JPH06232131A - ウエハ加熱装置およびバンプ形成装置 - Google Patents

ウエハ加熱装置およびバンプ形成装置

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JPH06232131A
JPH06232131A JP1538193A JP1538193A JPH06232131A JP H06232131 A JPH06232131 A JP H06232131A JP 1538193 A JP1538193 A JP 1538193A JP 1538193 A JP1538193 A JP 1538193A JP H06232131 A JPH06232131 A JP H06232131A
Authority
JP
Japan
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wafer
heating block
heating
block
ball
Prior art date
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Pending
Application number
JP1538193A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichiro Atsumi
幸一郎 渥美
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 ウエハ3に形成された各素子3aの電極上に
ボ−ルバンプを形成するバンプ形成装置であって、ウエ
ハ3を保持するウエハ保持ステ−ジ5の下面に当接する
ことで上記ウエハの3つの素子3aを加熱可能な加熱面
を有する加熱ブロック18を、上記ウエハ3のボ−ルバ
ンプの形成される素子3aを加熱するように上記ウエハ
保持ステ−ジ5に対して相対的に1素子毎に間欠位置決
め駆動する装置である。 【効果】 ウエハに形成された各素子の電極により良質
のボ−ルバンプを形成することができるという効果があ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、ウエハを加熱するウ
エハ加熱装置および加熱されたウエハの電極上にボ−ル
バンプを形成するバンプ形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウエハに形成された素子の電極上にバン
プを形成する方法としては種々のものがあるが、そのう
ちの一つにボ−ルバンプ形成方法がある。
【0003】この方法は、針状のキャピラリに例えば金
ワイヤを挿通させ、このワイヤの先端部を電気ト−チか
らの放電で溶融させボ−ルを形成する。そして、このボ
−ルを温度に加熱された上記ウエハの素子の電極上に押
し付けて接合(ボンディング)させた後、上記ワイヤを
切断することでこの電極上にバンプ(ボ−ルバンプ)を
形成する。なお、上記ボ−ルバンプが形成されたウエハ
は、この後ダイシング工程に送られ、個々の素子に分割
される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ウエハ
内には200余りの素子が形成されている。従ってウエ
ハ全体のボンディング点数(電極の数)は4万点に達
し、このため、一電極あたりのボンディング時間(ボ−
ルバンプの形成時間)が0.2秒であるとしても一枚の
ウエハ全体では2時間余りかかるということがある。
【0005】上記加熱ステ−ジは100〜250度に加
熱されているため、すでにボ−ルバンプが形成された箇
所では長時間高温に放置され、接合境界面、例えば、金
ボ−ルとAl電極との接合境界面では金属間化合物が拡
散により厚く形成されることになる。この金属間化合物
は脆弱なため接合強度が低下すると同時にAlが金に拡
散し接合境界面に空孔(ボイド)が生成され不良となる
という問題点がある。
【0006】この発明はこのような事情に鑑みて成され
たもので、ウエハに形成された各素子の電極上に不良の
少ないボ−ルバンプを形成することができるウエハ加熱
装置およびバンプ形成装置を提供することを目的とする
ものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の手段
は、一面にウエハを保持するテ−ブルと、上記テ−ブル
の他面側にこのテ−ブルに対して相対的に移動可能に配
置され、上記ウエハを部分的に加熱する加熱ブロック
と、上記テ−ブルと加熱ブロックとを相対的に位置決め
駆動する駆動手段とを具備することを特徴とするウエハ
加熱装置である。
【0008】第2の手段は、ウエハに形成された複数の
素子の各電極上にボ−ルバンプを形成するバンプ形成装
置において、上面に上記ウエハを保持するテ−ブルと、
上記テ−ブルの下面側にこのテ−ブルに対して相対的に
