CN106423646A - 带实时高度调节的晶圆喷淋头结构 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种带实时高度调节的晶圆喷淋头结构,包括固定安装于喷淋头安装板上的竖向气缸,所述竖向气缸的活塞杆下端固定安装有喷淋头及测距仪,喷淋头位于活塞杆的一侧,测距仪位于活塞杆的下端;还包括一控制器,所述测距仪的输出端与控制器的输入端连接,所述控制器的输出端与竖向气缸的行程控制单元连接。本发明采用实时检测喷淋距离,并实时调节,提高喷淋的均匀度。
Description
技术领域
本发明涉及集成电路技术领域,特别涉及晶圆的喷淋设备。
背景技术
半导体镀膜工艺中,通常采用喷淋头对着晶圆喷淋高温金属气体,为了保证喷淋的均匀性,需要将喷淋头整平,使得所有喷淋头与晶圆之间的距离相等。目前采用的喷淋结构,只能喷淋前对喷淋头的高度位置调节,而喷淋过程中无法实时调节,从而由于喷淋过程中喷淋头高度的变化,导致还存在喷淋不均匀的现象。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题,申请人进行研究及改进,提供一种带实时高度调节的晶圆喷淋头结构,能实时调节喷淋高度,保证均匀喷淋。
为了解决上述问题,本发明采用如下方案:
一种带实时高度调节的晶圆喷淋头结构,包括固定安装于喷淋头安装板上的竖向气缸,所述竖向气缸的活塞杆下端固定安装有喷淋头及测距仪,喷淋头位于活塞杆的一侧,测距仪位于活塞杆的下端;还包括一控制器,所述测距仪的输出端与控制器的输入端连接,所述控制器的输出端与竖向气缸的行程控制单元连接。
本发明的技术效果在于:
本发明采用实时检测喷淋距离,并实时调节,提高喷淋的均匀度。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图中:1、晶圆支撑台;2、喷淋头安装板;3、竖向气缸;4、喷淋头;5、测距仪;6、晶圆。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步说明。
如图1所示,本实施例的晶圆的喷淋结构,包括固定安装于机架上的晶圆支撑台1及位于晶圆支撑台1上方的喷淋头安装板2,喷淋头安装板2上固定安装有多个竖向气缸3,竖向气缸3的活塞杆下端固定安装有喷淋头4及测距仪5,喷淋头4位于活塞杆的一侧,测距仪5位于活塞杆的下端;本发明还包括一控制器,测距仪5的输出端与控制器的输入端连接,控制器的输出端与竖向气缸3的行程控制单元连接。
使用时,通过测距仪5检测喷淋头4与晶圆6之间的距离,当检测的距离大于或小于设定的距离时,控制器向对应的竖向气缸3的行程控制单元发送信号,从而控制竖向气缸3的活塞杆伸出长度,直至检测距离等于原始的设定距离。
以上所举实施例为本发明的较佳实施方式,仅用来方便说明本发明,并非对本发明作任何形式上的限制,任何所属技术领域中具有通常知识者,若在不脱离本发明所提技术特征的范围内,利用本发明所揭示技术内容所作出局部改动或修饰的等效实施例,并且未脱离本发明的技术特征内容,均仍属于本发明技术特征的范围内。
Claims (1)
1.一种带实时高度调节的晶圆喷淋头结构,其特征在于:包括固定安装于喷淋头安装板(2)上的竖向气缸(3),所述竖向气缸(3)的活塞杆下端固定安装有喷淋头(4)及测距仪(5),喷淋头(4)位于活塞杆的一侧,测距仪(5)位于活塞杆的下端;还包括一控制器,所述测距仪(5)的输出端与控制器的输入端连接,所述控制器的输出端与竖向气缸(3)的行程控制单元连接。
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2016
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
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