DE68911879T2 - Verfahren zur Herstellung von Chinoloncarboxylsäure-Zwischenverbindungen. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Chinoloncarboxylsäure-Zwischenverbindungen.Info
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- DE68911879T2 DE68911879T2 DE89311819T DE68911879T DE68911879T2 DE 68911879 T2 DE68911879 T2 DE 68911879T2 DE 89311819 T DE89311819 T DE 89311819T DE 68911879 T DE68911879 T DE 68911879T DE 68911879 T2 DE68911879 T2 DE 68911879T2
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 title abstract description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 7
- XOQQVKDBGLYPGH-UHFFFAOYSA-N 2-oxo-1h-quinoline-3-carboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 XOQQVKDBGLYPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 title abstract 2
- -1 6-fluoro-7-substituted-quinolonecarboxylic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 33
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 19
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 claims description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 claims description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical group II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000004215 2,4-difluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(F)C([H])=C1F 0.000 claims description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 2
- KHUXNRRPPZOJPT-UHFFFAOYSA-N phenoxy radical Chemical group O=C1C=C[CH]C=C1 KHUXNRRPPZOJPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 3
- 125000004784 trichloromethoxy group Chemical group ClC(O*)(Cl)Cl 0.000 claims 2
- 125000006274 (C1-C3)alkoxy group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000006317 cyclopropyl amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 150000002431 hydrogen Chemical group 0.000 claims 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 abstract description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 abstract 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 26
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical group O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 6-(4-aminophenyl)sulfonylpyridin-3-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=N1 XVMSFILGAMDHEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UCPYLLCMEDAXFR-UHFFFAOYSA-N triphosgene Chemical compound ClC(Cl)(Cl)OC(=O)OC(Cl)(Cl)Cl UCPYLLCMEDAXFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHLKSYKULLYVGU-UHFFFAOYSA-N 1-cyclopropyl-6,7-difluoro-3,1-benzoxazine-2,4-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C=2C=C(F)C(F)=CC=2N1C1CC1 VHLKSYKULLYVGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGOZIZVTANAGCA-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound NC1=CC(F)=C(F)C=C1C(O)=O DGOZIZVTANAGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CGFMLBSNHNWJAW-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1Cl CGFMLBSNHNWJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NHXDCVFTXJVUGK-UHFFFAOYSA-N 4,5-difluoro-2-iodobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1I NHXDCVFTXJVUGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HTJDQJBWANPRPF-UHFFFAOYSA-N Cyclopropylamine Chemical compound NC1CC1 HTJDQJBWANPRPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L copper(ii) bromide Chemical compound [Cu+2].[Br-].[Br-] QTMDXZNDVAMKGV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 150000007660 quinolones Chemical class 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 description 2
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 2
- 125000000229 (C1-C4)alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEPCPXLLFXPZGW-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluoroaniline Chemical compound NC1=CC=C(F)C=C1F CEPCPXLLFXPZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTURLAGGUMXTAE-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluoroanilino)-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1NC1=CC=C(F)C=C1F HTURLAGGUMXTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)-n,n-bis[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]ethanamine Chemical compound COCCOCCN(CCOCCOC)CCOCCOC XGLVDUUYFKXKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZKIUAPWPWPRQJ-UHFFFAOYSA-N 2-(cyclopropylamino)-4,5-difluorobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(F)=C(F)C=C1NC1CC1 JZKIUAPWPWPRQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021595 Copper(I) iodide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021590 Copper(II) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021592 Copper(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N acetone Substances CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical class NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M copper(1+);acetate Chemical compound [Cu+].CC([O-])=O RFKZUAOAYVHBOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNYHGRUPNQLZHB-UHFFFAOYSA-M copper(1+);trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Cu+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F YNYHGRUPNQLZHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000336 copper(I) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M copper(i) bromide Chemical compound Br[Cu] NKNDPYCGAZPOFS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M copper(i) iodide Chemical compound I[Cu] LSXDOTMGLUJQCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WIVXEZIMDUGYRW-UHFFFAOYSA-L copper(i) sulfate Chemical compound [Cu+].