移動可能に配置され、上記ウエハを部分的に加熱する加
熱ブロックと、上記テ−ブルと加熱ブロックとを相対的
に位置決め駆動する駆動手段と、上記加熱ブロックと対
応する素子の各電極上にボ−ルバンプを形成するボ−ル
バンプ形成手段とを具備することを特徴とするバンプ形
成装置である。
【0009】
【作用】第1の手段によれば、ウエハのうち必要な部分
のみを部分的に加熱することができる。第2の手段によ
れば、ウエハの加熱された部分に位置する素子の電極上
に順次ボ−ルバンプを形成することができる。
【0010】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1〜図3を参
照して説明する。
【0011】図1(a)中1はこの発明のバンプ形成装
置2の基台である。上記基台1の上面には、ウエハ3が
貼付されたウエハトレイ4(保持板)を保持するウエハ
保持ステ−ジ5(この発明の駆動手段)が設けられてい
る。
【0012】上記ウエハ保持ステ−ジ5は、上記基台1
の上面に取り付けられたXテ−ブル6と、このXテ−ブ
ル6の上面にX方向移動自在に取り付けられたYテ−ブ
ル7と、このYテ−ブル7の上面にY方向移動可能に立
設された支持柱8と、この支持柱8の上端部の一側面に
取り付けられたθ駆動手段9と、このθ駆動手段9にX
Y平面内でθ方向に回動可能に保持されたθテ−ブル1
0(この発明のテ−ブル)とからなる。
【0013】上記θテ−ブル10の上面は水平かつ平坦
に形成されていると共に、このθテ−ブル10の上面に
は複数の吸引孔11が開口している。この吸引孔11
は、上記θテ−ブル10の内部で互いに合流し、上記θ
テ−ブル10の側面に取り付けられた吸引管12に接続
されている。そして、この吸引管12は図示しない真空
装置に連結されている。すなわち、このθテ−ブル10
は上記真空装置が作動することで、上面に上記ウエハト
レイ4(保持板)を吸着保持することができる。
【0014】さらに、上記θテ−ブル10の下面に対向
する上記基台1の上面には、加熱手段14が設けられて
いる。この加熱手段14は、上記基台1に軸線を垂直に
して取り付けられたZ駆動シリンダ15と、このZ駆動
シリンダ15の駆動軸15aの上面に略水平に取り付け
られた保持テ−ブル16と、この保持テ−ブル16の上
面に弾性体17を介して設けられた加熱ブロック18と
からなる。
【0015】上記加熱ブロック18は上面(加熱面)が
略水平になるように取り付けられていると共に、この加
熱ブロック18の加熱面の形状は図1(b)に点線で示
すように、X方向に3つ並んだ素子3a…を一度に加熱
することができる長方形状に形成されている。さらに、
上記加熱ブロック18には、この加熱ブロック18を加
熱状態にする図示しない電源が接続されている。
【0016】一方、上記加熱ブロック18の、図1
(b)にAで示す素子3aを挟んだ上方には、図示しな
いボンディングア−ムに保持されたボ−ルバンプ形成手
段としてのキャピラリ20が軸線を垂直にして配置され
ている。
【0017】このキャピラリ20には、バンプ形成用の
金、銅、アルミ等からなるワイヤ21が挿通されてい
る。このワイヤ21の先端部には、ボ−ルバンプ形成時
に、図示しない電気ト−チによって、後にボ−ルバンプ
となるボ−ル21aが形成されるようになっている。次
に、この発明のバンプ形成装置2の動作を説明する。
【0018】上記ウエハトレイ4(保持板)には、ウエ
ハ3が貼付されている。このウエハ1は、このバンプ形
成装置2によって各電極上にボ−ルバンプが形成された
あと、図1(b)に示す格子状にダイシングされ個々の
素子3a…毎に分割されるものである。図1に示すウエ
ハトレイ4(保持板)は、ダイシングされる前の状態の
ウエハを保持したもので、図示しないウエハトレイ搬送
手段によって上記ウエハ保持ステ−ジ5の上記θテ−ブ
ル10の上面に供給される。
【0019】上記ウエハ保持ステ−ジ5上にウエハ3
(ウエハトレイ4)が供給されならば、上記真空装置が
作動し上記θテ−ブル10の上面に上記ウエハトレイ4
(保持板)を吸着保持する。上記ウエハ保持ステ−ジ5
は、上記θ駆動手段9を作動させ、上記θテ−ブル10
をθ方向に駆動することで、上記素子3aの一辺がX方
向に平行になるように回動位置決めする。
【0020】ついで、上記加熱手段14が作動し、上記
加熱ブロック18を所定の温度に加熱保温すると共に、
上記Z駆動シリンダ15を作動させ、上記加熱ブロック
18を上昇駆動することで、上記加熱ブロック18の上
面を上記θテ−ブル10の下面に弾性的に当接させる。
【0021】このとき、上記加熱ブロック18は、上記
θテ−ブル10の上面に保持されたウエハ3の3つの素
子3a…(図1(b)にA〜Cで示す)を同時に加熱可
能な状態に位置決めされている。
【0022】ついで、上記ウエハ保持ステ−ジ5は上記
Xテ−ブル6を1素子に対応する量だけ間欠的に作動さ
