KR0142807B1 - 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치 - Google Patents

Abstract

복수의 노즐과 처리액 공급튜브는 일정온도로 튜브에서 처리액을 유지하기 위한 튜브 접촉용의 온도조절 배관의 일부를 형성하는 강성의 지지암에 의해 지지된다. 지지암은 노즐이 기판상부에서 변위된 대기 위치와 배출위치 사이에 이동가능하도록 기판에서 측방으로 위치한 회전축 주위를 회전가능하게 된다. 구동암은 대기 위치와 배출위치 사이에서 선택지지암으로 부착된 노즐을 이동하는 하나의 선택 지지암을 회전 및 걸어맞추게 된다.

이러한 구조에 의해, 복수의 노즐에서 선택된 하나의 노즐은 온도 조절 배관의 수단에 의해 처리액의 충분한 온도조절을 하게 하고, 처리액 공급튜브의 변형에 의한 처리액을 불적절한 적하를 피하면서 소정의 위치로 소정의 자세로서 신뢰성 있게 이동된다.

Description

회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치

제 1 도는 본 발명의 제1실시예의 일부 절개 측면도,

제 2 도는 제 1실시예의 평면도,

제 3 도는 제1실시예의 주요부의 일부절개 측면도,

제 4 도는 지지암이 맞물려진 상태의 제1실시예의 일부 절개 측면도,

제 5 도는 지지암이 상승한 상태의 제1실시예의 일부 절개 측면도,

제 6 도는 본 발명의 제2실시예의 일부 절개 측면도,

제 7 도는 본 발명의 제3실시예의 일부 절개 측면도,

제 8 도는 제3실시예의 평면도,

제 9 도는 제3실시예의 주요부의 단면도이다.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1:노즐 2:튜브

3:온도조절배관 4:지지암

9:암회전지지체 P:회전중심

W:기판

본 발명은 반도체 웨이퍼, 포토마스크용의 글라스기판, 액정표시 장치용의 글라스기판, 광디스크용의 기판 등의 기판에, 포토레지스트액등의 표면처리액을 공급해서표면처리를 행하기 위한, 회전가능하게 지지된 기판에 처리액을 공급하는 복수의 노즐과, 노즐과 처리액 저류부를 접속하는 복수의 튜브와 튜브에 접촉해서 그 내부의 처리액의 온도를 일정화하는 온도 조절 배관과 노즐 가운데 소망의 노즐을 택일적으로 꺼내서 기판의 상방의 배출 위치로 이동하는 노즐 이동수단을 구비하는 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치에 관한 것이다.

상술과 같은 회전식 기판 처리장치에 있어서는 동일 장치에서도 성분과 점도가 다른 복수종의 처리액을 선택해서 공급하기 위해서 복수의 처리액 공급계를 설치하는 것이 바람직하다. 이때문에, 종래, 예를 들면, 일본실용신안 4-52990호 공보에 개시된 바와 같이 대기 위치에 설치된 복수의 노즐 가운데 소망의 노즐을 이송하는 암으로 선택적으로 파지해서 기판의 상방의 배출위치로 이동하도록 구성된 것이 공지되어 있다.

그러나, 상기 종래예에는 다음과 같은 결점이 있다.

(1) 노즐을 이송암으로 파지해서 이동시킬때, 노즐에 접속된 튜브의 경도가 저항으로 되어서 노즐 자세가 변화하고, 기판상의 배출 위치로 이동시킬때에 예를 들면, 노즐이 소망의 배출위치에서 벗어나기도 하고 바로 아래로 향하지 않고 경사하는 등 그 배출 자세가 불안정하게 되어 노즐에서의 처리액의 기판상의 불적절한 영역에 처리액이 적하(滴下)된다. 일반적으로 이와같은 처리액의 적하위치는 처리를 균일하게 행하기 위해서는 0.1mm 단위의 정도가 요구되나, 이와 같은 적하위치가 어긋나 버리고 처리 품질이 저하한다는 결점이 있다.

(2) 노즐을 대기 위치와 배출위치와의 사이에서 이동시킬때에, 처리액 공급원과 노즐을 접속하는 튜브가 크게 변위한다. 따라서 처리액이 일정온도에서 유지되도록 온도조절 배관을 통해서 처리액 공급용 튜브가 연장되는 곳은 상기의 다중 배관구조의 강성 때문에 배관을 배열하는 것이 어렵다. 역으로 상기 온도조절 파이프가 배관배열에 우선권을 주는 얇고 유연한 물질로 구성되는 곳은 온도조절액이 불충분한 양으로 단지 배관만을 통해 흐르게 된다. 따라서 처리액 공급튜브는 주위에서 균일한 온도조절을 받을 수 없고 그결과 온도조절의 정확도가 떨어진다.

(3) 튜브에 큰 굴곡과 비틀림 변형이 행하여져서, 배관내의 체적변형을 야기한다. 그러한 체력변형에 의해 처리액이 노즐에서 기판으로 크게 방울져 떨어지게 된다.

