JPH0388195A - Mos型半導体記憶装置 - Google Patents

Mos型半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH0388195A
JPH0388195A JP1226080A JP22608089A JPH0388195A JP H0388195 A JPH0388195 A JP H0388195A JP 1226080 A JP1226080 A JP 1226080A JP 22608089 A JP22608089 A JP 22608089A JP H0388195 A JPH0388195 A JP H0388195A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
during
gate
potential
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1226080A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2737293B2 (ja
Inventor
Yoshinori Matsui
義徳 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP1226080A priority Critical patent/JP2737293B2/ja
Priority to EP90116650A priority patent/EP0415408B1/en
Priority to US07/574,729 priority patent/US5113374A/en
Priority to DE69019438T priority patent/DE69019438T2/de
Publication of JPH0388195A publication Critical patent/JPH0388195A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2737293B2 publication Critical patent/JP2737293B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/08Word line control circuits, e.g. drivers, boosters, pull-up circuits, pull-down circuits, precharging circuits, for word lines

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はMO8型半導体記憶装置に関し、特に冗長機能
とワード線リセット用のトランジスタを備えたMO8型
半導体記憶装置に関する。
〔従来の技術〕
従来のこの種のMO8型半導体記憶装置の一例を第4図
に示す。
lはXデコーダであり、アドレス信号X1〜X3により
ワード線WLを選択したり、プリチャージ信号P1によ
りワード線WLの電位を制御する。
TIOはワード線リセット用のトランジスタである。
Xデコーダ1がワード線非選択時には、節点N1は電源
レベルにプリチャージされている。
トランジスタTIOのドレインはワード線WLに、ゲー
トは節点Nlに、ンースは接地電位点に接続されている
選択動作期間中のXデコーダ1がワード線非選択状態に
ある時及びプリチャージ動作時には、ワード線WLはト
ランジスタTIOにより接地電位にディスチャージされ
ている。トランジスタT10は主に非選択状態のワード
線WLのフローティング防止のために働らく。
MO8型半導体記憶装置の集積度が上がるにつれ、冗長
回路の使用が一般的になりつつある。冗長方式は、メモ
リセルアレイ内部の欠陥セル。
・ワード線、ディジ、ト線等をワード線、デイジット線
単位で置換するのが一般的である。また、冗長回路の動
作は、ワード線に対してはワード線駆動信号、デイジッ
ト線に対してはYスイ、チの活性化信号を非動作にする
禁止信号の発生と、置換ワード線駆動信号あるいは置換
デイジット線のYスイッチ活性化信号によるものが一般
的である。
今、第5図に示すように、ディジ、ト線DIとワード線
WL(7)短絡(抵抗Rで表示)に対してデイジット線
対DI、15Tを冗長用のデイジット線対DR,DRに
置換した場合を考える。
前述したように、冗長回路の使用時にはYスイ、チ活性
化の禁止信号の発生によつYスイッチYSWI 1.Y
SWI 2は活性化されず、代わりに冗長用のYスイ?
/ チY S WR1、Y S WR2が活性化される
ことにより、冗長用のデイジット線対DR,Tiの信号
が入出力線I10.mに送られる。
被置換のデイジット線対(D 1 、157)に対して
は、Yスイッチ(YSWI 1.YSWI 2)(7)
みが活性化されないだけで、センス増幅器(SAl)は
動作し、デイジット線対(Dl、i丁)のプリチャージ
は行なわれる。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のMOS型半導体記憶装置は、ワード線リ
セット用のトランジスタTIOを備え、デイジット線(
DI、DI)とワード線WLとが短絡しこのデイジット
線(D I 、 n)を冗長用のデイジット線(DR,
DR)に置換した場合、デイジット線(D 1 、75
T’)のプリチャージも行なわれるW或となっているの
で、第5図の一点鎖線に示す経路で電流が流れ、プリチ
ャージが行なわれるスタンバイ時の消費電流が増大する
という欠点がある。
本発明の目的は、ワード線とデイジット線等との短絡が
あり、このデイジット線等を冗長用のデイジット線等に
置換したとき、この短絡により消費電流が増大するのを
防止することができるMO8型半導体記憶回路を提供す
ることにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のMO8型半導体記憶装置は、メモリセルアレイ
の所定の7ドレスを選択するための複数のワード線と、
これら各ワード線と接地電位点との間にそれぞれ設けら
れ、ワード線選択動作時に非選択状態にある前記ワード
線、及びプリチャージ動作期間中の前記各ワード線をそ
れぞれ接地電位とする複数のワード線リセット用のトラ
ンジスタとを有するMOS型半導体記憶装置において、