[Cu+].[O-]S([O-])(=O)=O WIVXEZIMDUGYRW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SBTSVTLGWRLWOD-UHFFFAOYSA-L copper(ii) triflate Chemical compound [Cu+2].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F SBTSVTLGWRLWOD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hexane Chemical compound CCOCC.CCCCCC ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- WGZPDLDHADAWSC-UHFFFAOYSA-N methyl 1-cyclopropyl-6,7-difluoro-4-oxoquinoline-3-carboxylate Chemical compound C12=CC(F)=C(F)C=C2C(=O)C(C(=O)OC)=CN1C1CC1 WGZPDLDHADAWSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVYNPFNRUNVROH-UHFFFAOYSA-N methyl 3-hydroxyprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C=CO FVYNPFNRUNVROH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N methyl chloroformate Chemical compound COC(Cl)=O XMJHPCRAQCTCFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
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- C07D265/12—1,3-Oxazines; Hydrogenated 1,3-oxazines condensed with carbocyclic rings or ring systems
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- C07C229/54—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
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- C07C229/54—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring
- C07C229/56—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with amino and carboxyl groups bound in ortho-position
- C07C229/58—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the same carbon skeleton with amino and carboxyl groups bound to carbon atoms of the same non-condensed six-membered aromatic ring with amino and carboxyl groups bound in ortho-position having the nitrogen atom of at least one of the amino groups further bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring, e.g. N-phenyl-anthranilic acids
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- C07C63/00—Compounds having carboxyl groups bound to a carbon atoms of six-membered aromatic rings
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- C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
- Die Erfindung betrifft Zwischenprodukte, die geeignet sind zur Herstellung von 6-Fluor-7-halogen-chinoloncarbonsäure-Zwischenprodukten zur Herstellung von 7-substituierten 6-Fluor-chinoloncarbonsäuren mit antibakterieller Aktivität und Verfahren zur Herstellung dieser Zwischenprodukte.
- Allgemein werden die antibakteriellen 7-substituierten 6- Fluorchinoloncarbonsäuren hergestellt durch Substitution des entsprechenden 7-Halogen-6-fluorchinoloncarbonsäure- Zwischenproduktes, wobei das Halogenatom vorzugsweise Fluor oder Chlor ist. Methoden des Standes der Technik zur Herstellung solcher 7-Halogen-Zwischenprodukten sind beschrieben in den US-Patenten 4,563,459 und 4,623,650.
- Verwandte Chinoloncarbonsäuren, bei denen der Benzolring an irgendeiner Stelle mit einer elektronenfreisetzenden oder elektronenziehenden Gruppe substituiert sein kann, sind zugänglich durch die in J. Med. Chem., 1978, 21, 485 beschriebene Reaktionsfolge.
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Verfahren zur Herstellung von 7-Halogenchinoloncarbonsäure- Zwischenprodukten der Formel:
- worin R&sub3; ein Ethyl-, t-Butyl-, Cyclopropyl-, Phenyl-, 4- Fluorphenyl- oder 2,4-Difluorphenylrest ist, R&sub4; ein Hydroxy-, C&sub1;-C&sub4;-Alkoxy-, Amino- oder C&sub1;-C&sub4;-Alkylaminorest ist und x Fluor oder Chlor ist und neue Zwischenprodukte, die dafür nützlich sind.
- Eine Klasse von Zwischenprodukten der Erfindung sind neue Verbindungen der Formel:
- worin R&sub1; Wasserstoff, R&sub2; Iod, ein Ethylamino-, t-Butylamino-, Cyclopropylamino-, Phenylamino-, 4-Fluorphenylamino- oder 2,4-Difluorphenylaminorest ist und X Fluor oder Chlor ist. Bevorzugte Zwischenprodukte innerhalb dieser Klasse sind Verbindungen der Formel V, worin X Fluor ist und R&sub2; Iod, ein Cyclopropylamin- oder 2,4 Difluorphenylrest ist.
- Eine weitere Klasse von Zwischenprodukten der Erfindung sind neue Verbindungen der Formel:
- worin X und R3 wie oben definiert sind unter Bezugnahme auf Formel I mit dem Vorbehalt, daß R3 kein Ethyl-, t- Butyl- oder Phenylrest ist.
- Erfindungsgemäß werden Verbindungen der Formel I hergestellt, indem eine Verbindung der Formel
- worin R&sub3; und X wie oben definiert sind, mit einem Alkalisalz einer Verbindung der Formel HOCH = CH-COR&sub4; worin R&sub4; wie oben definiert ist unter Bezugnahme auf Formel I, umgesetzt wird.