본 발명의 주목적은 처리액 공급튜브의 변형에 의한 처리액의 불측의 적하를 피하고 온도조절 배관의 수단에 의해 처리액의 충분한 온도조절을 하면서 소정자세로서 소정위치에로 복수의 노즐 가운데 선택된 하나의 노즐을 확실하게 이동하기 위한 처리액 공급장치를 제공하는 데 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 기판 먼지나 불순물을 수반하지 않고 복수의 노즐 중 선택된 노즐을 이동시키는데 있다.

본 발명의 다른 목적은 이 이후에 설명되는 바람직한 실시예에서 분명해질 것이다.

본 발명에 관한 상기 목적을 달성하기 위해, 본 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치는 회전가능하게 지지된 기판에 처리액을 공급하는 복수의 노즐과 처리액 저장부에 노즐을 접속하기 위한 복수의 튜브와 일정온도로 상기 튜브에서 치리액을 유지하도록 튜브를 접촉하기 위한 온도 조절배관과, 상기 기판 상부의 배출위치로 복수의 노즐 중의 하나를 선택 및 이동하기 위한 노즐 이동장치를 구비하고, 강성의 지지암에 의해 각각 지지되는 한셋트의 노즐과 하나의 튜브와 기판 상부로 변위하고, 대기 위치와 배출위치 사이에서 선택된 하나의 노즐이 이동하여, 노즐위에서 변위하는 회전중심 주위를 회전하도록 지지암을 각각 지지하기 위한 암지지 장치를 포함하는 노즐 이동장치와, 배출위치와 대기 위치 사이에서 선택되는 노즐을 이동하는 지지암을 선택적으로 회전하고 걸어 맞추기 위한 암회전 장치로 구성된다.

본 발명에 따른 처리액 공급장치에서는 하나의 노즐 셋트와 하나의 튜브가 지지암에 의해 지지되고, 암회전장치는 소정셋트의 노즐과 튜브를 지지하는 지지암과 맞물리도록 동작하게 된다. 암회전장치는 암지지장치에 의해 설치된 회전중심 주위를 지지암이 회전하도록 할때, 소정의 노즐은 소정위치로 이동하는 지지암 상부에 의해 지지된다.

따라서, 노즐의 이동을 지지암에 의해 설치된 회전중심에서 노즐의 거리에 의해 암지지장치로 설치된 회전중심 주위를 회전운동 되도록 조절된다. 그결과, 선택노즐은 고정중심과 반경을 가지는 회전운동을 통해서 소정의 위치로 정확하게 이동할 수 있다.

이 지지암이 노즐은 물론 튜브까지도 지지함으로써 이동중의 튜브의 어떤 변형으로 야기되는 힘을 노즐에 인가되지 않고 지지암에 의해 받게 된다. 따라서, 처리액이 적하위치에서 벗어나거나 노즐이 불안정한 자세로 되는 일은 일어나지 않는다.

상기한대로, 하나의 노즐이 각셋트와 튜브는 지지암에 의해 지지되고, 암회전 장치는 소정 셋트의 노즐과 튜브를 지지하는 지지암에 맞물리게 동작하게 된다. 소정의 노즐이 암지지장치에 설치된 회전중심의 주위의 회전운동을 통해서 소정위치로 이동한다. 그래서 노즐의 운동이 고정 중심과 반경을 가지는 조정된 이동이고 소정의 위치로 노즐의 정확한 전달을 보장한다. 또한 지지암이 노즐은 물론 튜브도 지지함으로서 이동중 튜브의 변형으로부터 야기되는 힘이 노즐에 인가되지 않고서 지지암에만 받게 된다. 이것이 소정의 배출 위치로 소정의 자세로 확실하게 노즐을 이동할 수 있어 처리정도를 향상시킬 수 있다.

또한, 선택 지지암이 소정의 회전중심 주위를 회전하는 자세는 배관 배열에 거의 제한이 없다. 처리액 공급튜브와 튜브를 접촉하기 위한 온도 조절 배관이 소망의 두께를 가질 수 있고 다양한 재로로 형성됨으로써 처리액에 대해 우수한 온도조절을 할 수 있다. 지지암의 회전운동에서 야기되는 튜브의 변형이 회전중심 주위의 뒤틀린 변형을 막고 있다. 굴곡 및 뒤틀린 변형 모드를 가진 튜브에서 이전의 구조와 비교하면, 체적 변형이 본 발명에 따른 튜브 내부에서 적게 일어난다. 이것이 처리액 공급튜브의 상기 변형에 의해 처리액의 불측의 적하를 피하는데 효과적이다.

