JPH0639446B2 - キノロンカルボン酸中間体の合成方法 - Google Patents
キノロンカルボン酸中間体の合成方法Info
- Publication number
- JPH0639446B2 JPH0639446B2 JP1304566A JP30456689A JPH0639446B2 JP H0639446 B2 JPH0639446 B2 JP H0639446B2 JP 1304566 A JP1304566 A JP 1304566A JP 30456689 A JP30456689 A JP 30456689A JP H0639446 B2 JPH0639446 B2 JP H0639446B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- fluorine
- chlorine
- cyclopropyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- XOQQVKDBGLYPGH-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-1h-quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 XOQQVKDBGLYPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 title description 2
- -1 6-fluoro-7-substituted-quinolonecarboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 26
- 239000000460 chlorine Chemical group 0.000 claims description 19
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical group [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052801 chlorine Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 13
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 claims description 9
- 125000004215 2,4-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(F)C([H])=C1F 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 claims description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004784 trichloromethoxy group Chemical group ClC(O*)(Cl)Cl 0.000 claims description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims description 3
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 abstract description 13
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 abstract 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 25
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- TXJUTRJFNRYTHH-UHFFFAOYSA-N 1h-3,1-benzoxazine-2,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)OC(=O)NC2=C1 TXJUTRJFNRYTHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCPYLLCMEDAXFR-UHFFFAOYSA-N triphosgene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)OC(=O)OC(Cl)(Cl)Cl UCPYLLCMEDAXFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGOZIZVTANAGCA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound NC1=CC(F)=C(F)C=C1C(O)=O DGOZIZVTANAGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHXDCVFTXJVUGK-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2-iodobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1I NHXDCVFTXJVUGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTJDQJBWANPRPF-UHFFFAOYSA-N Cyclopropylamine Chemical compound NC1CC1 HTJDQJBWANPRPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000007660 quinolones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEPCPXLLFXPZGW-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluoroaniline Chemical compound NC1=CC=C(F)C=C1F CEPCPXLLFXPZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTURLAGGUMXTAE-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluoroanilino)-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1NC1=CC=C(F)C=C1F HTURLAGGUMXTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZKIUAPWPWPRQJ-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclopropylamino)-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1NC1CC1 JZKIUAPWPWPRQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGFMLBSNHNWJAW-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1Cl CGFMLBSNHNWJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPENCTDAQQQKNY-UHFFFAOYSA-N 3,4-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(F)C(F)=C1 FPENCTDAQQQKNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940076286 cupric acetate Drugs 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 229960004643 cupric oxide Drugs 0.000 description 1
- 229940045803 cuprous chloride Drugs 0.000 description 1