- Die Verbindungen der Formel II werden erfindungsgemäß hergestellt, indem eine Verbindung der Formel
- worin X und R&sub3; wie oben definiert sind, mit einer Verbindung der Formel
- R&sub5;R&sub6;C = O worin R&sub5; und R&sub6; beide Chlor oder Trichlormethyloxyreste sind oder R&sub5; Chlor ist und R&sub6; ein C&sub1;-C&sub6; Alkoxy-, Trichlormethyloxy-, Phenoxyrest oder ein mit Substituenten, die unter den Reaktionsbedingungen inert sind, z.B. 1, 2 oder 3 Halogen-, Nitro-, C&sub1;-C&sub6;-Alkyl- oder Trifluormethylresten, substituierter Phenoxyrest ist, umgesetzt wird. Vorzugsweise sind R&sub5; und R&sub6; beide Trichlormethoxyreste oder beide Chlorreste oder R&sub5; ist Chlor und R&sub6; ist ein Trichlormethyloxyrest.
- Die Verbindungen der Formel III werden erfindungsgemäß hergestellt, indem eine Verbindung der Formel
- worin X Fluor oder Chlor ist und Hal Iod, Brom oder Chlor ist, mit einer Verbindung der Formel R&sub3;NH&sub2; worin R&sub3; ein Ethyl-, t-Butyl-, Cyclopropyl-, Phenyl-, 4-Fluorphenyl-, oder 2,4-Difluorphenylrest ist, in Gegenwart von Kupfer oder einer Kupferverbindung umgesetzt werden.
- Die Gesamtreaktion zur Herstellung der Verbindungen der Formel I aus Verbindungen der Formel IV über die zwischengeschalteten Verfahrensstufen zur Herstellung der Verbindungen der Formel II und III ist auch Teil der Erfindung.
- Die Verbindungen der Formel IV, worin Hal Iod ist, sind neue Verbindungen. Sie können aus der bekannten Verbindung 2-Amino-4,5-difluorbenzoesäure durch Reaktion mit Natriumnitrit in einer Lösung von verdünnter Schwefelsäure bei einer Temperatur von etwa -10 bis 0ºC und bei Umgebungsdruck hergestellt werden. Die gebildete Diazoniumverbindung wird dann mit einer Lösung von Kaliumiodid in verdünnter Schwefelsäure bei einer Temperatur zwischen etwa -10 und 0ºC behandelt und die entstehende dunkle Aufschlämmung wird für etwa 12 bis 24 Stunden bei langsamem Erwärmen auf Umgebungstemperatur gerührt.
- Die Herstellung von Anthranilsäureverbindungen der Formel III aus Verbindungen der Formel IV erfolgt in Gegenwart von katalytischen Mengen von Kupfer(O) oder einer Kupferverbindung, z.B. Kupfer(I)oxid oder Kupfer(II)oxid oder einem Kupfersalz, z.B. Kupfer(I)acetat, Kupfer(I)sulfat, Kupfer(I)chlorid, Kupfer(I)bromid, Kupfer(I)triflat, Kupfer(II)chlorid, Kupfer(II)bromid, Kupfer(II)triflat.
- Der Kupferkatalysator ist allgemein in Mengen von mindestens etwa 5 Mol % und gewöhnlich etwa 10 - 20 Mol % vorhanden. Die Reaktion erfolgt in Gegenwart eines inerten, dipolaren, aprotischen Lösungsmittels, z.B. Dimethylformamid, Tetrahydrofuran, Dimethoxyethan, N-Methylpyrrolidinon, Dimethylacetamid oder Dimethylsulfoxid und in Gegenwart einer organischen Base, z.B. Pyridin oder Dimethylaminopyridin, gegebenenfalls in Gegenwart einer tertiären Aminbase, z.B. Triethylamin oder Diisopropylethylamin. Die organische Base ist allgemein in Mengen von 1 bis 2 Moläquivalenten, gewöhnlich 1,5 Moläquivalenten vorhanden.
- Die Reaktionstemperatur hängt davon ab, ob Hal in Formel IV Iod, Brom oder Chlor ist. Wenn Hal Iod ist, kann die Reaktion bei etwa 10 bis 40ºC und vorteilhafterweise bei Umgebungstemperatur, z.B. etwa 20 bis 25ºC durchgeführt werden. Wenn Hal Brom ist, ist die Reaktionstemperatur etwa 20 bis 50ºC. Wenn Hal Chlor ist, ist die Reaktionstemperatur etwa 50 bis etwa 100ºC, allgemein etwa 70ºC und die Reaktion wird in einem geschlossenen Gefäß durchgeführt, was einen Reaktionsdruck zwischen einer Atmosphäre bis etwa 2 Atmosphären bewirkt.