본 발명의 또 다른 양해에 있어서, 상술의 목적을 회전가능하게 지지된 기판에 처리액을 공급하는 복수의 노즐과, 그 노즐과 처리액 저류부를 각각 접속하는 복수의 튜브와 그 튜브에 접촉해서 그 내부의 처리액의 온도를 일정화하는 온도조절배관과, 노즐가운데서 소망의 노즐을 선택적으로 취해서 상기 기판의 상방이 배출위치로 이동하는 노즐 이동수단을 구비하고, 강성지지암에 의해 각각 지지되는 한셋트의 노즐과 하나의 튜브와, 지지암을 회전축과 같게 지지하기 위한 암회전 지지체를 포함하는 노즐이동장치와, 기판으로부터 측방향에 위치된 소정의 위치로 선택된 암회전 지지체의 하나를 이동하기 위한 암선택이동장치와 노즐 상부에서 변위된 회전중심 주위를 회전할 수 있는 선택 지지암이 되도록 암선택 이동장치에 의해 소정의 위치로 이동하는 선택된 지지암을 걸어 맞추기 위한 중심 걸어 맞춤 장치와, 기판 상부로부터 변위된 대기 위치와 배출위치 사이에서 선택된 지지암에 의해 지지된 노즐을 이동하기 위한 중심 걸어 맞춤 장치에 의해 중심 조정되는 선택지지암을 회전 및 걸어 맞추기 위한 암회전 장치들로 각각 구성하며 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치가 달성된다. 이러한 처리액 공급장치에 따르면, 하나의 노즐 셋트 및 하나의 튜브가 지지암에 의해 지지되고 암 선택 이동장치는 기판에서 측방으로 위치한 소정의 위치로 소정 한셋트의 노즐과 튜브를 지지하는 지지암을 이동하게 동작하게 된다. 중심 걸어 맞춤 장치는 회전 중심을 설치한 후에 암 회전장치가 이러한 지지암에 맞물려서 위치하게 된다. 그후 암회전장치는 중심 걸어맞춤 장치에 의해 설치된 회전중심 주위를 지지암이 회전하도록 동작하게 된다. 그 결과 이러한 지지암에 의해 지지된 노즐이 소정위치로 이동하게 된다.

그래서 노즐의 이동이 지지암에 의해 설치된 회전축에서 노즐의 거리를 가지고 중심 걸어 맞춤 장치에 의해 설치된 회전중심 주위를 회전운동하도록 조절된다. 그결과, 선택 노즐이 고정중심과 반경을 가지는 회전운동을 통해서 소정의 위치로 정확하게 이동하게 된다.

이러한 지지암이 노즐과 튜브도 지지함으로서 지지암에 의해 운동중에 튜브의 어떤 변형에서 야기하는 힘을 받게 노즐에 인가함이 없이 된다. 따라서 거기에서는 노즐이 불안정한 자세 또는 처리액 적하 위치 이탈이 생길 가능성이 없다.

본 발명에 따른 선행의 처리액 공급장치에서는 노즐이 처리정도를 향상시키는 소정의 자세로 확실하게 소정의 배출위치로 이동할 수 있다. 본 발명의 제2의 특성은 처리액 공급튜브의 변형에 의해 처리액의 불적절한 격하를 피하면서 처리액을 우수하게 온도조절할 수 있다는 점이다.

또한, 암회전장치는 즉 기판 상부에서 변위된 기판의 측방에 위치에서 선택지지암을 맞걸어서 배출위치와 대기위치 사이에서 지지암을 회전할 수 있다. 그 결과, 파티클이나 불순물을 발생시키지 않고 기판으로 노즐을 이동하게 된다. 이것이 높은 정도의 처리품질을 보장한다.

본 발명의 특성에 있어서, 기판 회전처리장치용 처리액 공급장치에 의해 회전 이동으로 지지되는 기판에 처리액을 각각 공급하기 위한 복수의 노즐과 처리액 자류부에 노즐을 접촉하기 위한 복수의 튜브와 일정한 온도로 튜브내에서 처리액을 유지하도록 튜브를 접촉하기 위한 온도조절 배관과 기판상부의 배출위치로 하나의 노즐을 선택하고 이동하기 위한 노즐이동 장치를 구비하고, 강성의 지지암에 의해 각각 지지되는 한셋트의 노즐과 하나의 튜브와, 기판에서 측방에 위치한 다른 소정의 회전중심을 회전시킬 수 있도록 지지암을 지지하기 위한 암회전지지체를 포함하는 노즐 이동자치와, 선택 지지암을 걸어 맞추는 것과는 다른 지지암중 하나를 이동할 수 있는 암선택 장치와, 기판상부에서 변위된 대기위치와 배출위치 사이에서 선택지지암에 의해 지지되는 노즐을 이동하기 위한 기판에서 측방으로 변위된 위치에서 암선택 장치에 의해 걸어 맞추어지는 선택지지암을 회전하기 위한 암 회전장치로 구성되는 것에 의해 상술의 목적을 달성한다.

이 처리액 공급장치에 따르면, 한셋트의 노즐과 하나의 튜브는 지지암에 의해 각각 지지되고 상기 복수의 지지암은 기판에서 측방으로 위치한 다른 회전 중심 주위를 회전가능하도록 암회전 지지체에 의해 교대로 각각 지지된다. 암선택 장치는 암회전 장치에 의해 설치된 회전축 주위를 이 지지암이 회전하도록 하고 소정 셋트의 노즐과 튜브를 지지하는 지지암을 걸어 맞추어 동작 가능하다. 그 결과, 이 지지암에 의해 지지된 노즐이 소정의 위치로 이동하게 된다.

따라서, 노즐의 이동이 지지암에 의해 설치된 회전중심에서 노즐의 거리로 암회전 지지체에 의해 설치된 회전 중심 주위에서 회전운동이 되도록 조절된다. 그결과 선택 노즐을 고정된 중심과 반경을 가지는 회전운동을 통해서 소정 위치로 정확하게 이동되게 된다.

