JPH06291225A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH06291225A
JPH06291225A JP5101911A JP10191193A JPH06291225A JP H06291225 A JPH06291225 A JP H06291225A JP 5101911 A JP5101911 A JP 5101911A JP 10191193 A JP10191193 A JP 10191193A JP H06291225 A JPH06291225 A JP H06291225A
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semiconductor device
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尚彦 平野
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 消費電力が大きく発熱性の高い半導体素子
（発熱素子）の冷却体などを利用して、消費電力がそれ
ほど大きくない半導体素子の放熱性を向上させた半導体
装置を提供する。 【構成】 回路基板１５に搭載されたＣＰＵのような消
費電力の大きい発熱素子１１にヒートシンク１３を取付
ける。ＣＰＵなどの発熱素子より消費電力の小さいメモ
リなどの半導体素子１２には、熱伝導率の高い部材で構
成された熱伝導補助体１４を取付け、この熱伝導補助体
１４の他端をヒートシンク１３などに接続して、その放
熱性を利用する。この補助体１４は、発熱素子１１より
空気の流れ１６の風下にある半導体素子１２や、発熱素
子１１の周辺に配置された放熱効率の低い領域上の半導
体素子に取付けると放熱効率が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高集積化された半導体
装置の冷却構造に係り、とくに、放熱効率の低い半導体
素子の冷却構造に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、プリント配線基板やセラミック基
板などの回路基板上に搭載された複数の半導体素子から
主として構成された半導体装置は、消費電力が大きく、
発熱性の高い半導体素子（以下、発熱素子という）と、
消費電力がこの発熱素子よりは小さく、発熱性の格別高
くない半導体素子（以下、集積回路素子という）とが混
載されている。この発熱素子には、通常全てそのパッケ
ージに冷却フィンなどのヒートシンクを取付けている。
近年、半導体素子自身の集積度の向上と半導体素子の実
装密度の向上とにより発熱密度が大幅に高くなり、この
様な半導体装置の冷却が大きな問題になっている。従来
の冷却構造を有する半導体装置についてその１例を図１
３の平面図および図１２の半導体装置の部分断面図を参
照して説明する。半導体装置は、幾つか組合わされて所
定の機能を備えた１つのシステムを構成している。そし
て、このシステムには強制的に空気の流れを作り出す冷
却装置が設けられており、この装置によってシステム内
部に風が導入されて図１３に示すシステム内の所定の位
置に配置された半導体装置から発生した熱を取り除いて
いる。
【０００３】プリント配線基板（ＰＣＢ）などから構成
された回路基板１５の主面には、Ｃｕ層などの配線パタ
ーンが形成されている。ここに搭載される半導体素子
は、この配線パターンに接続される。回路基板１５に
は、発熱素子１１が最も空気の流れを有効に利用できる
位置に配置され、その他の領域に集積回路素子１２や付
属回路（図示せず）が形成されている。ＣＰＵなどの最
も熱設計に留意すべき発熱素子１１はそのパッケージ表
面に放熱性の高い冷却フィン１３を取付けており、この
冷却フィン１３は、前記システムに取付けた冷却装置２
０から発生する空気の流れ１６によって発熱素子１１か
らの熱を放熱している。発熱性のそれほど高くないメモ
リなどの集積回路素子１２は冷却フィンを備えていな
い。図１２に示すように集積回路素子１２は、半導体チ
ップ５を樹脂モールドしたパッケージ６で被覆保護して
いるが、セラミックパッケージや積層セラミックパッケ