- Wenn Hal in Formel IV Iod oder Chlor ist, erfolgt die Reaktion zumindest anfangs in Abwesenheit von Luft, z.B. durch Einführung eines Inertgases, z.B. Stickstoff in das Reaktionsgefäß oder indem die Reaktion in einem abgeschlossenen Gefäß durchgeführt wird.
- Es wurde gefunden, daß hohe Ausbeuten erhalten werden, wenn etwa 2 Moläquivalente des Reagenzes der Formel R&sub3;NH&sub2;, etwa 1,5 Moläquivalente der organischen Base Pyridin in Dimethylformamid und etwa 0.2 Moläquivalente des Kupferkatalysators verwendet werden.
- Die Reaktion kann auch mit einem Äquivalent R&sub3;NH&sub2;, einem Äquivalent Kupfer oder einem seiner Salze und 1,5 Äquivalent Pyridin in Dimethylformamid durchgeführt werden.
- Die Isatosäureanhydride der Formel II werden hergestellt aus Verbindungen der Formel III durch Reaktion mit einem Reagenz der Formel R&sub5;R&sub6;C=O worin R&sub5; und R&sub6; wie oben definiert sind. Das Reagenz ist z.B. Phosgen oder bevorzugt Bis-(trichlormethyl)carbonat (Triphosgen), das im Handel erhältlich ist und als Feststoff leicht zu handhaben ist. Wenn das obige Reagenz ein Feststoff ist, wird die Reaktion in einem inerten Lösungsmittel durchgeführt, z.B. einem chlorierten Alkan, z.B. Methylenchlorid, Chloroform, Tetrachlorkohlenstoff oder Dichlorethan oder einem aromatischen Lösungsmittel, z.B. Toluol, Benzol oder Xylol. Die Reaktion wird bei etwa -10 bis 15ºC etwa 15 Minuten bis 1,5 Stunden lang, gewöhnlich eine halbe Stunde, durchgeführt. Wenn das Reagenz Phosgen ist, kann das Lösungsmittel auch eine wässrige Säure, z.B. Salzsäure sein. Wenn das Reagenz eine Flüssigkeit ist, z.B. Methylchlorformiat oder Ethylchlorformiat, kann das Lösungsmittel weggelassen werden und ein Überschuß des Reagenzes kann statt dessen verwendet werden. Die Reaktionsmischung wird dann auf etwa 150 bis 200ºC etwa 18 bis 24 Stunden lang erhitzt.
- Die Reaktion zur Bildung der Tsatosäureanhydride der Formel II wird in Gegenwart einer organischen Base, z.B. Pyridin oder Dimethylaminopyridin und gegebenenfalls in Anwesenheit eines tertiären Amins z.B. Triethylamin oder Diisopropylethylamin durchgeführt.
- Die Chinolone der Formel I werden aus den Isatosäureanhydriden II durch Reaktion mit mindestens etwa einem Äquivalent des Alkalisalzes von C&sub1;-C&sub3;-Alkyl 3-hydroxyacrylat hergestellt. Das Alkalimetall ist Natrium, Lithium oder Kalium. Die Reaktion wird in einem dipolaren aprotischen Lösungsmittel, z.B. Dimethylformamid, Tetrahydrofuran, Dimethoxyethan, N-Methylpyrrolidinon oder Dimethylacetamid durchgeführt. Die Reaktionstemperatur liegt im Bereich von etwa 20 bis 100ºC, gewöhnlich etwa 50ºC und die Reaktionszeit ist etwa 1 bis 24 Stunden, gewöhnlich etwa 1 Stunde. Die Reaktion wird vorteilhafterweise in Gegenwart eines Komplexierungsmittels für Alkaliionen durchgeführt. Beispiele für geeignete Komplexierungsmittel sind N,N'-Dimethylimidazolidinon, Hexamethylphosphortriamid, N,N'-Dimethylpropylenharnstoff und Tris[2-(methoxyethoxy)ethyl]amin.
- Die Chinolone der Formel I, worin R&sub4; ein Hydroxyrest ist, können aus den entsprechenden Estern der Formel I, worin R&sub4; ein C&sub1;-C&sub4; Alkoxyrest ist, hergestellt werden, durch übliche Hydrolyse, z.B. durch Erwärmen mit einer Säure, z.B. Salzsäure.
- Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
- In einen 1-Liter-Vierhalsrundkolben, der mit einem mechanischen Rührer, zwei Tropftrichtern und einem Thermometer ausgestattet war, wurden 20 g (86,71 mmol) 2-Amino-4,5- difluorbenzoesäure und eine Lösung von 12,3 ml konzentrierter Schwefelsäure in 90 ml Wasser gegeben. Die Aufschlämmung wurde auf 0 bis -5ºC in einem Eis-Aceton-Bad gekühlt. Einer der Tropftrichter wurde mit einer Lösung von 6,57 g (95.22 mmol) Natriumnitrit in 30 ml Wasser beschickt und die langsame Zugabe der Lösung begann. Die innere Reaktionstemperatur stieg nie über 0ºC und die gesamte Lösung war nach 5 Minuten eingeleitet. Der zweite Tropftrichter wurde mit einer Lösung von 21,6 g (128,31 mmol) Kaliumiodid in 45 ml 1n Schwefelsäure beschickt.
- Diese Lösung wurde dann tropfenweise über einen Zeitraum von 10 Minuten zugegeben, wobei die innere Temperatur bei oder unter 0ºC war. Während der Zugabe setzte die Reaktionsmischung Stickstoffgas frei, was etwas Schäumen verursachte. Sobald die Zugabe abgeschlossen war, wurde die dunkle Mischung über Nacht gerührt, während sie sich langsam auf Raumtemperatur erwärmte. Die Reaktionsmischung wurde mit einer Lösung von 30 g Natriumbisulfit in 165 ml Wasser abgeschreckt und die Suspension wurde mit 5 ml 6n Salzsäure auf pH 2,5 eingestellt. Die entstehende Aufschlämmung wurde bei 0ºC 30 Minuten gerührt und dann filtiert. Die Reinigung des dunklen Materials wurde bewirkt, indem der Hauptteil des Feststoffs in Ethylacetat aufgelöst wurde und anschließend geklärt wurde und mit Aktivkohle behandelt wurde. Nach der Filtration durch eine Filterhilfe (Celite) und Verdampfen wurden 20 g (82%) 2-Iod-4,5-difluorbenzoesäure erhalten; Schmelzpunkt: 126-127ºC.
- In einen 35-ml-Einhalsrundkolben, der mit einem Magnetrührstab und einem Stickstoffeinlaß ausgestattet war, wurden 45 mg (0,704 mmol) Kupferbronze, 5 ml wasserfreies Dimethylformamid (DMF), 430 ul (5.28 mmol) Pyridin und 537 ul (7.75 mmol) Cyclopropylamin gegeben. Die entstehende Suspension wurde dann mit einer Lösung von 1 g (3.52 mmol) 2-Iod-4,5-difluorbenzoesäure in 5 ml DMF versetzt und die Mischung wurde bei Raumtemperatur über Nacht gerührt. Die Reaktionsmischung, die nun fast eine Lösung war, wurde geklärt und dann zu Wasser (100 ml) bei einem pH von 4,5 zugegeben. Es bildete sich sofort eine Aufschlämmung, aber vor der Filtration der Mischung wurde noch einmal der pH auf 4,5 mit 6n Salzsäure eingestellt und auf 0ºC gekühlt. Die Filtration des weißen Feststoffes lieferte 0,720 g (95%) 2-N-Cyclopropylamino-4,5- difluorbenzoesäure; Schmelzpunkt: 175-176ºC.
- In einen 10-ml wiederverschließbaren Druckreaktionskolben, der mit einem Magnetrührer und einem Teflonseptumdeckel ausgestattet war, wurde eine Lösung von 1,0 g (5.19 mmol) 2-Chlor-4,5-difluorbenzoesäure, 792 ul (11.43 mmol) Cyclopropylamin, 800 mg (4.15 mmol) Kupfer(I)iodid und 630 ul (7.79 mmol) Pyridin in 8,0 ml N,N-Dimethylacetamid gegeben. Der Kolben wurde verschlossen und auf 70ºC erhitzt, während über einen Zeitraum von 16 Stunden gerührt wurde. Die Reaktionsmischung wurde auf Raumtemperatur abkühlen gelassen und dann zu 100 ml Wasser zugegeben. Der pH der Suspension wurde mit Natriumhydroxidlösung auf 13 eingestellt und 15 Minuten bei Raumtemperatur gerührt. Die Suspension wurde filtriert und das Filtrat mit konzentrierter wässriger HCl auf pH 4,5 eingestellt. Die Filtration der entstehenden Aufschlämmung lieferte 451 mg (41%) 2-Cyclopropylamino-4,5-difluorbenzoesäure; Schmelzpunkt: 175 - 176ºC.