이 지지암은 튜브와 노즐도 지지함으로서, 노즐에 인가됨이 없이 지지암에 의해 이동중 튜브의 어떤 변형에서 야기되는 힘을 받게 된다. 그러므로 거기에는 처리액의 적하 위치의 이탈이나 불안정 자세로 인한 노즐의 문제점이 생기지 않는다.

본 발명에 다른 선행의 처리액 공급장치에서 노즐은 처리정도를 향상시키기 위해 소정 자세로 소정의 배출위치로 확실하게 이동할 수 있다. 본 발명의 제3의 특성은 또한 처리액 공급 튜브의 변형에 의한 처리액의 부적절한 적하는 방지하면서 처리액에 대해 탁월한 온도제어를 할 수 있다는 점이다.

또, 암선택 장치는 즉 기판의 상부에서 변위된 기판에서 측방으로 있는 위치에서 선택된 지지암을 걸어맞추어, 배출위치와 대기 위치사이의 지지암을 회전한다. 그 결과 노즐을 파티클이나 불순물의 발생없이 기판으로 이동하게 된다. 이것이 보다 높은 정도의 처리액의 품질을 보장한다.

본 발명을 설명하기 위한 현재의 적합하다고 생각되는 형태가 도시되어 있으나, 본 발명이 도시된 그대로의 구성 및 방법에 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 바람직한 실시예가 도면을 참조해서 이 이후 설명된다.

제1도는 본 발명에 관한 회전식 기판 처리 장치의 처리액 공급장치의 제1실시예를 나타내는 일부 절개 측면도이다. 제2도는 제1도의 평면도, 제3도는 제1도의 주요부의 일부 절개 측면도이다. 회전가능하게 지지된 반도체 기판(W)에 처리액의 일예인 포토레지스트액을 공급하는 복수의 노즐(1)을 포함한다. 각각의 노즐(1)을 처리액 저류부(T)가 튜브(2)를 통해서 접속되어 있다. 튜브(2)는 일정온도에서 튜브(2)내의 처리액을 유지시키기 위한 일정온도수를 순환하기 위한 온도 조절 배관(3)으로 덮혀져 있다. 또한 상기 장치는 웨이퍼(W)의 회전 중심 상부와 인접의 배출기구와 웨이퍼 상부에서 철수하는 대기 위치 사이에서 선택된 하나의 노즐(1)을 이동하기 위한 노즐이동 기구를 포함한다.

각 노즐(1)은 금속배관(3a)내에서 지지되는 튜브(2)의 전방부로 온도조절 배관(3)의 일부로 동작하는 고강력 금속 배관(3a)의 선단에 부착된다. 금속배관(3a)은 내부에 리턴튜브(5)가 삽입되어 있다. 금속 배관(3a)의 내부로 공급되는 일정온도수는 튜브(2)에서 처리액을 가열한후 리턴튜브(5)를 통하여 일정온도로 회복된다. 일정온도수는 상부와는 반대방향으로 흐르고 즉, 온도조절 배관(3)의 내부로 리턴튜브(5)를 통해 공급된다.

금속배관(3a)은 지지블럭(6)으로 그 근접단이 강성으로 부착되며, 통축(7)은 지지블럭(6)의 한단에 고정된다. 금속 배관(3a)과 지지블럭(6) 및 통축(7)은 노즐(1)과 튜브(2)를 지지하기 위한 강성지지암(4)을 구성한다. 온도조절 배관(3)은 금속배관(3)과 지지블럭(6)과 통축(7) 및 리턴튜브(5)를 포함한다. 일정온도수 공급튜브(8)는 온도조절 배관(3)의 일부를 구성하는 통축(7)의 저단에 접속된다. 처리액공급튜브(2)와 리턴튜브(5)는 일정온도수 공급튜브(8)를 통해서 연장된다. 이 수공급튜브(8)는 도시되지 않은 일정온도수원에 접속된다.

각 지지암(4)의 통축(7)은 통축(7)의 축주위를 회전가능하도록 암 회전 지지체(9)에 의해 지지된다. 이것과 다른 암 회전 지지체(9)는 제1도의 평면도와 수직방향으로 나란히 위치하고 각 가이드 레일(11)을 따라서 수직으로 미끄럼 가능하도록 된 공통이동 가능 프레임(10)에 의해 지지된다.

이동가능 프레임(10)은 가이드레일(13)을 따라서 수평으로 이동가능하도록 상기 기판 회전처리 장치의 고정프레임(12)에 의해 지지된다. 이동가능 프레임(10)은 양 방향으로 회전가능한 전력모터(15)에 의해 구동되는 피니언(16)과 맞물린 랙(14)으로 운반된다. 그래서 암회전 지지체(9)는 양 방향으로 회전되는 전력모터(15)에 의해 제1도의 수직방향에 따라서 이동할 수 있다.

승강 프레임(18)은 직렬접속으로 한쌍의 공기 실린더(17a,17b)에 의해 수직으로 이동가능하도록 암회전 지지체(9)의 측면으로 배열된다. 상승 프레임(18)은 공기 실린더(19)에 의해 수직으로 이동가능한 이동 가능 브래키트(20)을 포함한다. 이동 가능 브래키트(20)는 소정의 위치에 위치한 회전중심(P) 주위를 회전할 수 있도록 그 상부에 실장된 지지축(21a)을 포함한다. 구동암(21)은 회전중심(P) 주위를 회전가능하도록 지지축(21a)의 저단에 부착된다.