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940112669 cuprous oxide Drugs 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hexane Chemical compound CCOCC.CCCCCC ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- WGZPDLDHADAWSC-UHFFFAOYSA-N methyl 1-cyclopropyl-6,7-difluoro-4-oxoquinoline-3-carboxylate Chemical compound C12=CC(F)=C(F)C=C2C(=O)C(C(=O)OC)=CN1C1CC1 WGZPDLDHADAWSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVYNPFNRUNVROH-UHFFFAOYSA-N methyl 3-hydroxyprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C=CO FVYNPFNRUNVROH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N methyl chloroformate Chemical compound COC(Cl)=O XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N o-aminobenzenecarboxylic acid Natural products NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079827 sodium hydrogen sulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 description 1
- LMJSLTNSBFUCMU-UHFFFAOYSA-N trichlormethiazide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC2=C1NC(C(Cl)Cl)NS2(=O)=O LMJSLTNSBFUCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004813 trichlormethiazide Drugs 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/20—Oxygen atoms
- C07D215/22—Oxygen atoms attached in position 2 or 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D265/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one nitrogen atom and one oxygen atom as the only ring hetero atoms
- C07D265/04—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines
- C07D265/12—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D265/14—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
- C07D265/24—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring with hetero atoms directly attached in positions 2 and 4
- C07D265/26—Two oxygen atoms, e.g. isatoic anhydride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
- C07C229/54—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
- C07C229/56—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with amino and carboxyl groups bound in ortho-position
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
- C07C229/52—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton
- C07C229/54—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
- C07C229/56—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with amino and carboxyl groups bound in ortho-position
- C07C229/58—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with amino and carboxyl groups bound in ortho-position having the nitrogen atom of at least one of the amino groups further bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring, e.g. N-phenyl-anthranilic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/347—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups
- C07C51/363—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reactions not involving formation of carboxyl groups by introduction of halogen; by substitution of halogen atoms by other halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
- C07C63/68—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings containing halogen
- C07C63/70—Monocarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
- C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D215/48—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
- C07D215/54—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3
- C07D215/56—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen attached in position 3 with oxygen atoms in position 4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/02—Systems containing only non-condensed rings with a three-membered ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Quinoline Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は抗菌活性を持つ6−フルオロ−7−置換キノロ
ンカルボン酸合成のための6−フルオロ−7−ハロ−キ
ノロンカルボン酸中間体の合成に有用な中間体およびそ