せ、上記ウエハ3を上記加熱ブロック18と相対的にX
方向に送り駆動する。
【0023】このことで、上記加熱ブロック18は上記
ウエハ3に対して図1(b)に点線の矢印で示す方向に
相対的に間欠移動し、加熱ブロック18によって加熱さ
れる素子3aは上記矢印で示す方向と反対方向に一つず
つずれることとなる。
【0024】したがって、図にA〜Bで示す3つの素子
3a…のうち、上記加熱ブロック18の進行方向後側に
位置するAの素子3aが3ピッチ移動分に対応する時間
加熱されていることになるから、最も高温になってい
る。
【0025】また、このバンプ形成装置2は、上記Aの
素子3aの温度がボンディングに最も適した温度になる
ように、上記加熱ブロック18の温度を制御する。すな
わち、図においてBおよびCで示す素子3a、3aは余
熱された状態になっている。
【0026】上記キャピラリ20は、Aの部分の素子3
aの各電極上にボ−ルバンプを形成する。このキャピラ
リ20には、例えば金ワイヤが挿通されている。そし
て、上記バンプ形成装置2は、この金ワイヤ21の先端
部に図示しない電気ト−チで放電によりボ−ル21aを
形成し、このボ−ル21aを上記キャピラリ20で上記
ウエハ3の各素子3aの電極に押し付けて接合した後上
記ワイヤ21を切断することで、上記電極上にボ−ルバ
ンプを形成する。
【0027】上記Aの素子3aのすべての電極上にボ−
ルバンプが形成されたならば上記バンプ形成装置2は、
上記ウエハ保持ステ−ジ5のYテ−ブル7を素子1ピッ
チ分作動させ、上記加熱ブロック18の加熱部分を1素
子分ずらす。このことで、図1に示すBの部分の素子3
aがAの素子3aとなり、所定のボンディング温度に加
熱される。ついで上記バンプ形成装置2は、上記キャピ
ラリ20を作動させ、上記素子3aの電極上にふたたび
ボ−ルバンプを形成する。
【0028】図2に示すように、上記加熱ブロック18
とキャピラリ20の相対位置関係は変化しないので、上
記キャピラリ20はボンディングに最も適した温度に加
熱された素子(図にAで示す)の上方に常に対向し、こ
の素子Aの電極上にボ−ルバンプを形成することができ
る。
【0029】なお、上記ウエハ3の素子3a…全てにボ
−ルバンプを形成する作業を行うときには、図3に示す
ように、上記加熱ブロック18をウエハ3(θテ−ブル
10)に対して相対的に移動させる。
【0030】ここで、図3に鎖線で示すのは、上記θテ
−ブル10の下面に上記加熱ブロック18の上面を当接
させた状態での駆動経路、一点鎖線で示すのは上記Z駆
動シリンダ10を作動させ上記加熱ブロック18の上面
を上記θテ−ブル10の下面から離間させた状態での駆
動経路である。
【0031】この経路にしたがって上記加熱ブロック1
8を1素子ごとに間欠的に位置決め駆動すれば、上記ウ
エハ3に収納されたすべての素子3aに順次ボ−ルバン
プを形成していくことができる。
【0032】上記ウエハ3に形成された各素子3aの電
極すべてにボ−ルバンプが形成されたならば、上記ウエ
ハトレイ4(保持板)は上記ウエハ保持ステ−ジ5(θ
テ−ブル10)の上面から図示しないウエハトレイ取り
出し手段によって取り出される。そして、このウエハト
レイ4(保持板)は図示しないダイシング工程に移送さ
れ、上記ウエハ3は個々の素子3a毎に分割される。
【0033】このような構成によれば、ボンディングに
最も適した温度に加熱されているのは、ボ−ルバンプを
形成する素子3a(A)のみであり、かつ、この素子3
aはボ−ルバンプがAl電極上に形成された後は加熱さ
れることがないので接合面に合金層が発達し、上記Al
が上記ボ−ルバンプに拡散することは少ない
【0034】このことによって、上記ボ−ルバンプには
ボイドなどの不良が発生しないので、上記ウエハ3の各
素子3aの電極上により良質のボ−ルバンプを形成する
ことが可能である。なお、この発明は上記一実施例に限
定されるものではなく、この発明の要旨を変更しない範
囲で種々変形可能である。例えば、上記一実施例では、
上記ウエハ保持ステ−ジ5をXY方向に駆動するように
したが、上記加熱ブロック18XY方向に駆動するよう
にしても良い。
【0035】また、上記一実施例では、上記加熱ブロッ
ク18の加熱面(上面)の形状は、3つの素子3aを同
時に加熱することができるものとしたが、これに限定さ
れるものではなく同時に4つ以上加熱することができる
構成でも良いし、1つのみ加熱することができる構成で
あっても良い。要は、すでにボ−ルバンプが形成された
素子3aを必要以上に加熱することがなければ良い。
【0036】また、上記ウエハ3を部分的に加熱する機
構は、バンプ形成装置に適用されるものに限定されるも
のではない。ウエハ3の加熱を要する装置であれば他の
装置であっても適用することができる。
【0037】
【発明の効果】以上述べたように、この発明の第1の構
成は、一面にウエハを保持するテ−ブルと、上記テ−ブ
ルの他面側にこのテ−ブルに対して相対的に移動可能に
配置され、上記ウエハを部分的に加熱する加熱ブロック
と、上記テ−ブルと加熱ブロックとを相対的に位置決め
駆動する駆動手段とを具備するウエハ加熱装置である。
【0038】第2の構成は、ウエハに形成された複数の
素子の各電極上にボ−ルバンプを形成するバンプ形成装
置において、上面に上記ウエハを保持するテ−ブルと、
上記テ−ブルの下面側にこのテ−ブルに対して相対的に
移動可能に配置され、上記ウエハを部分的に加熱する加
熱ブロックと、上記テ−ブルと加熱ブロックとを相対的
に位置決め駆動する駆動手段と、上記加熱ブロックと対
応する素子の各電極上にボ−ルバンプを形成するボ−ル
バンプ形成手段とを具備するバンプ形成装置である。
【0039】このような構成によれば、ウエハのうち必
要な部分のみを加熱することができ、加熱された部分に
位置する素子上にボ−ルバンプを形成することができ
る。このことにより、ボ−ルバンプが形成された後はそ
の素子は加熱されることがないので、バンプと電極との
境界部に合金層等が発達することが防止でき、より良質
のボ−ルバンプを形成することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)、(b)は、この発明の一実施例の正面
図および平面図。
【図2】(a)、(b)は、同じく、動作を示す正面図
および平面図。
【図3】同じく、ウエハ保持ステ−ジの駆動経路を示す
平面図。
【符号の説明】
2…バンプ形成装置、3…ウエハ、3a…素子、5…ウ
エハ保持ステ−ジ(駆動手段)、10…θテ−ブル(テ
−ブル)、18…加熱ブロック、20…キャピラリ(ボ
−ルバンプ形成手段)。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上面にウエハを保持するテ−ブルと、上
    記テ−ブルの下面側にこのテ−ブルに対して相対的に移
    動可能に配置され、上記ウエハを部分的に加熱する加熱
    ブロックと、上記テ−ブルと加熱ブロックとを相対的に
    位置決め駆動する駆動手段とを具備することを特徴とす
    るウエハ加熱装置。
  2. 【請求項2】 ウエハに形成された複数の素子の各電極
    上にボ−ルバンプを形成するバンプ形成装置において、 上面に上記ウエハを保持するテ−ブルと、上記テ−ブル
    の下面側にこのテ−ブルに対して相対的に移動可能に配
    置され、上記ウエハを部分的に加熱する加熱ブロック
    と、上記テ−ブルと加熱ブロックとを相対的に位置決め
    駆動する駆動手段と、上記加熱ブロックと対応する素子
    の各電極上にボ−ルバンプを形成するボ−ルバンプ形成
    手段とを具備することを特徴とするバンプ形成装置。
JP1538193A 1993-02-02 1993-02-02 ウエハ加熱装置およびバンプ形成装置 Pending JPH06232131A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1094499A2 (en) * 1999-10-19 2001-04-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Heating apparatus for bump bonding, bump bonding method and bump forming apparatus
JP2011181555A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Kyocera Kinseki Corp バンプボンダー装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1094499A2 (en) * 1999-10-19 2001-04-25 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Heating apparatus for bump bonding, bump bonding method and bump forming apparatus
EP1094499A3 (en) * 1999-10-19 2005-06-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Heating apparatus for bump bonding, bump bonding method and bump forming apparatus
JP2011181555A (ja) * 2010-02-26 2011-09-15 Kyocera Kinseki Corp バンプボンダー装置

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