前記プリチャージ動作期間中に前記各ワード線と前記接
地電位点との間に流れる電流を、前記ワード線選択動作
時のワード線非選択時に流れる電流より小さくする手段
を設けて構成される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の第1の実施例の回路図である。
1はXデコーダ、TIOはワード線リセット用のトラン
ジスタであり、第4図に示された従来のMO8型半導体
記憶装置と相違する点は、Xデコーダ1によるトランジ
スタTIOのゲート電位Gの制御を、切換回路2を経由
して行なうようにした点にある。
ゲート電位Gは、トランスフアゲ−)TGIを介して、
Xデコーダ1の内部の節点N1が、さらにトランスフア
ゲ−)TG2を介して中間電位発生回路からの中間電位
Hが接続されている。
信号φ、はワード線選択動作時に高レベル、プリチャー
ジ動作時に低レベルとなる信号である。
トランスフアゲ−)TGIは信号φ□によりワード線選
択動作時にオン状態、プリチャージ動作時にオフ状態と
t、る。同様にトランスファゲートTG2は、ワード線
選択動作時にオフ状態、プリチャージ動作時にオン状態
となる。
Xデコーダ1のワード線選択動作時のワード線非選択状
態時におけるゲート電位Gの電位変化を第2図に示す。
ゲート電位Gは、ワード線選択動作時(TA)に電源電
位V0゜、プリチャージ動作時(TP)には中間電位H
のレベルが与えられる。
非選択状態のワード線WLの浮きは、ワード線選択動作
時のデイジット線、あるいは隣接するワード線とのカッ
プリングノイズによるものが大きく、プリチャージ動作
時にはノイズによるワード線WLの浮き等はほとんど生
じない。
従って、ワード線リセット用のトランジスタT10のゲ
ート電位Gをプリチャージ動作時に中間電位Hに下げ、
トランジスタTIOに流れる電流値を下げる事は問題な
い。
第5図に示したようなワード線WLとデイジット線D1
との短絡がある場合には、プリチャージ動作時にトラン
ジスタTIOのゲート電位Gを下げることにより、プリ
チャージ動作を含むスタンバイ期間の電流が増大するの
を防止することができる。
第3図は本発明の第2の実施例の回路図である。
この実施例が第4図に示された従来のMO8半導体記憶
装置を相違する点は、ワード線WLのワード線リセット
用のトランジスタTIOが接続されている端とは異なる
端に、プリチャージ信号P2により制御されるトランジ
スタTllを設けた点にある。
プリチャージ信号P2はワード線選択動作時鳥レベル、
プリチャージ動作時低レベルとなる。
ワード線選択動作期間中のワード線非選択時には、ワー
ド線WLはトランジスタTIO,Tllによりディスチ
ャージされる。
プリチャージ動作期間中には、トランジスタT11はゲ
ートが低レベルとなるためオフし、ワード線WLはトラ
ンジスタTIOのみでディスチャージされる。
従って、プリチャージ動作期間中のワード線ディスチャ
ージのための電流値は下がり、第1の実施例と同様の効
果を有する。
りTIOの寸法を小さくすることができ、マスク設計上
有利となる利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、プリチャージ動作時にワ
ード線・接地電位点間に流れる電流をワード線選択動作
時のワード線非選択時の電流より小さくする手段を設け
ることにより、ワード線とデイジット線等との短絡箇所
があったときに、スタンバイ時の消費電流が増大するの
を防止することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図、第2図は
第1図に示され実施例の動作を説明するための各部信号
の波形図、第3図は一本発明の第2の実施例を示す回路
図、第4図は従来のMO8型半導体記憶装置の一例を示
す回路図、第5図は第4図に示されたMO8型半導体記
憶装置の課題を説明するための回路図である。 1・・・・・・Xデコーダ、2・・・・・・切換回路、
DI、DI。 DR,DR・・・・・・デイジット線、11〜工3・・
・・・・インバータ、工10.r7?:5・・・・・・
入出力線、SAI。 SAR・・・・・・センス増!器、Tl〜Tll・旧・
・トランジスタ、TGI、TG2・・・・・・トランス
ファゲート、WL・・・・・・ワード線、YSWI 1
.YSWI  2゜YSWRl、YSWR2・・・・・
・Yスイッチ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. メモリセルアレイの所定のアドレスを選択するための複
    数のワード線と、これら各ワード線と接地電位点との間
    にそれぞれ設けられ、ワード線選択動作時に非選択状態
    にある前記ワード線、及びプリチャージ動作期間中の前
    記各ワード線をそれぞれ接地電位とする複数のワード線
    リセット用のトランジスタとを有するMOS型半導体記
    憶装置において、前記プリチャージ動作期間中に前記各
    ワード線と前記接地電位点との間に流れる電流を、前記
    ワード線選択動作時のワード線非選択時に流れる電流よ
    り小さくする手段を設けたことを特徴とするMOS型半
    導体記憶装置。
JP1226080A 1989-08-30 1989-08-30 Mos型半導体記憶装置 Expired - Lifetime JP2737293B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1226080A JP2737293B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 Mos型半導体記憶装置
EP90116650A EP0415408B1 (en) 1989-08-30 1990-08-30 MOS type semiconductor memory device
US07/574,729 US5113374A (en) 1989-08-30 1990-08-30 Mos type semiconductor memory device having a word line resetting circuit
DE69019438T DE69019438T2 (de) 1989-08-30 1990-08-30 MOS-Typ-Halbleiterspeicheranordnung.