のような中間体の合成のための方法に関する。
ンカルボン酸合成のための6−フルオロ−7−ハロ−キ
ノロンカルボン酸中間体の合成に有用な中間体およびそ
のような中間体の合成のための方法に関する。
一般には、抗菌性の6−フルオロ−7−置換キノロンカ
ルボン酸は相当する7−ハロ−6−フルオロ−キノロン
カルボン酸中間体(式中ハロゲン原子はフッ素または塩
素が好ましい)の置換によって合成される。このような
7−ハロ中間体を合成するための従来の方法は米国特許
第4,563,459号および第4,623,650号に記載されている。
ルボン酸は相当する7−ハロ−6−フルオロ−キノロン
カルボン酸中間体(式中ハロゲン原子はフッ素または塩
素が好ましい)の置換によって合成される。このような
7−ハロ中間体を合成するための従来の方法は米国特許
第4,563,459号および第4,623,650号に記載されている。
本発明は式 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニル、または2,4-ジフルオロフ
ェニルであり、R4はヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、ア
ミノまたはC1−C4アルキルアミノであり、Xはフッ素ま
たは塩素である)の7−ハロ−キノロンカルボン酸中間
体およびそのうちで有用な新規中間体の合成のための新
規の方法に関する。
ニル、4−フルオロフェニル、または2,4-ジフルオロフ
ェニルであり、R4はヒドロキシ、C1−C4アルコキシ、ア
ミノまたはC1−C4アルキルアミノであり、Xはフッ素ま
たは塩素である)の7−ハロ−キノロンカルボン酸中間
体およびそのうちで有用な新規中間体の合成のための新
規の方法に関する。
本発明の中間体の一群は式 (式中R1は水素またはC1−C4アルキルであり、R2はヨウ
素、t−ブチルアミノ、シクロプロピルアミノ、フェニ
ルアミノ、4−フルオロフェニルアミノまたは2,4-ジフ
ルオロフエニルアミノであり、Xはフッ素または塩素で
あり、但しR2がヨウ素である時にはR1は水素である)の
新規化合物である。この群に入る好適な中間体はR1が水
素であり、Xがフッ素であり、R2がヨウ素、シクロプロ
ピルアミノまたは2,4-ジフルオロフェニルアミノである
式Vの化合物である。
素、t−ブチルアミノ、シクロプロピルアミノ、フェニ
ルアミノ、4−フルオロフェニルアミノまたは2,4-ジフ
ルオロフエニルアミノであり、Xはフッ素または塩素で
あり、但しR2がヨウ素である時にはR1は水素である)の
新規化合物である。この群に入る好適な中間体はR1が水
素であり、Xがフッ素であり、R2がヨウ素、シクロプロ
ピルアミノまたは2,4-ジフルオロフェニルアミノである
式Vの化合物である。
本発明のもう一つの中間体群は式 (式中XおよびR3は式Iに関して上で定義されたもので
ある)の新規化合物である。
ある)の新規化合物である。
本発明により、式Iの化合物は式 (式中R3およびXは上で定義されたものである)の化合
物を式 HOCH=CH−COR4 (式中R4は式Iに関して上で定義されたものである)の
化合物のアルカリ金属塩と反応させることによって合成
される。
物を式 HOCH=CH−COR4 (式中R4は式Iに関して上で定義されたものである)の
化合物のアルカリ金属塩と反応させることによって合成
される。
式IIの化合物は、本発明によって、式 (式中XおよびR3は上で定義されたものである)の化合
物を式 R5R6C=0 (式中R5およびR6は両方とも塩素またはトリクロルメチ
ロキシであるか、またはR5は塩素でR6はC1−C6アルコキ
シ、トリクロルメチロキシ、フェニルまたは1個、2個
または3個のハロゲン、ニトロ、C1−C6アルキルまたは
トリフルオロメチルのような反応条件下で不活性な置換
基によって置換されたフェニルである)の化合物と反応
させることによって合成される。好適なのはR5およびR6
が両方ともトリクロルメチロキシまたは塩素であるか、
またはR5が塩素でR6がトリクロルメチロキシである。
物を式 R5R6C=0 (式中R5およびR6は両方とも塩素またはトリクロルメチ
ロキシであるか、またはR5は塩素でR6はC1−C6アルコキ
シ、トリクロルメチロキシ、フェニルまたは1個、2個
または3個のハロゲン、ニトロ、C1−C6アルキルまたは
トリフルオロメチルのような反応条件下で不活性な置換
基によって置換されたフェニルである)の化合物と反応
させることによって合成される。好適なのはR5およびR6
が両方ともトリクロルメチロキシまたは塩素であるか、
またはR5が塩素でR6がトリクロルメチロキシである。
式IIIの化合物は、本発明によって、式 (式中Xはフッ素または塩素であり、Halはヨウ素、臭
素または塩素である)の化合物を式R3NH2 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニルまたは2,4-ジフルオロフェ
ニルである)の化合物と銅または銅化合物の存在下で反
応させることによって合成される。
素または塩素である)の化合物を式R3NH2 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニルまたは2,4-ジフルオロフェ
ニルである)の化合物と銅または銅化合物の存在下で反
応させることによって合成される。
式IIおよびIIIの化合物の合成のための上記の中間体の
合成手段による式IVの化合物から式Iの化合物を合成す
るための全反応も発明の一部である。
合成手段による式IVの化合物から式Iの化合物を合成す
るための全反応も発明の一部である。
Halがヨウ素である式IVの化合物は新規化合物である。
それらの化合物は既知化合物2−アミノ−4,5-ジフルオ
ロ安息香酸を希硫酸溶液中で亜硝酸ナトリウムと常圧下
約−10〜0℃の温度で反応させることによって合成され
得る。形成されたジアゾニウム化合物を次に約−10〜0
℃の温度でヨウ化カリウムの希硫酸溶液で処理し、生じ
た黒いスラリーを室温にゆっくり暖め約12〜24時間撹拌
した。
それらの化合物は既知化合物2−アミノ−4,5-ジフルオ
ロ安息香酸を希硫酸溶液中で亜硝酸ナトリウムと常圧下
約−10〜0℃の温度で反応させることによって合成され
得る。形成されたジアゾニウム化合物を次に約−10〜0
℃の温度でヨウ化カリウムの希硫酸溶液で処理し、生じ
た黒いスラリーを室温にゆっくり暖め約12〜24時間撹拌
した。
式IVの化合物から式IIIのアントラニル酸化合物の合成
は触媒量の銅(O)または酸化第2銅や酸化第1銅のよ
うな銅化合物または酢酸第2銅、硫酸第2銅、塩化第2
銅、臭化第2銅、トリフレイト第2銅、塩化第1銅、臭
化第1銅およびトリフレイト第1銅の存在下で行なわれ
る。銅触媒は一般的には少なくとも約5モル%の量、通
常は約10から20モル%の量で存在する。反応はジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、N−メチル−ピロリジノン、ジメチルアセトアミド
またはジメチルホルホキシドのような不活性で双極性の
非プロトン性溶媒中、トリエチルアミンまたはジイソプ
ロピルエチルアミンのような三級アミン塩基を随意に存
在させてピリジンまたはジメチルアミノピリジンのよう
な有機塩基の存在下で行なう。有機塩基は一般的には1
〜2モル当量、通常は1.5モル当量存在させる。
は触媒量の銅(O)または酸化第2銅や酸化第1銅のよ
うな銅化合物または酢酸第2銅、硫酸第2銅、塩化第2
銅、臭化第2銅、トリフレイト第2銅、塩化第1銅、臭
化第1銅およびトリフレイト第1銅の存在下で行なわれ
る。銅触媒は一般的には少なくとも約5モル%の量、通
常は約10から20モル%の量で存在する。反応はジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、N−メチル−ピロリジノン、ジメチルアセトアミド
またはジメチルホルホキシドのような不活性で双極性の
非プロトン性溶媒中、トリエチルアミンまたはジイソプ
ロピルエチルアミンのような三級アミン塩基を随意に存
在させてピリジンまたはジメチルアミノピリジンのよう
な有機塩基の存在下で行なう。有機塩基は一般的には1
〜2モル当量、通常は1.5モル当量存在させる。
反応温度は式IV中のHalがヨウ素、臭素または塩素であ
るのかに依る。Halがヨウ素の時は、反応は約10〜40℃
で行なうことができ、約20〜25℃のような室温が有利で
ある。Halが臭素の時は、反応温度は約25〜50℃であ
る。Halが塩素の時は、反応温度は約50〜100℃で、通常