각 지지암(4)의 지지블럭(6)은 그 상면에 형성된 원추형 걸어맞춤 凹부(22)를 가지고 통축(7)의 축위에 위치한다. 또한 지지블럭(6)은 노즐(1)쪽으로 凹부에서 떨어진 그위치로부터 돌출설치되어 있다.

한편, 구동암(21)은 그저면상에 형성된 원추형 걸어맞춤돌기(24)를 가지고 회전중심(P)에 위치하고, 걸어맞춤구멍(25)가 회전중심(P)로부터 떨어져서 걸어맞춤핀(23)과 대응하고 있다. 선택된 하나의 지지암(4)는 구동암(21)의 회전중심(P) 아래에서 직접으로 통축(7)의 축을 배열하는 소정의 위치로 이동가능프레임(10)과 전력모터(15)를 포함하는 암선택 및 이동기구에 의해 이동가능하게 된다. 지지암(4)의 하나가 이 위치로 이동할 때 구동암(21)은 걸어맞춤돌기(24)와 걸어맞춤 凹부(22)와 함께 구동암(21)의 걸어맞춤구멍(25) 및 지지암(4)의 걸어맞춤핀(23)이 각각 걸어맞추어지도록 하강된다. 그래서, 걸어맞춤 및 조정기구는 그 위치로 제공되어 구동암(21)의 회전중심(D)에 맞추어진 통축(7)의 축에 의해 강성의 걸어맞춤 상태로 구동암(21)과 지지암(4)를 유지한다. 강성의 걸어맞춤 상태에서 구동암(21)과 지지암(4)을 유지하기 위해 지지암(4)의 걸어맞춤핀(23)과 걸어맞춤 凹부(22)에 의한 구동암(21)의 걸어맞춤구멍(25) 및 걸어맞춤돌기(24)를 걸어맞추기 위한 구조는 여기서 걸어맞춤기구라고 칭한다.

구동암(21)을 지지하는 지지축(21a)은 양방향으로 회전가능하고 이동가능 브래키트(20)에 고정된 전동모터(26)에 타이밍 벨트(27)를 통해서 동작하게 접속된다. 그러므로 암회전기구는 소정의 위치로 설정된 회전중심(P) 주위에 상술한 바와 같이 구동암(21)에 걸어맞추어진 지지암(4)과 양쪽방향으로 회전되는 전동모터에 의해 회전하게 된다. 따라서, 이 지지암(4)의 노즐(1)은 웨이퍼(W)에서 측방으로 변위된 대기 위치와 웨이퍼(W)의 중심부근의 배출위치 사이에서 이동하게 된다.

처리액을 공급하기 위한 상술구조의 동작을 다음에 기술된다.

(1) 최초에 제1도 및 제2도의 실선으로 나타난 바와 같이, 전노즐(1)을 하강 위치(L)로 대기하는 암회전지지체(9)와 더불어 웨이퍼(W)에서 측방으로 변위된 대기 위치로 후퇴한다. 하강위치(L)에서 각 암회전지지체(9)는 지지블럭(6)의 저면상에 형성된 위치결정돌기(28)과 이동가능 프레임(10)의 상면에 형성된 위치결정 凹부(29)사이에서 걸어맞추어진 소정의 자세로 설정된다.

이 대기상태에서, 각노즐(1)은 고정된 건조방지용컵(30)내에 포함된 습윤기체중에 놓여지게 된다.

(2) 처리액을 공급하기 위해서, 전력모터(15)는 먼저 이동가능 프레임(10)을 구동하도록 동작함으로써 선택 노즐(1)의 지지암(4)이 회전중심(P) 또는 구동암(21) 아래의 위치로 가져간다.

(3) 다음에, 일부절개 측면도로 제4도에 나타난 바와 같이, 공기 실린더(19)는 이동가능 브래키트(20)로 하강하게 연장되어서, 그에 의해 구동암(21)이 지지암(4)로 걸어맞추어지게 된다. 따라서, 선택노즐(1)이 웨이퍼(W)상의 배출위치로 이동하게 회전할 수 있는 통축(7)이 구동암(210의 회전중심(D)에 맞추어진다.

(4) 다음에 공기실린더(17a, 17b) 모두가 승강프레임(18)을 올리도록 연장된다. 그 초기에 있어서는 승강 프레임(18)의 접촉부(31)가 암 회전지지체(9)의 상단에서 돌출한 돌기(32)에 대해 상대 이동한다. 그 결과, 지지암(4)은 구동암(21)과 승강프레임(18)의 접촉부(31)사이에서 수직으로 클램프된다. 이 클램프 상태에서, 승강프레임(18)은 제5도에 나타난 대로 상한으로 지지암(4)과 암회전 지지체(9) 모두를 더 올리도록 상승하게 된다.

(5) 다음에, 전동모터(26)를 정회전하여 구동암(21)을 제2도에서 시계방향으로 소정각도만큼 회전하여 노즐(1)을 기판(W) 상방의 소정의 배출위치까지 회전시킨다.