- In einen 10 ml Einhalsrundkolben, der mit einem Septum und einem Magnetrührstab ausgerüstet war, wurde eine Lösung von 100 mg (0.46 mmol) 2-N-Cycloproplyamino-4,5- difluorbenzoesäure und 62 ul (0.44 mmol) Triethylamin in 2 ml Methylenchlorid gegeben. Die Lösung wurde auf 0ºC gekühlt und mit einer Lösung von 45 mg (0,147 mmol) Bis(trichlormethyl)carbonat in 0,5 ml Methylenchlorid behandelt. Schließlich wurde eine katalytische Menge Dimethylaminopyridin (10 mg) als Lösung in Methylenchlorid (0.5 ml) eingeführt. Nach 1,5stündigem Rühren bei 0ºC wurde die Reaktionsmischung abgeschreckt durch Zugabe einer geringen Menge 1n Salzsäure. Die organische Phase wurde über Natriumsulfat getrocknet und dann eingeengt zu einem gelben Öl, was 114 mg N-Cyclopropyl-6,7-difluor-2H-3,1- benzoxazin-2,4(1H)dion (100%) lieferte. Das Produkt wurde aus heißem Ethanol kristallisiert; Schmelzpunkt 138- 139ºC.
- In einen 15-ml-Einhalsrundkolben, der mit einem Magnetrührer ausgestattet war, und unter Stickstoffatmosphäre war, wurden 60 mg (0,484 mmol) des Natriumsalzes von Methyl-3-hydroxyacrylat in 1,5 ml DMF gegeben. Die entstehende Lösung wurde in Gegenwart von 4A Molekularsieben über Nacht gerührt und dann in ein weiteres Reaktionsgefäß, das mit einem Kühler, einer Stickstoffleitung und einem Magnetrührer ausgestattet war, filtriert. Zu der Mischung wurden 52 ul (0,467 mmol) N,N'-Dimethylimidazolidinon zugegeben und die Lösung wurde auf 55ºC erhitzt. In diesen Reaktor wurde eine Lösung von 93 mg (0,388 mmol) N-Cyclopropyl-6,7-difluor-2H-3,1-benzoxazin- 2,4(1H)dion in 1,5 ml DMF gegeben. Die Reaktionsmischung wurde 1 Stunde bei 55ºC gerührt. Das System wurde auf Raumtemperatur abkühlen gelassen und dann wurden 30 ml Wasser bei pH 4,0 zugegeben. Der pH der entstehenden Suspension wurde auf 5,5 eingestellt und die Mischung wurde auf 0ºC gekühlt und filtriert. Nach dem Trocknen wurden 50 mg (46%) Methyl-1-cyclopropyl-6,7-difluor-1,4-dihydro- 4-oxo-3-chinolincarboxylat erhalten, Schmelzpunkt 223- 224ºC. Das Filtrat wurde mit Methylenchlorid extrahiert und nach dem Trocknen und Eindampfen wurden weitere 47 mg (43,5%, Gesamtausbeute: 89.5%) des gewünschten Produkts erhalten.
- Eine Suspension von Triethylamin (15 ml, 0.11 mol), 2,4- Difluoranilin (25 ml, 0.24 mol), Kupferbronze (2.7 g, 0.04 mol), in heißem DMF (25 ml) wurde mit einer Lösung von 2-Chlor-4,5,-difluorbenzoesäure (23 g, 0,12 mol) in 25 ml DMF versetzt und die Temperatur wurde 8 Stunden auf 85ºC gehalten. Die Reaktionsmischung wurde auf Raumtemperatur abkühlen gelassen und dann über Nacht gerührt. Die Reaktionsmischung wurde im Vakuum eingeengt und der Rückstand wurde zwischen Ether und wässrigem Ammoniumchlorid aufgeteilt. Die organische Phase wurde mit 2n HCl und gesättigter wässriger Lithiumchloridlösung gewaschen. Der Ether wurde über Natriumsulfat getrocknet, mit Darco versetzt und dann filtriert und eingeengt. Der Rückstand wurde aus Hexan-Ether kristallisiert, was 21.6 g (62%) 2- (2,4-Difluorphenylamino)-4,5-difluorbenzoesäure lieferte; Schmelzpunkt: 215-216 C.
Claims (10)
1. Verbindung der Formel
worin R&sub1; Wasserstoff ist, R&sub2; Iod, ein Ethylamino-,
Cyclopropylamino-, Phenylamino-, 4-Fluorphenylamino-, 2,4-
Difluorphenylamino-, oder t-Butylaminorest ist und X
Fluor oder Chlor ist.
2. Verbindung nach Anspruch 1, worin X Fluor ist.
3. Verbindung nach Anspruch 1 oder 2, worin R&sub2; Iod,
ein Cyclopropylamino- oder 2,4-Difluorphenylaminorest
ist.
4. Verbindung der Formel
worin R&sub3; ein Cyclopropyl-, 4-Fluorphenyl- oder 2,4-
Difluorphenylrest ist und X Fluor oder Chlor ist.
5. Verbindung nach Anspruch 4, worin X Fluor ist und
R&sub3; ein Cyclopropyl- oder 2,4-Difluorphenylrest ist.
6. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der
Formel
worin R&sub3; ein Ethyl-, t-Butyl-, Cyclopropyl-, Phenyl-, 4-
Fluorphenyl- oder 2,4-Difluorphenylrest ist, R&sub4; ein
Hydroxy-, C&sub1;-C&sub3;-Alkoxy-, Amino- oder C&sub1;-C&sub4;-Alkylaminorest
ist und X Fluor oder Chlor ist, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Verbindung der Formel
worin R&sub3; und X wie oben definiert sind, mit einem
Alkalisalz einer Verbindung der Formel
HOCH = CH-COR&sub4;
worin R&sub4; wie oben definiert ist, umgesetzt wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, worin X Fluor ist, R&sub3;
ein Cyclopropylrest ist und das Alkalisalz ein
Natriumsalz ist.
8. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der
Formel
worin R&sub3; ein Ethyl-, t-Butyl-, Cyclopropyl-, Phenyl-, 4-
Fluorphenyl- oder 2,4-Difluorphenylrest ist und X Fluor
oder Chlor ist, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Verbindung der Formel
worin X und R&sub3; wie oben definiert sind mit einer
Verbindung der Formel
R&sub5;R&sub6;C = O
worin R&sub5; und R&sub6; beide Chlor oder Trichlormethyloxyreste
sind oder R&sub5; Chlor ist und R&sub6; ein C&sub1;-C&sub6;-Alkoxy-,
Trichlormethyloxy-, Phenoxyrest oder ein mit Halogen-,
Nitro-, C&sub1;-C&sub6;-Alkyl-, oder Trifluormethylresten
substituierter Phenoxyrest ist, umgesetzt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 8, worin R&sub5; und R&sub6; beide
Trichlormethyloxyreste oder Chlorreste sind oder R&sub5; Chlor
ist und R&sub6; ein Trichlormethyloxyrest ist und X Fluor ist
und R&sub3; ein Cyclopropylrest ist.
10. Verfahren zur Herstellung einer Verbindung der
Formel
worin R&sub3; ein Ethyl-, t-Butyl-, Cyclopropyl-, Phenyl-, 4-
Fluorphenyl- oder 2,4-Difluorphenylrest ist und X Fluor
oder Chlor ist, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Verbindung der Formel
worin X wie oben definiert ist, Hal, Iod, Brom oder Chlor
ist, mit einer Verbindung der Formel R&sub3;NH&sub2;, worin R&sub3; wie
oben definiert ist, in Gegenwart von Kupfer oder einer
Kupferverbindung umgesetzt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/275,449 US4939290A (en) | 1988-11-23 | 1988-11-23 | Benzoic acid derivatives |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE68911879D1 DE68911879D1 (de) | 1994-02-10 |
DE68911879T2 true DE68911879T2 (de) | 1994-04-07 |
Family
ID=23052333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE89311819T Expired - Fee Related DE68911879T2 (de) | 1988-11-23 | 1989-11-15 | Verfahren zur Herstellung von Chinoloncarboxylsäure-Zwischenverbindungen. |
Country Status (23)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4939290A (de) |
EP (1) | EP0370686B1 (de) |
JP (1) | JPH0639446B2 (de) |
KR (1) | KR910008797B1 (de) |
CN (1) | CN1022183C (de) |
AT (1) | ATE99283T1 (de) |
AU (2) | AU619361B2 (de) |
CA (1) | CA2003446A1 (de) |
DE (1) | DE68911879T2 (de) |
