JP3068332B2 - 半導体部品製造装置 - Google Patents

半導体部品製造装置

Info

Publication number
JP3068332B2
JP3068332B2 JP4150802A JP15080292A JP3068332B2 JP 3068332 B2 JP3068332 B2 JP 3068332B2 JP 4150802 A JP4150802 A JP 4150802A JP 15080292 A JP15080292 A JP 15080292A JP 3068332 B2 JP3068332 B2 JP 3068332B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor component
bonding
semiconductor
heater block
chip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP4150802A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0637397A (ja
Inventor
光一 玉井
晴之 島川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP4150802A priority Critical patent/JP3068332B2/ja
Publication of JPH0637397A publication Critical patent/JPH0637397A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3068332B2 publication Critical patent/JP3068332B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Die Bonding (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、半導体レ−ザ
装置等の半導体部品を製造する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体レ−ザ装置には図6に示
すような構造のものがある。すなわち、図6中の半導体
レ−ザ装置1は、ステム2、ヒ−トシンク3、レ−ザダ
イオ−ド(レ−ザチップ)4、及び、キャップ5により
構成されている。ステム2からは二本の端子2a、2a
が導出されており、ステム2は環状のヒ−トシンク3に
同軸的に組合わされる。そして、ステム2とヒ−トシン
ク3とが抵抗溶接等の方法によって一体化され、半導体
部品本体としてのステム・アッセンブリ6が構成され
る。
【0003】ヒ−トシンク3には、径方向に対して垂直
な面(以下、ボンディング面7と称する)を有する突部
8が形成されており、レ−ザダイオ−ド4は、図7に示
すように、突部8のボンディング面7にボンディングさ
れている。さらに、ヒ−トシンク3にキャップ5が同軸
的に組合わされる。そして、キャップ5が突部8を覆う
とともに、ヒ−トシンク3の周縁部がキャップ5の外側
に鍔状に突出する。また、近年、上述のような半導体レ
−ザ装置1を組立てるための装置が開発されており、こ
の種の装置においては幾つかの工程が自動化されてい
る。
【0004】半導体レ−ザ装置1の製造装置において、
ステム・アッセンブリ6は、ヒ−トシンク3を略真上に
向けた状態で自動的に搬送される。そして、ステム・ア
ッセンブリ6は、レ−ザダイオ−ド4のボンディングの
ために、図8(a)及び(b)に示すようなボンディン
グ部9へ移し換えられる。ステム・アッセンブリ6をボ
ンディング部9へ供給する際、ヒ−トシンク3のボンデ
ィング面7にレ−ザダイオ−ド4を載置できるように、
ステム・アッセンブリ6は略90°倒される。
【0005】ステム・アッセンブリ6のボンディングス
テ−ジ9への供給は手作業により行われる。つまり、作
業者は、搬送ライン上に保持されたステム・アッセンブ
リ6をピンセットを用いて取出し、ステム・アッセンブ
リ6の姿勢を縦向きから横向きに変更する。そして、作
業者はステム・アッセンブリ6を、ボンディング面7を
上方に向けてボンディング部9上に載せ、位置決めす
る。
【0006】前記ボンディング部9は、ヒ−タブロック
10の上にステム・アッセンブリ6を保持し、ヒ−タブ
ロック10を抵抗加熱する。ステム・アッセンブリ6の
ボンディング面7には接合金属11が蒸着されており、