ージを用いてもよい。半導体チップ５は、リードフレー
ムから成型したチップ搭載部７に固定され、ボンディン
グワイヤ９がこの半導体チップ５と前記リードフレーム
を成型したリード８とを接続している。半導体チップ５
を始め、チップ搭載部７、ボンディングワイヤ９及びリ
ード８の一部は、パッケージ６で被覆されている。この
従来例では、発熱素子１１には積層セラミックパッケー
ジを用いている。
【０００４】積層セラミックパッケージは、積層された
セラミック基板に配線を形成することができるので、多
層配線が可能になり、高集積化された発熱素子を搭載す
ることができる。発熱素子１１は、冷却フィン１３をア
ルミナなどの積層セラミックパッケージ２の上方を向い
ている底面に取付けられている。パッケージ２は積層さ
れたセラミックからなり、その層間に配線パターン（図
示せず）が形成されているので、半導体素子が高集積化
するにしたがって積層数が多くなる。パッケージ２の中
央には半導体チップ１が搭載されている。そして、半導
体チップ１に形成された集積回路とパッケージ２に形成
されている積層配線パターンとをボンディングワイヤ３
で接続する。前記配線パターンの外部回路と接続する手
段としては、パッケージ２の回路基板１５と向い合う表
面に垂直に植設されたピンリード（ＰＧＡ：Pin Grid A
rray）４を使用する。ピンリード４は、パッケージ２の
各辺の縁に沿って複数列が配置される。このピンリード
４の先端を回路基板１５上に形成された配線（図示せ
ず）に接続する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述の様に半導体素子
自身の集積度の向上と半導体素子の実装密度の向上とに
より半導体素子の発熱密度が大幅に高くなってくると、
発熱量の小さい前記集積回路素子でもその発生する熱を
処理する必要が生じてくる。その集積回路素子が回路基
板の放熱効率の悪い領域にある場合は、その熱処理はと
くに重要である。例えば、図１２及び図１３では、シス
テムの冷却装置で発生した風１６が左側面から右側面に
流れている。回路基板１５上の発熱素子１１を通過した
風は、発熱素子の熱を吸収しているので、温度が高くな
っており、発熱素子より右にある集積回路素子１２の熱
を吸収する効率が低下している。したがって、発熱素子
１１より左にある集積回路素子１２の発熱は十分吸収さ
れるが、その右の集積回路素子１２の発熱は思うように
吸収されないで半導体装置の特性を劣化させている。即
ち、半導体装置の高速化或いは高集積化に伴って、所定
の消費電力を有する発熱素子より消費電力の小さい集積
回路素子でも、システムの信頼性向上を図るために効率
良く冷却しなければならない場合が生じている。とく
に、実装密度を上げるためにＳＲＡＭのようなメモリは
ＣＰＵの周辺の冷却効率の極めて低い位置に配置される
ことが多くなりがちであり、そのため、最近では発生す
る熱の処理が必要であるのに、その処理が十分行われな
いことが問題になっていた。
【０００６】しかし、複数の半導体素子のそれぞれにヒ
ートシンクを取付けたり、半導体装置の全半導体素子に
１つのヒートシンクを共通に取付けることはコストの上
昇、実装密度の低下、構造の複雑化などを招くために現
実的ではない。本発明は、この様な事情によりなされた
ものであり、所定の消費電力を有する半導体素子（発熱
素子）などの冷却体を利用して、消費電力が格別大きく
ない半導体素子の放熱特性を向上させた半導体装置の提
供を目的にしている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、回路基板に搭
載された所定の消費電力の発熱素子に取付けられている
ヒートシンクなどの冷却体と回路基板に搭載された前記
発熱素子より消費電力の小さい集積回路素子とを熱伝導
率の高い部材で構成された熱伝導補助体で接続すること
を特徴としている。すなわち、本発明の半導体装置は、
回路基板と、前記回路基板に搭載され、少なくとも１つ
の所定の消費電力の発熱素子と、前記所定の消費電力の
発熱素子に取付けられたヒートシンクと、前記回路基板
に搭載され、前記所定の消費電力の発熱素子より消費電
力の小さい集積回路素子と、熱伝導率の高い部材で構成
された熱伝導補助体とを備え、前記消費電力の小さい半
導体素子は、前記回路基板に複数個搭載されており、前
記熱伝導補助体の一端は、前記回路基板の放熱効率の低
い領域に配置されている前記消費電力の小さい半導体素
子に取付けられ、その他端は、前記ヒートシンクに接続
されていることを第１の特徴としている。前記熱伝導補
助体が取付けられている前記消費電力の小さい半導体素
子は、前記所定の消費電力の半導体素子の周辺に配置さ
せることができる。前記所定の消費電力の発熱素子に取
付けられた前記ヒートシンクは、所定の方向から流れて
くる空気によって冷却され、前記熱伝導補助体は、この
空気の流れに対して前記所定の消費電力の発熱素子より
下に配置されている前記消費電力の小さい集積回路素子
に取付けることができる。
【０００８】前記消費電力の小さい集積回路素子は、前
記所定の消費電力の発熱素子に取付けられている前記ヒ
ートシンクの下に配置されることができる。前記熱伝導
補助体が取付けられている前記消費電力の小さい集積回
路素子を前記所定の消費電力の発熱素子の上に形成させ
ることができる。前記熱伝導補助体には、熱伝導性の高
い有機物を用いることができる。また、回路基板と、前
記回路基板に搭載された少なくとも１つの所定の消費電
力の半導体素子と、前記所定の消費電力の半導体素子に
取付けられたヒートシンクと、前記回路基板に搭載さ
れ、前記所定の消費電力の半導体素子より消費電力の小
さい半導体素子と、熱伝導率の高い部材で構成された熱
伝導補助体とを備え、前記消費電力の小さい半導体素子
は、前記回路基板に複数個搭載されており、前記熱伝導
補助体の一端は、前記所定の消費電力の半導体素子から
所定の距離だけ離れて配置されている前記消費電力の小
さい半導体素子に取付けられ、その他端は、前記回路基
板に接続されていることを第２の特徴としている。
【０００９】更に、回路基板と、前記回路基板を支持す
る基板支持体と、前記回路基板に搭載された少なくとも
１つの所定の消費電力の半導体素子と、前記所定の消費
電力の半導体素子に取付けられたヒートシンクと、前記
回路基板に搭載され、前記所定の消費電力の半導体素子
より消費電力の小さい半導体素子と、熱伝導率の高い部
材で構成された熱伝導補助体とを備え、前記消費電力の
小さい半導体素子は、前記回路基板に複数個搭載されて
おり、前記熱伝導補助体の一端は、前記所定の消費電力
の半導体素子から所定の距離だけ離れて配置されている
前記消費電力の小さい半導体素子に取付けられ、その他
端は、前記基板支持体に接続されていることを第３の特
徴としている。
【００１０】
【作用】回路基板上の集積回路素子を必要に応じて熱伝
導補助体を用いて回路基板上の発熱素子に形成されたヒ
ートシンクなどの冷却体に接続し、その放熱特性を利用
するので、半導体装置の冷却効率が向上し、回路基板上
の放熱効率の悪い領域における集積回路素子の放熱が簡
単な構造で実施可能になる。また、発熱素子から所定の
距離以上離れている集積回路素子に取付けられた熱伝導
補助体は、回路基板や基板支持体に接続させてその放熱
性を利用する。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。まず、図
１及び図２を参照して第１の実施例を説明する。図２
は、システムの中に配置された半導体装置の平面図であ
り、図１は、その半導体装置の部分断面図である。半導
体装置は、幾つか組合わされて所定の機能を備えた１つ
のシステムを構成している。そして、図２に示すよう
に、このシステムには強制的に空気の流れ１６を作り出
す冷却装置２０が設けられており、この装置によってシ
ステム内部に空気の流れが形成されて半導体装置から発
生した熱を取り除いている。プリント配線基板（ＰＣ
Ｂ）などから構成された回路基板１５の主面には、Ｃｕ
層などの配線パターン（図示せず）が形成されている。
ここに搭載される半導体素子は、この配線パターンに接
続される。回路基板１５には、発熱素子１１が空気の流
れ１６を有効に利用できる位置に配置され、その他の領
域に集積回路素子１２や付属回路（図示せず）が形成さ
れている。ＣＰＵなどの最も熱設計に留意すべき発熱素
子１１は、そのパッケージ表面に放熱性の高いアルミニ
ウムなどから構成された冷却フィン１３を取付けてお
り、この冷却フィン１３は、前記システムに取付けた冷
却装置２０から発生する空気の流れ１６によって発熱素
子１１からの熱を放熱している。
【００１２】放熱性のそれほど高くないメモリなどの集
積回路素子１２は冷却フィンを備えていない。この図２
の平面図に記載されているように、発熱素子１１の左側
の集積回路素子１２は、冷却性のよい空気の流れ１６を
受けるが、その右側の集積回路素子１２には、発熱素子
１１の熱を吸収して温度の上がった空気１６が存在する
ので放熱効率が悪化する。そこで、この実施例では、回
路基板１５の放熱効率の悪い領域に配置した集積回路素
子１２に熱伝導補助体１４となる、例えば、アルミニウ
ムなどのリボンを取付け、この先端部分を隣接する発熱
素子１１の冷却フィン１３に接続している。この結果、
この領域の集積回路素子１２の放熱効率が向上する。図
１は、この回路基板１５の発熱素子周辺の断面図であ
る。発熱素子１１は、冷却フィン１３をアルミナなどの
積層セラミックパッケージ２の上方を向いている底面に
取付けられている。パッケージ２は、積層されたセラミ
ックからなり、その層間に配線パターン（図示せず）が
形成されているので、半導体素子が高集積化するにした
がって積層数が多くなる。パッケージ２の中央には半導
体チップ１が搭載されている。
【００１３】そして、半導体チップ１に形成された集積
回路とパッケージ２に形成されている積層配線パターン
とをボンディングワイヤ３で接続する。前記配線パター
ンの外部回路と接続する手段としては、パッケージ２の
回路基板１５と向い合う表面に垂直に植設されたピンリ
ード（ＰＧＡ）４を使用する。ピンリード４は、パッケ
ージ２の各辺の縁に沿って複数列が配置される。この列
は、向い合う２辺の縁にのみ配列させることができる。
このピンリード４の先端を回路基板１５上に形成された
配線（図示せず）に接続する。この発熱素子１１に用い
るパッケージ２は、アルミナのようなセラミックパッケ
ージを用いることもでき、樹脂モールドパッケージでも
良い。発熱素子１１に近接してＳＲＡＭのようなメモリ
などの消費電力の小さい集積回路素子１２が回路基板１
５に取付けられている。集積回路素子１２は、その半導
体チップ５を樹脂モールドパッケージ６で被覆保護して
いる。この半導体チップ５は、例えば、リードフレーム
に搭載する。リードフレームのチップ搭載部７に半導体
チップ５を取付け、さらに、半導体チップ５とリードフ
レームのリード８の一端とをボンディングワイヤ９で接
続する。
【００１４】ボンディングワイヤやリードの一端及びチ
ップ搭載部等も樹脂モールドで被覆保護される。リード
８の他端は、回路基板１５の配線パターン（図示せず）
に接続されている。図のように集積回路素子１２は、リ
ードフレームに取付けた半導体チップ５を樹脂モールド
したパッケージ６を用いているが、セラミックパッケー
ジや積層セラミックパッケージを用いてもよい。また、
空気の流れ１６に対して発熱素子１１の風下にある放熱
効率の悪くなっている領域の集積回路素子１２に熱伝導
補助体１４が取付けられる。熱伝導補助体に用いる熱伝
導性の良い部材には、無機物としてはＣｕやＡｌなどの
金属、ＡｌＮなどの窒化物等がある。また、銀粒子を分
散させたエポキシ樹脂やポッテイング樹脂などの熱伝導
率の高い絶縁性の有機物を用いることもできる。また、
熱伝導補助体の形状はこの実施例のように直線状のリボ
ンに限らず、リボンをＵ字状もしくはＶ字状にしても良
いし、板バネにすることもできる。これらの図に示され
た熱伝導補助体のリボンの長さは色々あるが、１つの回
路基板のリボンの長さを１つに統一することもできる。
また、そのリボンの長さが余り長いと製造工程における
引き回しが難しくなるし、また、半導体装置の取扱いも
十分な注意が必要である。
【００１５】次ぎに、図３を参照して第２の実施例を説
明する。図は、半導体装置の断面図である。図２の平面
図に示す半導体装置と同じように回路基板１５には発熱
素子１１と集積回路素子１２とが混載しているが、この
実施例では、発熱素子のパッケージ上に集積回路素子が
取付けられているＭＣＭ（Multi-Chip Module ）タイプ
の半導体素子を用いている点が図２のものとは相違して
いる。勿論、集積回路素子の中には、回路基板１５に直
接取付けられているものもある。回路基板１５は、例え
ば、ＰＣＢからなり、この主面には、例えば、Ｃｕ層が
配線パターンとして形成されている。半導体素子は、こ
の配線パターンに接続される。ＣＰＵなどの最も熱設計
に留意すべき発熱素子１１は、そのパッケージ表面に放
熱性の高い冷却フィン１３を取付けている。この発熱素
子１１の周辺に配置されている発熱性のそれ程高くない
メモリなどの集積回路素子１２は、発熱素子１１のパッ
ケージの表面に形成された配線パターン（図示せず）上
に取付けられる。また、回路基板１５上にも直接形成さ
れる。アルミニウムのリボンなどの熱伝導性の良い部材
により構成された熱伝導補助体１４は、この集積回路素
子１２のパッケージの上に取付ける。そして、この熱伝
導補助体１４を冷却フィン１３の任意の領域に接続す
る。
【００１６】この様な構成により、半導体装置の集積度
が大きく向上するとともに、冷却効率の極めて低い位置
に配置された集積回路素子１２の冷却効率を格段に向上
させる。この発熱素子１１から離れている集積回路素子
には熱伝導補助体を取付けない（図２参照）。この実施
例では、冷却フィン１３は、例えば、アルミニウムから
作られている。この様に冷却フィン１３と熱伝導補助体
１４が同じ材料で形成されている場合は、冷却フィン１
３を形成するときに、熱伝導補助体１４をこれと一体に
成型することができる。そして冷却フィン１３のフィン
の下に取付けられている熱伝導補助体１４の下、そし
て、発熱素子１１のパッケージ２の上に集積回路素子１
２を挿入して、これをパッケージ２と熱伝導補助体１４
のそれぞれに接続する。この熱伝導補助体１４はリボン
ではなく、アルミニウム板で形成したＵまたはＶ字状の
スプリングからなることもできる。集積回路素子１２
は、樹脂モールドパッケージで被覆されており、前実施
例と同じ構成である。従って、これはパッケージのみ表
示し、その内部の記載は省略した。また、発熱素子１１
も前実施例と同じ構成である。この実施例では、発熱素
子１１上に集積回路素子１２が搭載されているので、小
形化された高密度な半導体装置に適している。
【００１７】次ぎに、図４を参照して第３の実施例を説
明する。図は、半導体装置の断面図である。この実施例
では、第２の実施例と同様に、発熱素子の積層セラミッ
クパッケージ上に樹脂モールドされた集積回路素子が取
付けられているＭＣＭタイプの半導体素子を用いてい
る。勿論、集積回路素子の中には、回路基板１５に直接
取付けられているものもある回路基板１５は、例えば、
ＰＣＢからなり、この主面には、例えば、Ｃｕ層が配線
パターンとして形成されている。集積回路素子はこの配
線パターンに接続される。ＣＰＵなどの発熱素子１１
は、そのパッケージ表面に放熱性の高い冷却フィン１３
を取付けている。この発熱素子１１の周辺に配置されて
いる発熱性のそれ程高くないメモリなどの集積回路素子
１２は、発熱素子１１のパッケージの表面に形成された
配線パターン（図示せず）上に取付けられる。また、回
路基板１５上にも直接形成される。この実施例では、こ
の熱伝導補助体１４は、有機物からなることに特徴があ
る。この集積回路素子１２が発熱素子１１上に取付けら
れてから、例えば、銀粉を混入した絶縁性のエポキシ樹
脂を注入し、これを熱伝導補助体１４にする。このエポ
キシ樹脂のかわりにポッティング樹脂を用いても良い。
固体の熱伝導補助体１４よりも狭い空間に適用すること
ができる。また、取付けが固体より容易である。
【００１８】この様な構成により、半導体装置の高密度
化が大きく向上すると共に、冷却効率の極めて低い位置
に配置された集積回路素子１２の冷却効率を格段に向上
させることができるようになる。この発熱素子１１から
離れている集積回路素子には熱伝導補助体を取付けない
（図２参照）。次ぎに、図５を参照して第４の実施例を
説明する。図は、半導体装置の断面図である。回路基板
１５の主面には、Ｃｕ層が配線パターン（図示せず）と
して形成されている。半導体素子１１、１２は、この配
線パターンに接続される。ＣＰＵなどの発熱素子１１
は、その積層セラミックパッケージ表面に放熱性の高い
冷却フィン１３を取付けている。この回路基板１５にも
システムから風（空気の流れ）１６が送られてくる。風
は、図の左から右に流れており、発熱素子１１の風下に
は、発熱素子から発生した熱を吸収して温度の上がった
風が流れていて、放熱効率の悪い領域になっている。そ
こで、この領域に配置された集積回路素子１２には、熱
伝導補助体１４を取付けてこれを介して発生した熱を他
へ逃がしている。この実施例では、回路基板１５に、熱
伝導性の良いＰＣＢを用い、ここに前記熱伝導補助体１
４を接続している。この様に、回路基板に取付けるの
で、熱伝導補助体１４を余り長くする必要はなく、ま
た、集積回路素子１２の直下に置くので、空間を大きく
占領することはない。
【００１９】次ぎに、図６を参照して第５の実施例を説
明する。図は、半導体装置の断面図である。回路基板１
５は、例えば、ＰＣＢからなり、この主面には、Ｃｕ層
などが配線パターン（図示せず）として形成されてい
る。半導体素子１１、１２は、この配線パターンに接続
される。回路基板１５は、金属などの基板支持体１７を
その４隅に取付けることがある。また、回路基板１５に
は、通常、システムからの風（空気の流れ）１６が一定
の方向に流れているが、図２の半導体装置を含むシステ
ムの平面図にも示されているように、その流れは、回路
基板１５の中央に集中している。したがって、基板支持
体１７が形成される回路基板１５の４隅には風が少ない
ので、その付近は、回路基板１５における放熱効率の悪
い領域になる。さらに、半導体装置の高密度化が進んで
くると、発熱素子１１がかなり無理な位置に配置される
ようになる。そして、回路基板１５の隅に取付けられた
基板支持体１７に近接した集積回路素子１２がその発熱
素子１１の風下に当たると、そこの集積回路素子１２は
非常に放熱効率の悪い領域に配置されることになる。こ
の実施例では、集積回路素子１２に近い基板支持体１７
にこの集積回路素子１２に取付けたアルミニウムなどの
リボンの熱伝導補助体１４を接続することにより、この
領域での障害を取り除いている。無理に発熱素子１１の
冷却フィン１３に熱伝導補助体１４を取付けなくてもさ
らに手近かにあるものを利用することにより、半導体装
置の小形化が進む。
【００２０】次ぎに、図７を参照して第６の実施例を説
明する。図は、半導体装置の断面図である。図２の平面
図に示す半導体装置と同じように回路基板１５には発熱
素子１１と集積回路素子１２とが混載しているが、この
実施例では、発熱素子のパッケージ上の冷却フィン１３
の表面積がパッケージより広い発熱素子を用いることに
特徴がある。回路基板１５は、例えば、アルミナなどの
セラミック基板からなり、この主面には、例えば、Ｃｕ
層が配線パターンとして形成されている。半導体素子１
１、１２は、この配線パターン（図示せず）に接続され
る。ＣＰＵなどの発熱素子１１の周辺に配置されている
発熱性のそれ程高くないメモリなどの集積回路素子１２
は、回路基板１５の図示しない配線パターンに接続され
る。消費電力が大きくなるに連れて冷却フィン１３の表
面積が大きくなり、前述のように発熱素子１１自体より
大きい場合もある。この様な場合、冷却フィン１３の下
は空気の流れにも晒されず、放熱効率の悪い領域になっ
ている。そこで、フィンの下に配置された集積回路素子
１２には、アルミニウムのリボンもしくは板バネを用い
た熱伝導補助体１４をその表面に取付けその先端を真上
にあるフィンに接続する。冷却フィン１３が大きくなっ
ても回路基板１５を有効に利用することができる。
【００２１】次に、図８を参照して、本発明の半導体装
置を搭載しているが上記実施例に用いた構成とは異なる
システムを説明する。システムは、中央に仕切りが形成
されて２つの領域に別れ、それぞれに本発明の半導体装
置を含む半導体装置が搭載されている。各領域は、それ
ぞれ冷却装置２０により空気の流れ１６を形成してい
る。各領域の空気の流れ１６は、システムを形成する領
域の１辺の冷却装置２０から空気を取入れ、隣接する辺
の排気装置から排気している。この様な空気の流れ１６
に合わせて半導体装置を構成する回路基板１５は、シス
テムの所望の位置に設置される。回路基板１５に搭載さ
れる発熱素子は、効率良く空気の流れ１６に接するよう
に所望の位置を設計する。
【００２２】次に、図９及び図１０を参照して、本発明
の半導体装置に使用される発熱素子に取付けられる冷却
フィンの他の例について説明する。図９は、ピンフィン
といわれるもので、図９（ａ）は、正面図、図９（ｂ）
はその平面図である。冷却フィン１３は、ピン状体を発
熱素子１１のパッケージ上に縦横に整列して取付けたも
のであり、放熱体がピン状であるので発熱素子はどの方
向から風がきても十分放熱することができる。図１０
は、矩形フィンといわれるもので、図１０（ａ）は、正
面図、図１０（ｂ）はその側面図である。冷却フィン１
３は、矩形の板を発熱素子１１のパッケージ上に整列し
て取付けたものである。放熱体が複数の矩形板であるの
で発熱素子は一定方向からの風には十分放熱することが
できるが、風が矩形板に垂直に当たると空気の流れが乱
れて十分な放熱が期待できない。冷却フィンはこの他に
も任意の形状のものを用いることができる。
【００２３】次に、図１１を参照して本発明の半導体装
置に使用される発熱素子の他の例について説明する。こ
の図に示す回路基板１５には、発熱素子１１とともに本
発明に係る集積回路素子１２（図示せず）が搭載されて
いる。発熱素子１１には、冷却フィン１３が積層セラミ
ックパッケージ２の上方を向いている底面に取付けられ
ている。パッケージ２は積層されたセラミックからな
り、その層間に配線パターン（図示せず）が形成されて
いる。パッケージ２の中央には半導体チップ１が搭載さ
れている。そして、半導体チップ１とパッケージ２に形
成されている配線パターンとをボンディングワイヤ３で
接続する。前記配線パターンの外部回路と接続する手段
としては、パッケージ２に平行に導出されたリード４１
を用い、この先端を回路基板１５に形成された配線（図
示せず）と平行に接続する。リード４１は、パッケージ
２の各辺の縁に沿って導出するように配置されている。
ピンリード４を用いる前記実施例より回路基板１５に占
める面積が大きくなるので、半導体装置の高密度化を期
待するなら、発熱素子１１の下の空間などに消費電力の
小さい集積回路素子を配置するように工夫するなど回路
基板１５のマージン部を有効に利用する必要がある。
【００２４】以上のように、半導体装置は、高密度化が
進むにつれて、回路基板における放熱効率の悪い領域に
も半導体素子を配置しなければならず、その様な場合
に、本発明では、熱伝導補助体をその領域に形成された
消費電力の小さい半導体素子に取付け、それを発熱素子
のような消費電力の大きい半導体素子に取付けられたヒ
ートシンクに接続してその半導体素子の放熱効率を上げ
ることができる。とくに発熱素子であるＣＰＵなどに隣
接してコプロセッサを配置する集積回路においては、従
来、コプロセッサにはヒートシンクを取付けていなかっ
たが、隣接する前記ＣＰＵの冷却フィンとコプロセッサ
とを熱伝導補助体で接続すれば、その熱特性を容易に改
善することができる。
【００２４】
【発明の効果】以上、本発明は、熱伝導率の良い部材か
らなる熱伝導補助体を冷却構造に用いることにより、発
熱素子に取付けたヒートシンクの構造を格別変更するこ
となくこの発熱素子の周辺など回路基板の放熱効率の悪
い領域に設置された集積回路素子を効果的に冷却するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例の半導体装置の部分断面
図。
【図２】第１の実施例の半導体装置が配置されたシステ
ムの平面図。
【図３】第２の実施例の半導体装置の部分断面図。
【図４】第３の実施例の半導体装置の部分断面図。
【図５】第４の実施例の半導体装置の部分断面図。
【図６】第５の実施例の半導体装置の部分断面図。
【図７】第６の実施例の半導体装置の部分断面図。
【図８】本発明の半導体装置が配置されたシステムの平
面図。
【図９】本発明の半導体装置に用いる発熱素子の断面
図。
【図１０】本発明の半導体装置に用いる発熱素子の断面
図。
【図１１】本発明の半導体装置に用いる発熱素子の断面
図。
【図１２】従来の半導体装置の断面図。
【図１３】従来の半導体装置が配置されたシステムの平
面図。
【符号の説明】
１、５ 半導体チップ ２、６ パッケージ ３、９ ボンディングワイヤ ４、４１、８ リード ７ チップ搭載部 １１ 発熱素子 １２ 集積回路素子 １３ 冷却フィン １４ 熱伝導補助体 １５ 回路基板 １６ 空気の流れ（風） １７ 基板支持体 ２０ 冷却装置

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 回路基板と、 前記回路基板に搭載され、少なくとも１つの所定の消費
    電力の半導体素子と、 前記所定の消費電力の半導体素子に取付けられたヒート
    シンクと、 前記回路基板に搭載され、前記所定の消費電力の半導体
    素子より消費電力の小さい半導体素子と、 熱伝導率の高い部材で構成された熱伝導補助体とを備
    え、 前記消費電力の小さい半導体素子は前記回路基板に複数
    個搭載されており、前記熱伝導補助体の一端は、前記回
    路基板の放熱効率の低い領域に配置されている前記消費
    電力の小さい半導体素子に取付けられ、かつ、その他端
    は、前記ヒートシンクに接続されていることを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項２】 前記熱伝導補助体が取付けられている前
    記消費電力の小さい半導体素子は、前記所定の消費電力
    の半導体素子の周辺に配置されていることを特徴とする
    請求項１に記載の半導体装置。
  3. 【請求項３】 前記所定の消費電力の半導体素子に取付
    けられた前記ヒートシンクは、所定の方向から流れてく
    る空気によって冷却され、前記熱伝導補助体は、この空
    気の流れに対して前記所定の消費電力の半導体素子より
    下に配置されている前記消費電力の小さい半導体素子に
    取付けられていることを特徴とする請求項１又は請求項
    ２に記載の半導体装置。
  4. 【請求項４】 前記消費電力の小さい半導体素子は、前
    記所定の消費電力の半導体素子に取付けられている前記
    ヒートシンクの下に配置されていることを特徴とする請
    求項１乃至請求項３のいずれかに記載の半導体装置。
  5. 【請求項５】 前記熱伝導補助体が取付けられている前
    記消費電力の小さい半導体素子が前記所定の消費電力の
    半導体素子の上に形成されていることを特徴とする請求
    項４に記載の半導体装置。
  6. 【請求項６】 前記熱伝導補助体は、熱伝導性の高い有
    機物からなることを特徴とする請求項５に記載の半導体
    装置。
  7. 【請求項７】 回路基板と、 前記回路基板に搭載された少なくとも１つの所定の消費
    電力の半導体素子と、 前記所定の消費電力の半導体素子に取付けられたヒート
    シンクと、 前記回路基板に搭載され、前記所定の消費電力の半導体
    素子より消費電力の小さい半導体素子と、 熱伝導率の高い部材で構成された熱伝導補助体とを備
    え、 前記消費電力の小さい半導体素子は、前記回路基板に複
    数個搭載されており、前記熱伝導補助体の一端は、前記
    所定の消費電力の半導体素子から所定の距離だけ離れて
    配置されている前記消費電力の小さい半導体素子に取付
    けられ、その他端は、前記回路基板に接続されているこ
    とを特徴とする半導体装置。
  8. 【請求項８】 回路基板と、 前記回路基板を支持する基板支持体と、 前記回路基板に搭載された少なくとも１つの所定の消費
    電力の半導体素子と、 前記所定の消費電力の半導体素子に取付けられたヒート
    シンクと、 前記回路基板に搭載され、前記所定の消費電力の半導体
    素子より消費電力の小さい半導体素子と、 熱伝導率の高い部材で構成された熱伝導補助体とを備
    え、 前記消費電力の小さい半導体素子は、前記回路基板に複
    数個搭載されており、前記熱伝導補助体の一端は、前記
    所定の消費電力の半導体素子から所定の距離だけ離れて
    配置されている前記消費電力の小さい半導体素子に取付
    けられ、その他端は、前記基板支持体に接続されている
    ことを特徴とする半導体装置。
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