
ド線リセット信号発生回路5にも行アドレス信号の一部
が入力され、行アドレス信号の活性化により、ワード線
リセット信号φrが接地電位へと遷移する。
【0042】行アドレス信号によってデコーダ部1が選
択されると、トランジスタQN1 〜QN3 がオン状態と
なって、インバータINV1 により信号WLP0 が電源
電圧レベルに遷移し、節点N2 (N2')の電位が、VC
C−Vt の電位まで充電される。ここで、Vt はトラン
ジスタQN4 (QN4')のしきい値電圧である。
【0043】その後、ワード線駆動電流供給信号RA0
が活性化すると、節点N2 (N2')の電位は、トランジ
スタQN7 (QN7')のセルフブートによってVCC以
上の電位となり、ワード線WL(WL' )が活性化され
る。この時、ワード線WL(WL' )の電位上昇に伴
い、トランジスタQN6 (QN6')がオン状態になりト
ランジスタQN8 (QN8')のゲートレベルを接地電位
へと遷移させトランジスタQN8 (QN8')がオフ状態
になる。
【0044】このようにして、複数のドライバ部2a,
2cよりそれぞれ活性化されるワード線WL,WL' に
よる電流供給がなされて、分割ワード線WL00,WL0
1,WL02,WL03が同時に選択され1本のワード線W
Lが活性化され、その1本のワード線に属する全てのメ
モリセルが選択される。
【0045】図4の選択時で示す期間において、ワード
線が非活性化されたとき(選択されないとき)、図3の
信号WLP0 はローレベルのままである。そして、リセ
ット信号φrがローレベルに遷移すると、トランジスタ
QN5 はオフになってワード線WLはフローティングに
なろうとするが、トランジスタQN8 とQN6 とのフリ
ップフロップ作用により、リセット期間にリセットされ
ていたローレベルが維持されることになり、ノイズ等の
悪影響を受けないようになっている。
【0046】本実施例によれば、ワード線駆動回路選択
信号は相補信号ではないので、相補信号同士のショート
によるスタンバイ電流不良は起こり得ない。また、ワー
ド線駆動回路選択信号の配線ピッチは従来技術の倍にな
るので、ゴミ等による配線ショートの起こる確率も非常
に小さくなる。さらに、メモリセル容量部の3次元化等
によりメモリセル部と周辺部との段差が大きくなり、フ
ォトレジスト工程においてメモリセル部と周辺部の両方
に焦点を合わせるのが困難な場合でも、メモリセル部は
配線間隔に大きな余裕があるので、メモリセル部におい
て焦点が十分に合わなくても、配線ショートを引き起こ
すことは無い。
【0047】本実施例における従来技術からのチップ面
積増加分は、ワード線駆動回路領域をワード線の垂直方
向に走る信号配線が1本増加し、ワード線駆動回路にお
いてワード線のリセット回路としてトランジスタが追加
されるが、そのトランジスタサイズは電流能力を必要と
しないため必要最小限の小さなサイズで良く、従来技術
において配線ピッチを2倍に広げる場合と比べても面積
の増加は十分に小さく抑えることができる。
【0048】図5は図1に示したワード線リセット信号
発生回路5を別途設けずに、ビット線プリチャージ信号
φBPをワード線リセット信号φrに兼用した第2の実
施例の要部構成を示す回路図である。図5において図1
と同等部分は同一符号により示している。
【0049】本実施例においては、スタンバイ時にビッ
ト線電位をバランス、プリチャージするビット線プリチ
ャージ信号発生回路8から出力されるビット線プリチャ
ージ信号φBPを図1のワード線リセット信号φrとし
ても用いているので、図1のワード線リセット信号発生
回路5を別途設ける必要がなく、さにら面積の増加を抑
制することができる。
【0050】本実施例はメモリセルアレイの両側にセン
スアンプを配置したシェアードセンスアンプ方式を採用
した場合に最もその効果を発揮する。
【0051】図6はこのシェアードセンスアンプ方式を
採用したDRAMに、本発明の第2の実施例を適用した
場合の要部構成を示すレイアウト図である。
【0052】シェアードセンスアンプ方式では、メモリ
セルアレイの両側に配置されたセンスアンプが同時に活
性化されるため、ピット線プリチャージ信号発生回路
8,8’も同時に活性化される。したがって、ワード線
と垂直に形成されワード線駆動回路2a〜2e,3a〜
3e,4a〜4eに供給されるビット線プリチャージ信
号(ワード線リセット信号)φBPは、メモリセルアレ
イの両側から供給されるため、信号伝達時の時定数を十
分に小さくすることができる。
【0053】この結果、ワード線垂直方向のビット線プ
リチャージ信号配線は、比較的高抵抗であるゲート電極
材料のポリシリあるいはポリシリとタングステンシリサ
イドの2層構造等の材料の単層で形成することが可能で
あり、余分なコンタクトホール等を形成する必要がな
く、面積の増加をさらに抑制することができる。
【0054】その他本発明はその趣旨を逸脱しない範囲
で種々変形して実施することができることは明らかであ
る。
【0055】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載するような効果を奏する。すな
わち、ワード線駆動回路選択信号が相補信号ではないの
でワード線駆動回路選択信号同士の配線ショートによる
スタンバイ電流不良を引き起こすことがない。また配線
ピッチが広がるので加工が容易であり、ゴミ等による配
線ショートの起こる確立もきわめて低い。さらに、従来
技術で配線ピッチのみを広げる場合に比べて面積増大分
も小さくすることができる。このように、本発明によれ
ばチップ面積を著しく増加させることなく、高歩留りの
期待できる半導体メモリ装置を実現することが可能であ
る。
【0056】また、ワード線リセット信号としてビット
線プリチャージ信号を用いるものでは、別にワード線リ
セット信号発生回路を設ける必要がなく、チップ面積の
増加を抑制できる効果がある。さらに、シェアードセン
スアンプ方式を採用したDRAMに適用すれば、面積の
増加をより抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の要部構成を示す回路図
である。
【図2】図1中の2aに代表されるワード線駆動回路の
回路図である。
【図3】図1に示した回路のうちワード線に対して電流
供給を行うワードドライバ回路の要部構成を詳細に示す
回路図である。
【図4】本発明の実施例のワード線選択時の動作を示す
タイミング図である。
【図5】本発明の第2の実施例の要部構成を示す回路図
である。
【図6】本発明の第2の実施例の要部構成を示すレイア
ウト図である。
【図7】従来の半導体メモリ装置の要部構成を示す回路
図である。
【図8】図7中の2aに代表されるワード線駆動回路の
回路図である。
【図9】図7に示した回路のうちワード線に対して電流
供給を行うワードドライバ回路の要部を詳細に示す回路
図である。
【図10】従来のワード線選択時の動作を示すタイミン
グチャート図である。
【符号の説明】
1 行デコーダ 2a〜2e,3a〜3e,4a〜4e ワード線駆動回
路 5 ワード線リセット信号発生回路 6a〜6d,6a’〜6d’ センスアンプ 7a〜7d ワード線駆動電流供給回路 8,8’ ビット線プリチャージ信号発生回路 RA0 〜RA3 ワード線駆動電流供給信号 BL0 〜BL15 ビット線 WL00〜WL73 ワード線 WLP0 〜WLP2 ワード線駆動回路選択信号 MC00〜MC73 メモリセル φr ワード線リセット信号 QN1 〜QN8 ,QN1'〜QN8' N型トランジスタ QP1 〜QP2 ,QP1'〜QP2' P型トランジスタ INV1 インバータ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数グループに分割されたメモリセルア
    レイと、これ等メモリセルアレイのワード方向に夫々対
    応して設けられたワード線を夫々駆動すべく前記グルー
    プ対応に設けられた複数のワード線駆動手段と、外部ア
    ドレスをデコードすることによりワード線選択信号を生
    成して前記複数のワード線駆動手段を選択的に活性制御
    するデコード手段とを含む半導体メモリ装置であって、 ワード線選択動作時前のリセット時にアクティブとなっ
    て前記ワード線をリセットするためのワード線リセット
    信号を生成する手段を含み、 前記ワード線駆動手段の各々は、 前記ワード線選択信号により活性制御されて前記ワード
    線に駆動電流を供給制御する駆動電流供給手段と、 前記ワード線リセット信号を共通に受けてこの信号のア
    クティブ時に前記ワード線をリセットし、前記信号の非
    アクティブ時でかつ前記ワード線選択信号の非アクティ
    ブ時に当該ワード線をリセット状態に維持するワード線
    フローティング抑止手段と、 を有することを特徴とする半導体メモリ装置。
  2. 【請求項2】 前記ワード線は全て平行に配線されてお
    り、前記ワード線駆動手段の各々に共通の前記ワード線
    リセット信号は前記ワード線に対して垂直方向に配線さ
    れていることを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ
    装置。
  3. 【請求項3】 前記ワート線リセット信号は、メモリセ
    ルのビット線をプリチャージするためのビット線プリチ
    ャージ信号であることを特徴とする請求項1または2記
    載の半導体メモリ装置。
  4. 【請求項4】 前記駆動電流供給手段は、前記ワード線
    選択信号のアクティブ化に応答して前記ワード線に駆動
    電流を供給するセルフブースト型駆動回路であることを
    特徴とする請求項1〜3記載のいずれかの半導体メモリ
    装置。
  5. 【請求項5】 前記ワード線フローティング抑止手段
    は、 前記ワード線にドレインが接続されリセット電位にソー
    スが接続されたワード線フローティング防止用の第1の
    トランジスタと、 前記第1のトランジスタのゲートにソースが接続され、
    電源電位にドレインが接続されかつ前記ワード線リセッ
    ト信号がゲートに供給された第2のトランジスタと、 前記第1のトランジスタとフリップフロップ接続構成と
    された第3のトランジスタと、 からなることを特徴とする請求項1〜4記載のいずれか
    の半導体メモリ装置。
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