ヒ−タブロック10の熱がステム・アッセンブリ6に伝
わって接合金属11が溶ける。そして、レ−ザダイオ−
ド4が、ステム・アッセンブリ6に対して位置合せされ
るとともに接合金属11の上に載せられ、ボンディング
される。ここで、接合金属11として、例えばIn とA
u の化合物等が用いられている。
【0007】ボンディング部9は設置台12上に設けら
れており、ヒ−タブロック10は、給電体であるブ−ス
バ−13、13上に固定されている。そして、ブ−スバ
−13、13の下には、ブ−スバ−13、13と設置台
12との間を絶縁する絶縁ブロック14、14が設けら
れている。
【0008】ヒ−タブロック10の形状は、ステム・ア
ッセンブリ6の下の部分で抵抗が最も高くなるよう設定
されている。つまり、ヒ−タブロック10には切欠き1
5が設けられており、ヒ−タブロック10はU字形に成
形されている。そして、ヒ−タブロック10は両端をブ
−スバ−13、13に連結され、中間部を上方に向け
る。そして、このヒ−タブロック10の中間部にステム
・アッセンブリ6が載置される。
【0009】また、この種の製造装置においては、例え
ば図9に示すようなチップトレイ保持部16が備えられ
ている。このチップトレイ保持部16はXY駆動機構部
17とθ駆動機構部18とを有している。XY駆動機構
部17には直交する二軸方向に直線変位するXテ−ブル
19及びYテ−ブル20が備えられており、各テ−ブル
19、20はそれぞれアクチュエ−タ21、22によっ
て駆動される。
【0010】θ駆動機構部18はXY駆動機構部17に
連結されており、先端にトレイステ−ジ23を有してい
る。トレイステ−ジ23は、複数のレ−ザダイオ−ド4
…が載せられたチップトレイ24を保持しており、チッ
プトレイ24は、機械的なクランプや真空吸着等の方法
によってトレイステ−ジ23に固定されている。チップ
トレイ24において、レ−ザダイオ−ド4…は略等間隔
で規則的に並べられている。
【0011】θ駆動機構部18の基端側にθ駆動用のア
クチュエ−タ25が備えられており、このアクチュエ−
タ25とトレイステ−ジ23とが、プ−リ26、27及
びタイミングベルト28を介して連結されている。そし
て、アクチュエ−タ25の駆動力がトレイステ−ジ23
へ伝達され、トレイステ−ジ23はθ方向に回動変位す
る。
【0012】チップトレイ24上のレ−ザダイオ−ド4
…が照明され、レ−ザダイオ−ド4…が画像認識され
る。そして、コレット等のような吸着ノズル(図示しな
い)がレ−ザダイオ−ド4…の上面に接してレ−ザダイ
オ−ド4…を吸着し、ボンディング部9へ搬送する。
【0013】以上はレ−ザダイオ−ド4…の場合の説明
であるが、この他に、例えばICチップ等の場合には、
ICチップをウエハ−シ−トに貼り付けたまま保持し、
ICチップをウエハシ−トから直接摘出してボンディン
グ部へ供給する方法が採用されることもある。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な製造装置には、以下のような不具合がある。
【0015】すなわち、ステム・アッセンブリ6を搬送
ラインから取出す際に、接合金属11がピンセットによ
って傷付けられ、レ−ザダイオ−ド4とステム・アッセ
ンブリ6とのボンディング接合性が悪化する。そして、
歩留り及び製品の信頼性が低下する。
【0016】ステム・アッセンブリ6をボンディング部
9への移し換える作業が手動により行われていたため、
ステム・アッセンブリ6の姿勢の変更の際に持ち換えが
必要であり、移し換えに多くの時間を要し、生産性が悪
かった。
【0017】ステム・アッセンブリ6をボンディング部
9への移し換える作業が手動により行われていたため、
ボンディング部9において、ステム・アッセンブリ6の
位置決め精度が悪く、ボンディング精度を向上させるこ
とが困難だった。
【0018】また、図8(a)、(b)に示すようなヒ
−タブロック10の熱容量は大きく、このため、ヒ−タ
ブロック11自身の昇熱・降熱に多くの時間を要し、ボ
ンディング時間が長かった。そして、サイクルタイムが
長く、生産性が悪かった。
【0019】ヒ−タブロック10の熱容量が大きいた
め、周辺の部材への熱的影響が大であり、ねじ等の締結
部材が緩み易かった。そして、短い周期の保守が必要で
あり、稼働率が低かった。
【0020】ヒ−タブロック10に切欠き15が形成さ
れていたので、ヒ−タブロック10の中間部に熱的応力
が集中し、ヒ−タブロック10が割れることがあった。
つまり、高価なヒ−タブロック10の寿命が短いため、