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1226080A JP2737293B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 Mos型半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0388195A true JPH0388195A (ja) 1991-04-12
JP2737293B2 JP2737293B2 (ja) 1998-04-08

Family

ID=16839509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1226080A Expired - Lifetime JP2737293B2 (ja) 1989-08-30 1989-08-30 Mos型半導体記憶装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5113374A (ja)
EP (1) EP0415408B1 (ja)
JP (1) JP2737293B2 (ja)
DE (1) DE69019438T2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130173A (ja) * 1993-11-04 1995-05-19 Nec Corp 半導体メモリ装置
US5602784A (en) * 1994-09-16 1997-02-11 Matsushita Electronics Corporation Power consumption reducing circuit having word-line resetting ability regulating transistors
WO2004077444A1 (ja) * 2003-02-27 2004-09-10 Fujitsu Limited 半導体記憶装置及びそのリフレッシュ方法
JP2011054270A (ja) * 2000-03-24 2011-03-17 Renesas Electronics Corp 半導体記憶装置

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04225182A (ja) * 1990-12-26 1992-08-14 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JPH056675A (ja) * 1991-06-27 1993-01-14 Nec Corp スタテイツク型半導体メモリ装置
JP2870320B2 (ja) * 1992-09-29 1999-03-17 日本電気株式会社 半導体メモリ回路
US5491663A (en) * 1994-11-30 1996-02-13 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Pre-charged slave latch with parallel previous state memory
JP3068426B2 (ja) * 1994-12-21 2000-07-24 日本電気株式会社 半導体記憶装置
JP3631277B2 (ja) * 1995-01-27 2005-03-23 株式会社日立製作所 メモリモジュール
DE19823956A1 (de) * 1998-05-28 1999-12-02 Siemens Ag Anordnung zur Übersprechdämpfung in Wortleitungen von DRAM-Schaltungen
JP2000243089A (ja) * 1999-02-19 2000-09-08 Fujitsu Ltd デコーダ回路及びデコード方法
JP2005174426A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Micron Technology Inc 選択可能メモリワード線の不活性化
KR100845774B1 (ko) * 2006-10-13 2008-07-14 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치 및 이를 이용한 전압 제어 방법
US20090307891A1 (en) * 2008-06-17 2009-12-17 Ge-Hitachi Nuclear Energy Americas Llc Method and apparatus for remotely inspecting and/or treating welds, pipes, vessels and/or other components used in reactor coolant systems or other process applications