は70℃以上であり、1気圧から約2気圧の間の反応圧力
を生ずる密封容器中で反応を行なう。
るのかに依る。Halがヨウ素の時は、反応は約10〜40℃
で行なうことができ、約20〜25℃のような室温が有利で
ある。Halが臭素の時は、反応温度は約25〜50℃であ
る。Halが塩素の時は、反応温度は約50〜100℃で、通常
は70℃以上であり、1気圧から約2気圧の間の反応圧力
を生ずる密封容器中で反応を行なう。
式IV中のHalがヨウ素または塩素の時は、反応容器中に
窒素のような不活性ガスを導入するかまたは密封容器中
で反応を行なうかして、少なくとも最初のうちは反応を
空気の無い状態で行なう。
窒素のような不活性ガスを導入するかまたは密封容器中
で反応を行なうかして、少なくとも最初のうちは反応を
空気の無い状態で行なう。
式R3NH2の試薬約2モル当量、ジメチルホルムアミド中
有機塩基のピリジン約1.5モル当量および銅触媒約0.2モ
ル当量を用いると高収率が得られることが判明した。
有機塩基のピリジン約1.5モル当量および銅触媒約0.2モ
ル当量を用いると高収率が得られることが判明した。
反応はR3NH21当量、銅またはその塩1当量およびジメ
チルホルムアミド中のピリジン1.5当量でも行ない得
る。
チルホルムアミド中のピリジン1.5当量でも行ない得
る。
式IIのイサト酸無水物は式IIIの化合物を式R5R6C=0
(式中R5およびR6は上で定義されたものである)の試薬
と反応させて合成される。例えば、試薬としてはホスゲ
ンがあるが、市販されていて固体であるため取扱い易い
ビスー(トリクロロメチル)カルボネイト(トリホスゲ
ン)が好ましい。上記試薬が固体の時は、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素またはジクロルエタンの
ような塩素化アルカンまたはトルエン、ベンゼンまたは
キシレンのような芳香族溶媒のような不活性溶媒中で反
応を行なう。反応は約−10〜15℃で約15分から1.5時
間、通常は30分間行なわれる。試薬がホスゲンの場合
は、溶媒は塩酸のような水性の酸も使用できる。試薬が
メチルクロルホルメイトまたはエチルクロルホルメイト
のような液体の場合は、溶媒を除くこともできるし、代
わりに試薬を過剰に使用することもできる。次に反応混
合物を約150と200℃の間の温度で約18〜24時間加熱す
る。
(式中R5およびR6は上で定義されたものである)の試薬
と反応させて合成される。例えば、試薬としてはホスゲ
ンがあるが、市販されていて固体であるため取扱い易い
ビスー(トリクロロメチル)カルボネイト(トリホスゲ
ン)が好ましい。上記試薬が固体の時は、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素またはジクロルエタンの
ような塩素化アルカンまたはトルエン、ベンゼンまたは
キシレンのような芳香族溶媒のような不活性溶媒中で反
応を行なう。反応は約−10〜15℃で約15分から1.5時
間、通常は30分間行なわれる。試薬がホスゲンの場合
は、溶媒は塩酸のような水性の酸も使用できる。試薬が
メチルクロルホルメイトまたはエチルクロルホルメイト
のような液体の場合は、溶媒を除くこともできるし、代
わりに試薬を過剰に使用することもできる。次に反応混
合物を約150と200℃の間の温度で約18〜24時間加熱す
る。
式IIのイサト酸無水物を生成するための反応はトリエチ
ルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンのような三
級アミンを随意に存在させてピリジンまたはジメチルア
ミノピリジンのような有機塩基の存在下で行なわれる。
ルアミンまたはジイソプロピルエチルアミンのような三
級アミンを随意に存在させてピリジンまたはジメチルア
ミノピリジンのような有機塩基の存在下で行なわれる。
式Iのキノロンはイサト酸無水物IIを少なくとも約1当
量のC1−C3アルキル3−ヒドロキシアクリレイトのアル
カリ金属塩と反応させて合成する。アルカリ金属はナト
リウム、リチウムまたはカリウムである。反応はジメチ
ルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、N−メチルピロリジノンまたはジメチルアセトアミ
ドのような双極性の非プロトン性溶媒中で行なう。反応
温度は約20〜100℃の範囲内で、通常は約50℃であり、
反応時間は約1〜24時間であり、通常は約1時間であ
る。反応はアルカリ金属イオン用のキレート剤の存在下
で行なうと有利に進行する。好適なキレート剤の例とし
てはN,N′−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチル
ホスホリックトリアミド、N,N′−ジメチルプロピレン
尿素およびトリス〔2−(メトキシエトキシ)エチル〕
アミンが挙げられる。
量のC1−C3アルキル3−ヒドロキシアクリレイトのアル
カリ金属塩と反応させて合成する。アルカリ金属はナト
リウム、リチウムまたはカリウムである。反応はジメチ
ルホルムアミド、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタ
ン、N−メチルピロリジノンまたはジメチルアセトアミ
ドのような双極性の非プロトン性溶媒中で行なう。反応
温度は約20〜100℃の範囲内で、通常は約50℃であり、
反応時間は約1〜24時間であり、通常は約1時間であ
る。反応はアルカリ金属イオン用のキレート剤の存在下
で行なうと有利に進行する。好適なキレート剤の例とし
てはN,N′−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチル
ホスホリックトリアミド、N,N′−ジメチルプロピレン
尿素およびトリス〔2−(メトキシエトキシ)エチル〕
アミンが挙げられる。
R4がヒドロキシである式IのキノロンはR4がC1−C4アル
コキシである式Iの相当するエステルを例えば塩酸のよ
うな酸との加熱のような普通の加水分解して合成し得
る。
コキシである式Iの相当するエステルを例えば塩酸のよ
うな酸との加熱のような普通の加水分解して合成し得
る。
以下の実施例は発明を例証する。
実施例1 機械式撹拌機と2個の滴下漏斗および温度計をとり付け
た1の四頚丸底フラスコに2−アミノ−4,5-ジフルオ
ロ安息香酸20g(86.71mmol)および濃硫酸12.3mlを水9
0mlに溶かした液を入れた。そのスラリーを氷−アセト
ン浴上で0°から−5℃に冷却した。滴下漏斗の一方に
亜硝酸ナトリウム6.57g(95.22mmol)を水30mlに溶か
した液を入れて、ゆっくり添加した。内部の反応温度が
0℃以上に上らないようにしながらその溶液を5分後に
は全て滴下した。第2の滴下漏斗にヨウ化カリウム21.6
g(128.31mmol)を1N硝酸45mlに溶かした液を入れ
た。次にこの溶液を内部温度が0℃以下に保ちながら10
分間かけて滴加した。滴加中、反応混合物は窒素ガスを
放出し、泡立つ。添加が完了したら、その黒色の混合物
を室温にゆっくりと暖めながら一晩撹拌した。反応混合
物に亜硫酸水素ナトリウム30gを水165mlに溶かした液
を加えて反応を止め、その懸濁液を6N塩酸5mlでpH2.
5に調整した。生じたスラリーを0℃で30分撹拌してか
ら濾過した。酢酸エチルに大部分の固体を溶解して、次
に活性炭によって清澄化および処理して、黒色の物質を
精製した。フィルターエイド(セライト)によって漏下
して留去すると2−ヨード−4,5-ジフルオロ安息香酸
(mp.126−127℃)が20g(82%)得られた。
た1の四頚丸底フラスコに2−アミノ−4,5-ジフルオ
ロ安息香酸20g(86.71mmol)および濃硫酸12.3mlを水9
0mlに溶かした液を入れた。そのスラリーを氷−アセト
ン浴上で0°から−5℃に冷却した。滴下漏斗の一方に
亜硝酸ナトリウム6.57g(95.22mmol)を水30mlに溶か
した液を入れて、ゆっくり添加した。内部の反応温度が
0℃以上に上らないようにしながらその溶液を5分後に
は全て滴下した。第2の滴下漏斗にヨウ化カリウム21.6
g(128.31mmol)を1N硝酸45mlに溶かした液を入れ
た。次にこの溶液を内部温度が0℃以下に保ちながら10
分間かけて滴加した。滴加中、反応混合物は窒素ガスを
放出し、泡立つ。添加が完了したら、その黒色の混合物
を室温にゆっくりと暖めながら一晩撹拌した。反応混合
物に亜硫酸水素ナトリウム30gを水165mlに溶かした液
を加えて反応を止め、その懸濁液を6N塩酸5mlでpH2.
5に調整した。生じたスラリーを0℃で30分撹拌してか
ら濾過した。酢酸エチルに大部分の固体を溶解して、次
に活性炭によって清澄化および処理して、黒色の物質を
精製した。フィルターエイド(セライト)によって漏下
して留去すると2−ヨード−4,5-ジフルオロ安息香酸
(mp.126−127℃)が20g(82%)得られた。
実施例II 機械式撹拌棒および窒素導入口をとり付けた35ml−頚丸
底フラスコに青銅45mg(0.704mmol)、無水ジメチルホル
ムアミド(DMF5ml、ピリジン430μl(5.28mmol)および
シクロプロピルアミン537μl(7.75mmol)を入れた。
次に生じた懸濁液を2−ヨード−4,5-ジフルオロ安息香
酸1g(3.52mmol)をDMF5mlに溶かした液で処理し、そ
の混合物を室温で一晩撹拌した。ほぼ溶液となった反応
混合物を清澄化し、pH4.5の水100mlを加えた。直ちにス
ラリーが生成するが、濾過する前にその混合物を6N塩
酸でpH4.5に再び調整して0℃に冷却した。白色固体を
濾過すると2−N−シクロプロピルアミノ−4.5-ジフル
オロ安息香酸(mp 175-176℃)が0.720g(95%)得られ
た。
底フラスコに青銅45mg(0.704mmol)、無水ジメチルホル
ムアミド(DMF5ml、ピリジン430μl(5.28mmol)および
シクロプロピルアミン537μl(7.75mmol)を入れた。
次に生じた懸濁液を2−ヨード−4,5-ジフルオロ安息香
酸1g(3.52mmol)をDMF5mlに溶かした液で処理し、そ
の混合物を室温で一晩撹拌した。ほぼ溶液となった反応
混合物を清澄化し、pH4.5の水100mlを加えた。直ちにス
ラリーが生成するが、濾過する前にその混合物を6N塩
酸でpH4.5に再び調整して0℃に冷却した。白色固体を
濾過すると2−N−シクロプロピルアミノ−4.5-ジフル
オロ安息香酸(mp 175-176℃)が0.720g(95%)得られ
た。
実施例III 撹拌用磁石およびテフロン製セプタムキャップをとり付
けた10mlの再封可能の圧力反応フラスコに2−クロル−
4,5-ジフルオロ安息香酸1.0g(5.19mmol)、シクロプロ
ピルアミン792μl(11.43mmol)、ヨウ化銅(I)800mg
(4.15mmol)およびピリジン630μl(7.79mmol)をN,N′−
ジメチルアセトアミド8.0mlに溶かした液を入れた。フ
ラスコを封じ、撹拌しながら16時間70℃に加熱した。反
応混合物を室温に冷やし、次に水100mlを加えた。その
懸濁液に水酸化ナトリウムを加えてpH13に調整し、室温
で15分間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾液を濃塩酸でpH
4.5に調整した。生じたスラリーを濾過すると2−シク
ロプロピルアミノ−4,5-ジフルオロ安息香酸(mp 175−
176℃)が451mg(41%)得られた。
けた10mlの再封可能の圧力反応フラスコに2−クロル−
4,5-ジフルオロ安息香酸1.0g(5.19mmol)、シクロプロ
ピルアミン792μl(11.43mmol)、ヨウ化銅(I)800mg
(4.15mmol)およびピリジン630μl(7.79mmol)をN,N′−
ジメチルアセトアミド8.0mlに溶かした液を入れた。フ
ラスコを封じ、撹拌しながら16時間70℃に加熱した。反
応混合物を室温に冷やし、次に水100mlを加えた。その
懸濁液に水酸化ナトリウムを加えてpH13に調整し、室温
で15分間撹拌した。懸濁液を濾過し、濾液を濃塩酸でpH
4.5に調整した。生じたスラリーを濾過すると2−シク
ロプロピルアミノ−4,5-ジフルオロ安息香酸(mp 175−
176℃)が451mg(41%)得られた。
実施例IV セプタムおよび撹拌用磁石棒をとり付けた10ml−頚丸底
フラスコに2−N−シクロプロピルアミノ−4,5-ジフル
オロ安息香酸100mg(0.46mmol)およびトリエチルアミン6
2μl(0.44mmol)を塩化メチレン2mlに溶かした液を入
れた。その溶液を0℃に冷却してビスー(トリクロルメ
チル)カルボネイト45mg(0.147mmol)を溶かした液で処
理した。最後に触媒量のジメチルアミノピリジン(10mg)
を塩化メチレン(0.5ml)で溶液として混合した。0℃で
1.5時間撹拌した後、少量の1N塩酸を添加して反応を
停止させた。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで
濃縮するとN−シクロプロピル−6,7-ジフルオロ−2H
−3,1-ベンゾキサジン−2,4(1H)ジオン114mg(100%)が黄
色油状物として得られた。生成物を熱エタノールから結
晶化させた;mp.138-139℃。
フラスコに2−N−シクロプロピルアミノ−4,5-ジフル
オロ安息香酸100mg(0.46mmol)およびトリエチルアミン6