多くの維持費が必要だった。
【0021】レ−ザダイオ−ド4はサ−ジ電圧等の電気
的外乱に対して弱いが、ヒ−タブロック10に直接に電
流が流れる場合には、レ−ザダイ−ドがサ−ジ電圧によ
って破壊されることがあるため、歩留りが低かった。
【0022】また、レ−ザダイオ−ド4やCMOSのよ
うな極小なチップが取扱われる場合、チップトレイ24
が傾いていると、チップの上面からの光量が傾きにより
大きく影響を受けるため、正確な認識を行うことが困難
である。したがって、チップトレイ24の傾きを原因と
して、ボンディング精度が悪化したり、製造装置の全体
としての稼働率が低下したりする。
【0023】さらに、チップトレイ24が傾いている
と、吸着ノズルとレ−ザダイオ−ド4…との間に高い平
行度を得ることが難しい。このため、吸着ミスが起きた
り、レ−ザダイオ−ドに吸着ノズルの圧痕が残ったりし
て、製品の信頼性が低下することがあった。本発明の目
的とするところは、半導体チップのボンディングを自動
的に且つ連続的に行うことが可能な半導体部品の製造装
置を提供することにある。
【0024】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために本発明は、半導体部品本体を搬送ライン上
で搬送し、半導体チップを載置したチップトレイをチッ
プトレイ保持部上で保持し、半導体部品本体と半導体チ
ップとをボンディング部へ供給し、半導体部品本体に半
導体チップを載せ、半導体部品本体を加熱して半導体チ
ップを半導体部品本体にボンディングする半導体部品製
造装置において、搬送ラインから半導体部品を取出して
保持し、半導体部品を円弧状に移動させて半導体部品本
体の姿勢を変更し、半導体部品本体をボンディング部に
置換える置換え部を設けた。そして、本発明によれば、
半導体部品本体の置換えを自動的に且つ連続的に行うこ
とが可能になる。
【0025】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1〜図4に基づ
いて説明する。なお、従来の技術の項で説明したものと
重複するものについては同一番号を付し、その説明は省
略する。
【0026】図1は本発明の第1の実施例を示してお
り、図中の符号31は半導体部品としての半導体レ−ザ
装置のための製造装置である。この製造装置31には、
半導体レ−ザ装置1を置換えるための置換え部32、ボ
ンディング部33、及び、チップトレイ保持部34が備
えられている。さらに、製造装置31には直線状の搬送
ライン35が配設されており、搬送ライン35の両側に
は供給側マガジン36と回収側マガジン37とが設けら
れている。
【0027】供給側マガジン36内では、矩形板状に成
形された複数のキャリア38…が上下に並べられてお
り、各キャリア38には複数の半導体部品本体としての
ステム・アッセンブリ6…が、キャリア38の長手方向
に沿って一列に並べられている。ステム・アッセンブリ
6…は、キャリア38に形成された差込み孔39…に差
込まれており、ステム2を略真上に向けている。そし
て、キャリア38…は供給側マガジン36から一枚ずつ
取出され、搬送ライン35上に載せられる。
【0028】キャリア38は、図示しないキャリア搬送
部により搬送ライン35に沿ってピッチ送りされ、搬送
ライン35の中間部に達する。図2中に示すようにキャ
リア38の両側縁部には一定の間隔でパイロット孔40
…が設けられており、図示しないキャリア位置決め部が
このパイロット孔40…を利用してキャリア38を位置
決めする。
【0029】後述する置換え部32によりステム・アッ
センブリ6…がキャリア38から順に取出される。1つ
のステム・アッセンブリ6の取出しが終る度に、キャリ
ア38がピッチ送りされ、次のステムアッセンブリ6が
所定位置に位置決めされる。そして、全ステム・アッセ
ンブリ6…の取出しが完了したのち、キャリア38は回
収側マガジン37へ向けて送られ、回収側マガジンに回
収される。
【0030】前記置換え部32は、搬送ライン35の途
中の部位の下側に配置されている。この置換え部32に
は、図2に示すように置換えノズル(以下、ノズルと称
する)41、パルスモ−タ(以下、モ−タと称する)4
2、及び、駆動力伝達機構部43が備えられており、こ
れらは支持体44によって支持されている。
【0031】ノズル41は円管状に成形されるととも
に、一端から他端に亘り円弧状に湾曲している。さら
に、ノズル41は一端側をノズル保持ア−ム45の先端
部に連結されている。ノズル保持ア−ム45の先端部に
は負圧管46が接続されており、置換えノズル41はこ