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6027115B2 (ja) * 1977-10-19 1985-06-27 株式会社日立製作所 Ram半導体集積回路
JPS56143587A (en) * 1980-03-26 1981-11-09 Fujitsu Ltd Static type memory circuit
US4539661A (en) * 1982-06-30 1985-09-03 Fujitsu Limited Static-type semiconductor memory device
JPS6113497A (ja) * 1984-06-29 1986-01-21 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS61194695A (ja) * 1985-02-22 1986-08-29 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> ワ−ド線クランプ回路
JPS6212996A (ja) * 1985-07-10 1987-01-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US4691302A (en) * 1985-09-04 1987-09-01 Siemens Aktiengesellschaft Circuit arrangement comprising a matrix-shaped memory arrangement for variably adjustable delay of digital signals
JPS62114200A (ja) * 1985-11-13 1987-05-25 Mitsubishi Electric Corp 半導体メモリ装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07130173A (ja) * 1993-11-04 1995-05-19 Nec Corp 半導体メモリ装置
US5602784A (en) * 1994-09-16 1997-02-11 Matsushita Electronics Corporation Power consumption reducing circuit having word-line resetting ability regulating transistors
JP2011054270A (ja) * 2000-03-24 2011-03-17 Renesas Electronics Corp 半導体記憶装置
WO2004077444A1 (ja) * 2003-02-27 2004-09-10 Fujitsu Limited 半導体記憶装置及びそのリフレッシュ方法
US7248525B2 (en) 2003-02-27 2007-07-24 Fujitsu Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7580308B2 (en) 2003-02-27 2009-08-25 Fujitsu Microelectronics Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7675801B2 (en) 2003-02-27 2010-03-09 Fujitsu Microelectronics Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same
US7764560B2 (en) 2003-02-27 2010-07-27 Fujitsu Semiconductor Limited Semiconductor memory device and refresh method for the same

Also Published As

Publication number Publication date
DE69019438D1 (de) 1995-06-22
EP0415408A2 (en) 1991-03-06
US5113374A (en) 1992-05-12
DE69019438T2 (de) 1996-01-04
EP0415408A3 (en) 1993-05-05
EP0415408B1 (en) 1995-05-17
JP2737293B2 (ja) 1998-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7633788B2 (en) Variable resistive memory wordline switch
US8223572B2 (en) Efficient word lines, bit line and precharge tracking in self-timed memory device
JP4039532B2 (ja) 半導体集積回路装置
JPH0388195A (ja) Mos型半導体記憶装置
JPS5968889A (ja) 半導体記憶装置
JPH07111084A (ja) 半導体集積回路装置
JP3754593B2 (ja) データビットを記憶するメモリーセルを有する集積回路および集積回路において書き込みデータビットをメモリーセルに書き込む方法
JPS63149895A (ja) 半導体メモリ
JP3048785B2 (ja) カラムアドレス遷移検出回路
JP2000311489A (ja) 半導体記憶装置
JPS6059599A (ja) 不揮発性半導体メモリ
KR100218307B1 (ko) 반도체 메모리소자의 칼럼디코딩회로
US6249464B1 (en) Block redundancy in ultra low power memory circuits
JPH06132747A (ja) 半導体装置
JPH05128858A (ja) 半導体記憶装置
JPH02244479A (ja) 半導体メモリ装置
JPS60119691A (ja) メモリ回路
KR0152956B1 (ko) 비트라인 선택회로
JPS63133391A (ja) 半導体記憶装置
JPH05101676A (ja) 半導体記憶装置
JPH07105152B2 (ja) 不揮発性メモリ回路装置
JPH1064272A (ja) 半導体メモリ装置
JPH0325878B2 (ja)
JPH0684352A (ja) 半導体集積回路
JP2000306381A (ja) 半導体記憶装置