JPH06215915A - 厚膜印刷方法 - Google Patents

厚膜印刷方法

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Publication number
JPH06215915A
JPH06215915A JP5006585A JP658593A JPH06215915A JP H06215915 A JPH06215915 A JP H06215915A JP 5006585 A JP5006585 A JP 5006585A JP 658593 A JP658593 A JP 658593A JP H06215915 A JPH06215915 A JP H06215915A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
paste
scraper
mask
thick film
printing method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5006585A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidekatsu Sakane
英勝 阪根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP5006585A priority Critical patent/JPH06215915A/ja
Publication of JPH06215915A publication Critical patent/JPH06215915A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ペーストの掠れ等の印刷不良を抑えて膜厚ム
ラを防ぐ厚膜印刷方法を提供することである。 【構成】 基板12上にスクリーンマスク10を配置
し、このマスク10上に載せたペースト20をマスク1
0の一方側から他方側に向かってスキージ2によって印
刷し、他方側に集まったペースト20をスクレパー1に
よって一方側に戻すことを繰り返して、基板12上にマ
スクパターン11通りの厚膜を形成する厚膜印刷方法で
あって、スクレパー1によってペースト20を戻す際
に、スクレパー1をスクリーンマスク10に対してペー
スト20側に45〜60度傾ける。 【作用】 スクレパー1によってペースト20を戻す際
に、ペースト20がスクレパー1によってマスク10に
適度な圧力で押圧される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、チップ抵抗器等の電子
部品の製造において抵抗体等を厚膜に印刷する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】例えば、チップ抵抗器やCR複合部品等
の電子部品は抵抗体を有するが、その抵抗体を形成する
方法として、スクリーン印刷を用いる場合がある。スク
リーン印刷では、図3及び図4に示すように、抵抗体用
のペースト20をスクリーンマスク10上の印刷開始位
置まで戻すスクレパー30と、スクリーンマスク10を
通してペースト20をマスク10の直下に在る基板12
上にパターン11通りに印刷するスキージ31とを用い
る。図4から分かるように、スクレパー30は基板12
上のスクリーンマスク10に対して垂直(90度)に設
けられ、スキージ31はスクリーンマスク10に対して
ペースト20側に若干傾けて設けられる。
【0003】このようなスクリーン印刷による厚膜印刷
工程を図5について述べる。但し、図5ではスクレパー
30とスキージ31を模式的に描いてある。まず、図5
の(a)において、スクリーンマスク10上の一方側
(印刷開始位置)に載せたペースト20を一方側から他
方側に向かってスキージ31によって印刷する。この
時、スクレパー30は上昇している。
【0004】図5の(b)のように、スキージ31を他
方側まで移動させると、1回目の印刷が終了する。この
印刷により、スクリーンマスク10のパターン11内に
ペースト20が入り込み、基板12上にペーストがパタ
ーン通りに印刷される。この時点では、まだ基板12上
のペーストは薄膜である。次に、スクレパー30をスク
リーンマスク10に垂直に降下させると共に、スキージ
31を上昇させた〔図5の(c)参照〕後、スクレパー
30によってペースト20をマスク10の一方側まで戻
す〔図5の(d)参照〕。そして、再びスクレパー30
を上げると共に、スキージ31を下げ〔図5の(a)参
照〕、同様の印刷を繰り返す。これにより、基板12上
にペーストが厚膜に印刷されることになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
印刷方法によると、スキージ31によってペースト20
を印刷した際に、スクリーンマスク10のパターン11
に十分にペーストが入り込まずに、パターン11からペ
ーストが抜けて印刷される掠れ等の印刷不良がしばしば
起こる。この印刷不良が生ずると、ペーストの膜厚にム
ラができ、ペーストの厚膜が均一でなくなる。
【0006】従って、本発明は、上記問題点に着目して
なされたもので、ペーストの掠れ等の印刷不良を抑えて
膜厚ムラを防ぐ厚膜印刷方法を提供することを目的とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的は、本発明の厚
膜印刷方法、即ちスクレパーによってペーストを戻す際
に、スクレパーとスクリーンマスクとのなす角度が45
〜60度の角度となるようにスクレパーを基板上のスク
リーンマスクに対してペースト側に傾けることを特徴と
する厚膜印刷方法により達成される。
【0008】
【作用】スクレパーをペースト側に45〜60度傾けた
状態でペーストを戻すため、スクレパーを移動させると
ペーストに下方側(スクリーンマスク側)への適度な圧
力が加わる。この結果、スキージによる印刷でペースト
の印刷掠れ等が生じても、スクレパーによってペースト
を戻す際に印刷掠れのマスクパターンにペーストを確実
に押し込むことができ、印刷掠れ等の印刷不良が無くな
り、基板上のペーストの膜厚が均一になる。
【0009】なお、本発明において、スクリーンマスク
に対するスクレパーの傾斜角度は、45〜60度の範囲
であればよいが、ペーストをマスクに押圧する作用等の
点から特に45度程度が好ましい。因みに、傾斜角度を
60度よりも大きくすると、ペーストを印刷掠れのマス
クパターンに押し込める圧力が弱くなり過ぎ、スクレパ
ーを傾ける意義がなくなってしまい、逆に45度よりも
小さくすると、ペーストをマスクパターンに押し込める
圧力が強くなり過ぎ、ペーストがマスクパターンに入り
過ぎて印刷がにじんでしまう。
【0010】
【実施例】以下、本発明の厚膜印刷方法を実施例に基づ
いて説明する。図1に、スクリーン印刷に使用するスク
レパーとスキージを模式的に示す。前述したように、本
発明の特徴はスクレパー1の傾斜角度にある。即ち、ス
クレパー1は基板12上のスクリーンマスク10に対し
てペースト(図1には図示せず)側に角度θだけ傾けて
ある。この角度θは前記45〜60度の範囲に設定して
ある。又、スキージ2は従来と全く同様であり、スクリ
ーンマスク10に対して若干傾斜させてある。
【0011】このように傾斜させたスクレパー1による
作用を図2について述べる。図2の(a)は、スキージ
2で印刷した後のスクリーンマスク10上のペースト2
0の印刷状態を示す〔図5の(c)の段階に相当〕。こ
れによると、スキージ2によってペースト20を印刷し
ても、マスク10の全てのパターン11のうち、一部分
にはペースト20がパターン11内に完全に入り込まな
い印刷掠れ20aが発生している。
【0012】しかし、次に図2の(b)のように、スク
レパー1でペースト20を元の位置に戻すと〔図5の
(a)の段階に相当〕、スクレパー1が移動する時にペ
ースト20に下向きの適度な圧力が加わり、ペースト2
0はスクレパー1によってマスク10上に押さえ付けな
がら戻されることになる。このため、印刷掠れ20aが
起きていたパターン11内には、ペースト20が十分に
押し込まれ、パターン11内にペースト20が完全に詰
め込まれた状態20bになり、印刷掠れ20aが無くな
る。
【0013】従って、スキージ2による次の印刷で再び
印刷掠れが生じても、ペーストを戻す際に印刷掠れが修
復されるため、最終的には膜厚ムラの無い均一なペース
トの厚膜を形成することができる。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の厚膜印刷
方法は、スクレパーによってペーストを戻す際に、スク
レパーとスクリーンマスクとのなす角度が45〜60度
の角度となるようにスクレパーを基板上のスクリーンマ
スクに対してペースト側に傾けるため、スクリーンマス
クのパターン内にペーストが確実に入り込み、印刷掠れ
等の印刷不良が改善され、膜厚ムラの無い均一な厚膜を
形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の厚膜印刷方法の構成を説明するための
図である。
【図2】本発明の厚膜印刷方法の動作を説明するための
図である。
【図3】従来の厚膜印刷方法の構成を説明するための図
である。
【図4】従来の厚膜印刷方法の構成を説明するための図
である。
【図5】従来の厚膜印刷方法の動作を説明するための図
である。
【符号の説明】
1 スクレパー 2 スキージ 10 スクリーンマスク 11 マスクパターン 12 基板 20 ペースト 20a ペーストの印刷掠れ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板上にスクリーンマスクを配置し、この
    マスク上に載せたペーストをマスクの一方側から他方側
    に向かってスキージによって印刷し、他方側に集まった
    ペーストをスクレパーによって一方側に戻すことを繰り
    返して、基板上にマスクパターン通りの厚膜を形成する
    厚膜印刷方法において、 前記スクレパーによってペーストを戻す際に、スクレパ
    ーとスクリーンマスクとのなす角度が45〜60度の角
    度となるようにスクレパーを基板上のスクリーンマスク
    に対してペースト側に傾けることを特徴とする厚膜印刷
    方法。
JP5006585A 1993-01-19 1993-01-19 厚膜印刷方法 Pending JPH06215915A (ja)

Priority Applications (1)

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JP5006585A JPH06215915A (ja) 1993-01-19 1993-01-19 厚膜印刷方法

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JP5006585A JPH06215915A (ja) 1993-01-19 1993-01-19 厚膜印刷方法

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JPH06215915A true JPH06215915A (ja) 1994-08-05

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JP5006585A Pending JPH06215915A (ja) 1993-01-19 1993-01-19 厚膜印刷方法

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JP (1) JPH06215915A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7049223B2 (en) 1998-06-01 2006-05-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Paste including a mixture of powders, connection plug, burying method, and semiconductor device manufacturing method
CN110835812A (zh) * 2019-11-15 2020-02-25 山东德信皮业有限公司 一种用于水性涂布工艺的涂布设备

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7049223B2 (en) 1998-06-01 2006-05-23 Kabushiki Kaisha Toshiba Paste including a mixture of powders, connection plug, burying method, and semiconductor device manufacturing method
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