の負圧管46と連通している。そして、置換えノズル4
1は負圧管46を介して負圧源(図示しない)に連通し
ている。
【0032】前記駆動力伝達機構部43には、第1及び
第2の2つのカム47、48、カム側レバ−49、セク
タギア50、及び、ピニオンギア51が備えられてい
る。第1のカム47はモ−タ42の出力軸に連結されて
おり、第1のカム47のカム面には、支持体44に固定
された第1のカムフォロア52が接している。第1のカ
ム47には連動板53が取り付けられており、カム側レ
バ−49、セクタギア50、及び、ピニオンギア51等
はこの連動板53によって保持されている。
【0033】第2のカム48には第2のカムフォロア5
4が接しており、この第2のカムフォロア54はカム側
レバ−49の端部に取付けられている。カム側レバ−4
9は第2のカム48の側の端部を自由ながらセクタギア
50と連結されている。セクタギア50は、カム側レバ
−49に連結された部分に対して逆側の部分に歯55を
有しており、この歯55をピニオンギア51の歯56に
噛合わせている。さらに、ピニオンギア51はノズル保
持ア−ム45の基端部と連結されている。
【0034】前記ボンディング部33は、図3(a)及
び(b)に示すように、ヒ−タブロック57、主ヒ−タ
58、ブ−スバ−59、59、絶縁ブロック60、6
0、及び、断熱材61により構成されている。設置台1
2上に2つの絶縁ブロック60、60が互いに離間して
載置されており、絶縁ブロック60、60の上にブ−ス
バ−59、59が重ねられている。ブ−スバ−59、5
9の外側部には略水平に導かれた給電線62、62が接
続されている。
【0035】主ヒ−タ58は矩形な板状体からなるもの
で、両ブ−スバ−59、59に跨っている。さらに、主
ヒ−タ58は長手方向両端部をブ−スバ−59、59に
載せており、固定ねじ63、63を介してブ−スバ−5
9、59に結合している。
【0036】ヒ−タブロック57は、例えば銅等からな
るもので、主ヒ−タ58の上に載せられている。そし
て、ヒ−タブロック57は、固定ねじ64、64を介し
て主ヒ−タ58の長手方向中間部に固定されている。さ
らに、ヒ−タブロック57は熱容量が可能な限り小さく
なるよう設計されている。
【0037】つまり、ヒ−タブロック57は、ベ−ス部
65とステム保持部66とを有しており、ベ−ス部65
の下面67を主ヒ−タ58の上面68に全面的に接触さ
せている。ステム保持部66はベ−ス部65の正面縁部
に沿って垂設されており、上側へいくほど狭まる台形状
に成形されている。そして、ステム保持部66はステム
・アッセンブリ6の形状に合せて段付に成形されてい
る。
【0038】両ブ−スバ−59、59の間に断熱材61
が位置しており、この断熱材61は主ヒ−タ58に下面
側から接している。断熱材61の下面の一側縁部に沿っ
て固定プレ−ト69が添えられており、ヒ−タブロック
57に螺合した固定ねじ64、64が断熱材61を貫通
して固定プレ−ト69に達している。そして、断熱材6
1は固定ねじ64、64と固定プレ−ト69とによって
主ヒ−タ58に保持されている。
【0039】また、ヒ−タブロック57と主ヒ−タ58
とは、例えばTi Nなどの電気絶縁材料をコ−ティング
されており、図4中に示すように電気絶縁膜(以下、絶
縁膜と称する)70が形成されている。絶縁膜70は、
ヒ−タブロック57のベ−ス部65の下面67を除く略
全体に形成されている。また、絶縁膜70は、主ヒ−タ
58の上面68に形成されている。さらに、主ヒ−タ5
8の上面においてベ−ス部65の下面67と接触する部
分の絶縁膜は取除かれている。
【0040】前記チップトレイ保持部34は、図5に示
すように、チップトレイ71を保持するトレイステ−ジ
72、下中央部に球座73を有する球座テ−ブル74、
及び、中央に受孔75を有する球座受台76を備えてい
る。
【0041】これらのうち球座テ−ブル74は球座受台
76に嵌合されており、球座73を受孔75に入込ませ
ている。そして、球座テ−ブル74は球座73の曲面を
球座受台76のテ−パ面77に当接させるとともに、そ
の周縁部と球座受台76の周縁部との間に間隙78を形
成している。
【0042】さらに、球座テ−ブル74の周縁部には例
えば三本以上の取付ねじ79…が螺合しており、球座テ
−ブル74と球座受台73とは取付ねじ79…を介して
連結されている。そして、取付ねじ79…を選択的に締
緩することにより、球座テ−ブル74と球座受台73と
の間の間隙78が変化し、球座テ−ブル74が球座受台