(6)그후, 공기실린더(17a, 17b)의 한쪽이 웨이퍼(W)상의 소정의 액공급 레벨(F)로 노즐을 하강하도록 단축한다. 이상태에서는 처리액의 소정양이 저속으로 회전을 시작하거나 회전이 전의 웨이퍼(W)에 적하되도록 된다. 이후 즉시 웨이퍼(W)는 고속으로 회전되어서 처리액이 균일하게 그위에 도포되도록 한다.

(7) 처리액공급스텝이 완료하면, 단축 공기실린더는 웨이퍼(W) 상부의 소정의 높이(H)까지 지지암(4)과 노즐(1)로 다시 후퇴된다. 그후, 전동모터(26)는 지지암(4)를 대기위치의 뒤로 회전하기 위해 역방향으로 회전한다. 지지암(4)이 대기상태로 있는 상태에서 공기 실린더(17a, 17b)는 모두 그하한까지 승강 프레임(18)을 강하하게 단축된다. 또한 공기실린더(19)는 이동가능 브래키트(20)와 구동암(21)을 올리도록 단축해서 지지암(4)에서 구동암(21)을 풀어낸다. 다른 노즐을 사용하는 경우에는, 이동가능 프레임(10)을 알맞게 구동해서 구동암(21)에 걸어맞추는 지지암(4)을 선택해서 상기 동작을 행한다.

제6도는 본 발명의 제2실시예의 기판회전처리 장치용 처리액 공급장치를 나타내는 측면도이다. 이 실시예는 제1실시예와는 다음과 같은 점에서 다르다.

이 실시예에 있어서, 접속암(40)은 각 지지암(4)의 통축(7)의 하단에 부착되며, 이 접속암(40)은 조정용으로 구동암(21)과 걸어맞추어질 수 있다. 통축(7)은 구동암(21)에 의해 클램프되고 접촉소자(41)는 승강프레임(20)에 실장되는 공기실린더(42)에 의해 독립적으로 위아래로 구동된다. 다른 구성은 제1실시예와 같아서 같은 부호를 부착하는 것에 의해 그설명은 생략한다.

제7도는 본 발명의 제3실시예에서 기판의 회전처리장치용 처리액 공급장치를 나타내는 측면도이다. 제8도는 그 평면도, 제9도는 그주요부의 단면도이다. 이 실시예는 다음과 같은 점에서 제1실시예와 다르다.

이 실시예에서는 노즐(1)과 튜브(2)를 지지하는 복수의 지지암(4) 각각이 별도의 소정 위치에 설정되는 회전축(Q1, Q2, Q3) 주위를 회전가능하게 되도록 각각 나란히 배열된다. 각 지지암(4)는 그 기부에서 암 회전지지체(9)에서 지지되는 회전가능한 통축(7)에 접속된다. 지지체(9)는 가이드레일(51)을 따라서 수직으로 이동가능하게 되도록 장치 프레임(50)에 의해 지지된다. 구동암(21)은 사용되는 선택노즐(1)에 대해 소정축(R) 주위를 회전가능하게 되도록 이들 지지암(4)의 측면으로 배열된다.

각 지지암(4)은 노즐(1)의 처리액 배출위치 또는 웨이퍼(W)의 중심 및 회전중심(Q1, Q2 또는 Q3) 사이의 거리가 평면상으로 노즐(1)까지 그 회전중심(Q1, Q2 또는 Q3)에서의 길이와 같도록 수직으로 연장되는 회전중심(Q1, Q2 또는 Q3) 주위를 회전가능하게 한다.

구동암(21)은 저부에서 축(R) 주위에서 회전가능하게 상승프레임(18)에 의해 지지되는 지지축(52)으로 접속된다. 상승프레임(18)은 직렬로 결속된 한쌍의 실린더(17a, 17b)에 의해 수직으로 이동가능하다. 지지축(52)에서 연장된 암(53)은 양 방향으로 회전가능하고 상승프레임(18)에 실장되는 전동모터(26)에 링크기구(54)를 통해서 동작 가능하게 접속된다. 양방향으로 회전되는 전동모터(26)에 의해 구동암(21)은 복수의 지지암(4)의 상방을 횡단해서 이동가능하게 되어 있다.

V홈 롤러(55)는 수직축 주위에서 회전가능하게 되도록 각 지지암(4)의 저부 가까운 상부에 실장된다. 구동암(21)은 공기실린더(56)에 의해 구동암의 긴 방향으로 출퇴가능되도록 그 저면상에 실장되는 한쌍의 좌우 가이드레일(57)을 가진다. 전방으로 진출이동된 가이드레일(57)은 롤러(55)와 맞불려지게 된다. 다른 구성은 제1실시예와 같고, 같은 도면부호를 부착하여 그 설명을 반복하지 않는다.

제3의 실시예는 다음과 같이 동작한다.

(1) 사용된 노즐의 지지암(4)를 선택하는 하강위치(L)에 의해 대기하고 있는 지지암(4)을 구동암(21)으로 회전하게 된다. 가이들레일(57)은 선택된 지지암(4)의 롤러(55)를 지지하고 걸어맞추기 위해 진행된다.

(2) 공기실린더(17a, 17b) 모두는 상승프레임(18)을 상승하도록 연장되고 선택 지지암(4)을 상한(H)까지 이동한다.

(3) 다음에, 구동암(21)은 웨이퍼(W)상을 배출위치로 걸어맞춘 지지암(4)의 노즐(1)을 이동한다. 이때, 지지암(4)과 구동암(21) 사이의 회전운동의 중심의 차이는 가이드레일(57)과 롤러(55) 사이에서 상대적 이동에 의해 흡수된다.

(4) 다음에, 공기 실린더(17a)의 하나는 소정양만큼 지지암(4)을 하강하도록 단축되어서 웨이퍼(W)에 대해 소정의 액공급 높이(F)로 지지암(4)을 설정한다.

이전에 설명한 제1 내지 제3의 실시예에 있어서, 온도조절 배관(3)의 일부를 형성하는 각 금속배관(3a)은 노즐(1)과 튜브(2)를 지지하기 위해 지지암(4)의 일부로 또는 사용된다. 그래서 튜브(2)는 금속배관(3a) 즉 지지암(4)으로 감싸게 된다. 이러한 구성 대신에 지지암이 온도조절배관(3)에서 분리 설치되고 노즐(1)과 튜브(2)를 배타적으로 지지하여도 좋다.

본 발명은 그사상 또는 본질에서 일탈하지 않고 다른 구체적 형태로 실시할 수 있고, 따라서 발명의 범위를 나타내는 것으로 해서는, 이상의 설명에는 없고, 부가된 클레임을 참조해야 한다.

Claims (14)