2μl(0.44mmol)を塩化メチレン2mlに溶かした液を入
れた。その溶液を0℃に冷却してビスー(トリクロルメ
チル)カルボネイト45mg(0.147mmol)を溶かした液で処
理した。最後に触媒量のジメチルアミノピリジン(10mg)
を塩化メチレン(0.5ml)で溶液として混合した。0℃で
1.5時間撹拌した後、少量の1N塩酸を添加して反応を
停止させた。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで
濃縮するとN−シクロプロピル−6,7-ジフルオロ−2H
−3,1-ベンゾキサジン−2,4(1H)ジオン114mg(100%)が黄
色油状物として得られた。生成物を熱エタノールから結
晶化させた;mp.138-139℃。
実施例V 撹拌用磁石を入れた15ml−頚丸底フラスコに窒素雰囲気
下でメチル3−ヒドロキシアクリレイトのナトリウム塩
60mg(0.484mmol)のDMF(1.5ml)溶液を添加した。生じた
溶液を4Aのモレキュラーシーブ存在下で一晩撹拌し、
冷却器、窒素ラインおよび撹拌用磁石を付けた他の反応
容器中に濾過した。その混合物にN,N′−ジメチルイミ
ダゾリジノン52μl(0.467mmol)を加え、その溶液を55
℃に加熱した。この反応物にN−シクロプロピル−6,7-
ジフルオロ−2H−3,1-ベンゾキサジン−2,4(1H)ジオ
ン93mg(0.388mmol)をDMF1.5mlに溶かした溶液を添加し
た。反応混合物を55℃で1時間撹拌した。その系を室温
に冷却し、次にpH4.0の水30mlに添加した。生じた懸濁
液のpHを5.5に調整し、混合物を0℃に冷却して濾過し
た。乾燥後、メチル1−シクロプロピル−6,7-ジフルオ
ロ−1,4-ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボキ
シレイト(mp.223-224℃)50mg(46%)が得られた。濾
液を塩化メチレンで抽出し、乾燥して留去すると目的の
生成物が更に47mg(43.5%、全収率89.5%)得られた。
下でメチル3−ヒドロキシアクリレイトのナトリウム塩
60mg(0.484mmol)のDMF(1.5ml)溶液を添加した。生じた
溶液を4Aのモレキュラーシーブ存在下で一晩撹拌し、
冷却器、窒素ラインおよび撹拌用磁石を付けた他の反応
容器中に濾過した。その混合物にN,N′−ジメチルイミ
ダゾリジノン52μl(0.467mmol)を加え、その溶液を55
℃に加熱した。この反応物にN−シクロプロピル−6,7-
ジフルオロ−2H−3,1-ベンゾキサジン−2,4(1H)ジオ
ン93mg(0.388mmol)をDMF1.5mlに溶かした溶液を添加し
た。反応混合物を55℃で1時間撹拌した。その系を室温
に冷却し、次にpH4.0の水30mlに添加した。生じた懸濁
液のpHを5.5に調整し、混合物を0℃に冷却して濾過し
た。乾燥後、メチル1−シクロプロピル−6,7-ジフルオ
ロ−1,4-ジヒドロ−4−オキソ−3−キノリンカルボキ
シレイト(mp.223-224℃)50mg(46%)が得られた。濾
液を塩化メチレンで抽出し、乾燥して留去すると目的の
生成物が更に47mg(43.5%、全収率89.5%)得られた。
実施例VI トリエチルアミン(15ml、0.11mol)、2,4-ジフルオロ
アニリン(25ml、0.24mol)、青銅(2.7g、0.04mol)を
熱DMF(25ml)に懸濁し、2−クロル−4,5-ジフルオロ安
息香酸(23g、0.12mol)をDMF25mlに溶かした液で処理
し、温度を8時間85℃に保った。反応混合物を室温に冷
却し、次に一晩撹拌した。その反応混合物を真空下で留
去し、残留物をエーテルと塩化アンモニウム水溶液に分
配した。有機層を2NHClおよび飽和塩化リチウム水溶液
で洗浄した。そのエーテル層を硫酸ナトリウムで乾燥し
てダルコで処理し、次に濾過して留去した。残留物をヘ
キサン−エーテルから結晶化すると2−(2,4−ジフル
オロフェニルアミノ)−4,5−ジフルオロ安息香酸(mp.
215-216℃)が21.6g(62%)得られた。
アニリン(25ml、0.24mol)、青銅(2.7g、0.04mol)を
熱DMF(25ml)に懸濁し、2−クロル−4,5-ジフルオロ安
息香酸(23g、0.12mol)をDMF25mlに溶かした液で処理
し、温度を8時間85℃に保った。反応混合物を室温に冷
却し、次に一晩撹拌した。その反応混合物を真空下で留
去し、残留物をエーテルと塩化アンモニウム水溶液に分
配した。有機層を2NHClおよび飽和塩化リチウム水溶液
で洗浄した。そのエーテル層を硫酸ナトリウムで乾燥し
てダルコで処理し、次に濾過して留去した。残留物をヘ
キサン−エーテルから結晶化すると2−(2,4−ジフル
オロフェニルアミノ)−4,5−ジフルオロ安息香酸(mp.
215-216℃)が21.6g(62%)得られた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 265/26 // B01J 23/72 X 8017−4G 27/00 X 9342−4G 31/00 X 7821−4G C07B 61/00 300
Claims (10)
- 【請求項1】式 (式中R1は水素またはC1−C4アルキルであり、R2はヨウ
素、シクロプロピルアミノ、フェニルアミノ、4−フル
オロフェニルアミノ、2,4-ジフルオロフェニルアミノま
たはt−ブチルアミノであり、Xはフッ素または塩素で
あり、但しR2がヨウ素の時はR1は水素である)の化合
物。 - 【請求項2】R1が水素であり、Xがフッ素である請求項
1の化合物。 - 【請求項3】R2がヨウ素、シクロプロピルアミノまたは
2,4-ジフルオロフェニルアミノである請求項1または2
の化合物。 - 【請求項4】式 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニルまたは2,4-ジフルオロフェ
ニルであり、Xはフッ素または塩素である)の化合物。 - 【請求項5】Xがフッ素であり、R3がシクロプロピルま
たは2,4-ジフルオロフェニルである請求項4の化合物。 - 【請求項6】式 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニルまたは2,4-ジフルオロフェ
ニルであり、R4はヒドロキシ、C1−C3アルコキシ、アミ
ノまたはC1−C4アルキルアミノであり、Xはフッ素また
は塩素である)の化合物の製造方法であって、式 (式中R3およびXは上で定義されたものである)の化合
物と式 HOCH=CH−COR4 (式中R4は上で定義されたものである)の化合物のアル
カリ金属塩とを反応させることからなる方法。 - 【請求項7】Xがフッ素であり、R3がシクロプロピルで
あり、該アルカリ金属塩がナトリムウ塩である請求項6
の方法。 - 【請求項8】式 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニルまたは2,4-ジフルオロフェ
ニルであり、Xはフッ素または塩素である)の化合物の
製造方法であって、式 (式中XおよびR3は上で定義されたものである)の化合
物と式 R5R6C=0 (式中R5およびR6は両方ともクロルまたはトリクロルメ
トキシであるか、またはR5はクロルでR6はC1−C6アルコ
キシ、トリクロルメトキシ、フェノキシ、またはハロゲ
ン、ニトロ、C1−C6アルキルまたはトリフルオロメチル
で置換されたフェノキシである)の化合物とを反応させ
ることからなる方法。 - 【請求項9】R5およびR6は両方ともトリクロルメトキシ
またはクロルであるか、またはR5がクロルでR6がトリク
ロルメトキシであり;Xがフッ素でR3がシクロプロピル
である請求項8の方法。 - 【請求項10】式 (式中R3はエチル、t−ブチル、シクロプロピル、フェ
ニル、4−フルオロフェニルまたは2,4-ジフルオロフェ
ニルであり、Xはフッ素または塩素である)の化合物の
製造方法であって、式 (式中Halはヨウ素、臭素または塩素である)の化合物
と式R3NH2(式中R3は上で定義されたものである)の化
合物とを銅または銅化合物の存在下で反応させることか
らなる方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US275449 | 1988-11-23 | ||
US07/275,449 US4939290A (en) | 1988-11-23 | 1988-11-23 | Benzoic acid derivatives |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02231451A JPH02231451A (ja) | 1990-09-13 |
JPH0639446B2 true JPH0639446B2 (ja) | 1994-05-25 |
Family
ID=23052333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1304566A Expired - Lifetime JPH0639446B2 (ja) | 1988-11-23 | 1989-11-22 | キノロンカルボン酸中間体の合成方法 |
Country Status (23)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4939290A (ja) |
EP (1) | EP0370686B1 (ja) |
JP (1) | JPH0639446B2 (ja) |
KR (1) | KR910008797B1 (ja) |
CN (1) | CN1022183C (ja) |
AT (1) | ATE99283T1 (ja) |
AU (2) | AU619361B2 (ja) |
CA (1) | CA2003446A1 (ja) |
DE (1) | DE68911879T2 (ja) |
DK (1) | DK587089A (ja) |
EG (1) | EG18943A (ja) |
ES (1) | ES2062037T3 (ja) |
FI (1) | FI91856C (ja) |
HU (1) | HU208529B (ja) |
IE (1) | IE61737B1 (ja) |
MY (1) | MY105874A (ja) |
NO (1) | NO176315C (ja) |
NZ (1) | NZ231459A (ja) |
PH (1) | PH27224A (ja) |
PL (1) | PL162203B1 (ja) |
PT (1) | PT92366B (ja) |
YU (1) | YU47003B (ja) |
ZA (1) | ZA898902B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4200512C2 (de) * | 1992-01-11 | 1994-09-15 | Riedel De Haen Ag | Verfahren zur Herstellung von Halogenanthranilsäuren und aromatische Bromverbindungen als Vorstufen |
PE20011349A1 (es) | 2000-06-16 | 2002-01-19 | Upjohn Co | 1-aril-4-oxo-1,4-dihidro-3-quinolincarboxamidas como agentes antivirales |
CN103450107B (zh) * | 2013-09-13 | 2016-05-25 | 陕西嘉禾生物科技股份有限公司 | 一种n-甲基靛红酸酐的制备方法 |
CN109053486B (zh) * | 2018-08-16 | 2022-12-30 | 江苏中旗科技股份有限公司 | 一种n-甲基-2-氟苯胺的合成方法 |
CN112094586B (zh) * | 2020-09-22 | 2021-11-09 | 丹阳市精通眼镜技术创新服务中心有限公司 | 一种高耐磨性疏水涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3598823A (en) * | 1969-05-28 | 1971-08-10 | Sandoz Ag | Tricyclic quinazolinones |
FR2436781A1 (fr) * | 1978-09-19 | 1980-04-18 | Berri Balzac | Derives d'amino-3 (1h,3h) quinazolinedione-2,4, leur procede de preparation et leurs applications en therapeutique |
US4521616A (en) * | 1980-12-29 | 1985-06-04 | Occidental Chemical Corporation | Method for the preparation of fluoroanthranilic acids |
DE3248507A1 (de) * | 1982-12-29 | 1984-07-05 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Mikrobizide mittel auf chinoloncarbonsaeure basis |
US4623650A (en) * | 1984-12-06 | 1986-11-18 | Pfizer Inc. | Antibiotic derivatives of 7-phenyl-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinolinecarboxylic acids |
-
1988
- 1988-11-23 US US07/275,449 patent/US4939290A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-15 EP EP89311819A patent/EP0370686B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-15 DE DE89311819T patent/DE68911879T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-15 ES ES89311819T patent/ES2062037T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-15 AT AT89311819T patent/ATE99283T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-11-20 MY MYPI89001612A patent/MY105874A/en unknown
- 1989-11-21 AU AU45382/89A patent/AU619361B2/en not_active Ceased
- 1989-11-21 CA CA002003446A patent/CA2003446A1/en not_active Abandoned
- 1989-11-21 PT PT92366A patent/PT92366B/pt active IP Right Grant
- 1989-11-21 HU HU896037A patent/HU208529B/hu not_active IP Right Cessation
- 1989-11-21 KR KR1019890016870A patent/KR910008797B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-11-21 NZ NZ231459A patent/NZ231459A/xx unknown
- 1989-11-22 PL PL89282412A patent/PL162203B1/pl unknown
- 1989-11-22 IE IE372989A patent/IE61737B1/en not_active IP Right Cessation
- 1989-11-22 ZA ZA898902A patent/ZA898902B/xx unknown
- 1989-11-22 FI FI895571A patent/FI91856C/fi not_active IP Right Cessation
- 1989-11-22 EG EG57589A patent/EG18943A/xx active
- 1989-11-22 NO NO894642A patent/NO176315C/no not_active IP Right Cessation
- 1989-11-22 JP JP1304566A patent/JPH0639446B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-22 DK DK587089A patent/DK587089A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-11-22 YU YU222089A patent/YU47003B/sh unknown
- 1989-11-22 CN CN89108800A patent/CN1022183C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-23 PH PH39580A patent/PH27224A/en unknown
-
1992
- 1992-01-28 AU AU10508/92A patent/AU637944B2/en not_active Ceased
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR940007305B1 (ko) | 8-위치에서 치환된 퀴놀론카복실산 유도체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 약제학적 조성물 | |
JPH0639446B2 (ja) | キノロンカルボン酸中間体の合成方法 | |
JPH07101918A (ja) | 3−アミノ−2−(ヘテロ)アロイルアクリル酸誘導体の製造方法 | |
JP4305597B2 (ja) | 弗素置換安息香酸の製造法 | |
JPH0261453B2 (ja) | ||
US5064958A (en) | 1,3-genzoxazine, 2,4-dione derivatives | |
KR970011791B1 (ko) | 퀴놀론 카복실산 중간물질 | |
JPH0742299B2 (ja) | ノルフロキサシン中間体 | |
US5294721A (en) | Process for the preparation of pyridinium intermediates | |
JPS6126981B2 (ja) | ||
IL92335A (en) | Intermediates for the preparation of quinolone carboxylic acids and the process for their preparation | |
US4766218A (en) | Method for the preparation of quinoline-2,3-dicarboxylic acid | |
JP2788221B2 (ja) | キノリン−2,3−ジカルボン酸の新規な製造方法 | |
JPS61143363A (ja) | キノロンカルボン酸誘導体の製造方法 | |
KR960001918B1 (ko) | 8-메톡시키놀론 카르복실산 유도체의 제조 중간체의 제조방법 | |
JP2816778B2 (ja) | キナゾリノン誘導体の製造方法 | |
JP2603328B2 (ja) | 2―シアノ―3―アミノアクリルニトリル誘導体の製法 | |
KR950014221B1 (ko) | 8-메톡시퀴놀론 카르복실산 유도체의 제조 중간체의 제조방법 | |
JPH05117238A (ja) | キノロンカルボン酸誘導体の製造方法及びその合成中間体 | |
KR0119280B1 (ko) | 신규한 5-메틸퀴놀론계 항생제의 중간체 및 이의 제조방법 | |
JPH0235746B2 (ja) | 33chikantetorafuruoroindoorujudotai | |
JPH053866B2 (ja) | ||
JPH0899958A (ja) | 8−メトキシキノロンカルボン酸誘導体の製造中間体 | |
JPH0770075A (ja) | 8−メトキシキノロンカルボン酸誘導体の製造中間体 | |
JPH069619A (ja) | キノロンカルボン酸誘導体の製造方法 |