DK (1) | DK587089A (de) |
EG (1) | EG18943A (de) |
ES (1) | ES2062037T3 (de) |
FI (1) | FI91856C (de) |
HU (1) | HU208529B (de) |
IE (1) | IE61737B1 (de) |
MY (1) | MY105874A (de) |
NO (1) | NO176315C (de) |
NZ (1) | NZ231459A (de) |
PH (1) | PH27224A (de) |
PL (1) | PL162203B1 (de) |
PT (1) | PT92366B (de) |
YU (1) | YU47003B (de) |
ZA (1) | ZA898902B (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4200512C2 (de) * | 1992-01-11 | 1994-09-15 | Riedel De Haen Ag | Verfahren zur Herstellung von Halogenanthranilsäuren und aromatische Bromverbindungen als Vorstufen |
PE20011349A1 (es) | 2000-06-16 | 2002-01-19 | Upjohn Co | 1-aril-4-oxo-1,4-dihidro-3-quinolincarboxamidas como agentes antivirales |
CN103450107B (zh) * | 2013-09-13 | 2016-05-25 | 陕西嘉禾生物科技股份有限公司 | 一种n-甲基靛红酸酐的制备方法 |
CN109053486B (zh) * | 2018-08-16 | 2022-12-30 | 江苏中旗科技股份有限公司 | 一种n-甲基-2-氟苯胺的合成方法 |
CN112094586B (zh) * | 2020-09-22 | 2021-11-09 | 丹阳市精通眼镜技术创新服务中心有限公司 | 一种高耐磨性疏水涂层及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3598823A (en) * | 1969-05-28 | 1971-08-10 | Sandoz Ag | Tricyclic quinazolinones |
FR2436781A1 (fr) * | 1978-09-19 | 1980-04-18 | Berri Balzac | Derives d'amino-3 (1h,3h) quinazolinedione-2,4, leur procede de preparation et leurs applications en therapeutique |
US4521616A (en) * | 1980-12-29 | 1985-06-04 | Occidental Chemical Corporation | Method for the preparation of fluoroanthranilic acids |
DE3248507A1 (de) * | 1982-12-29 | 1984-07-05 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Mikrobizide mittel auf chinoloncarbonsaeure basis |
US4623650A (en) * | 1984-12-06 | 1986-11-18 | Pfizer Inc. | Antibiotic derivatives of 7-phenyl-1,4-dihydro-4-oxo-3-quinolinecarboxylic acids |
-
1988
- 1988-11-23 US US07/275,449 patent/US4939290A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-11-15 ES ES89311819T patent/ES2062037T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-15 AT AT89311819T patent/ATE99283T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-11-15 DE DE89311819T patent/DE68911879T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-15 EP EP89311819A patent/EP0370686B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-20 MY MYPI89001612A patent/MY105874A/en unknown
- 1989-11-21 NZ NZ231459A patent/NZ231459A/xx unknown
- 1989-11-21 AU AU45382/89A patent/AU619361B2/en not_active Ceased
- 1989-11-21 CA CA002003446A patent/CA2003446A1/en not_active Abandoned
- 1989-11-21 HU HU896037A patent/HU208529B/hu not_active IP Right Cessation
- 1989-11-21 KR KR1019890016870A patent/KR910008797B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-11-21 PT PT92366A patent/PT92366B/pt active IP Right Grant
- 1989-11-22 FI FI895571A patent/FI91856C/fi not_active IP Right Cessation
- 1989-11-22 JP JP1304566A patent/JPH0639446B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-22 EG EG57589A patent/EG18943A/xx active
- 1989-11-22 CN CN89108800A patent/CN1022183C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-22 DK DK587089A patent/DK587089A/da not_active Application Discontinuation
- 1989-11-22 PL PL89282412A patent/PL162203B1/pl unknown
- 1989-11-22 IE IE372989A patent/IE61737B1/en not_active IP Right Cessation
- 1989-11-22 NO NO894642A patent/NO176315C/no not_active IP Right Cessation
- 1989-11-22 ZA ZA898902A patent/ZA898902B/xx unknown
- 1989-11-22 YU YU222089A patent/YU47003B/sh unknown
- 1989-11-23 PH PH39580A patent/PH27224A/en unknown
-
1992
- 1992-01-28 AU AU10508/92A patent/AU637944B2/en not_active Ceased
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |