JPH06291027A - 回転式基板処理装置の処理液供給装置 - Google Patents
回転式基板処理装置の処理液供給装置Info
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- JPH06291027A JPH06291027A JP5096697A JP9669793A JPH06291027A JP H06291027 A JPH06291027 A JP H06291027A JP 5096697 A JP5096697 A JP 5096697A JP 9669793 A JP9669793 A JP 9669793A JP H06291027 A JPH06291027 A JP H06291027A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
- B05C11/08—Spreading liquid or other fluent material by manipulating the work, e.g. tilting
Abstract
(57)【要約】
【目的】 温調配管により充分に温調できながら、処理
液供給用のチューブの変形に起因する処理液の不測の滴
下を生ぜずに、複数個のノズルのうちから選択したノズ
ルを所定の姿勢で確実に所定の位置に移動させる。 【構成】 複数のノズル１と処理液供給用チューブ２と
を、チューブ２に接触してその内部の処理液の温度を一
定化する温調配管３の一部で兼用構成した剛性の支持ア
ーム４を介して支持し、ノズル１が吐出位置と基板Ｗの
上方から外れた待機位置とに変位するように支持アーム
４を基板Ｗの側方の所定の位置に規定された回転中心Ｐ
周りで回転可能に支持し、駆動アーム２１により支持ア
ーム４を択一的に係合保持してノズル１が吐出位置と待
機位置とに変位するように回転させる。
液供給用のチューブの変形に起因する処理液の不測の滴
下を生ぜずに、複数個のノズルのうちから選択したノズ
ルを所定の姿勢で確実に所定の位置に移動させる。 【構成】 複数のノズル１と処理液供給用チューブ２と
を、チューブ２に接触してその内部の処理液の温度を一
定化する温調配管３の一部で兼用構成した剛性の支持ア
ーム４を介して支持し、ノズル１が吐出位置と基板Ｗの
上方から外れた待機位置とに変位するように支持アーム
４を基板Ｗの側方の所定の位置に規定された回転中心Ｐ
周りで回転可能に支持し、駆動アーム２１により支持ア
ーム４を択一的に係合保持してノズル１が吐出位置と待
機位置とに変位するように回転させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ、フォト
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板等の基板に、フォトレジスト液など
の表面処理液を供給して表面処理を行うために、回転可
能に支持された基板に処理液を供給する複数のノズル
と、ノズルと処理液貯留部とを接続する複数のチューブ
と、チューブに接触してその内部の処理液の温度を一定
化する温調配管と、ノズルのうち、所望のノズルを択一
的に取り出して基板の上方の吐出位置に移動するノズル
移動手段とを備えた回転式基板処理装置の処理液供給装
置に関する。
マスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、
光ディスク用の基板等の基板に、フォトレジスト液など
の表面処理液を供給して表面処理を行うために、回転可
能に支持された基板に処理液を供給する複数のノズル
と、ノズルと処理液貯留部とを接続する複数のチューブ
と、チューブに接触してその内部の処理液の温度を一定
化する温調配管と、ノズルのうち、所望のノズルを択一
的に取り出して基板の上方の吐出位置に移動するノズル
移動手段とを備えた回転式基板処理装置の処理液供給装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述のような回転式基板処理装置におい
ては、同一装置内であっても、成分や粘度が異なる複数
種の処理液を選択して供給するために、複数の処理液供
給系を設けることが望まれている。このため、従来、例
えば、実公平４−５２９９０号公報に開示されているよ
うに、待機位置に設けられた複数のノズルのうち、所望
のノズルを移送アームで択一的に把持して基板の上方の
吐出位置に移動するように構成したものが知られてい
る。
ては、同一装置内であっても、成分や粘度が異なる複数
種の処理液を選択して供給するために、複数の処理液供
給系を設けることが望まれている。このため、従来、例
えば、実公平４−５２９９０号公報に開示されているよ
うに、待機位置に設けられた複数のノズルのうち、所望
のノズルを移送アームで択一的に把持して基板の上方の
吐出位置に移動するように構成したものが知られてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では次のような欠点があった。 ノズルを移送アームで把持して移動させる際、ノズ
ルに接続したチューブの硬さが抵抗となってノズル姿勢
が変化し、基板上の吐出位置に移動させた際に、例え
ば、ノズルが所望の吐出位置からずれたり、真下を向か
ずに傾いたりするなど、その吐出姿勢が不安定になり、
ノズルからの処理液の基板上の滴下位置にズレが生じて
しまう。一般に、このような処理液の滴下位置は、処理
を均一に行うなどのために、 0.1mm単位の精度が要求さ
れるが、このように滴下位置にズレが生じると、処理品
質が低下する欠点があった。 ノズルを待機位置と吐出位置との間で移動させる際
に、処理液供給源とノズルとを接続するチューブが大き
く変位するので、処理液の温度を一定化するために処理
液供給用のチューブを温調配管に挿通した多重配管にし
た場合、この多重配管の剛性が大きいものとなるため
に、配管の取り廻しが困難になる。逆に、配管の取り廻
しを優先するために温調配管を細く柔軟な材質のものに
すると、温調配管内の温調用液体量が不十分となって処
理液供給用のチューブを周囲から均一に温調できなくな
り、温調精度が低下する欠点があった。 チューブが大きく移動する際にチューブに大きな曲
げ変形やねじり変形が生じ、この変形に起因して配管内
の体積変動が発生し、これに伴ってチューブ内の処理液
がノズルから基板上に滴下してしまう現象、いわゆるボ
タ落ち現象が発生しやすい欠点があった。
来例では次のような欠点があった。 ノズルを移送アームで把持して移動させる際、ノズ
ルに接続したチューブの硬さが抵抗となってノズル姿勢
が変化し、基板上の吐出位置に移動させた際に、例え
ば、ノズルが所望の吐出位置からずれたり、真下を向か
ずに傾いたりするなど、その吐出姿勢が不安定になり、
ノズルからの処理液の基板上の滴下位置にズレが生じて
しまう。一般に、このような処理液の滴下位置は、処理
を均一に行うなどのために、 0.1mm単位の精度が要求さ
れるが、このように滴下位置にズレが生じると、処理品
質が低下する欠点があった。 ノズルを待機位置と吐出位置との間で移動させる際
に、処理液供給源とノズルとを接続するチューブが大き
く変位するので、処理液の温度を一定化するために処理
液供給用のチューブを温調配管に挿通した多重配管にし
た場合、この多重配管の剛性が大きいものとなるため
に、配管の取り廻しが困難になる。逆に、配管の取り廻
しを優先するために温調配管を細く柔軟な材質のものに
すると、温調配管内の温調用液体量が不十分となって処
理液供給用のチューブを周囲から均一に温調できなくな
り、温調精度が低下する欠点があった。 チューブが大きく移動する際にチューブに大きな曲
げ変形やねじり変形が生じ、この変形に起因して配管内
の体積変動が発生し、これに伴ってチューブ内の処理液
がノズルから基板上に滴下してしまう現象、いわゆるボ
タ落ち現象が発生しやすい欠点があった。
【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る発明の回転式基板処理
装置の処理液供給装置は、温調配管により処理液を充分
に温調でき、かつ、処理液供給用のチューブの変形に起
因する処理液の不測の滴下を生じることなく、複数個の
ノズルのうちから選択したノズルを所定の姿勢で確実に
所定の位置に移動できるようにすることを目的とし、請
求項２および請求項３に係る発明の回転式基板処理装置
の処理液供給装置は、更に、選択したノズルの移動を、
基板上に塵埃を持ち込むことなく行うことができるよう
にすることを目的とする。
たものであって、請求項１に係る発明の回転式基板処理
装置の処理液供給装置は、温調配管により処理液を充分
に温調でき、かつ、処理液供給用のチューブの変形に起
因する処理液の不測の滴下を生じることなく、複数個の
ノズルのうちから選択したノズルを所定の姿勢で確実に
所定の位置に移動できるようにすることを目的とし、請
求項２および請求項３に係る発明の回転式基板処理装置
の処理液供給装置は、更に、選択したノズルの移動を、
基板上に塵埃を持ち込むことなく行うことができるよう
にすることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の回
転式基板処理装置の処理液供給装置は、上述のような目
的を達成するために、回転可能に支持された基板に処理
液を供給する複数のノズルと、そのノズルと処理液貯留
部とを接続する複数のチューブと、そのチューブに接触
してその内部の処理液の温度を一定化する温調配管と、
ノズルのうち、所望のノズルを択一的に取り出して前記
基板の上方の吐出位置に移動するノズル移動手段とを備
えた回転式基板処理装置の処理液供給装置において、ノ
ズルとチューブとの組の各々を剛性の支持アームを介し
て支持し、前記ノズル移動手段を、ノズルが吐出位置と
基板の上方から外れた待機位置とに変位するように支持
アームそれぞれをノズルの上方から外れた位置でかつ所
定の位置に規定された回転中心周りで回転可能に支持す
るアーム支持手段と、支持アームと択一的に係合してノ
ズルが吐出位置と待機位置とに変位するように回転させ
るアーム回転手段とから構成する。
転式基板処理装置の処理液供給装置は、上述のような目
的を達成するために、回転可能に支持された基板に処理
液を供給する複数のノズルと、そのノズルと処理液貯留
部とを接続する複数のチューブと、そのチューブに接触
してその内部の処理液の温度を一定化する温調配管と、
ノズルのうち、所望のノズルを択一的に取り出して前記
基板の上方の吐出位置に移動するノズル移動手段とを備
えた回転式基板処理装置の処理液供給装置において、ノ
ズルとチューブとの組の各々を剛性の支持アームを介し
て支持し、前記ノズル移動手段を、ノズルが吐出位置と
基板の上方から外れた待機位置とに変位するように支持
アームそれぞれをノズルの上方から外れた位置でかつ所
定の位置に規定された回転中心周りで回転可能に支持す
るアーム支持手段と、支持アームと択一的に係合してノ
ズルが吐出位置と待機位置とに変位するように回転させ
るアーム回転手段とから構成する。
【０００６】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置の処理液供給装置は、上述のような目的を達成す
るために、回転可能に支持された基板に処理液を供給す
る複数のノズルと、そのノズルと処理液貯留部とを接続
する複数のチューブと、そのチューブに接触してその内
部の処理液の温度を一定化する温調配管と、ノズルのう
ち、所望のノズルを択一的に取り出して前記基板の上方
の吐出位置に移動するノズル移動手段とを備えた回転式
基板処理装置の処理液供給装置において、ノズルと前記
チューブとの組の各々を剛性の支持アームを介して支持
し、前記ノズル移動手段を、支持アームそれぞれを個別
に回転自在に支持するアーム回転支持体と、そのアーム
回転支持体のうちの所望のものを基板の側方で所定位置
へ移動させるアーム選択移動手段と、そのアーム選択移
動手段により所定位置へ移動させられた支持アームと基
板の側方で係合することにより、その支持アームを、ノ
ズルの上方から外れた位置でかつ所定の位置に規定され
た回転中心周りで回転するように回転中心位置を規定す
る芯出し係合機構と、その芯出し係合機構によって芯出
しされた支持アームに基板の側方で係合して回転するこ
とで、当該支持アームが支持するノズルを、吐出位置と
基板の上方から外れた待機位置とに移動させるアーム回
転手段とから構成する。
理装置の処理液供給装置は、上述のような目的を達成す
るために、回転可能に支持された基板に処理液を供給す
る複数のノズルと、そのノズルと処理液貯留部とを接続
する複数のチューブと、そのチューブに接触してその内
部の処理液の温度を一定化する温調配管と、ノズルのう
ち、所望のノズルを択一的に取り出して前記基板の上方
の吐出位置に移動するノズル移動手段とを備えた回転式
基板処理装置の処理液供給装置において、ノズルと前記
チューブとの組の各々を剛性の支持アームを介して支持
し、前記ノズル移動手段を、支持アームそれぞれを個別
に回転自在に支持するアーム回転支持体と、そのアーム
回転支持体のうちの所望のものを基板の側方で所定位置
へ移動させるアーム選択移動手段と、そのアーム選択移
動手段により所定位置へ移動させられた支持アームと基
板の側方で係合することにより、その支持アームを、ノ
ズルの上方から外れた位置でかつ所定の位置に規定され
た回転中心周りで回転するように回転中心位置を規定す
る芯出し係合機構と、その芯出し係合機構によって芯出
しされた支持アームに基板の側方で係合して回転するこ
とで、当該支持アームが支持するノズルを、吐出位置と
基板の上方から外れた待機位置とに移動させるアーム回
転手段とから構成する。
【０００７】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置の処理液供給装置は、上述のような目的を達成す
るために、回転可能に支持された基板に処理液を供給す
る複数のノズルと、そのノズルと処理液貯留部とを接続
する複数のチューブと、そのチューブに接触してその内
部の処理液の温度を一定化する温調配管と、ノズルのう
ち、所望のノズルを択一的に取り出して前記基板の上方
の吐出位置に移動するノズル移動手段とを備えた回転式
基板処理装置の処理液供給装置において、ノズルとチュ
ーブとの組の各々を剛性の支持アームを介して支持し、
前記ノズル移動手段を、支持アームそれぞれを基板の側
方の個別の所定位置を中心に回転自在に支持するアーム
回転支持体と、支持アーム間を移動して、所望の支持ア
ームに基板の側方で択一的に係合するアーム選択機構
と、そのアーム選択機構により基板の側方で係合した支
持アームを回転させて、当該支持アームが支持するノズ
ルを、吐出位置と基板の上方から外れた待機位置とに移
動させるアーム回転手段とから構成する。
理装置の処理液供給装置は、上述のような目的を達成す
るために、回転可能に支持された基板に処理液を供給す
る複数のノズルと、そのノズルと処理液貯留部とを接続
する複数のチューブと、そのチューブに接触してその内
部の処理液の温度を一定化する温調配管と、ノズルのう
ち、所望のノズルを択一的に取り出して前記基板の上方
の吐出位置に移動するノズル移動手段とを備えた回転式
基板処理装置の処理液供給装置において、ノズルとチュ
ーブとの組の各々を剛性の支持アームを介して支持し、
前記ノズル移動手段を、支持アームそれぞれを基板の側
方の個別の所定位置を中心に回転自在に支持するアーム
回転支持体と、支持アーム間を移動して、所望の支持ア
ームに基板の側方で択一的に係合するアーム選択機構
と、そのアーム選択機構により基板の側方で係合した支
持アームを回転させて、当該支持アームが支持するノズ
ルを、吐出位置と基板の上方から外れた待機位置とに移
動させるアーム回転手段とから構成する。
【０００８】
【作用】請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の処
理液供給装置の構成によれば、複数のノズルとチューブ
の組ごとに支持アームに支持させ、それら複数の支持ア
ームのうち、所望のノズルとチューブを支持する支持ア
ームに対して、アーム回転手段を択一的に係合させ、ア
ーム回転手段により、アーム支持手段が規定する回転中
心周りで回転すると、前記支持アームが支持している前
記所望ノズルは所定位置へ移動する。
理液供給装置の構成によれば、複数のノズルとチューブ
の組ごとに支持アームに支持させ、それら複数の支持ア
ームのうち、所望のノズルとチューブを支持する支持ア
ームに対して、アーム回転手段を択一的に係合させ、ア
ーム回転手段により、アーム支持手段が規定する回転中
心周りで回転すると、前記支持アームが支持している前
記所望ノズルは所定位置へ移動する。
【０００９】このように前記ノズルの移動は、アーム支
持手段によって所定位置に回転中心が規定され、支持ア
ームによってノズルの前記回転中心からの距離が規定さ
れた状態での回転移動となるように動きが規制される。
したがって、所望のノズルを、中心と半径が規定された
回転運動にて正確に所定位置へ移動させることができ
る。
持手段によって所定位置に回転中心が規定され、支持ア
ームによってノズルの前記回転中心からの距離が規定さ
れた状態での回転移動となるように動きが規制される。
したがって、所望のノズルを、中心と半径が規定された
回転運動にて正確に所定位置へ移動させることができ
る。
【００１０】また、前記移動の際、ノズルとともにチュ
ーブも支持アームに支持されているので、移動時にチュ
ーブが変形させられることで生じる力は支持アームが受
けとめ、ノズルに力を与えないので、ノズルの姿勢が不
安定になったり、処理液の滴下位置がずれることがな
い。
ーブも支持アームに支持されているので、移動時にチュ
ーブが変形させられることで生じる力は支持アームが受
けとめ、ノズルに力を与えないので、ノズルの姿勢が不
安定になったり、処理液の滴下位置がずれることがな
い。
【００１１】請求項２に係る発明の回転式基板処理装置
の処理液供給装置の構成によれば、複数のノズルとチュ
ーブの組ごとに支持アームに支持させ、それら複数の支
持アームのうち、所望のノズルとチューブを支持する支
持アームを選択手段により基板側方の所定位置へ移動さ
せ、ここで芯出し係合機構により回転中心を規定したの
ち、基板側方位置にてアーム回転手段を択一的に係合さ
せ、アーム回転手段により、前記支持アームは、芯出し
係合機構が規定する回転中心周りで回転し、前記支持ア
ームに支持されている前記所望ノズルは所定位置へ移動
する。
の処理液供給装置の構成によれば、複数のノズルとチュ
ーブの組ごとに支持アームに支持させ、それら複数の支
持アームのうち、所望のノズルとチューブを支持する支
持アームを選択手段により基板側方の所定位置へ移動さ
せ、ここで芯出し係合機構により回転中心を規定したの
ち、基板側方位置にてアーム回転手段を択一的に係合さ
せ、アーム回転手段により、前記支持アームは、芯出し
係合機構が規定する回転中心周りで回転し、前記支持ア
ームに支持されている前記所望ノズルは所定位置へ移動
する。
【００１２】このように前記ノズルの移動は、芯出し係
合機構によって基板側方の所定位置に回転中心が規定さ
れ、支持アームによってノズルの前記回転中心からの距
離が規定された状態での回転移動となるように動きが規
制される。したがって、所望のノズルを、中心と半径が
規定された回転運動にて正確に所定位置へ移動させるこ
とができる。
合機構によって基板側方の所定位置に回転中心が規定さ
れ、支持アームによってノズルの前記回転中心からの距
離が規定された状態での回転移動となるように動きが規
制される。したがって、所望のノズルを、中心と半径が
規定された回転運動にて正確に所定位置へ移動させるこ
とができる。
【００１３】また、前記移動の際、ノズルとともにチュ
ーブも支持アームに支持されているので、移動時にチュ
ーブが変形させられることで生じる力は支持アームが受
けとめ、ノズルに力を与えないので、ノズルの姿勢が不
安定になったり、処理液の滴下位置がずれることがな
い。
ーブも支持アームに支持されているので、移動時にチュ
ーブが変形させられることで生じる力は支持アームが受
けとめ、ノズルに力を与えないので、ノズルの姿勢が不
安定になったり、処理液の滴下位置がずれることがな
い。
【００１４】請求項３に係る発明の回転式基板処理装置
の処理液供給装置の構成によれば、複数のノズルとチュ
ーブの組ごとに支持アームに支持させ、これら各支持ア
ームは、各々アーム回転支持体で基板側方の各所定位置
を回転中心として回転自在に支持されているので、それ
ら複数の支持アームのうち、所望のノズルとチューブを
支持する支持アームに対して、基板側方の位置でアーム
選択機構が択一的に係合させ、アーム選択機構により、
アーム回転支持体が規定する回転中心周りで回転し、こ
の支持アームが支持している前記所望ノズルは所定位置
へ移動する。
の処理液供給装置の構成によれば、複数のノズルとチュ
ーブの組ごとに支持アームに支持させ、これら各支持ア
ームは、各々アーム回転支持体で基板側方の各所定位置
を回転中心として回転自在に支持されているので、それ
ら複数の支持アームのうち、所望のノズルとチューブを
支持する支持アームに対して、基板側方の位置でアーム
選択機構が択一的に係合させ、アーム選択機構により、
アーム回転支持体が規定する回転中心周りで回転し、こ
の支持アームが支持している前記所望ノズルは所定位置
へ移動する。
【００１５】このように前記ノズルの移動は、アーム回
転支持体によって基板側方の所定位置に回転中心が規定
され、支持アームによってノズルの前記回転中心からの
距離が規定された状態での回転移動となるように動きが
規制される。したがって、所望のノズルを、中心と半径
が規定された回転運動にて正確に所定位置へ移動させる
ことができる。
転支持体によって基板側方の所定位置に回転中心が規定
され、支持アームによってノズルの前記回転中心からの
距離が規定された状態での回転移動となるように動きが
規制される。したがって、所望のノズルを、中心と半径
が規定された回転運動にて正確に所定位置へ移動させる
ことができる。
【００１６】また、前記移動の際、ノズルとともにチュ
ーブも支持アームに支持されているので、移動時にチュ
ーブが変形させられることで生じる力は支持アームが受
けとめ、ノズルに力を与えないので、ノズルの姿勢が不
安定になったり、処理液の滴下位置がずれることがな
い。
ーブも支持アームに支持されているので、移動時にチュ
ーブが変形させられることで生じる力は支持アームが受
けとめ、ノズルに力を与えないので、ノズルの姿勢が不
安定になったり、処理液の滴下位置がずれることがな
い。
【００１７】
【実施例】図１は、本発明に係る回転式基板処理装置の
処理液供給装置の第１実施例を示す一部切欠側面図、図
２は平面図、および、図３は、要部の一部切欠側面図で
あり、回転可能に支持された半導体基板Ｗに処理液の一
例であるフォトレジスト液を供給する複数のノズル１…
それぞれと処理液貯留部Ｔとがチューブ２を介して接続
されるとともに、チューブ２…それぞれが、その内部の
処理液の温度を一定化する恒温水を流通させる温調配管
３で覆われ、そして、ノズル１…のうち、所望のノズル
１を択一的に取り出して基板Ｗの回転中心近くの上方に
設定した吐出位置と、基板Ｗの上方から外れた待機位置
とにわたって移動するノズル移動手段が備えられ、処理
液供給装置が構成されている。
処理液供給装置の第１実施例を示す一部切欠側面図、図
２は平面図、および、図３は、要部の一部切欠側面図で
あり、回転可能に支持された半導体基板Ｗに処理液の一
例であるフォトレジスト液を供給する複数のノズル１…
それぞれと処理液貯留部Ｔとがチューブ２を介して接続
されるとともに、チューブ２…それぞれが、その内部の
処理液の温度を一定化する恒温水を流通させる温調配管
３で覆われ、そして、ノズル１…のうち、所望のノズル
１を択一的に取り出して基板Ｗの回転中心近くの上方に
設定した吐出位置と、基板Ｗの上方から外れた待機位置
とにわたって移動するノズル移動手段が備えられ、処理
液供給装置が構成されている。
【００１８】前記ノズル１…それぞれは、温調配管３の
一部に兼用構成される剛性の高い金属パイプ３ａの先端
に設けられ、チューブ２の先端側が金属パイプ３ａの内
部に挿通支持されている。また、金属パイプ３ａの内部
には戻りチューブ５が挿通されており、金属パイプ３ａ
内に供給された恒温水がチューブ２内の処理液を一定温
度に保温した後、戻りチューブ５を介して回収されるよ
うになっている。なお、恒温水は前記とは逆向きの流れ
に、すなわち、前記戻りチューブ５を通して温調配管内
に供給するようにしてもよい。
一部に兼用構成される剛性の高い金属パイプ３ａの先端
に設けられ、チューブ２の先端側が金属パイプ３ａの内
部に挿通支持されている。また、金属パイプ３ａの内部
には戻りチューブ５が挿通されており、金属パイプ３ａ
内に供給された恒温水がチューブ２内の処理液を一定温
度に保温した後、戻りチューブ５を介して回収されるよ
うになっている。なお、恒温水は前記とは逆向きの流れ
に、すなわち、前記戻りチューブ５を通して温調配管内
に供給するようにしてもよい。
【００１９】前記金属パイプ３ａの基部には支持ブロッ
ク６が一体的に取り付けられるとともに、この支持ブロ
ック６の一端側に、金属製の筒軸７が一体的に連接さ
れ、これら金属パイプ３ａ、支持ブロック６、筒軸７に
より、ノズル１とチューブ２を支持する剛性の支持アー
ム４が構成される。また、温調配管３は、金属パイプ３
ａ、支持ブロック６、筒軸７、戻りチューブ５により構
成される。筒軸７の下端には、温調配管３を構成する恒
温水供給用チューブ８が接続され、この恒温水供給用チ
ューブ８内に処理液供給用チューブ２および戻りチュー
ブ５が挿通されている。恒温水供給用チューブ８は、図
示しない恒温水供給源に接続されている。
ク６が一体的に取り付けられるとともに、この支持ブロ
ック６の一端側に、金属製の筒軸７が一体的に連接さ
れ、これら金属パイプ３ａ、支持ブロック６、筒軸７に
より、ノズル１とチューブ２を支持する剛性の支持アー
ム４が構成される。また、温調配管３は、金属パイプ３
ａ、支持ブロック６、筒軸７、戻りチューブ５により構
成される。筒軸７の下端には、温調配管３を構成する恒
温水供給用チューブ８が接続され、この恒温水供給用チ
ューブ８内に処理液供給用チューブ２および戻りチュー
ブ５が挿通されている。恒温水供給用チューブ８は、図
示しない恒温水供給源に接続されている。
【００２０】そして、各支持アーム４…の筒軸７は、そ
れぞれ、アーム支持手段を構成するアーム回転支持体９
に筒軸７の軸芯を中心として回転可能に支持される。ま
た、各アーム回転支持体９…は共通の可動フレーム１０
にそれぞれのガイドレール１１を介してそれぞれ垂直方
向に昇降可能に一直線状に並列支持されている。
れぞれ、アーム支持手段を構成するアーム回転支持体９
に筒軸７の軸芯を中心として回転可能に支持される。ま
た、各アーム回転支持体９…は共通の可動フレーム１０
にそれぞれのガイドレール１１を介してそれぞれ垂直方
向に昇降可能に一直線状に並列支持されている。
【００２１】可動フレーム１０は、回転式基板処理装置
の装置フレーム１２（不動）にガイドレール１３を介し
て水平方向に移動可能に支持され、可動フレーム１０に
設けたラック１４は、正逆転可能な電動モータ１５で駆
動されるピニオン１６と咬合されており、電動モータ１
５の正逆駆動によってアーム回転支持体９をその並列方
向に移動するようにアーム選択移動手段が構成されてい
る。
の装置フレーム１２（不動）にガイドレール１３を介し
て水平方向に移動可能に支持され、可動フレーム１０に
設けたラック１４は、正逆転可能な電動モータ１５で駆
動されるピニオン１６と咬合されており、電動モータ１
５の正逆駆動によってアーム回転支持体９をその並列方
向に移動するようにアーム選択移動手段が構成されてい
る。
【００２２】アーム回転支持体９の側部には、直列に連
結した一対のエアシリンダ１７ａ，１７ｂによって垂直
方向に移動される昇降枠１８が設けられるとともに、こ
の昇降枠１８に、エアシリンダ１９によって垂直方向に
移動される可動ブラケット２０が設けられている。可動
ブラケット２０の上部には、所定位置の回転中心Ｐ周り
で回転可能な支軸２１ａが設けられ、支軸２１ａの下部
には回転中心Ｐ周りで回転可能に駆動アーム２１が設け
られている。
結した一対のエアシリンダ１７ａ，１７ｂによって垂直
方向に移動される昇降枠１８が設けられるとともに、こ
の昇降枠１８に、エアシリンダ１９によって垂直方向に
移動される可動ブラケット２０が設けられている。可動
ブラケット２０の上部には、所定位置の回転中心Ｐ周り
で回転可能な支軸２１ａが設けられ、支軸２１ａの下部
には回転中心Ｐ周りで回転可能に駆動アーム２１が設け
られている。
【００２３】各支持アーム４…における支持ブロック６
の上面には、筒軸７の軸心上に位置して円錐状の係合凹
部２２が形成されるとともに、それからノズル１側に離
れた位置に係合ピン２３が突設されている。
の上面には、筒軸７の軸心上に位置して円錐状の係合凹
部２２が形成されるとともに、それからノズル１側に離
れた位置に係合ピン２３が突設されている。
【００２４】他方、駆動アーム２１の下面には、回転中
心Ｐと同軸に位置して円錐状の係合突起２４が突設され
るとともに、その回転中心Ｐから離れて係合ピン２３に
対応する係合孔２５が形成されている。そして、任意に
選択されたひとつの支持アーム４が、前記可動フレーム
１０、電動モータ１５等によりなるアーム選択移動手段
によって、支持アーム４の筒軸７の軸芯が駆動アーム２
１の回転中心Ｐの直下に位置する所定の位置へ移動させ
られたとき、その支持アーム４に対して駆動アーム２１
を下降させることで、この支持アーム４の係合凹部２２
と係合ピン２３とに駆動アーム２１の係合突起２４と係
合孔２５を夫々係合させて、駆動アーム２１と支持アー
ム４とを一体に係合保持するとともに、支持アーム４の
筒軸７の軸芯が駆動アーム２１の回転中心Ｐから水平方
向に位置ずれしないように位置決めする芯出し係合機構
が構成されている。
心Ｐと同軸に位置して円錐状の係合突起２４が突設され
るとともに、その回転中心Ｐから離れて係合ピン２３に
対応する係合孔２５が形成されている。そして、任意に
選択されたひとつの支持アーム４が、前記可動フレーム
１０、電動モータ１５等によりなるアーム選択移動手段
によって、支持アーム４の筒軸７の軸芯が駆動アーム２
１の回転中心Ｐの直下に位置する所定の位置へ移動させ
られたとき、その支持アーム４に対して駆動アーム２１
を下降させることで、この支持アーム４の係合凹部２２
と係合ピン２３とに駆動アーム２１の係合突起２４と係
合孔２５を夫々係合させて、駆動アーム２１と支持アー
ム４とを一体に係合保持するとともに、支持アーム４の
筒軸７の軸芯が駆動アーム２１の回転中心Ｐから水平方
向に位置ずれしないように位置決めする芯出し係合機構
が構成されている。
【００２５】また、駆動アーム２１の支軸２１ａが可動
ブラケット２０に設置した正逆転可能な電動モータ２６
にタイミングベルト２７を介して連動連結されており、
駆動アーム２１を正逆転することにより、前述のように
係合保持した支持アーム４を所定位置に規定した回転中
心Ｐ周りに回転させ、当該支持アーム４のノズル１を基
板Ｗの側方に外れた待機位置と基板中心近くの吐出位置
とにわたって移動させるようにアーム回転手段が構成さ
れている。
ブラケット２０に設置した正逆転可能な電動モータ２６
にタイミングベルト２７を介して連動連結されており、
駆動アーム２１を正逆転することにより、前述のように
係合保持した支持アーム４を所定位置に規定した回転中
心Ｐ周りに回転させ、当該支持アーム４のノズル１を基
板Ｗの側方に外れた待機位置と基板中心近くの吐出位置
とにわたって移動させるようにアーム回転手段が構成さ
れている。
【００２６】以上の構成による処理液供給のための動作
につき、次に説明する。 （１）初期状態では、図１および図２に実線で示すよう
に、すべてのノズル１は基板Ｗの側方に外れた待機位置
に後退しており、かつ、アーム回転支持体９も下降位置
に待機している。下降位置Ｌに待機している各支持アー
ム４は、支持ブロック６の下面に備えた位置決め突起２
８と可動フレーム１０の上面に備えた位置決め凹部２９
との係合により一定姿勢に位置決め保持されている。こ
の待機状態では、各ノズル１は固定位置に設けられた乾
燥防止用カップ３０に上方より突入されて湿潤雰囲気中
に置かれる。 （２）処理液供給に際しては、先ず、所望するノズル１
の支持アーム４が回転中心Ｐ、すなわち、駆動アーム２
１の直下位置にくるように、電動モータ１５により可動
フレーム１０を駆動する。 （３）次に、図４の一部切欠側面図に示すように、エア
シリンダ１９が伸長作動して可動ブラケット２０を下降
し、これに伴う駆動アーム２１の下降によって支持アー
ム４を駆動アーム２１に係合する。これによって、使用
するノズル１が基板上の吐出位置に位置するよう支持ア
ーム４が回転させられる時の、回転中心となる筒軸７
が、駆動アーム２１の回転中心Ｐと一致するように位置
決めされる。 （４）その後に、エアシリンダ１７ａ，１７ｂを共に伸
長作動して昇降枠１８を上昇させる。その初期において
は、昇降枠１８に設けた当接部３１がアーム回転支持体
９の上端突起３２に下方から当接し、これによって支持
アーム４は駆動アーム２１と昇降枠１８の当接部３１と
で上下にクランプ固定される。このクランプ状態で更に
昇降枠１８を上昇し、図５の一部切欠側面図に示すよう
に、支持アーム４をアーム回転支持体９と共に上限
（Ｈ）まで上昇させる。 （５）次に、電動モータ２６を正転し、駆動アーム２１
を図２における時計方向に所定角度だけ回転し、ノズル
１を基板Ｗ上方の所定の吐出位置まで回転移動させる。 （６）次に、エアシリンダ１７ａ，１７ｂの片方のみを
短縮作動して、ノズル１を基板Ｗ上方において所定の供
給高さ（Ｆ）にまで下降させ、この状態で回転前ないし
低速回転し始めた基板Ｗ上に所定量の処理液を滴下供給
し、均一に回転塗布させるように、ただちに基板を高速
回転させる。 （７）処理液供給が完了すると、短縮していた片方のエ
アシリンダを再び伸長して支持アーム４およびノズル１
を基板Ｗ上方の所定高さ（Ｈ）にまで上昇退避させ、そ
の後、電動モータ２６を逆転して支持アーム４を待機位
置まで後退回転させ、支持アーム４が待機位置にある状
態で、エアシリンダ１７ａ，１７ｂを共に短縮作動させ
て昇降枠１８を下限まで下降させるとともにエアシリン
ダ１９を短縮作動させ、これにより可動ブラケット２０
および駆動アーム２１を上昇復帰させ、駆動アーム２１
と支持アーム４との係合を解除する。その後、使用する
ノズル１を変更する場合には、可動フレーム１０を適宜
駆動して駆動アーム２１に連結する支持アーム４を選択
して上記作動を行う。
につき、次に説明する。 （１）初期状態では、図１および図２に実線で示すよう
に、すべてのノズル１は基板Ｗの側方に外れた待機位置
に後退しており、かつ、アーム回転支持体９も下降位置
に待機している。下降位置Ｌに待機している各支持アー
ム４は、支持ブロック６の下面に備えた位置決め突起２
８と可動フレーム１０の上面に備えた位置決め凹部２９
との係合により一定姿勢に位置決め保持されている。こ
の待機状態では、各ノズル１は固定位置に設けられた乾
燥防止用カップ３０に上方より突入されて湿潤雰囲気中
に置かれる。 （２）処理液供給に際しては、先ず、所望するノズル１
の支持アーム４が回転中心Ｐ、すなわち、駆動アーム２
１の直下位置にくるように、電動モータ１５により可動
フレーム１０を駆動する。 （３）次に、図４の一部切欠側面図に示すように、エア
シリンダ１９が伸長作動して可動ブラケット２０を下降
し、これに伴う駆動アーム２１の下降によって支持アー
ム４を駆動アーム２１に係合する。これによって、使用
するノズル１が基板上の吐出位置に位置するよう支持ア
ーム４が回転させられる時の、回転中心となる筒軸７
が、駆動アーム２１の回転中心Ｐと一致するように位置
決めされる。 （４）その後に、エアシリンダ１７ａ，１７ｂを共に伸
長作動して昇降枠１８を上昇させる。その初期において
は、昇降枠１８に設けた当接部３１がアーム回転支持体
９の上端突起３２に下方から当接し、これによって支持
アーム４は駆動アーム２１と昇降枠１８の当接部３１と
で上下にクランプ固定される。このクランプ状態で更に
昇降枠１８を上昇し、図５の一部切欠側面図に示すよう
に、支持アーム４をアーム回転支持体９と共に上限
（Ｈ）まで上昇させる。 （５）次に、電動モータ２６を正転し、駆動アーム２１
を図２における時計方向に所定角度だけ回転し、ノズル
１を基板Ｗ上方の所定の吐出位置まで回転移動させる。 （６）次に、エアシリンダ１７ａ，１７ｂの片方のみを
短縮作動して、ノズル１を基板Ｗ上方において所定の供
給高さ（Ｆ）にまで下降させ、この状態で回転前ないし
低速回転し始めた基板Ｗ上に所定量の処理液を滴下供給
し、均一に回転塗布させるように、ただちに基板を高速
回転させる。 （７）処理液供給が完了すると、短縮していた片方のエ
アシリンダを再び伸長して支持アーム４およびノズル１
を基板Ｗ上方の所定高さ（Ｈ）にまで上昇退避させ、そ
の後、電動モータ２６を逆転して支持アーム４を待機位
置まで後退回転させ、支持アーム４が待機位置にある状
態で、エアシリンダ１７ａ，１７ｂを共に短縮作動させ
て昇降枠１８を下限まで下降させるとともにエアシリン
ダ１９を短縮作動させ、これにより可動ブラケット２０
および駆動アーム２１を上昇復帰させ、駆動アーム２１
と支持アーム４との係合を解除する。その後、使用する
ノズル１を変更する場合には、可動フレーム１０を適宜
駆動して駆動アーム２１に連結する支持アーム４を選択
して上記作動を行う。
【００２７】図６は、本発明に係る回転式基板処理装置
の処理液供給装置の第２実施例を示す側面図であり、第
１実施例と異なるところは次の通りである。すなわち、
支持アーム４における筒軸７の下端に、駆動アーム２１
に芯出し係合される連結アーム４０が備えられるととも
に、駆動アーム２１と共働で筒軸７をクランプする当接
部４１が、昇降枠２０に設けたエアシリンダ４２によっ
て独立的に上下駆動されるように構成されている。他の
構成は第１実施例と同じであり、同じ図番を付すことに
より、その説明は省略する。
の処理液供給装置の第２実施例を示す側面図であり、第
１実施例と異なるところは次の通りである。すなわち、
支持アーム４における筒軸７の下端に、駆動アーム２１
に芯出し係合される連結アーム４０が備えられるととも
に、駆動アーム２１と共働で筒軸７をクランプする当接
部４１が、昇降枠２０に設けたエアシリンダ４２によっ
て独立的に上下駆動されるように構成されている。他の
構成は第１実施例と同じであり、同じ図番を付すことに
より、その説明は省略する。
【００２８】図７は、本発明に係る回転式基板処理装置
の処理液供給装置の第３実施例を示す側面図、図８は平
面図、図９は要部の断面図であり、第１実施例と異なる
ところは次の通りである。すなわち、ノズル１およびチ
ューブ２を支持した複数の支持アーム４がそれぞれ異な
った所定位置に規定された回転中心Ｑ1 ，Ｑ2 ，Ｑ3 周
りに回転自在に並んで設けられるとともに、支持アーム
４の基部に連接した筒軸７を回転可能に支持したアーム
回転支持体９が、装置フレーム５０にガイドレール５１
を介して昇降可能に支持され、また、これら支持アーム
４群の側部には、使用するノズル１を選択する駆動アー
ム２１が一定の中心Ｒ周りに回転可能に設けられてい
る。
の処理液供給装置の第３実施例を示す側面図、図８は平
面図、図９は要部の断面図であり、第１実施例と異なる
ところは次の通りである。すなわち、ノズル１およびチ
ューブ２を支持した複数の支持アーム４がそれぞれ異な
った所定位置に規定された回転中心Ｑ1 ，Ｑ2 ，Ｑ3 周
りに回転自在に並んで設けられるとともに、支持アーム
４の基部に連接した筒軸７を回転可能に支持したアーム
回転支持体９が、装置フレーム５０にガイドレール５１
を介して昇降可能に支持され、また、これら支持アーム
４群の側部には、使用するノズル１を選択する駆動アー
ム２１が一定の中心Ｒ周りに回転可能に設けられてい
る。
【００２９】駆動アーム２１の基部に備えられた支軸５
２が、直列に連結された一対のエアシリンダ１７ａ，１
７ｂによって昇降される昇降枠１８に前記中心Ｒ周りに
回転可能に支持されるとともに、この支軸５２から延出
したアーム５３と昇降枠１８に設置した電動モータ２６
とがリンク機構５４を介して連動連結され、モータ２６
の正逆転によって駆動アーム２１が支持アーム４群の上
方を横断移動するように構成されている。
２が、直列に連結された一対のエアシリンダ１７ａ，１
７ｂによって昇降される昇降枠１８に前記中心Ｒ周りに
回転可能に支持されるとともに、この支軸５２から延出
したアーム５３と昇降枠１８に設置した電動モータ２６
とがリンク機構５４を介して連動連結され、モータ２６
の正逆転によって駆動アーム２１が支持アーム４群の上
方を横断移動するように構成されている。
【００３０】各支持アーム４における基部近くの上部に
はＶ溝付きのローラ５５が縦軸周りに回転自在に取り付
けられるとともに、駆動アーム２１の下部にはエアシリ
ンダ５６によってアーム長手方向に出退可能に左右一対
のガイドレール５７が設けられ、前方へ進出移動された
ガイドレール５７が前記ローラ５５に係合するように構
成されている。他の構成は第１実施例と同じであり、同
じ図番を付すことによその説明は省略する。
はＶ溝付きのローラ５５が縦軸周りに回転自在に取り付
けられるとともに、駆動アーム２１の下部にはエアシリ
ンダ５６によってアーム長手方向に出退可能に左右一対
のガイドレール５７が設けられ、前方へ進出移動された
ガイドレール５７が前記ローラ５５に係合するように構
成されている。他の構成は第１実施例と同じであり、同
じ図番を付すことによその説明は省略する。
【００３１】この第３実施例によれば次のように動作す
る。 （１）下降位置（Ｌ）で待機している支持アーム４群の
上で駆動アーム２１が回転し、これにより使用するノズ
ル１の支持アーム４を選択し、ガイドレール５７を進出
移動させて対象となる支持アーム４のローラ５５を係合
支持する。 （２）両エアシリンダ１７ａ，１７ｂを共に伸長させて
昇降枠１８を上昇させ、係合選択した支持アーム４を上
限（Ｈ）まで移動させる。 （３）次に、駆動アーム２１を回転駆動して係合支持し
た支持アーム４のノズル１を基板Ｗ上方の吐出位置まで
移動させる。この場合、支持アーム４と駆動アーム２１
との回転中心の差異がガイドレール５７とローラ５５と
の相対転動により吸収される。 （４）その後、一方のエアシリンダ１７ａを短縮作動さ
せることにより支持アーム４を所定量だけ下降させ、基
板Ｗに対して所定の供給高さ（Ｆ）にセットする。
る。 （１）下降位置（Ｌ）で待機している支持アーム４群の
上で駆動アーム２１が回転し、これにより使用するノズ
ル１の支持アーム４を選択し、ガイドレール５７を進出
移動させて対象となる支持アーム４のローラ５５を係合
支持する。 （２）両エアシリンダ１７ａ，１７ｂを共に伸長させて
昇降枠１８を上昇させ、係合選択した支持アーム４を上
限（Ｈ）まで移動させる。 （３）次に、駆動アーム２１を回転駆動して係合支持し
た支持アーム４のノズル１を基板Ｗ上方の吐出位置まで
移動させる。この場合、支持アーム４と駆動アーム２１
との回転中心の差異がガイドレール５７とローラ５５と
の相対転動により吸収される。 （４）その後、一方のエアシリンダ１７ａを短縮作動さ
せることにより支持アーム４を所定量だけ下降させ、基
板Ｗに対して所定の供給高さ（Ｆ）にセットする。
【００３２】上記第１から第３の実施例では、ノズル１
およびチューブ２を支持する支持アーム４の一部である
金属パイプ３ａで兼用し、チューブ２を金属パイプ３ａ
の内部すなわち支持アーム４の内部に納めた構造として
いるが、温調配管３とは別体の専用の支持アームを設け
て構成しても良い。
およびチューブ２を支持する支持アーム４の一部である
金属パイプ３ａで兼用し、チューブ２を金属パイプ３ａ
の内部すなわち支持アーム４の内部に納めた構造として
いるが、温調配管３とは別体の専用の支持アームを設け
て構成しても良い。
【００３３】
【発明の効果】請求項１に係る発明の回転式基板処理装
置の処理液供給装置によれば、複数のノズルとチューブ
の組ごとに支持アームに支持させ、それら複数の支持ア
ームのうち、所望のノズルとチューブを支持する支持ア
ームに対して、アーム回転手段を択一的に係合させ、ア
ーム支持手段が規定する回転中心周りで回転させて前記
所望ノズルが所定位置へ移動するようにしているので、
前記ノズルの移動は、中心と半径が規定された回転運動
となるように動きが規制された移動であるから、所望の
ノズルを正確に所定位置へ移動させることができる。ま
た、前記移動の際、ノズルとともにチューブも支持アー
ムに支持させているので、移動時にチューブが変形させ
られることで生じる力は支持アームが受けとめてノズル
に与えないことも相まって、ノズルを所定の姿勢で確実
に所定の吐出位置に移動でき、処理精度を向上できるよ
うになった。しかも、選択した支持アームを所定の回転
中心周りに回転させるから、配管の取り廻しに対する制
約が少なく、処理液供給用のチューブおよびこれに接触
する温調配管の太さや材質を任意に設定して良好な処理
液の温調を行うことができるようになった。更に、支持
アームの回転によってもたらされるチューブの変形は所
定の回転中心周りのねじり変形に限られるから、曲げ変
形とねじり変形とを受ける従来手段に比較してチューブ
内の容積変形が少なく、処理液供給用のチューブの変形
に起因する処理液の不測の滴下を回避できる。
置の処理液供給装置によれば、複数のノズルとチューブ
の組ごとに支持アームに支持させ、それら複数の支持ア
ームのうち、所望のノズルとチューブを支持する支持ア
ームに対して、アーム回転手段を択一的に係合させ、ア
ーム支持手段が規定する回転中心周りで回転させて前記
所望ノズルが所定位置へ移動するようにしているので、
前記ノズルの移動は、中心と半径が規定された回転運動
となるように動きが規制された移動であるから、所望の
ノズルを正確に所定位置へ移動させることができる。ま
た、前記移動の際、ノズルとともにチューブも支持アー
ムに支持させているので、移動時にチューブが変形させ
られることで生じる力は支持アームが受けとめてノズル
に与えないことも相まって、ノズルを所定の姿勢で確実
に所定の吐出位置に移動でき、処理精度を向上できるよ
うになった。しかも、選択した支持アームを所定の回転
中心周りに回転させるから、配管の取り廻しに対する制
約が少なく、処理液供給用のチューブおよびこれに接触
する温調配管の太さや材質を任意に設定して良好な処理
液の温調を行うことができるようになった。更に、支持
アームの回転によってもたらされるチューブの変形は所
定の回転中心周りのねじり変形に限られるから、曲げ変
形とねじり変形とを受ける従来手段に比較してチューブ
内の容積変形が少なく、処理液供給用のチューブの変形
に起因する処理液の不測の滴下を回避できる。
【００３４】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置の処理液供給装置によれば、前述の請求項１に係
る発明の回転式基板処理装置の処理液供給装置と同様
に、ノズルを所定の姿勢で確実に所定の吐出位置に移動
でき、処理精度を向上できるとともに、良好な処理液の
温調を行うことができ、かつ、処理液供給用のチューブ
の変形に起因する処理液の不測の滴下を回避できる。そ
のうえ、アーム回転手段により、基板の側方、すなわ
ち、基板の上方から外れた位置で係合した状態で支持ア
ームを回転して吐出位置と待機位置とに変位するから、
ノズルの移動を、基板上にゴミを持ち込むことなく行う
ことができるようになり、一層処理品質を向上できるよ
うになった。
理装置の処理液供給装置によれば、前述の請求項１に係
る発明の回転式基板処理装置の処理液供給装置と同様
に、ノズルを所定の姿勢で確実に所定の吐出位置に移動
でき、処理精度を向上できるとともに、良好な処理液の
温調を行うことができ、かつ、処理液供給用のチューブ
の変形に起因する処理液の不測の滴下を回避できる。そ
のうえ、アーム回転手段により、基板の側方、すなわ
ち、基板の上方から外れた位置で係合した状態で支持ア
ームを回転して吐出位置と待機位置とに変位するから、
ノズルの移動を、基板上にゴミを持ち込むことなく行う
ことができるようになり、一層処理品質を向上できるよ
うになった。
【００３５】また、請求項３に係る発明の回転式基板処
理装置の処理液供給装置によれば、前述の請求項１に係
る発明の回転式基板処理装置の処理液供給装置と同様
に、ノズルを所定の姿勢で確実に所定の吐出位置に移動
でき、処理精度を向上できるとともに、良好な処理液の
温調を行うことができ、かつ、処理液供給用のチューブ
の変形に起因する処理液の不測の滴下を回避できる。そ
のうえ、アーム選択機構により、基板の側方、すなわ
ち、基板の上方から外れた位置で係合した状態で支持ア
ームを回転して吐出位置と待機位置とに変位するから、
ノズルの移動を、基板上にゴミを持ち込むことなく行う
ことができるようになり、一層処理品質を向上できるよ
うになった。
理装置の処理液供給装置によれば、前述の請求項１に係
る発明の回転式基板処理装置の処理液供給装置と同様
に、ノズルを所定の姿勢で確実に所定の吐出位置に移動
でき、処理精度を向上できるとともに、良好な処理液の
温調を行うことができ、かつ、処理液供給用のチューブ
の変形に起因する処理液の不測の滴下を回避できる。そ
のうえ、アーム選択機構により、基板の側方、すなわ
ち、基板の上方から外れた位置で係合した状態で支持ア
ームを回転して吐出位置と待機位置とに変位するから、
ノズルの移動を、基板上にゴミを持ち込むことなく行う
ことができるようになり、一層処理品質を向上できるよ
うになった。
【図１】第１実施例の一部切欠側面図である。
【図２】第１実施例の平面図である。
【図３】第１実施例の要部の一部切欠側面図である。
【図４】支持アームが係合した状態の第１実施例の一部
切欠側面図である。
切欠側面図である。
【図５】支持アームが上昇した状態の第１実施例の一部
切欠側面図である。
切欠側面図である。
【図６】第２実施例の一部切欠側面図である。
【図７】第３実施例の一部切欠側面図である。
【図８】第３実施例の平面図である。
【図９】第３実施例の要部の断面図である。
１…ノズル ２…チューブ ３…温調配管 ４…支持アーム ９…アーム回転支持体 Ｐ…回転中心 Ｗ…基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/30 ５０２ 7124−2Ｈ (72)発明者 加藤 洋 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内 (72)発明者 大谷 正美 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内
Claims (3)
- 【請求項１】 回転可能に支持された基板に処理液を供
給する複数のノズルと、 前記ノズルと処理液貯留部とを接続する複数のチューブ
と、 前記チューブに接触してその内部の処理液の温度を一定
化する温調配管と、 前記ノズルのうち、所望のノズルを択一的に取り出して
前記基板の上方の吐出位置に移動するノズル移動手段
と、 を備えた回転式基板処理装置の処理液供給装置におい
て、 前記ノズルと前記チューブとの組の各々を剛性の支持ア
ームを介して支持し、 前記ノズル移動手段を、 前記ノズルが吐出位置と前記基板の上方から外れた待機
位置とに変位するように、前記支持アームそれぞれを前
記ノズルの上方から外れた位置でかつ所定の位置に規定
された回転中心周りで回転可能に支持するアーム支持手
段と、 前記支持アームと択一的に係合して前記ノズルが吐出位
置と待機位置とに変位するように回転させるアーム回転
手段と、 から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置の処
理液供給装置。 - 【請求項２】 回転可能に支持された基板に処理液を供
給する複数のノズルと、 前記ノズルと処理液貯留部とを接続する複数のチューブ
と、 前記チューブに接触してその内部の処理液の温度を一定
化する温調配管と、 前記ノズルのうち、所望のノズルを択一的に取り出して
前記基板の上方の吐出位置に移動するノズル移動手段
と、 を備えた回転式基板処理装置の処理液供給装置におい
て、 前記ノズルと前記チューブとの組の各々を剛性の支持ア
ームを介して支持し、 前記ノズル移動手段を、 前記支持アームそれぞれを個別に回転自在に支持するア
ーム回転支持体と、 前記アーム回転支持体のうちの所望のものを前記基板の
側方で所定位置へ移動させるアーム選択移動手段と、 そのアーム選択移動手段により所定位置へ移動させられ
た前記支持アームと前記基板の側方で係合することによ
り、その支持アームを、前記ノズルの上方から外れた位
置でかつ所定の位置に規定された回転中心周りで回転す
るように回転中心位置を規定する芯出し係合機構と、 前記芯出し係合機構によって芯出しされた前記支持アー
ムに前記基板の側方で係合して回転することで、当該支
持アームが支持するノズルを、吐出位置と前記基板の上
方から外れた待機位置とに移動させるアーム回転手段
と、 から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置の処
理液供給装置。 - 【請求項３】 回転可能に支持された基板に処理液を供
給する複数のノズルと、 前記ノズルと処理液貯留部とを接続する複数のチューブ
と、 前記チューブに接触してその内部の処理液の温度を一定
化する温調配管と、 前記ノズルのうち、所望のノズルを択一的に取り出して
前記基板の上方の吐出位置に移動するノズル移動手段
と、 を備えた回転式基板処理装置の処理液供給装置におい
て、 前記ノズルと前記チューブとの組の各々を剛性の支持ア
ームを介して支持し、 前記ノズル移動手段を、 前記支持アームそれぞれを前記基板の側方の個別の所定
位置を中心に回転自在に支持するアーム回転支持体と、 前記支持アーム間を移動して、所望の支持アームに前記
基板の側方で択一的に係合するアーム選択機構と、 そのアーム選択機構により前記基板の側方で係合した支
持アームを回転させて、当該支持アームが支持するノズ
ルを、吐出位置と前記基板の上方から外れた待機位置と
に移動させるアーム回転手段と、 から構成したことを特徴とする回転式基板処理装置の処
理液供給装置。
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