1. 회전가능하게 지지된 기판으로 처리액을 공급하기 위한 각 복수의 노즐과, 처리액 저류부로 상기 노즐을 각각 접속하기 위한 복수의 튜브와, 일정온도로 상기 튜브에서 처리액을 유지하기 위한 상기 튜브를 접촉하기 위한 온도조절 배관과, 기판상부의 배출위치로 하나의 노즐을 선택하여 이동시키기 위한 노즐 이동수단을 구비한 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치에 있어서, 상기 노즐과 상기 튜브와의 한셋트의 각각은 강성의 지지암에 의해 지지하고, 상기 노즐 이동수단은, 상기 선택 노즐의 하나가 상기 배출위치와 상기 기판 상방에서 변위된 대기 위치 사이에서 이동할 수 있도록 상기 지지암 각각을 상기 노즐의 상방에서 변위된 주위를 회전할 수 있도록 지지하고, 상기 배출위치 및 상기 대기 위치 사이에서 선택된 노즐을 이동하도록 상기 지지암을 선택적으로 걸어맞추어 회전시키기 위한 이송수단을 구비하는 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치.
2. 회전가능하게 지지된 기판으로 처리액을 각각 공급하기 위한 복수의 노즐과, 처리액 저류부로 상기 노즐을 각각 접속하기 위한 복수의 튜브와, 상기 튜브에 접촉하여 내부의 처리액 온도를 일정하게 유지하기 위한 온도 조절 배관과, 기판 상부의 배출위치로 상기 노즐의 하나를 선택하여 이동시키기 위한 노즐의 이동수단을 구비한 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치에 있어서, 상기 하나의 노즐과 상기 하나의 튜브와의 한셋트가 강성의 지지암에 의해 각각 지지되고, 상기 노즐이동수단은, 상기 지지암 각각을 개별로 회전가능하게 지지하기 위한 암회전 지지체와, 상기 기판의 측방에서 소정 위치로 상기 암 회전 지지체의 선택된 하나를 이동하기 위한 암선택 이동수단과, 상기 노즐의 상부에서 변위된 회전축 주위를 상기 선택지지암이 회전가능하게 되도록, 상기 암 선택 및 이동수단에 의해 상기 소정위치로 이동하는 선택암에 걸어 맞추기 위한 중심 걸어맞춤 수단과, 상기 기판 상부에서 변위된 대기위치와 상기 배출위치 사이에서 상기 선택 지지암에 의해 지지되는 노즐을 이동하도록, 상기 중심 걸어맞춤 수단에 의해 중심이 맞추어진 상기 선택 지지암을 걸어맞추어 회전하기 위한 암 회전 수단을 구비하는 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치.
3. 제2항에 있어서, 상기 암 선택 이동수단은, 상기 각 암회전 지지체를 승강 가능하게 일직선상으로 나란히 지지하는 가동 프레임과, 상기 가동 프레임을 수평방향으로 이동가능하게 가이드 레일을 따라서 지지하는 장치 프레임과, 상기 가동 프레임을 수평방향으로 구동하기 위한 가동 프레임 구동수단을 구비한 처리액 공급장치.
4. 제2항에 있어서, 상기 중심 걸어맞춤 수단은, 상기 선택 지지암에 대해 수직으로 이동가능한 구동부재와, 상기 구동부재와 상기 선택 지지암을 일체적으로 걸어 맞추기 위한 걸어맞춤 수단으로 구성되는 처리액 공급장치.
5. 제2항에 있어서, 상기 암 회전수단은, 상기 걸어맞춤 위치의 상부위치와 걸어맞춤 위치 사이에서 상기 중심걸어 맞춤 수단에 의해 중심이 걸어맞추어진 상기 선택 지지암을 수직으로 이동하기 위한 승강수단과, 상기 선택 지지암을 일체화한 상태에서 회전시키기 위한 구동부재와, 상기 구동부재를 구동하기 위한 구동수단을 구비하는 처리액 공급장치.
6. 제3항에 있어서, 상기 중심 걸어맞춤 수단은, 상기 선택 지지암에 대해 수직이동 가능한 구동부재와, 상기 구동부재와 상기 선택지지암을 일체로 걸어맞추기 위한 걸어맞춤수단을 구비하는 처리액 공급장치.
7. 제3항에 있어서, 상기 암 회전 수단은, 상기 걸어맞춤 위치의 상부 위치와 걸어맞춤위치 사이에서 상기 중심 걸어맞춤 수단에 의해 중심걸어 맞추어진 상기 선택 지지암을 수직으로 이동하기 위한 승강수단과, 상기 선택지지암을 일체화한 상태에서 회전시키기 위한 구동부재와, 상기 구동부재를 구동하기 위한 구동부재 구동수단을 구비하는 처리액 공급장치.
8. 제4항에 있어서, 상기 회전수단은, 상기 걸어맞춤 위치 상부 위치와 걸어맞춤 위치 사이에서 중심 걸어맞추어진 상기 선택 지지암을 수직으로 이동하기 위한 승강수단과, 상기 선택 지지암을 일체화한 상태에서 회전시키기 위한 구동부재와, 상기 구동부재를 구동하기 위한 구동부재 구동수단을 구비하는 처리액 공급장치.
9. 제6항에 있어서, 상기 암회전 수단은, 상기 걸어맞춤 위치의 상부 위치와 걸어맞춤 위치 사이에서 상기 중심 걸어맞춤 수단에 의해 걸어맞추어진 상기 선택지지암을 수직으로 이동하기 위한 승강수단과, 상기 선택지지암을 일체화한 상태에서 회전하기 위한 구동부재와, 상기 구동부재를 구동하기 위한 구동부재 구동수단을 구비하는 처리액 공급장치.
10. 제9항에 있어서, 상기 구동부재에 의해 상기 선택 지지암을 클램프하도록 상기 선택암 회전 지지체를 접촉하기 위한 접촉부재를 더 구비하는 처리액 공급장치.
11. 회전 가능하게 지지되는 기판으로 처리액을 공급하기 위한 각 복수의 노즐과, 처리액 저류부로 상기 노즐을 각각 접속하기 위한 복수의 튜브와, 상기 튜브에 접촉하여 상기 튜브에서 처리액을 일정온도로 유지하기 위한 온도조절배관과, 기판상부의 배출위치로 하나의 노즐을 선택하여 이동하기 위한 노즐 이동수단을 구비한 회전식 기판처리장치의 처리액 공급장치에 있어서, 상기 노즐과 튜브와의 한셋트의 각각은 강성의 지지암에 의해 지지되고, 상기 노즐 이동수단은, 상기 지지암 각각을 상기 기판의 측방의 별개의 소정위치를 중심으로 자유로이 회전할 수 있도록 지지하기 위한 암 회전지지체와, 상기 하나의 지지암에서 다른 암으로 이동하고 소정의 지지암을 선택하여 걸어 맞추는 암 선택 수단과, 상기 기판상부에서 변위된 대기 위치와 상기 배출 위치 사이에서 상기 선택 지지암에 의해 지지되는 노즐을 이동하기 위해, 상기 기판에서 측방으로 변위된 위치에서 상기 암 선택 수단에 의해 걸어맞추어진 상기 선택 지지암을 회전하기 위한 암 회전수단을 구비하는 회전식 기판처리 장치의 처리액 공급장치.
12. 제11항에 있어서, 각 상기 지지암을, 평면으로 보아서, 상기 하나의 회전축에서 노즐까지의 거리가 상기 기판의 회전축과 하나의 상기 회전축 사이의 거리와 같도록 수직으로 연장되는 상기 회전축 주위를 회전 가능하게 설치하고, 상기 회전축에서 변위된 수직 축 주위를 회전가능하게 구동부재를 설치하며, 상기 구동부재를 수평으로 전진 후퇴시켜서 상기 지지암을 선택적으로 걸어맞추도록 상기 암선택 수단을 설치한 처리액 공급장치.
13. 제12항에 있어서, 상기 구동부재를 상기 선택 지지암에 수직으로 이동가능하게 걸어맞추어 지지함과 동시에 상기 구동부재를 수직으로 구동하기 위한 구동부재를 구비하는 처리액 공급장치.
14. 제1항에 있어서, 상기 이송수단은, 상기 기판 상부에서 변위된 대기 위치와 상기 배출위치 사이에서 상기 선택 노즐의 하나가 이동가능하도록, 상기 노즐 상부에서 변위된 상기축 주위를 회전가능하도록 각 상기 지지암을 지지하기 위한 암 지지수단과, 상기 대기 위치와 상기 배출위치 사이에서 선택노즐을 이동하도록 상기 지지암을 선택적으로 걸어맞추어 회전하기 위한 암 회전 수단을 구비하는 처리액 공급장치.