73に対して傾く。そして、これら球座テ−ブル74、
球座受台73、及び、取付ねじ79…等によって傾斜調
整機構80が構成されている。
【0043】球座テ−ブル74には貫通孔81が形成さ
れており、この貫通孔81に段付な回転軸82が差込ま
れている。回転軸82はベアリング83を介して球座テ
−ブル74に連結されるとともに、前記トレイステ−ジ
72に下中央部に結合している。回転軸82の下端には
プ−リ84が取付けられており、プ−リ84にはタイミ
ングベルト85が掛けられている。そして、アクチュエ
−タ(図示しない)の動力がタイミングベルト85とプ
−リ84とを介して回転軸82に伝達され、トレイステ
−ジ72がθ方向に回動変位する。
【0044】トレイステ−ジ72は、チップトレイ71
の周縁部を係合させながら、チップトレイ71を上向き
に載置する。さらに、トレイステ−ジ72はその底面8
6とチップトレイ71の下面との間に吸着用の空間87
を形成している。また、トレイステ−ジ72内には負圧
吸引路88が形成されており、この負圧吸引路88の一
端は底面86の中央部に開口している。
【0045】トレイステ−ジ72の側面には、連結具8
9を介して負圧管90が連結されており、この負圧管9
0は負圧吸引路88と連通している。負圧管90は図示
しない負圧源からトレイステ−ジ72へ導かれている。
そして、この負圧管90及び負圧吸引路88を介して吸
着用の空間87が真空吸引され、チップトレイ71がト
レイステ−ジ72に吸着保持される。ここで、チップト
レイ保持部34はXYテ−ブルに載置されており、チッ
プトレイ71はXYθ方向に位置決めされる。つぎに、
上述の製造装置31の作用を説明する。
【0046】まず、キャリア38が搬送ライン35の中
間部で停止すると、置換え部32が駆動され、パルスモ
−タ42の出力が駆動力伝達機構部43を介して置換え
ノズル41に伝達される。この置換えノズル41は上昇
・下降及び略90°の正逆方向への回動を行う。そし
て、置換えノズル41は、図2中に矢印A、Bで示すよ
うに、上昇、正方向への回動、停止、逆方向への回動、
及び、下降の各動作を順に行う。
【0047】つまり、置換えノズル41は上昇して搬送
ライン35に下側から近付き、キャリア38に保持され
た1つのステム・アッセンブリ6に達する。置換えノズ
ル41の先端にステム・アッセンブリ6の端子2a、2
aが入込み、置換えノズル41の開放端がヒ−トシンク
3によって閉じられる。置換えノズル41の中は負圧管
46を介して真空吸引されており、ステムアッセンブリ
6は置換えノズル41に吸着保持される。
【0048】さらに、置換えノズル41はステム・アッ
センブリ6が差込まれた差込み孔39に入込んだのち、
ノズル保持ア−ム45とともに回動しながら、ステム・
アッセンブリ6を持上げる。さらに、図2に示すよう
に、置換えノズル41は先端を略水平方向に向ける。こ
の際、ステム・アッセンブリ6の姿勢が縦向きから横向
きに変更される。そして、置換えノズル41はステム・
アッセンブリ6を、円弧状に移動させ、姿勢変更しなが
らボンディング部33へ送る。そして、ステム・アッセ
ンブリ6がボンディング部33のヒ−タブロック57上
に置換えられる。
【0049】ボンディング部33においては、主ヒ−タ
58がブ−スバ−59、59から給電され、ヒ−タブロ
ック57は主ヒ−タ58を介して通電される。そして、
主ヒ−タ58とヒ−タブロック57とがジュ−ル熱を生
じ、ヒ−タブロック57上のステム・アッセンブリ6が
抵抗加熱される。そして、例えば、加熱温度は約250
℃である。
【0050】また、チップトレイ保持部34において
は、傾斜調整機構80によってチップトレイ71の姿勢
が水平に保たれている。チップトレイ71上に並んだ半
導体チップとしてのレ−ザダイオ−ド(レ−ザチップ)
4は照明されながら画像認識される。ここで、図1中の
符号92は画像認識用の光学系を示している。
【0051】コレット等の吸着ノズル91が所望のレ−
ザダイオ−ド4に当接し、このレ−ザダイオ−ドを吸着
してボンディング部33へ搬送する。そして、搬送され
たレ−ザダイオ−ド4は、ステム・アッセンブリ6のボ
ンディング面7に載置される。ここで、図1中の符号9
3は画像認識用の光学系を示している。
【0052】ステム・アッセンブリ6のボンディング7
には予め接合金属11が供給されており、この接合金属
11はヒ−タブロック57からステム・アッセンブリ6
へ伝わった熱によって溶かされる。そして、レ−ザダイ
オ−ド4が接合金属11を介して、ステム・アッセンン
ブリ6に接合される。
【0053】レ−ザダイオ−ド4の接合が終ったのちに
は、置換えノズル41がステム・アッセンブリ6を保持
したまま下降する。ステム・アッセンブリ6は、置換え
ノズル41によって搬送ライン35へ戻され、キャリア
38の差込み孔39に上向きに差込まれる。
【0054】上述のような製造装置31においては、置
換え部32に置換えノズル41が備えられており、置換
えノズル41が上昇・下降、及び、正逆方向への回動を
行う。そして、ステム・アッセンブリ6は、置換えノズ
ル41により保持された後には、円弧状に搬送されてボ
ンディング部33に載せられる。
【0055】したがって、ステム・アッセンブリ6を途
中で持ち換えたり、或いは、置換えノズル41を途中で
停止させたりすることなく、ステム・アッセンブリ6を
姿勢変更できる。そして、ステム・アッセンブリ6を自
動的に且つ連続的に置換えることができる。
【0056】また、ステム・アッセンブリ6の置換えを
人手に頼ることなく行うことが可能であるので、ピンセ
ット等によって接合金属11を傷付けたりすることがな
く、歩留り及び製品の信頼性が高い。
【0057】また、ステム・アッセンブリ6の置換えを
人手に頼ることなく行えるので、ステム・アッセンブリ
6の移し換えを容易に短時間で行うことができ、生産性
が高い。
【0058】さらに、置換え部41がステム・アッセン
ブリ6をボンディング部33へ自動的に置換えるので、
ステム・アッセンブリ6の位置決め精度が良く、ボンデ
ィング精度を容易に向上させることができる。
【0059】また、ボンディング部33においては、ヒ
−タブロック57と主ヒ−タ58とが備えられており、
ヒ−タブロック57は主ヒ−タ58を介して給電され
る。つまり、発熱する部分がヒ−タブロック57と主ヒ
−タ58とに分割されているので、ヒ−タブロック57
の形状に制限が少なく、ヒ−タブロック57の設計が自
由である。そして、ボンディング部33のヒ−タブロッ
ク57が、熱容量が小さくなるよう設計されているの
で、ヒ−タブロック57自身の昇熱・降熱に要する時間
が短い。したがって、ボンディング時間を短縮化でき、
サイクルタイムが短くなり、生産性が向上する。
【0060】ヒ−タブロック57の熱容量が小さいの
で、周辺の部材への熱的影響が小さく、固定ねじ63、
64等の締結部材が緩みにくい。そして、保守作業の周
期が短く、稼働率が高い。
【0061】また、ヒ−タブロック57と主ヒ−タ58
を用いて二重加熱が行われるため、低い温度(例えば、
従来の約60%の温度)でステムアッセンブリ6を加熱
できるようになった。このため、ヒ−タブロック57及
び主ヒ−タ58が熱的に消耗しにくくなり、ヒ−タブロ
ック57及び主ヒ−タ58の交換頻度が著しく減った。
【0062】ヒ−タブロック57が主ヒ−タ58を介し
てブ−スバ−59、59に連結されており、ヒ−タブロ
ック57の中央に切欠きが無いので、ヒ−タブロック1
0に熱的応力が集中しにくく、ヒ−タブロック57の割
れを防止することができる。したがって、ヒ−タブロッ
ク57を長寿命化でき、維持費を低減できる。
【0063】さらに、ヒ−タブロック57が主ヒ−タ5
8を介してブ−スバ−59、59に連結されるので、ヒ
−タブロック57の形状を簡単な板状に設定することが
でき、ヒ−タブロック57を消耗品として扱っても維持
費は安い。
【0064】また、ヒ−タブロック57に絶縁膜70が
形成されているので、レ−ザダイオ−ド4にサ−ジ電圧
等の電気的外乱が加わることを防止できる。したがっ
て、レ−ザダイオ−ド4が電気的外乱によって破壊され
ることを防止でき、歩留りを向上できる。なお、絶縁膜
70を対象となる半導体部品(この場合は、半導体レ−
ザ装置1の特性に応じて省略してもよい。
【0065】さらに、チップトレイ保持部34において
は、傾斜調整機構80が設けられているので、チップト
レイ71の姿勢を水平に保つことができる。したがっ
て、レ−ザダイオ−ド4…の認識のための光量が安定
し、認識対象物の大きさに関わらずに、正確な認識が可
能になる。そして、ボンディング精度及び稼働率を向上
させることができる。
【0066】また、チップトレイ保持部34に傾斜調整
機構80が設けられているので、吸着ノズル91とレ−
ザダイオ−ド4…との平行度を容易に調節することがで
きる。したがって、吸着ミスが起きたり、レ−ザダイオ
−ド4…に吸着ノズルの圧痕が残ったりすることを防止
でき、製品の信頼性が向上する。
【0067】特に、対象物が微小な場合、チップトレイ
71が傾いていると、チップトレイ71上に吸着ノズル
が達しない領域が発生し、その領域内のレ−ザダイオ−
ド4…が吸着されずに残ることがあった。しかし、傾斜
調整機構80を利用してチップトレイ71の傾きを調整
すれば、レ−ザダイオ−ド4…を偏りなく吸着でき、レ
−ザダイオ−ド4…がチップトレイ71上に残ることを
防止できる。また、チップトレイ71の傾斜調整に球座
73とテ−パ面77を利用しているので、加工が容易で
ある。なお、本発明は、要旨を逸脱しない範囲で種々に
変形することが可能である。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体部
品本体を搬送ライン上で搬送し、半導体チップを載置し
たチップトレイをチップトレイ保持部上で保持し、半導
体部品本体と半導体チップとをボンディング部へ供給
し、半導体部品本体に半導体チップを載せ、半導体部品
本体を加熱して半導体チップを半導体部品本体にボンデ
ィングする半導体部品製造装置において、搬送ラインか
ら半導体部品を取出して保持し、半導体部品を円弧状に
移動させて半導体部品本体の姿勢を変更し、半導体部品
本体をボンディング部に置換える置換え部を設けた。し
たがって本発明は、半導体部品本体の置換えを自動的に
且つ連続的に行うことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の要部を一部透視して示す斜
視図。
【図2】置換え部を一部透視して示す斜視図。
【図3】(a)及び(b)はボンディング部を示すもの
で、(a)は一部切断して示す側面図、(b)は正面
図。
【図4】ボンディング部の絶縁膜を示す説明図。
【図5】チップトレイ保持部を示す断面図。
【図6】一般の半導体レ−ザを分解して示す斜視図。
【図7】レ−ザダイオ−ドのボンディング状態を示す説
明図。
【図8】従来の製造装置のボンディング部を示すもの
で、(a)は一部切断して示す側面図、(b)は正面
図。
【図9】従来のチップトレイ保持部を一部透視して示す
斜視図。
【符号の説明】
1…半導体レ−ザ装置(半導体部品)、4…レ−ザダイ
オ−ド(半導体レ−ザチップ)、6…ステム・アッセン
ブリ(半導体部品本体)、31…半導体部品製造装置、
32…置換え部、33…ボンディング部、34…チップ
トレイ保持部、35…搬送ライン、57…ヒ−タブロッ
ク、58…主ヒ−タ、59、59…ブ−スバ−、60、
60…絶縁ブロック、71…チップトレイ、80…傾斜
調整機構。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−67793(JP,A) 特開 昭62−65429(JP,A) 特開 昭61−42924(JP,A) 特開 平3−220785(JP,A) 特開 平2−52442(JP,A) 特開 平3−163838(JP,A) 実開 平3−67428(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01S 5/022 H01L 21/52 H01L 21/68 JICSTファイル(JOIS)

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体部品本体を搬送ライン上で搬送
    し、半導体チップを載置したチップトレイをチップトレ
    イ保持部上で保持し、上記半導体部品本体と上記半導体
    チップとをボンディング部へ供給し、上記半導体部品本
    体に上記半導体チップを載せ、上記半導体部品本体を加
    熱して上記半導体チップを上記半導体部品本体にボンデ
    ィングする半導体部品製造装置において、上記搬送ライ
    ンから上記半導体部品を取出して保持し、上記半導体部
    品を円弧状に移動させて上記半導体部品本体の姿勢を変
    更し、上記半導体部品本体を上記ボンディング部に置換
    える置換え部を設けたことを特徴とする半導体部品製造
    装置。
  2. 【請求項2】 上記ボンディング部が、上記半導体部品
    本体を加熱するヒ−タブロックと、上記ヒ−タブロック
    を加熱する主ヒ−タと、この主ヒ−タに給電するブ−ス
    バ−と、このブ−スバ−を支持する絶縁ブロックとから
    なることを特徴とする[請求項1]記載の半導体部品製
    造装置。
  3. 【請求項3】 上記チップトレイ保持装置が傾斜調整機
    構を有することを特徴とする[請求項1]もしくは[請
    求項2]記載の半導体部品製造装置。
JP4150802A 1992-06-10 1992-06-10 半導体部品製造装置 Expired - Fee Related JP3068332B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4150802A JP3068332B2 (ja) 1992-06-10 1992-06-10 半導体部品製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4150802A JP3068332B2 (ja) 1992-06-10 1992-06-10 半導体部品製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0637397A JPH0637397A (ja) 1994-02-10
JP3068332B2 true JP3068332B2 (ja) 2000-07-24

Family

ID=15504752

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4150802A Expired - Fee Related JP3068332B2 (ja) 1992-06-10 1992-06-10 半導体部品製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3068332B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102032710B1 (ko) * 2018-09-06 2019-10-16 최병찬 지그 조립체 및 솔더링 장치

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0637397A (ja) 1994-02-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI505901B (zh) 移載裝置
KR910005314B1 (ko) 반도체 레이저의 본딩방법 및 그 장치
US9530929B2 (en) Lift-off method
JP2009064905A (ja) 拡張方法および拡張装置
US20210280440A1 (en) Mounting method and mounting device
JPH05335405A (ja) ウエハ載置台および半導体装置製造装置
JP2005236235A (ja) タブリードのはんだ付け装置及びタブリードのはんだ付け方法
TWI608550B (zh) Viscous crystal device and method
JP3068332B2 (ja) 半導体部品製造装置
JP3857949B2 (ja) 電子部品実装装置
JPH0476926A (ja) 半導体製造装置
US4597714A (en) Robot gripper for integrated circuit leadframes
CN212461620U (zh) 高精度智能共晶贴装设备
JP2000022395A (ja) 電子部品の実装方法および実装装置
JP2004193442A (ja) 電子部品実装装置
US20110309057A1 (en) Laser heating apparatus for metal eutectic bonding
TW202139273A (zh) 晶片接合裝置、剝離治具及半導體裝置的製造方法
JPH10163214A (ja) バンプボンダー及びバンプ形成方法
KR20140052845A (ko) 레이저 리프트 오프용 기판 분리 장치
US20240145419A1 (en) Lasing to attach die to lead frame
JP2004047927A (ja) 電子部品実装装置
JP3902037B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPS6386551A (ja) バンプ形成方法
JPH06232131A (ja) ウエハ加熱装置およびバンプ形成装置
JPS6250057B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20000425

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090519

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090519

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees