JPH0615549B2 - セファロスポリン中間体の製法 - Google Patents

セファロスポリン中間体の製法

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JPH0615549B2
JPH0615549B2 JP61504556A JP50455686A JPH0615549B2 JP H0615549 B2 JPH0615549 B2 JP H0615549B2 JP 61504556 A JP61504556 A JP 61504556A JP 50455686 A JP50455686 A JP 50455686A JP H0615549 B2 JPH0615549 B2 JP H0615549B2
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Description

【発明の詳細な説明】 発明の概要 本発明は式 (式中、XはHIまたはHClである) を有し、Δ2異性体を実質的に含まず、またカルボキシ
ル基脱ブロッキング段階の必要なく広スペクトルセファ
ロスポリン抗生物質に転化できるセファロスポリン中間
体の温度安定性結晶性塩に関する。本発明はまた式Iの
塩の製法、式Iの塩の製造における中間体および式Iの
塩を広くスペクトルセファロスポリン抗生物質に転化す
る方法に関する。
従来技術の説明 アブラキ(Aburaki)ほかに対し1983年9月27日
に発行された米国特許第4,406,899号には式、 (式中、Phはフェニルである) および (式中、B1は水素または普通のカルボキシル保護基で
ある) の化合物またはそのN−シリル誘導体が開示されてい
る。これらの化合物は該特許に例証されていないで、一
定のセファロスポリン類を製造する代替反応図式(アシ
ル化、次いで保護されたカルボキシル基の脱ブロッキン
グによる)中に中間体として単に構造式により開示され
ているにすぎない。実際に実証された反応図式はこれら
の化合物を使用しなかった(また最終段階として保護さ
れたカルボキシル基の脱ブロッキングを必要とした)。
第4,406,899号の各最終化合物は生じたΔ2およびΔ3
性体の混合物を分離するためにクロマトグラフ精製段階
を必要とした。
アイリー(Barry E.Ayree)に対する1979年9月18
日に発行された米国特許第4,168,309号には式、 (式中、Rはカルボキシル保護基であり、R1はそれ
が結合している窒素原子と一緒にして、適宜置換されて
いることができる飽和または部分飽和の、さらにO、N
およびSから選ばれる1個以上のヘテロ原子を含むこと
ができる4〜10員複素環を形成し、点線はセフ−2−
エムまたはセフ−3−エム化合物を示し、X-はアニオ
ンを表す) の化合物はおよびその酸付加塩またはN−シリル化誘導
体が開示されている。
これらの化合物は例示ではなくて一定のセファロスポリ
ン類の別の合成(アシル化および次の保護カルボキシル
基の脱ブロッキングによる)における中間体として単に
構造式により開示されているにすぎない。実際に例示さ
れた反応図式はこれらの化合物を利用しなかった(また
最終段階として保護されたカルボキシル基の脱ブロッキ
ングを必要とした。) 上記2特許の方法における保護カルボキシル基の使用は
アシル化後に脱ブロッキングを必要とし、それによりア
シル基が脱ブロッキング段階における100%未満の収
率のために脱ブロッキング段階で損失される不利益を有
する。
デレク.ウォーカー(Derek Walker)ほかに対して198
0年9月16日発行された米国特許第4,223,135号には
式、 〔式中、Bはクロロ、メトキシまたは−CH2E(式
中、Eは水素、 または−SZであり、Zは2〜4個のN原子並びにOお
よびSから選ばれる零または1個の原子を含み、適宜置
換されていることができる5員または6員の複素環であ
り、−SZのS原子は複素環Zの炭素原子に結合してい
る)であり、Aはトリメチルシリルまたは容易に開裂で
きるエステル保護基である。〕 の化合物が開示されている。
該化合物は、好ましくは塩化メチレンである不活性有機
溶媒中の、式 (式中、AおよびBは前記のとおりである) の化合物の溶液に乾燥二酸化炭素を添加することにより
製造される。
米国特許第4,223,135 号の分割の一部継続出願である米
国特許第4,316,017号は実質的に等しい開示を有する。
ルン(William H.W. Lunn)に対して1982年6月2
2日に発行された米国特許第4,336,235号には式、 の化合物、および式 の化合物をシリル化剤例えばトリメチルシリルアセトア
ミド、ビストリメチルシリルアセトアミドなどと反応さ
せて式、 の化合物を生成させ、式IIIの化合物をヨウ化トリメチ
ルシリルと反応させて式、 の化合物を生成させ、次いで式IVの化合物を式 の化合物と反応させて式Iの化合物を生成させることに
よる式Iの化合物の製法が開示されている。
化合物IIIおよびIVを生成させる反応に適する溶媒は塩
素化炭化水素および低級アルキルニトリルであると記載
されている。
ルン(William H. W.Lunn)ほかに対する米国特許第4,37
9,787号、第4,382,931号および第4,382,932号は、Rが
例えばアミノ置換オキサゾール、オキサジアゾールまた
はイソキサゾール環であり、3−置換基が例えば適宜置
換されていることができるピリジン、キノリンまたはイ
ソキノリンである類似の化合物および製法に関する。
1984年10月25日に発行された南アフリカ特許第
84/3343号には式、 (式中、Rはチアゾリルまたは1,2,4−チアジアゾ
リル基であり、R1は水素またはメトキシであり、R2
セファロスポリン技術に知られた多くの置換基の1つで
あり、Aは適宜置換されていることができるキノリニウ
ム、イソキノリニウムまたはピリジニウムである) のセファロスポリン類の製法が開示されている。式Iの
化合物は、式、 (式中、R8は水素またはアミノ保護基であり、R7
「基Aに相当する塩基により置換できる基」である) の化合物と基Aに相当する塩基とをトリアルキルヨード
シランの存在下に反応させて式、 の化合物を生成させ、それを(アミノ保護基の除去後)
次に式、 の酸でアシル化することにより製造される。あげられた
適当なR7基にはアセトキシ、プロピオニルオキシ、ク
ロロアセトキシ、アセチルアセトキシおよびカルバモイ
ルオキシが含まれる。あげられた適当な溶媒には塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエ
タン、四塩化炭素、アセトニトリル、プロピオニトリル
およびフリガンド(frigands)が含まれる。塩化メチレン
が最も好ましい。
該特許中に一般に知られていると認められているが、し
かし発明者は化合物IIに関する求核置換反応(化合物II
Iが生ずる)を初めに過剰の基Aに相当する塩基(20
倍過剰まで)を添加し、次いでトリアルキルヨードシラ
ン(10倍過剰まで)を添加することにより行なうなら
ば、収率が意外に高いことを見出したことを記載してい
る。
この南アフリカ特許出願に対する西独優先権出願(P.
3316 798.2、1983年5月7日提出)中に
は、あげられた溶媒は上記と同様であるがしかし「フリ
ガンド」は「フリゲン(frigen)と称されている。メル
ク.インデックス(Merck Index)、10版にはフリゲン
11、フリゲン12およびフリゲン114が挙げられ、
それらがフレオン11、フレオン12およびフレオン1
14(これはそれぞれトリクロロフルオロメタン、ジク
ロロジフルオロメタンおよび1,2−ジクロロ−1,
1,2,2−テトラフルオロエタンである)に対する別
名として示されている。
完全な説明 式 (式中、XはHIまたはHClである) の化合物は、本明細書記載のように製造されると結晶
性、温度安定性で、相当するΔ2異性体を実質的に含ま
ない。Δ2異性体を実質的に含まないので、それらは
(アシル化により)、Δ2およびΔ3異性体のクロマトグ
ラフ分離を必要としないでΔ2異性体を実質的に含まな
い広スペクトルセファロスポリン類に転化することがで
きる。それらの温度安定性であるので、それらを分離し
て貯蔵し、望むときに最終生成物に転化することができ
る。式Iの中間体の他の利点は、それらがアシル化に先
立つカルボキシル基のブロッキング(保護)またはアシ
ル化後のカルボキシル基の脱ブロッキング(脱保護)を
必要とせず、従ってプロセス効率を与えることである。
式Iの化合物は式、 の化合物の1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
(フレオンTF)または1,1,1−トリクロロトリフ
ルオロエタン中の溶液を(低級)アルカノールまたは水
で処理してトリメチリルシリル基を除き、次いでHClま
たはHIで処理して塩酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成さ
せることにより製造することができる。トリメチルシリ
ル基の除去には(低級)アルカノールの使用が好まし
く、メタノールが最も好ましい。反応は約−10〜約2
5℃の温度、好ましくは約0〜約10℃の温度で行なわ
れる。化合物IIの当量当り約2〜約5当量のメタノー
ル、好ましくは約3〜約4当量のメタノールが使用され
る。
式IIの化合物は式、 の化合物のフレオンTFまたは1,1,1−トリクロロ
フルオロエタン中の溶液とN−メチルピロリジン(NM
P)との反応により製造される。意外にも溶媒としてフ
レオンTFまたは1,1,1−トリクロロトリフルオロ
エタンの使用がΔ2異性体を実質的に含まない化合物II
を生ずるが、通常使用される溶媒例えば塩化メチレン、
四塩化炭素、クロロホルムまたはジオキサンが多量の好
ましくないΔ2異性体(例えば50%のΔ2異性体)を含
む化合物IIを生ずることが認められた。
反応は約−10〜約25℃、好ましくは約0〜約10℃
の温度で行なわれる。より多いかまたはより少い量のN
−メチルピロリジンの使用が可能であるけれども、化合
物IIIaの当量当り約1当量のNMPを用いると最高純
度の生成物が得られる。
式IIIaの化合物は式、 の化合物のフレオンTFまたは塩化メチレン中の溶液と
ヨウ化トリメチルシリル(TMSI)との反応により製
造することができる。意外にもこれらの溶媒Δ2異性体
を実質的に含まない化合物IIIaを生ずるが、類似の普
通の溶媒(例えば1,2−ジクロロエタン)がかなりの
量の好ましくないΔ2異性体(例えば25%)を含む化
合物IIIaを生ずる。他の普通の溶媒例えばクロロベン
ゼン、ジオキサン、四塩化炭素などもまたかなりの量の
好ましくないΔ2異性体を生ずる。
反応は約5〜約45℃の温度で行なわれるが、しかし好
ましくは便宜上室温で行なわれる。少くとも1当量のT
MSIが化合物IVaをすべて化合物IIIaに転化するた
めに必要であり、化合物IVaの当量当り約0.9〜約1.5
当量の量を用いることが好ましい。より好ましくは約1.
0〜約1.2当量のTMSIが使用される。
式IVaの化合物は7−アミノセファロスポラン酸(7−
ACA)、すなわち式、 の化合物とヘキサメチルジシラザン(HMDS)とをフ
レオンTFまたは塩化メチレン中で7−ACA当量当り
約0.01〜約0.1当量のTMSIの存在下に室温から溶
媒の沸点までの温度において反応させることにより製造
することができる。好ましくは反応は還流で行なわれ
る。HMDSは7−ACAの当量当り約0.95〜約1.4
当量、好ましくは7−ACA当量当り約1.0〜約1.3当
量のHMDSの量で使用できる。最も好ましくはHMD
S1.2当量が使用される。
化合物IIの他の製法では、化合物IVaのフレオンTFま
たは1,1,1−トリクロロトリフルオロエタン中の溶
液を初めにN−メチルピロリジンで処理し、次いで少な
くとも1当量のTMSIを加える。反応は約5〜約45
℃の温度で行なうことができる。便宜上約35℃で反応
を行なうことが好ましい。N−メチルピロリジンは化合
物IVaの当量当り約1.0〜約2.0当量、好ましくは約1.
2〜約1.5当量の量で用いることができる。TMSIは
化合物IVaの当量当り約1.0〜約3.0当量、好ましくは
約1.5〜2.0当量の量で用いることができる。
化合物IIの他の代替製法では、化合物IVaのフレオンT
Fまたは1,1,1−トリクロロトリフルオロエタン中
の溶液と式、 を有するN−メチル−N−トリメチルシリルピロリジニ
オヨージドとを約5〜約45℃の温度で反応させる。便
宜上35℃で反応を行なうのが好ましい。式VIの化合物
は化合物IVaの当量当り約1.0〜約2.0当量、好ましく
は化合物IVaの当量当り約1.2〜約1.5当量の量で使用
できる。望むならば少量(例えば0.1当量)のイミダゾ
ールを反応混合物に加えて反応時間を短縮することがで
きる。化合物IVaと化合物VIとの反応により化合物IIを
製造すると単に少量の化合物IIIaが反応中、反応混合
物中に検出できる(NMR分析による)にすぎないこと
が認められた。
式VIの化合物はN−メチルピロリジンと約等モル量のT
MSIとを溶媒としてのフレオンTFまたは1,1,1
−トリクロロトリフルオロエタン中で約−10〜約25
℃の温度で反応させることにより製造することができ
る。約0〜約5℃の温度で反応を行なうことが好まし
い。NMPとTMSIとの反応比は変えることができる
が、しかし等モル量の使用により優秀な結果が得られ
る。
好ましい反応図式において、式Iの化合物は7−ACA
から「ワンポット」反応で、すなわち中間体の分離なく
製造される。一定の個々の段階を前記のようにフレオン
TFまたは1,1,1−トリクロロトリフルオロエタン
以外の溶媒中で行なうことができるけれども、他のもの
はフレオンTFまたは1,1,1−トリクロロトリフル
オロエタンの使用を必要とする。従って、「ワンポッ
ト」反応を行なうときに反応をフレオンTF中で行なう
ことが好ましい。
ここに記載した反応図式の実施において相当する3−ク
ロロメチルまたは3−ブロモメチル類似体よりもむしろ
3−ヨードメチル化合物IIIaを経て進行させる必要が
あると認められた。意外にも化合物IVaと塩化トリメチ
ルシリルまたは臭化トリメチルシリルとの反応が期待し
た化合物IIIaの3−クロロメチルまたは3−ブロモメ
チル類似体を少量、例えば10日間の還流後でも最大約
5〜15%、生じたことが認められた。
Δ2異性体を実質的に含まない化合物II(およびI)を得
るために化合物IIIaをNMPで第四級化して化合物II
(次に式Iの化合物)を生成させることはフレオンTF
または1,1,1−トリクロロトリフルオロエタン中で
行なわねばならないけれども、化合物IIIaを他の求核
試薬とフレオンTF、1,1,1−トリクロロトリフル
オロエタンまたは塩化メチレン溶液中で反応させて化合
物IIの類似体を生成させることができる。(低級)アル
カノールで処理し、適宜、例えばHClまたはHIで塩
を形成させた後式、 または (式中、Xは例えばHClまたはHIであり、−Nuは であり、 である) を有する化合物Iの類似体が得られる。
式VIIaおよびVIIbの化合物はまた式、 の化合物を、化合物IIIaからの製造について前に記載
したと同様の手順により反応させることにより製造する
ことができる。しかし、式IIIbの化合物はフレオンT
Fまたは1,1,1−トリクロロトリフルオロエタンに
非常に不溶性であり、従って反応は塩化メチレン中で行
なわねばならない。そのために化合物IIIbから製造す
るときに−+NuがN−メチルピロリジニオ部分である
式VIIbの化合物(すなわち式Iの化合物)は主に好まし
くないΔ2異性体である。
式IIIbの化合物は塩化メチレン中で式、 の化合物から、化合物IVaからの化合物IIIaの製造に
ついて前に記載したと同様の手順により製造することが
できる。式IVbの化合物は、化合物IVaの塩化メチレン
またはフレオンTF中の溶液に少量(例えば0.1当量)
のピリジン塩酸塩の存在下に二酸化炭素ガスを通すこと
により製造することができる。
式VIIaおよびVIIbの化合物の製造は反応図式1に示さ
れる一般手順により説明することができる。手順は図式
1に示される段階的方法で行なうことができ、または望
むときには反応物例えばTMSIおよび所望の求核試薬
の添加順序はここに記載したように変えることができ
る。式VIIaおよびVIIbの化合物の製造はまた、より好
ましくは「ワンポット」反応で行なうことができる。
または 式I、VIIa及びVIIbの化合物は適当な側鎖酸でアシル
化することにより容易に広スペクトル抗生物質に転化さ
れる。例えば式I(X=HClまたはHI)の化合物を
(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノ酢酸1−ベンゾトリアゾリルエステル
でN−アシル化することにより7−〔α−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−α−(Z)−メトキシイミノ
アセトアミド〕−3−〔(1−メチル−1−ピロリジニ
オ)メチル〕−3−セフエム−4−カルボキシラート
(VIII)に転化される。反応式は次に示される。
この反応はジメチルホルムアミド中、N,N−ジメチル
アニリンの存在下に室温で10〜20時間にわたり;ま
たは化合物(I)を水およびジメチルホルムアミドに溶
解し、氷冷下に炭酸水素ナトリウムを加え、室温で約3
0分〜約5時間反応させることにより;あるいは化合物
(I)を水に溶解し、5〜15℃に冷却し、NaOHをpH
5.5〜6まで滴加し、テトラヒドロフランを加え、水酸
化ナトリウムを加えてpHを6.7〜6.9に調整し、活性エ
ステル反応物を加え、室温で1〜5時間反応させること
により容易に行なわれる。活性エステルは公知の化合物
であり、ヘキスト(Hoechst)の日本国公開昭54〜95
593号(1979年7月28日)およびドイツ国出願
第2,758,000.3号(1977年12月24日)に記載さ
れている。化合物(VIII)の有用性はアブラキ(Aburak
i)ほかの米国特許第4,406,899号に示されている。
式VIIaおよびVIIbの化合物は類似の方法でアシル化
し、広スペクトルセファロスポリン類を生成させること
ができる。
実施例1 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチシリル 方法A オーブン乾燥したフラスコおよびフリードリッヒ冷却器
を乾燥窒素流下に室温に冷却した。次いでフラスコに7
−ACA(純度97.2%)50.0g(184ミリモル)
および乾燥1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
(フレオンTF、分子ふるい上で乾燥)400mlを装入
した。生じたスラリーに98%1,1,1,3,3,3
−ヘキサメチルジシラザン(HMDS)46.5ml(22
2ミリモル、1.2当量)およびヨードトリメチルシラン
(TMSI)0.80ml(5.6ミリモル、0.03当量)を
よくかくはんしながら湿気を防いで加えた。スラリーを
16〜18時間激しく加熱還流し、その時間後に室温に
冷却した。多少曇りのある反応混合物の部分標本の1
NMRスペクトルは所望生成物への95%以上の転化を
示した。NMR(CD2Cl2,360MHz)δ0.23(s,9H,N-Si(CH3)
3,0.38(s,9H,-COOSi(CH3)3),1,51(d,1H,J=13.6Hz,NH
-),2.09(s,3H,-COCH3),3.41(d,1H,J=18.3Hz,-SCH2-),
3.61(d,1H,J=18.3Hz,-SCH2),4.80(dd,1H,J=4.5,13.6H
z,-COCH(NHSi(CH3)3),4.83(d,1H,J=13.2Hz,-CH2OCOC
H3),4.91(d,1H,J=4.5Hz,-COCH(NHSi(CH3)3CH-),5.11
(d,1H,J=13.2Hz,-CH2OCOCH3)。
方法B オーブン乾燥したフラスコおよびフリードリッヒ冷却器
を乾燥窒素流下に室温に冷却した。フラスコに7−AC
A(純度97.2%)10.0g(36.7ミリモル)および
乾燥フレオンTF(分子ふるい上で乾燥)80mlを装入
した。生じたスラリーに,98%HMDS9.3ml(44.
1ミリモル、1.2当量)およびフレオンTF中のHIの
0.025M溶液(HIを乾燥フレオンTF中へ通し、生
じた飽和溶液をフェノールフタレイン終点まで滴定)4
4ml(1.1ミリモル、0.03当量)を加えた。スラリー
をよかくはんしながら湿気を防いで22時間激しく加熱
還流し、その時間後室温に冷却した。1HNMRスペク
トル(CD2Cl2、360MHz)は所望の生成物への9
5%以上の転化を示した。
方法C オーブン乾燥したフラスコおよびフリードリッヒ冷却器
を乾燥窒素流下に室温に冷却した。フラスコに7−AC
A(純度97.2%)10.0g(36.7ミリモル)および
乾燥ジクロロメタン(分子ふるいから)80mlを装入し
た。生じたスラリーに、98%HMDS9.3ml(44.1
ミリモル、1.2当量)およびTMSI0.16ml(1.1ミ
リモル、0.03当量)をよくかくはんしながら湿気を防
いで加えた。スラリーを5時間激しく加熱還流し、その
時間後多少曇りのある反応混合物を室温に冷却した。1
HNMRスペクトル(CD2Cl2、360MHz)は所望
生成物への95%以上の転化を示した。
実施例2 (6R、7R)−7−〔((トリメチルシリル)オキ
シ)カルボニル〕−アミノ−3−アセトキシメチルセフ
−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシリル 方法A フレオンTF中の(6R,7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−アセトキシメチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸トリメチルシリルの反応混合物(実施例
1の方法Aに従い調製、装入7−ACA10.0g)に、
新調製ピリジン塩酸塩410mg(3.5ミリモル、0.10
当量)を乾燥窒素シール下に室温で加えた。次いで、乾
燥二酸化炭素ガスを穏やかに毛管ピペットを通して反応
混合物によくかくはんしながら24時間通した。この時
間後、生じたスラリーをシュレンク漏斗を通して正窒素
圧で濾過し、捕集した固体を新乾燥フレオンTF(2×
25ml)で洗浄し、窒素の気流加圧下で吸引下に15分
間部分乾燥した。さらに室温で0.05mmHgで5時間乾
燥すると淡黄色の結晶性水分感受性の(6R,7R)−
7−〔((トリメチルシリル)オキシ)カルボニル〕ア
ミノ−3−アセトキシメチルセフ−3エム−4−カルボ
ン酸トリメチルシリル13.30g(85%)が得られ
た:IR(CH2Cl2)1790,1743,1709,1511,1250,1232cm-1;NM
R(CD2Cl2,360MHz)δ0.31(s,9H,-NHCOOSi(CH3)3),0.36
(s,9H,-COOSi(CH3)3),2.08(s,3H,-COCH3),3.44(d,1H,J
=18.6Hz,-SCH2),3.63(d,1H,J=18.6Hz,-SCH2),4.85(d,
1H,J=13.4Hz,-CH2OAc),5.02(d,1H,J=5.1Hz,-CHCH(-N)
SCH2),5.11(d,1H,J=13.4Hz,-CH2OAc),5.54(d,1H,J=9.
7Hz,-CONHCH(CO-)CH-),5.63(dd,1H,J=5.1,9.7Hz,-CONH
CH(CO-)CH-)。
方法B 乾燥ジクロロメタン中の(6R,7R)−7−(トリメ
チルシリル)アミノ−3−アセトキシメチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸トリメチルシリルの反応混合物
(実施例1の方法Cに従い調製、装入7−ACA5.0
g)中へよくかくはんしながら室温で12時間、乾燥二
酸化炭素ガスを穏やかに通した。生じた溶液の部分標本
1HNMRスペクトルは所望の(6R、7R)−7−
〔((トリメチルシリル)−オキシ)カルボニル〕アミ
ノ−3−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸トリメチルシリルへの95%以上の転化を示した。
実施例3 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−ヨードメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメ
チルシリル 方法A フレオンTF中の(6R、7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−アセトキシメチル−セフ−3−エム
−4−カルボン酸トリメチルシリルの反応混合物(実施
例1の方法Aに従い調製、装入7−ACA50.0g)に
乾燥窒素シール下に、TMSI合計30ml(210ミリ
モル、1.15当量)をゆっくりした流れで室温で加え
た。反応の進行は1HNMR(アセタート領域)により
モニターした。1時間後にスラリーをシュレンク管を通
して窒素加圧下に濾過した。捕集した固体を新フレオン
TF(1×100ml)で洗浄した。濾液の部分標本はその
中に(6R,7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ
−3−ヨードメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリルが生成していることを支持する1HNM
Rを与えた: NMR(CD2Cl2,360MHz)δ0.16(s,9H,NHSi(CH3)3),0.40(s,9
H,-COOSi(CH3)3),1.51(d,1H,J=13.4Hz,NH),3.54(d,1
H,J=17.9Hz,-SCH2-),3.80(d,1H,J=17.9Hz,-SCH2),
4.37(d,1H,J=9.2Hz,-CH2I),4.49(d,1H,J=9.2Hz,-CH
2I),4.75(dd,1H,J=4.6,13.4Hz,-COCH(NHSi(CH3)3),4.8
9(d,1H,J=4.6Hz,-COCH(NHSi(CH3)3)CH-)。
方法B ジクロロメタン中の(6R,7R)−7−(トリメチル
シリル)アミノ−3−アセトキシメチルセフ−3−エム
−4−カルボン酸トリメチルシリル〔実施例1の方法C
に従い調製;反応混合物の20ml部分標本(11.7ミリ
モルの出発物質含量)をこの反応に用いた〕のかくはん
溶液に窒素シール下に室温で、ヨードトリメチルシラン
(TMSI)1.66ml(11.7ミリモル、1.0当量)を
ゆっくりした流れで加えた。さらに1時間かくはんした
後、部分標本の1HNMRスペクトル(アセタート領
域)は所望の(6R、7R)−7−(トリメチルシリ
ル)アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−エム−4−カ
ルボン酸トリメチルシリルへの95%以上の転化を示し
た。
実施例4 (6R、7R)−7−〔((トリメチルシリル)オキ
シ)カルボニル〕アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸トリメチルシリル ジクロロメタン中の(6R、7R)−7−〔((トリメ
チルシリル)オキシ)カルボニル〕アミノ−3−アセト
キシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチル
シリル(実施例2の方法Bにより調製;装入7−ACA
5.0g)のかくはん溶液にTMSI3.0ml(21.1ミリモ
ル、1.15当量)をゆっくりした流れで室温で乾燥窒素
シール下に加えた。反応の進行は1HNMR(アセター
ト領域)によりモニターした。合計65分後、暗色溶液
の部分標本の1HNMRスペクトルは所望の(6R、7
R)−7−〔((トリメチルシリル)オキシ)カルボニ
ル〕アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−エム−4−カ
ルボン酸トリメチルシリルへの95%以上の転化を示
す。
NMR(CD2Cl2)δ0.27(brs,9H-NHCOOSi(CH3)3),CH3COOSi(C
H3)3と重複,0.37(s,9H,-COOSi(CH3)3),3.57(d,1H,J=1
8.1Hz,-SCH2),3.80(d,1H,J=18.1Hz,-SCH2),4.34(d,1
H,J=9.2 Hz,-CH2I),4.51(d,1H,J=9.2 Hz,-CH2I),
5.00(d,1H,J=4.6Hz,-COCH(N)CH(N)SCH2-); 残りのスペクトルはプロトン性ジクロロメタンにより消
滅された。
実施例5 N−メチル−N−トリメチルシリルピロリジニオヨージ
ド オーブン乾燥したフラスコを加圧窒素気流下に室温に冷
却した。フラスコに乾燥フレオンTF(分子ふるい上で
乾燥)25mlおよびTMSI1.42ml(10.0ミリモ
ル、1.0当量)を装入した。生じた溶液を乾燥窒素シー
ル下に0〜5℃に冷却した。乾燥97%N−メチルピロ
リジン(分子ふるい上で乾燥)合計1.04ml(10.0ミ
リモル、1.0当量)を滴加し、生じたスラリーを0〜5
℃で窒素シール下に30分間かくはんした。この時間
後、スラリーをシユレンク漏斗を通して正窒素圧下に濾
過し、捕集固体を新乾燥フレオンTF(2×25ml)で
洗浄した。濾過ケークを正窒素流下に15分間部分乾燥
した。さらに室温で0.05mmHgで12時間乾燥すると
N−メチル−N−トリメチルシリルピロリジニオヨージ
ド2.51g(89%)が無色の非常に空気感受性固体と
して得られた:C8H20INSiは44.49%ヨージドを必要
とする;測定値44.40%ヨージド(ヨージドイオンク
ロマトグラフ分析)。
別の試験において、反応は一般に上記のように行なった
が、しかし、メタノール0.40ml(10.0ミリモル、1.
0当量)をフレオンTF中の塩のスラリーに0〜5℃で
滴加した。生じた不均一混合物を0〜5℃で窒素シール
下にさらに30分間かくはんした。スラリーを無水条件
下にシユクレンク漏斗に通して濾過した。濾過ケークを
新フレオンTF(2×25ml)で洗浄し、室温で3時間
0.05mmHgで乾燥した。分離した固体(1.93g、9
1%)はN−メチルピロリジニオヨウ化水素酸塩、融点
80〜82℃(未補正)として確認された この塩の基
準試料はN−メチルピロリジンのフレオンTF中の溶液
にヨウ化水素のガスを通すことにより別個に調製した。
分離された固体は融点83.5〜85.5℃(未補正)を有
した。この物質の360MHz1HNMRスペクトル(D2
O)はメタノールによる反応停止から分離された塩に対
して観察されたスペクトルに一致した。
メタノールによる反応停止からの濾液の360MHz1HN
MRスペクトルは主成分として、メトキシトリメチルシ
ランおよびヨウ化メチル(積分比17/1)並びに少量
のヘキサメチルジシロキサンを示した。
実施例6 (6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−
ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート.一塩酸塩 方法A (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−ヨードメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメ
チルシリルのフレオンTF中の溶液(実施例3の方法A
に従い調製;装入7−ACA50.0g)に0〜5℃で乾
燥窒素シール下に乾燥97%N−メチルピロリジン(N
MR,分子ふるい上で乾燥)19.0ml(183ミリモ
ル、1.0当量)を10℃未満の反応温度が維持される速
さで滴加した。添加が終った後生じたスラリーを0〜5
℃で15分間激しくかくはんした。この時間後、乾燥フ
レオンTFをさらに100ml加えてかくはんを容易にし
た。次にメタノール25ml(615ミリモル、3.35当
量)を10℃未満の反応温度が維持される速さで滴加し
た。スラリーをさらに15分間0〜5℃で激しくかくは
んした。反応混合物を濾過し、捕集した固体を新フレオ
ンTF(1×100ml)で洗浄し、次いで吸引下に15
分間部分乾燥した。さらに真空下に室温で16時間乾燥
すると粗生成物71.3g(>100%)が得られた。
この物質に水200mlを加えた。スラリーのpH(2.4
0)を濃HClの滴加により0.50に低下させた。脱色
炭合計10.0gを加え、スラリーを室温で15分間かく
はんした。脱色炭をセライトパッド(10.0g)に通す
濾過により除き、パッドを新鮮な脱イオン水(1×25
ml)で洗浄した。生成物をアセトン5容積の滴加により
水溶液から沈殿させた。スラリーを0〜5℃に冷却し、
この温度で30分間保持した。スラリーを真空濾過し、
冷(0〜5℃)5/1アセトン/水50mlおよびアセト
ン(2×50ml)で順次洗浄し、15分間吸引下に部分
乾燥した。その後真空で乾燥すると純白の結晶性(6
R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル)−1−ピ
ロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシラ
ート.一塩酸塩23.3g(39%)が得られた:HPL
Cで標準ロットに比較して96.3%と検定された: NMR(D2O,360MHz,D2O/H2Oサプレッション)δ2.14-2.32
(エンベロープ,4H,-N(CH3)CH2CH2-),3.00(s,3H,NC
H3),3.46-3.67(m,5H,-N(CH3)CH2CH2;SCH2),3.96(d,1H,J
=16.9Hz,-SCH2),4.09(d,1H,J=13.9Hz,=CCH2N-),4.73
(d,1H,J=13.9Hz,=CCH2N-),5.21(d,1H,J=5.1Hz,-COCH
CHS-),5.41(d,1H,J=5.1Hz,-COCHCHS-). 方法B オーブン乾燥フラスコを乾燥窒素気流下に室温に冷却し
た。フラスコにTMSI15.7ml(110ミリモル、1.
5当量)および乾燥フレオンTF(分子ふるい上で乾
燥)140mlを装入した。生じた溶液を0〜5℃に冷却
し、97%NMP10.7ml(103ミリモル、1.4当
量)を、10℃未満の反応温度が維持されるように滴加
した。添加後スラリーを0〜5℃で30分間窒素シール
下にかくはんした。この時間後、スラリーを室温に温め
た。
(6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリルを含む反応混合物(実施例1の方法Aに
従って調製;装入7−ACA20.0g)を套管によりN
MR/TMSスラリーに室温でできるだけ速やかに加え
た。生じた不均一混合物を室温で14日間かくはんし、
HPLCにより反応の進行を定期的にモニターした。7
−ACA面積%が全ピーク面積の2%未満になった時点
で、メタノール(6.0ml、147ミリモル、2.0当量)
を滴加し、かくはんをさらに30分間続けた。粗生成物
を濾過し、新フレオンTF(1×300ml)で洗浄し、
15分間吸引下に部分乾燥した。生成物をさらに真空で
16時間室温で乾燥した。
粗生成物を脱イオン水80ml中にスラリーにした。よく
かくはんしながら濃HClの滴加によりpHを0.5に低下
させた。脱色炭(粗生成物の20重量%)を加え、混合
物をさらに45分間かくはんした。スラリーをけいそう
土に通して真空濾過し、パッドを脱イオン水で洗浄し
た。イソプロピルアルコール(IPA、900ml)を、
水相に穏やかにかくはんしながら1時間にわたり滴加し
た。生じたスラリーを25℃で1時間かくはんし、0〜
5℃に冷却し、さらに1時間かくはんした。濾過し、冷
(0〜5℃)9/1IPA/水(1×200ml)および
アセトン(1×200ml)で洗浄し、真空で16時間2
5℃で乾燥すると結晶性(6R、7R)−7−アミノ−
3−(1−メチル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3
−エム−4−カルボキシラート.一塩酸塩15.5g(6
3%)が得られた。
方法C 方法Bの手順に加えて、イミダゾール(0.50g、7.3
ミリモル、0.10当量)をN−メチルピロリジン/ヨー
ドトリメチルシラン/フレオンTFスラリーに0〜5℃
で加えた。この変法は7−ACA濃度が10日後に全H
PLCピーク面積の2%未満に達したので反応速度の適
当の上昇を生じた。反応混合物を前記方法Bに記載した
ように処理すると結晶性(6R,7R)−7−アミノ−
3−(1−メチル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3
−エム−4−カルボキシラート.一塩酸塩14.7g(6
0%)が得られた。
方法D フレオンTF中の(6R、7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−(1−メチル−1−ピロリジニオ)
メチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルヨージド(実施例6の方法Aに従い調製;装入7−A
CA20.0g)に0〜5℃で乾燥窒素シール下にメタノ
ール10ml(246ミリモル、3.35当量)を5分間に
わたり滴加した(温度<9℃)。添加後生じたスラリー
を0〜5℃で15分間かくはんした。次に3N−HCl
(濃HCl250mlを脱イオン水756mlに添加するこ
とにより調製)50mlを10分間にわたって滴加した。
添加後冷却浴を除き、混合物を15分間かくはんした。
相を分離し、水相(100mlの容積にした)を脱色炭4.
0g(装入7−ACAの重量の20%)とともに室温で
30分間かくはんした。スラリーをけいそう土4.0gに
通して濾過し、パッドを脱イオン水(1×10ml)で洗
浄した。水溶液体積を100mlにした。
結晶化法1:濃厚水溶液50mlにアセトン250ml(5
容積)を滴加すると生成物が沈殿した。生じたスラリー
を氷水冷却下に1時間かくはんし、その時間後、それを
吸引下に濾過し、冷(0〜5℃)5/1アセトン/水
(2×40ml)およびアセトン(1×40ml)で洗浄
し、吸引下に15分間部分乾燥した。生成物をさらに室
温で15分間真空で乾燥すると無色の結晶性(6R,7
R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−ピロリジニ
オ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシラート.一
塩酸塩4.48g(装入7−ACA20gに対する50%
の理論収量を基にして37%)が得られた。
結晶化法2:濃厚水溶液50mlにイソプロピルアルコー
ル(IPA)150ml(3容積)を滴加して生成物を沈
殿させた。生じたスラリーを氷水冷却下に1時間かくは
んし、その時間後それを吸引下に濾過し、冷(0〜5
℃)9/1IPA/水(2×40ml)およびアセトン
(1×40ml)で洗浄し、吸引下に15分間部分乾燥し
た。生成物をさらに真空で15時間室温で乾燥すると多
少灰色の結晶性(6R、7R)−7−アミノ−3−(1
−メチル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−
4−カルボキシラート.一塩酸塩5.46g(装入7−A
CA20.0gに対する50%の理論収量を基にして45
%)が得られた。
方法E ジクロロメタン中の(6R、7R)−7−(トリメチル
シリル)アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−エム−4
−カルボン酸トリメチルシリルの溶液(実施例3の方法
Bに従い調製)に0〜5℃で乾燥窒素シール下に乾燥9
7%N−メチルピロリジン(分子ふるい上で乾燥)1.2
1ml(11.7ミリモル、1.0当量)を、温度が10℃未
満であるように滴加した。添加後、スラリーを0〜5℃
で15分間かくはんした。次にメタノール0.95ml(2
3.5ミリモル、2.0当量)を滴加し(<10℃)、0〜
5℃で15分間かくはんを続けた。固体を吸引濾過によ
り分離し、メタノール(1×50ml)、ジクロロメタン
(1×50ml)で洗浄し、真空で室温で乾燥すると粗
(6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−
ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート(ヨージド塩として)2.65g(76%)が淡褐
色固体として得られた。この物質の360MHz1HNMR
スペクトルでΔ2およびΔ3異性体のそれぞれ65/35
の比の混合物であると示された。
方法F ジクロロメタン中の(6R、7R)−7−〔((トリメ
チルシリル)オキシ)カルボニル〕アミノ−3−ヨード
メチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルの溶液(実施例4に従い調製;装入7−ACA10.0
g)に乾燥窒素シール下に0〜5℃で乾燥97%N−メ
チルピロリジン(分子ふるい上で乾燥)3.7ml(35.7
ミリモル、1.0当量)を、温度が10℃未満に保持され
るように滴加した。添加後暗色溶液を0〜5℃でさらに
15分間かくはんした。この時間後にメタノール2.9ml
(71.4ミリモル、2.0当量)を滴加し(CO2の発生が
認められた)、生じたスラリーを5分間かくはんした。
新ジクロロメタン合計50mlを加え、反応混合物を吸引
下に濾過した。濾過ケークをジクロロメタン(3×50
ml)で洗浄し、20分間吸引下に部分乾燥した。さらに
室温で17時間真空で乾燥すると6/1Δ2/Δ3混合物
(HPLC面積%比)の(6R、7R)7−アミノ−3
−(1−メチル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸トリメチルシリル12.61g(8
3%、ヨウ化水素酸塩として)が得られた。
実施例7 (6R,7R)−7−アミノ−3−〔(1H−メチルテ
トラゾール−5−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸 方法A フレオンTF中の(6R,7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−エム−4−
カルボン酸トリメチルシリル(実施例3の方法Aにより
調製;装入7−ACA2.50g)のかくはん溶液に0〜
5℃で乾燥窒素シール下に1H−1−メチル−5−メル
カプトテトラゾール1.07g(9.2ミリモル、1.0当
量)および乾燥ピリジン(KOH上で乾燥)0.74ml
(9.2ミリモル、1.0当量)の乾燥ジクロロメタン(分
子ふるいから)20ml中の溶液を10分間にわたって滴
加した。添加後生じた混合物をさらに0〜5℃で30分
間かくはんした。この時間後、メタノール1.5ml(37
ミリモル、4.0当量)を10分間にわたって滴加し、0
〜5℃でさらに10分間かくはんを続けた。固体を吸引
濾過により捕集し、新フレオンTF(2×10ml)で洗
浄し、真空で恒量に乾燥すると粗生成物3.4g(>10
0%)が得られた。
この物質を水10ml中にスラリーになし、0〜5℃に冷
却し、4N−HCl溶液の滴加によりpHを0.50に低下
させた。生じた曇りのある溶液に脱色炭0.50gを加え
てかくはんを15分間続けた。スラリーをけいそう土に
通して濾過し、パッドを水(1×5ml)で洗浄した。濾
液を0〜5℃に冷却し、6N−NaOH溶液の滴加によりpH
を4.0に上げた。生じたスラリーを0〜5℃で1時間か
くはんした。固体を吸引濾過により捕集し、冷(0〜5
℃)水(2×5ml)で洗浄し、真空で恒量に乾燥すると
7−アミノ−3−〔(1H−1−メチルテトラゾール−
5−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−4−カルボン
酸1.3g(43%)が得られた。この物質の360MHz1
HNMRスペクトルおよびHPLCクロマトグラムは別
個に製造した基準試料のそれに一致した。
方法B ジクロロメタン中の(6R、7R)−7−〔((トリメ
チルシリル)オキシ)カルボニル〕アミノ−3−ヨード
メチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルのかくはん溶液(実施例4に従い調製;装入7−AC
A5.0g)に0〜5℃で乾燥窒素シール下に、ジクロロ
メタン20ml中の1H−1−メチル−5−メルカプトテ
トラゾール2.13g(18.4ミリモル、1.0当量)およ
び乾燥ピリジン(KOH上で乾燥)1.49ml)18.4ミ
リモル、1.0当量)からなる懸濁液を5分間にわたって
滴加した。
添加後混合物を0〜5℃にさらに90分間かくはんし
た。この時間後、メタノール2.50ml(61.5ミリモ
ル、3.35当量)を2分間にわたって滴加した。(CO
2の発生が認められた)。生じたスラリーを0〜5℃で
さらに15分間かくはんし、その時間後、吸引下に濾過
した。捕集した固体を新ジクロロメタン(2×20ml)
で洗浄し、室温で23時間真空で乾燥すると粗生成物8.
58g(>100%)が得られた。
この物質を脱イオン水40ml中にスラリーになし、4N
−HCl溶液の添加によりpHを0.50に低下させた。脱
色炭(0.86g、粗物質の10重量%)を加え、生じた
スラリーを室温で15分間かくはんした。脱色炭をけい
そう土(2.0g)に通す濾過により除き、パッドを水
(1×5ml)で洗浄した。濾液を0〜5℃に冷却し、6
N−NaOH溶液の滴加により水溶液のpHを4.0に上げ
た。生じたスラリーを0〜5℃で90分間かくはんした
後固体を濾過し、冷(0〜5℃)水(1×10ml)で洗
浄し、室温で真空で66時間乾燥した。(6R、7R)
−7−アミノ−3〔(1H−1−メチルテトラゾール−
5−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−4−カルボン
酸合計3.81g(63%)が灰色固体として分離され
た。360MHzHNMRおよび1Rスペクトル、並び
にHPLCクロマトグラム(標準ロットに比較し86.0
%活性)は別個に製造したこの物質の基準試料のそれに
一致した。
実施例8 (6R、7R)−7−アミノ−3−〔(5−メチル−
1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チオ〕メチル
セフ−3−エム−4−カルボン酸 方法A 2−メルカプト−5−メチル−1,3,4−チアジアゾ
ール1.22g(9.2ミリモル、1.0当量)および乾燥ピ
リジン(KOH上で乾燥)0.74ml(9.2ミリモル、1.0
当量)の乾燥ジクロロメタン(分子ふるい上で乾燥)2
0ml中のスラリーに0〜5℃で乾燥窒素シール下に(6
R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3−ヨ
ードメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチル
シリル(実施例3の方法Aに従って調製、装入7−AC
A2.50g)のフレオンTF中の溶液をよくかくはんし
ながら10分間にわたって加えた。添加後生じた混合物
を0〜5℃で90分間かくはんした。次にメタノール1.
5ml(37.0ミリモル、4.0当量)を滴加し、生じたス
ラリーを0〜5℃でさらに10分間かくはんした。固体
を吸引濾過により捕集し、新フレオンTF(2×10m
l)で洗浄し、真空で恒量に乾燥すると粗生成物4.0g
(>100%)が得られた。
この物質を水10ml中に懸濁させ、0〜5℃に冷却し
た。濃HClの滴加によりpHを0.30に低下させた。生
じた曇りのある溶液に脱色炭0.40(粗物質の10重量
%)を加え、0〜5℃で15分間かくはんを除けた。濾
過により脱色炭を除き、透明黄色濾液のpHを0〜5℃で
6N−NaOH溶液の滴加により3.0に上げた。生じた
スラリーを0〜5℃で30分間かくはんした。固体を吸
引濾過し、次いで冷(0〜5℃)水(2×5ml)で洗浄
し、真空で恒量に乾燥すると(6R、7R)−7−アミ
ノ−3−〔(5−メチル−1,3,4−チアジアゾール
−2−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸1.6g(50%)が得られた。この物質の360M
Hz1HNMRスペクトルおよびHPLCクロマトグラ
ムは別個に製造した基準試料のそれに一致した。
方法B ジクロロメタン中の(6R、7R)−7−〔((トリメ
チルシリル)オキシ)カルボニル〕アミノ−3−ヨード
メチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシリ
ルのかくはん溶液(実施例4に従い調製;装入7−AC
A5.0g)に0〜5℃で乾燥窒素シール下に、乾燥ジク
ロロメタン(分子ふるい上で乾燥)20ml中の2−メル
カプト−5−メチル−1,3,4−チアジアゾール2.4
3g(18.4ミリモル、1.0当量)および乾燥ピリジン
(KOH上で乾燥)1.49ml(18.4ミリモル、1.0当
量)からなる懸濁液を5分間にわたって加えた。0〜5
℃でさらに3.5時間かくはんした後、メタノールを合計
2.5ml(61.5ミリモル、3.35当量)加え(CO
発生が認められた)、0〜5℃でさらに15分間かくは
んを続けた。固体を吸引濾過により捕集し、新ジクロロ
メタン(2×20ml)で洗浄し、真空で室温で19時間
乾燥すると粗生成物9.30g(>100%)が得られ
た。この粗物質を実施例7の方法Bの粗物質について前
に記載したように処理すると(6R、7R)−7−アミ
ノ−3−〔(5−メチル−1,3,4−チアジアゾール
−2−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−4−カルボ
ン酸3.81g(60%)が得られた。360MHz
NMRおよびIRスペクトル並びにHPLCクロマトグ
ラム(標準ロットに比較し80.8%活性)は別個に製造
したこの物質の基準試料のそれに一致した。
実施例9 (6R、7R)−7−アミノ−3−〔(1H−1,2,
3−トリアゾール−4−イル)チオ〕メチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸 方法A この物質は厳密に実施例8の方法Aに記載したように製
造したが、しかし、(a)1H−4−メルカプト−1,
2,3−トリアゾール・ーナトリウム塩1.13g(9.2
ミリモル、1.0当量)を2−メルカプト−5−メチル−
1,3,4−チアジアゾールの代りに用い、(b)ジクロ
ロメタン中のトリアゾールおよびピリジンのスラリーを
フレオンTF中の(6R、7R)−7−(トリメチルシ
リル)−アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−エム−4
−カルボン酸トリメチルシリルの溶液に加えた。得られ
た粗生成物(3.5g、>100%)を、前に実施例7の
方法Aに記載したように精製すると(6R、7R)−7
−アミノ−3−〔(1H−1,2,3−トリアゾール−
4−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−4−カルボン
酸1.4g(49%)が得られた。360MHzHNM
RスペクトルおよびHPLCクロマトグラムは別個に製
造した基準試料のそれに一致した。
方法B この物質を厳密に実施例7の方法Bに記載したように製
造したが、しかし−4−メルカプト−1,2,3−トリ
アゾール・一ナトリウム塩2.26g(18.4ミリモル、
1.0当量)を1H−5−メルカプト−1−メチルテトラ
ゾールの代りに用いた。得られた粗生成物(8.40g、
>100%)を、前に実施例7の方法Bに記載したよう
に精製すると(6R、7R)−7−アミノ−3−〔(1
H−1,2,3−トリアゾール−4−イル)チオ〕メチ
ルセフ−3−エム−4−カルボン酸3.25g(56%)
が得られた。360MHzHNMRおよびIRスペク
トル、並びにHPLCクロマトグラム(標準ロットに比
し79.0%活性)は別個に製造した基準試料のそれに一
致した。
実施例10 (6R、7R)−7−アミノ−3−〔(1H−1−カル
ボキシメチルテトラゾール−5−イル)チオ〕メチルセ
フ−3−エム−4−カルボン酸 方法A この物質は厳密に前に実施例8の方法Aに記載したよう
に製造したが、しかし1H−1−カルボキシメチル−5
−メルカプトテトラゾール2.47g(9.2ミリモル、1.
0当量)を2−メルカプト−5−メチル−1,3,4−
チアジアゾールの代りに用いた。得られた粗生成物(4.
6g、>100%)の試料(3.25g)を、前に実施例
8の方法Aに記載したように精製すると(6R、7R)
−7−アミノ−3−〔(1H−1−カルボキシメチルテ
トラゾール−5−イル)チオ〕メチルセフ−3−エン−
4−カルボン酸0.90g(37%)が得られた。360
MHzHNMRスペクトルおよびHPLCクロマトグ
ラムは別個に製造したこの物質の基準試料のそれと一致
した。
方法B この物質は厳密に実施例7の方法Bに記載したように製
造したが、しかし(a)1H−1−カルボキシメチル−5
−メルカプトテトラゾール2.94g(18.4ミリモル、
1.0当量)を1H−1−メチル−5−メルカプトテトラ
ゾールの代りに用い、また(b)反応混合物をメタノール
2.5ml(61.5ミリモル、3.35当量)で反応を停止さ
せる前に0〜5℃で4.5時間かくはんした。得られた粗
生成物(11.03g、>100%)を、前に実施例7の
方法Bに記載したように精製すると(6R、7R)−7
−アミノ−3−〔(1H−1−カルボキシメチルテトラ
ゾール−5−イル)チオ〕メチルセフ−3−エム−4−
カルボン酸3.69g(54%)が得られた。360MH
HNMRおよびIRスペクトル、並びにHPLCク
ロマトグラム(79.6面積%純度;照合標準は入手でき
なかった)は別個に製造したこの物質の基準試料のそれ
に一致した。
実施例11 (6R、7R)−7−アミノ−3−(ピリジニオ)メチ
ルセフ−3−エム−4−カルボン酸・二塩酸塩 方法A (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−ヨードメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメ
チルシリルのフレオンTF中のかくはん溶液(実施例3
の方法Aに従い調製;装入7−ACA2.50g)に0〜
5℃で乾燥窒素シール下に乾燥ピリジン(KOH上で乾
燥)1.6ml(20.0ミリモル、2.2当量)の乾燥フレオ
ンTF(分子ふるい上で乾燥)5ml中の溶液を10分間
にわたって滴加した。添加後反応混合物をさらに15分
間かくはんした。この時間後、メタノール1.5ml(37.
0ミリモル、4.0当量)を滴加し、スラリーを0〜5℃
で15分間かくはんした。固体を吸引濾過により捕集
し、新フレオンTFで洗浄し、真空で恒量に乾燥すると
粗生成物3.0gが得られた。この粗物質中の所望の(6
R、7R)−7−アミノ−3−(ピリジニオ)メチルセ
フ−3−エム−4−カルボキシラート(ヨウ化水素酸塩
として)の存在は360MHzHNMRスペクトルお
よびHPLCクロマトグラム(34面積%純度)を別個に製
造したこの物質の基準試料のそれと比較することにより
確認された:またスミス(Smith、G.C.D.)、EP70
706号、1983年1月26日;21頁参照。
方法B (6R、7R)−7−〔((トリメチルシリル)オキ
シ)カルボニル〕アミノ−3−ヨードメチルセフ−3−
エム−4−カルボン酸トリメチルシリルのジクロロメタ
ン中のかくはん溶液(実施例4に従い調製;装入7−A
CA5.0g)に0〜5℃で乾燥窒素シール下に乾燥ピリ
ジン(KOH上で乾燥)3.0ml(37.0ミリモル、2.0
当量)の乾燥ジクロロメタン(分子ふるい上で乾燥)2
0ml中の溶液を5分間にわたって滴加した。生じた溶液
を0〜5℃でさらに90分間かくはんし、その時間後、
メタノール2.5ml(61.5ミリモル、3.35当量)を、
温度が10℃未満に保持されるように5分間滴加した
(COの発生が認められた)。混合物を0〜5℃でさ
らに15分間かくはんした。固体を吸引下に濾過し、新
ジクロロメタン(2×20ml)で洗浄し、吸引下に15
分間部分乾燥した。固体をさらに室温で真空で17時間
乾燥すると粗生成物7.41g(96%、ヨージド塩とし
て)が得られた。
この物質を脱イオン水25ml中にスラリーになし、濃H
Cl溶液の滴加によりpHを0.50に低下させた。脱色炭
合計0.72gを加え、生じたスラリーを室温で25分間
かくはんした。この時間後、脱色炭をけいそう土(1.0
g)に通す濾過により除き、パッドを水(1×5ml)で
洗浄した。生じた透明濾液にイソプロピルアルコール1
20ml(4容積)を、同時に0〜5℃に冷却しながら滴
加した。さらにイソプロピルアルコール180ml(合計
10容積)を、滴加し、生じたスラリーを0〜5℃で1
時間かくはんした。固体を吸引濾過により捕集し、イソ
プロピルアルコール(2×20ml)およびアセトン(1
×20ml)で洗浄し、吸引下に15分間部分乾燥した。
さらに室温で真空で16時間乾燥すると(6R、7R)
−7−アミノ−3−(ピリジニオ)メチルセフ−3−エ
ム−4−カルボキシラート・二塩酸塩3.00g(45
%)が得られた。360MHzHNMRスペクトルお
よびHPLCクロマトグラム(88面積%純度)は別個
に製造したこの物質の基準試料のそれに一致した;また
スミス(Smith、G.C.D.)、EP70706号、198
3年1月26日;21頁参照。
実施例12 フレオンTF中の(6R、7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−アセトキシメチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸トリメチルシリルとブロモトリメチルシ
ラン、N−メチルピロリジンおよびHCl水溶液との逐
次反応による((6R、7R)−7−アミノ−3−(1
−メチル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−
4−カルボキシラート・一塩酸塩の試行製造 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリル(実施例1の方法Aに従い調製;装入7
−ACA10.0g)のフレオンTF中のかくはんした多
少曇りのある反応混合物に室温で乾燥窒素シール下に9
8%ブロモトリメチルシラン〔アルドリッチ(Aldric
h)製〕4.5ml(42.2ミリモル、1.15当量)をゆっ
くりした流れで1分間にわたって加えた。反応の進行は
HNMR分光法によりモニターした。室温で90分間
かくはんした後微量の反応生成物(3−ブロモメチルセ
ファロスポリンおよび酢酸トリメチルシリル)が検出さ
れたにすぎない。窒素シール下に反応を穏やかに加熱還
流し、反応の進行を再びHNMR分光法によりモニタ
ーした。10日後に反応混合物中の主物質は出発物質で
あった。360MHzNMR分光法による反応混合物
の分析により、最良でも単に15%(積分面積)の所望
の(6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−
3−ブロモメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリ
メチルシリルへの転化が認められた。
実施例13 フレオンTF中の(6R、7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−アセトキシメチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸トリメチルシリルとクロロトリメチルシ
ラン、N−メチルピロリジンおよびHCl水溶液との逐次
反応による(6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メ
チル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−
カルボキシラート・一塩酸塩の試行製造 この実施例に対する手順は実施例12に記載されたとお
りであったが、しかしクロロトリメチルシラン5.4ml
(42.2ミリモル、1.15当量)をブロモトリメチルシ
ランの代りに用いた。反応物を窒素シール下に10日間
加熱還流した後、360MHzHNMR分光法による混
合物の分析で主にクロロトリメチルシランおよび(6
R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3−ア
セトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメ
チルシリルが示された。最良でも単に5%(積分面積)
の(6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−
3−クロロメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリ
メチルシリルへの転化が認められた。
実施例14 「ワンポット」反応計画による(6R、7R)−7−ア
ミノ−3−(1−メチル−1−ピロリジニオ)メチルセ
フ−3−エム−カルボキシラート・一塩酸塩またはヨウ
化水素酸塩 以下は同一の反応物量および温度などを用いた試験およ
び若干の反復反応から得られた観察の要約である。
手順 1.7−ACA(50.0g、0.184モル)を窒素雰囲気
下にCCl2FCClF2(フレオンTF)(350ml)中へ加え
た(注1)。
2.HMDS(46.5ml、0.22モル、1.2当量)をこの
かくはん懸液に一度に加えた。
3.TMSI(0.78ml、6.0ミリモル、0.03当量)を
シリンジにより一度に加えた(注2)。
4. 生じた混合物を7〜10時間加熱還流した(注3、
4)。反応はNMRによりモニターした(注5)。
5.シリル化混合物を室温に冷却し、さらにフレオンTF
(150ml)で希釈し、窒素シール下に5℃に冷却した。
6.よくかくはんしながらN−メチルピロリジン(26.8
3ml、0.25モル、1.4当量)を、反応温度を10℃未
満に維持しながら10分間にわたって加えた(注6)。
7.段階6からのよくかくはんした混合物に5℃で、TM
SI(47.1ml、0.33ミリモル、1.8当量)をシリン
ジにより10〜15分間にわたってゆっくりした速度で
加えた。小発熱温度上昇がTMSI添加中に認められ
た。反応スラリー5℃で30分間乾燥窒素シール下にか
くはんした。
8.生じスラリーを注意深く加熱し、35〜36℃で45
〜55時間かくはんした。置換反応の経過はHPLCに
よりモニターした(注7)。
9.反応混合物の容積およびかくはん速度はともに定期的
に調べた。さらに100mlのフレオンTFを必要に応じ
て加えた(注8)。
10.反応が終ると(7−ACAはHPLCにより2面積
%未満)、スラリーを窒素保護下に5℃に冷却し、メタ
ノール(25ml、0.615モル)を5℃で8分間にわた
って滴加した(注9)。
11.メタノールの添加後、スラリーは著しく薄くなり、
さらに15分間5〜10℃でかくはんした。
12.次いで冷却浴を除き、125mlの3N−HCl(濃HCl
溶液250mlを水756mlに加えることにより調製)を
よくかくはんしながら2分間にわたって加えた。反応温
度は12〜15℃に上昇した。
13.加水分解混合物をできるだけ速やかに(25℃を越
えることなく)20〜25℃に加熱し、さらに15分間
20〜25℃でかくはんした。
14.相を分離し、有機相(底相)を水(1×50ml)で
逆抽出した。この水相は濃水溶液のポリッシュ濾過中に
洗液として用いた。
15.段階14からの濃水相にけいそう土(2.5)を加
え、それをプリコートけいそう土フィルター(7.5g)
に通して濾過した。けいそう土ケークを段階14(逆抽
出)からの水溶液、次いて脱イオンH2O25mlで洗浄し
た。
16.富水溶液および洗液を合わせ(容積約270ml、赤
褐色)を30分間脱色炭(10g)とともに21〜23
℃で30分間かくはんした。けいそう土(2.5g)を混
合物に加え、5分間かくはんを続けた。
17.プリコートけいそう土フィルター(7.5g)に通す
濾過により脱色炭を除去した。脱色炭ケークを水(1×
75ml)で洗浄し、さらに5分間吸引下に乾燥した)。
18.必要であれば濃水溶液中の底部に認められるフレオ
ンTFを水相から分離した。
19.透明橙色水溶液(容積約350ml;pH0.9〜1.1
5)に曇り点までイソプロピルアルコールを滴加した
(注10)。
20.イソプロピルアルコールの添加を中止し、21〜2
3℃で15分間結晶化を進行させた。
21.この時間後、さらにイソプロピルアルコールを45
〜60分間にわたってスラリーに加え(イソプロピルア
ルコール合計1.2が添加された)、次いでスラリーを
0〜5℃で60分間かくはんし冷却した。
22.生成物を濾過により捕集し、ケークを冷(0〜5
℃)9/1イソプロピルアルコール/水(2×100m
l、注11)およびアセトン(1×100ml)で洗浄し
た。生成物(注12)をさらに15分間吸引下に乾燥し
た。次いで生成物を真空で恒量に乾燥すると表題の生成
物(化合物I)の粗HCl/HI塩混合物46〜51g(7
5〜83%)が多少灰色ないし白色の結晶性固体として
得られた。活性収率は60〜63.4%であった。
23.生成物純度はNMR分析に基いて95%以上であっ
た。HPLC力価はΔ形態の化合物I・HClの分析試料に
対し750〜800mcg/mgであった。面積%純度は9
5%以上であった。
注1 7−ACAは非常に飛散性の固体である。それは
フードまたは他の適当な換気装置を有する領域中で計量
すべきである。粉塵マスクおよび使い捨て外衣を7−A
CA粉塵からの保護として着用すべきである。
注2TMSIの全操作はできるだけ無水条件下に行なう
べきである。
注3反応時間は変動できると証明され、おそらくTMS
I(またはその反応性等価物)触媒の存在に依存する。
反応が鈍いと思われれば、TMSIを追加すると反応が
早 注4反応の主駆動力が生ずるアンモニアの除去であるの
で激しい還流を維持することが重要である。
注5反応混合物から試料をとるときに無水条件を維持す
ることが重要である。これはこの系列中の全反応に真実
であると思われる。
注6NMPの添加中10℃を越える温度の上昇は1/2
6の望ましくないΔ異性体の増大量を生ずる。
注7試料はHPLCにより4〜6時間毎に分析すべきで
ある。反応温度、時間および濃度、並びにTMSIの当
量数および媒質塩基性度はこの反応に臨界的である。
注8スラリーは非常に濃厚になり、CCl2FCClF2の若干の
希釈がかくはんの促進に必要であろう。
注9CH3OHの添加前にスラリーは濃厚で、物質のかなり
の量が反応容器の側面に粘着し、CH3OHとの完全な混合
を困難にする。良好で完全な混合が反応容器全体に生ず
ることを視覚観察により確認すべきである。
注10これは通常0.5〜1.0容積のイソプロパノールを必
要とする。
注11この洗液はイソプロパノール90mlと水10mlとを
混合し、氷水浴中で0〜5℃に冷却することにより調製
した。
注12別の試験において、段階11からのスラリーを3N
−HCl125mlの代りに(段階12として)3N−HI1
25mlで処理することにより生成物を純HI塩として分離
した。記載したように(段階13〜24参照)水相を処
理すると白色の結晶性HI塩44.3が得られた。補正済H
PLC力価は分析標準HCl塩を対象として105%であ
った。7−ACAからの活性収率は56.7%であった。
実施例15 (6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−
ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート・一塩酸塩(化合物I・HCl)の再結晶 手順 1.粗化合物I・HCl(15.0g、0.045モル)を1N
−HCl(125ml、3.5モル、3.50当量)によくかく
はんしながら一度に加えた。
2.生じた混合物を室温で5分間かくはんした。
3.続けてよくかくはんしながら脱色炭合計8.0gを一度
に加えた。スラリーをさらに45分間かくはんした。
4.脱色炭スラリーをけいそう土のパッド(8.0g)に通
して吸引濾過した。パッドを水(1×35ml)で洗浄
し、吸引下に5分間乾燥した。
5.多少曇りのある濾液をμmミリポアフィルターに通し
てポリッシュ濾過するときらきらした透明な無色の水性
濾液が得られた(容積=170ml)。
6.よくかくはんしながらイソプロピルアルコール(12
5ml)を25分間にわたって曇り点まで滴加した。この
時点でイソプロパノールの添加を中止した。スラリーを
室温で15分間かくはんするとその時間中に良好な種晶
床が達成された。
7.さらによくかくはんしながらイソプロピルアルコール
(475ml、注3)を25分間にわたって滴加した。
8.生じたスラリーを氷水浴冷却して1時間かくはんし
た。
9.スラリーを濾過し、冷(0〜5℃)9/1イソプロパ
ノール/水(2×120ml、注4)およびアセトン(1
×120ml)で順次洗浄した。
10.濾過ケークを吸引下に15分間部分乾燥した。さら
に真空(スチームインゼクター吸引)で40℃で15時
間乾燥すると純白静電性の結晶性I・HCl(注5)7.8
7g(52%)が得られた。
注1. 装入化合物I・HClのモル数は100%純度基準
である。
注2.1N塩酸溶液は濃塩酸83mlを蒸留水920mlに加
えることにより調製した。
注3.結晶化に用いたイソプロピルアルコールの全容積は
600mlであり、それは段階5からのポリッシュした水
性濾液の容積の3.5倍であった。
注4.イソプロパノール108mlおよび蒸留水12mlから
なるイソプロパノール/水洗液は氷浴中で0〜5℃に冷
却した。
注5.再結晶した化合物I・HClに対応する分析データは
次に示される: この物質はHPLC標準ロットの化合物I・HClに比較
して99.5%力価に検定された。クレット(Klett)数
は3であった(メスフラスコ中で100.0mg試料をミリ
−キュウ(Milli-Q)水で10mlに希釈し、ミレックス
(Milex)HPLC試料調整フィルターに通して濾過し
た;青色光;行路長約1.2cm)。
一般に、最終混合物に対するHClの添加により形成され
た「粗」化合物I・HClは若干の化合物I・HI(前駆物
質中間体II中に存在するヨージドから形成された)を含
む。従って、それは高い抗菌純度を有するけれども、通
常上記のように再結晶して化合物I・HIを除去しなけれ
ばならない。
一方、最終反応混合物に対するHIの添加により形成され
た初期結晶化化合物I・HIは化合物I・HClを含まな
い。従って化合物I・HIは通常高純度であり、再結晶す
る必要がない。
実施例16 化合物I(X=HCl)の化合物VIIIへの転化 化合物I(X=HCl)の試料(21.72g、0.0612
モル)を水(190ml)に25℃でかくはんしながら溶
解した。次いで混合物を8〜10℃に冷却し、水酸化ナ
トリウム溶液(2N、30.5ml、0.061モル、1.0当
量)の滴加によりpHを2.5から5.8(範囲5.7〜5.9)
に調整した。全容積214mlであった。
次いでテトラヒドロフラン(THF、555ml)を3部
分で加えた。各添加後の混合物の温度は12〜13℃に
上昇し、次の部分の添加前に8〜10℃に戻らせた。全
添加時間は10分であった。混合物のpHは5.8〜6.1で
あった。
次いで水酸化ナトリウム溶液(2N、2.0ml、0.004
モル)の滴加により混合物のpHを6.8(範囲6.7〜6.
9)に調整した。
(Z)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−メトキシイミノ酢酸1−ベンゾトリアゾール活性エス
テル(29.5g、0.0927モル)の試料を5等部分で
45分間にわたって反応混合物に加えた。活性エステル
の第1部分を加えた後冷却浴を除いた。反応混合物のpH
は、活性エステルの各添加後に5〜10分間水酸化ナト
リウム溶液(2N)の滴加により6.5(範囲6.5〜6.
7)に再調整した。
透明な淡橙色反応混合物を2〜3時間25℃でかくはん
した。初めの30分間中2N水酸化ナトリウム溶液の滴
加により5〜10分毎にpHを6.5(範囲6.5〜6.7)に
再調整した。残りの反応時間中、15分毎にpHを6.5に
再調整した(全2N−NaOH:29.5ml、0.059モル、
0.97当量)。反応の終了はHPLC分析により判断した。
次いで反応混合物中に存在する固体を濾過により除去
し、水(2×5ml)で洗浄した。濾液をメチルイソブチ
ルケトン(MIBK、790ml)で抽出し、水層を分離
した。有機相を水(64ml)で洗浄し、水相を合わせて
ダイカライト(Dicalite)(5.1g)とともに
10分間かくはんした。固体を吸引濾過により除き、水
(2×5ml)で洗浄した。
生じた透明橙色溶液(容積314ml)をよくかくはんし
ながら硫酸(4N、14.5ml)の滴加によりpH3.7(範
囲3.5〜4.0)に酸性化した。この時点で混合物は曇っ
た状態になり、化合物(VIII)の硫酸付加塩の結晶化が
始まった。
結晶化を10〜15分間進行させ、次いで硫酸(4N、
7.5ml)の滴加によりpHを3.0(範囲2.9〜3.1)に調
整した。混合物を0〜5℃に冷却し、残りの硫酸(4
N、63.5ml)を20〜30分間にわたって加えた(生
ずるpH:1.3〜1.5)。硫酸の添加が終った後、スラリ
ーを0〜5℃で1時間かくはんした。
白色結晶生成物を吸引濾過により除いて硫酸(0.5N、
63.5ml)で洗浄した。固体を吸引下に15分間部分乾
燥し、次いでアセトン(2×100ml)で洗浄した。固
体を再び吸引下に10分間部分乾燥し、次いで1時間よ
くかくはんしながらアセトン(400ml)中でスラリー
状にした。固体を吸引濾過により除き、アセトン(2×
100ml)で洗浄し、真空(10〜15mmHg)で35〜
40℃で恒量に乾燥した(3〜6時間)。
生成物、化合物(VIII)の硫酸付加塩が多少静電性の白
色結晶性固体として回収された(28.79g、81.4
%)。
実施例17 化合物I(X=HI)の化合物VIIIへの転化 実施例16の一般手順を、しかし化合物I(X=HCl)
出発物質を化合物I(X=HI)当モル量により置換して
繰返すと、それにより表題の化合物が生成される。
発明の一層の詳細な説明 実施例18 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリル オーブン乾燥フラスコおよびフリードリッヒ冷却器を乾
燥窒素の流れ下に室温に冷却した。次いでフラスコに7
−ACA(97.2%純度)10.0g(36.7ミリモル)お
よび乾燥1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
(フレオンTF、分子ふるい上で乾燥)を装入した。生
じたスラリーによくかくはんしながら湿気を防いで98
%1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン
(HMDS)9.3ml(44.1ミリモル、1.2当量)およ
びヨードトリメチルシラン(TMSI)0.16ml(1.1
ミリモル、0.03当量)をシリンジにより加えた。装置
に軽く窒素を流しながら7〜10時間激しく加熱還流し
た。次いで反応物を乾燥窒素シール下に室温に冷却し、
新フレオンTF30mlで希釈した。多少曇りのある反応
混合物の部分標本のHNMRスペクトルは実施例1の
生成物に一致する所望生成物への95%以上の転化を示
し、HNMRデータは実施例1、方法Aに示したもの
と同様である。
実施例19 (6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−
ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート・一ヨウ化水素酸塩 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリルのフレオンTF中の多少曇りのある溶液
(実施例18によって調製)に0〜5℃で乾燥窒素シー
ル下に乾燥97%N−メチルピロリジン(分子ふるい上
で乾燥)5.35ml(51.4ミリモル、1.4当量)をよく
かくはんしながら1〜2分間にわたって滴加した。次に
続けてよくかくはんしながらTMSI9.40ml(66.1
ミリモル、1.8当量)をシリンジにより約5分間にわた
って加えた。添加中反応温度を10℃未満に保った。生
じたスラリーをさらに30分間0〜5℃でかくはんし
た。この時間後、スラリーを35〜36℃に注意深く維
持した油浴中に置いた。反応の進行はHPLCによりモニタ
ーした。45〜48時間後に反応を終え(7−ACA2面
積%未満)、それを乾燥窒素シール下に0〜5℃に冷却
した。よくかくはんしながらメタノール合計5.0ml(1
23ミリモル、3.35当量)を滴加した。添加中反応温
度を10℃未満に維持した。生じたスラリーを0〜5℃
でさらに15分間かくはんした。次に3N−HI水溶液2
5ml(75ミリモル、2.0当量)を一度に加えた。添加
後冷却浴を除き、2相混合物を速やかに20〜25℃に
温めた。激しいかくはんを15分間続けた。相を分離
し、有機相を水(1×10ml)逆抽出した。この逆洗液
は後で使用するために貯えた。
主水相をけいそう土0.5gとともに20〜25℃で10
分間かくはんした。スラリーをけいそう土(水50mlで
前洗浄した)1.5gに通して濾過した。パッドを上記の
水性逆洗液で、次に水(1×5ml)で洗浄した。ケーク
を吸引下に5分間部分乾燥した。脱色炭合計2.0gを加
え、スラリーを20〜25℃で30分間かくはんした。
その時間後にけいそう土0.5gを加えてさらに5分間か
くはんを続けた。スラリーをけいそう土(水50mlで前
洗浄した)1.5gに通して濾過し、パッドを水(1×5
ml)で洗浄した。けいそう土パッドを吸引下に5分間部
分乾燥した。濾液を5μmミリポアフィルターに通して
ポリッシュ濾過した。
透明こはく色水相に20〜25℃でイソプロパノール3.
5容積を滴加することにより生成物を沈殿させた。生じ
たスラリーを0〜5℃に冷却して1時間放置した。スラ
リーを濾過し、冷(0〜5℃)イソプロパノール/水
(4/1;V/V)(2×20ml)およびアセトン(2
×20ml)で洗浄した。ケークを吸引下に5分間部分乾
燥した。さらに真空で20〜25℃で恒量に乾燥すると
白色の結晶性(6R、7R)−7−アミノ−3−(1−
メチル−1−ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4
−カルボキシラート・一ヨウ化水素酸塩8.94g(57
%)が得られた。HPLCでこの塩が97面積%純度である
ことが示され、一ヨウ化水素酸塩としての表題化合物に
対して認められた360MHzHNMRスペクトルは実
施例6、方法Aにおける同じ生成物のHCl塩に対して示
した1HNMRデータと同様である。
実施例20 (6R、7R)−7−アミノ−3−(4−メチル−4−
モルホリニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート・一ヨウ化水素酸塩 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリル(装入7−ACA50.0gから)のフレ
オンTF溶液から実施例19に記載したように、しかし
N−メチルピロリジンの代りに乾燥N−メチルモルホリ
ン(分子ふるい上で乾燥)28.3ml(257ミリモル、
1.4当量)を用いて表題の化合物を製造した。反応の進
行はHPLCによりモニターして35〜36℃で7〜8
時間後に終ったと認められた。反応物を実施例19に記
載したように(物質の量はバッチサイズを大きくしたの
で5×に増加)処理し、多少灰色の結晶性(6R、7
R)−7−アミノ−3−(4−メチルモルホリニオ)メ
チルセフ−3−エム−4−カルボキシラート・一ヨウ化
水素酸塩36.0g(41%)が得られた。HPLC面積%純
度は95%以上であった;1 HNMR(360MHz,D2O)δ3.30(s,3H, 3.60(m,4H 3.68(d,1H,J=10Hz,-SCH2-),4.04(d,1H,J=10Hz,-SCH2-),
4.2(m,4H, 4.25(d,1H,J=14Hz, 4.93(d,1H,J=14Hz, 5.30(d,1H,J=5Hz,C-6β−ラクタム),5.53(d,1H,J=5H
z,C-7β−ラクタム);IR(KBr)3460,1795および1600cm
-1. 元素分析:計算値 (C13H19N3O4S・HI):C,35.40;H,4.34;N,9.53 測定値:C,34.99;H,4.38;N,9.35 実施例21 (6R、7R)−7−アミノ−3−(1−ピリジニオ)
メチルセフ−3−エム−4−カルボキシラート・一ヨウ
化水素酸塩 フレオンTF中の(6R、7R)−7−(トリメチルシ
リル)アミノ−3−アセトキシメチルセフ−3−エム−
4−カルボン酸トリメチルシリルの溶液(装入7−AC
A10.0g)から実施例19に記載したように、しかし
N−メチルピロリジンの代りに乾燥ピリジン(KOH上
で乾燥)4.2ml(51.4ミリモル、1.4当量)を用いて
表題の化合物を製造した。反応の進行はHPLCにより
モニターして35〜36℃で51時間後に終ったと認め
られた。スラリを乾燥窒素シール下に20〜25℃に冷
却した。固体を窒素加圧下に漏斗による濾過により除い
た。捕集した固体を新フレオンTF(2×100ml)で
洗浄した。氷水浴中で0〜5℃に予冷した乾燥ジクロロ
メタン50mlに濾過ケークを速やかに加えた。生じた暗
色溶液にメタノール5.0ml(123ミリモル、3.35当
量)をよくかくはんしながら10℃未満の反応温度で滴
加した。生じたスラリーを0〜5℃でさらに15分間か
くはんした。固体を濾過により捕集し、新CH2Cl2(2×
50ml)で洗浄した。濾過ケークを再びCH2Cl2150ml
中に1時間スラリーにした。固体を濾過し、CH2Cl2(2
×50ml)で洗浄し、真空で20〜25℃で恒量に乾燥
すると粗(6R、7R)−7−アミノ−3−(1−ピリ
ジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシラート
・一ヨウ化水素酸塩14.7g(95%)が得られた。こ
の物質の360MHzHNMRスペクトルおよびHPL
Cクロマトグラム(65面積%純度;主汚染物はピリジ
ンヨウ化水素酸塩、13面積%、であった)は別個に製
造した基準試料のそれに一致した(またスミス(Smith,
G.C.D,)、EP−70706号、1983年1月26
日、21頁参照)。
実施例22 (6R、7R)−7−アミノ−3−〔1−(2,3−シ
クロペンテノ)ピロリジニオ〔メチルセフ−3−エム−
4−カルボキシラート・一ヨウ化水素酸塩 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリルのフレオンTF中の溶液(装入7−AC
A10.0g)から実施例19に記載したように、しかし
N−メチルピロリジンの代りに2,3−シクロペンテノ
ピリジン(分子ふるい上で乾燥)6.02ml(51.4ミリ
モル、1.4当量)を用いて表題の化合物を製造した。反
応の進行はHPLCによりモニターして35〜36℃で
52時間後に終ったと認められた。前に実施例21に記
載したように反応混合物を処理すると、粗(6R、7
R)−7−アミノ−3−〔1−(2,3−シクロペンテ
ノ)ピリジニオ〔メチルセフ−3−エム−4−カルボキ
シラート・一ヨウ化水素酸塩13.2g(78%)が得ら
れた。この物質の360MHzHNMRスペクトルおよ
びHPLCクロマトグラム(92面積%純度)は別個に
製造したこの物質の基準試料のそれに一致した。
実施例23 (6R、7R)−7−アミノ−3−〔1−アセトキシ)
エチル−1−ピロリジニオ〕メチルセフ−3−エム−4
−カルボキシラート・一ヨウ化水素酸塩 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリルのフレオンTF中の溶液(装入7−AC
A10.0g)からの実施例19に記載したように、しか
しN−メチルピロリジンの代りにN−(2−アセトキ
シ)エチルピロリジン8.08g(51.4ミリモル、1.4
当量)を用いて表題の化合物を製造した。反応の進行は
HPLCによりモニターした。35〜36℃で初めの2
2時間中に反応混合物が油状になった。35〜36℃で
合計48時間後に出発物質のそれ以上の消費は明らかで
なかった。反応混合物を乾燥窒素シール下に0〜5℃に
冷却した。メタノール合計7.45ml(184ミリモル、
5.0当量)をフレオンTF50ml中の溶液として滴加し
た。添加中10℃未満の反応温度を維持した。添加後生
じたスラリーを0〜5℃で3.5時間かくはんした。スラ
リーを吸引下に濾過し、濾過ケークをフレオンTF(2
×500ml)で洗浄した。さらに真空で20〜25℃で
恒量に乾燥すると粗生成物27.9g(>100%)が得
られた。この粗物質中の所望の(6R、7R)−7−ア
ミノ−3−〔1−(2−アセトキシ)エチル−1−ピロ
リジニオ〕メチルセフ−3−エム−4−カルボキシラー
ト・一ヨウ化水素酸塩の存在はこの物質の360MHz
HNMRスペクトルおよびHPLCクロマトグラムを別
途の手順により製造したこの物質のスペクトルに比較す
ることにより実証された。360MHzHNMRスペク
トルは1/1.7のΔ/Δ生成物比並びにかなりの量
の出発アミンを示した。HPLCクロマトグラムは所望
のΔ異性体24面積%およびΔ異性体34面積%が
粗固体中に存在したことを示した。
実施例24 (6R、7R)−7−アミノ−3−〔1−2(トリメチ
ルシロキシ)エチル−1−ピロリジニオ〕メチルセフ−
3−エム−4−カルボキシラート・一ヨウ化水素酸塩 (6R、7R)−7−(トリメチルシリル)アミノ−3
−アセトキシメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸ト
リメチルシリルのフレオンTF中の溶液(装入7−AC
A10.0g)からの実施例19に記載したように、しか
しN−メチルピロリジンの代りにN−(2−トリメチル
シロキシ)エチル−ピロリジン9.63g(51.4ミリモ
ル、1.4当量)を用いて表題の化合物を製造した。反応
の進行はHPLCによりモニターした。生じた表題の化
合物のΔ/Δ混合物が検出され、クロマトグラフ分
析中のTMSエーテルの加水分解のために遊離OH化合
物であった。35〜36℃で初めの23時間中に反応混
合物は油状になった。35〜36℃で合計30時間後に
それ以上の出発物質の消費が明らかでなかった。反応物
を厳密に実施例23記載のように処理すると粗生成物2
9.77g(>100%)が得られた。この粗物質中の所
望の(6R、7R)−7−アミノ−3−〔1−(2−ト
リメチルシロキシ)エチル−1−ピロリジニオ〕メチル
セフ−3−エム−4−カルボキシラート・一ヨウ化水素
酸塩の存在は、この物質の360MHzHNMRスペ
クトルおよびHPLCクロマトグラムを別個の手順によ
り製造したこの物質のスペクトルと比較することにより
実証された。360MHzHNMRスペクトルは1/
3.3のΔ/Δ生成物比並びにかなりの量の出発アミ
ンを示した。HPLCクロマトグラムは所望のΔ異性
体16面積%およびΔ異性体60面積%が粗固体中に
存在したことを示した。
実施例25 7−〔α−(2−アミノチアゾール−4−イル)−α−
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(1−
メチル−1−ピロリジニオ)メチル〕−3−セフエム−
4−カルボキシラート (6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−
ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート・一ヨウ化水素酸塩(実施例19において製造)
合計12.76g(30ミリモル)を水87ml中によくか
くはんしながら20〜25℃で懸濁させた。スラリーを
8〜10℃に冷却し、7℃で2N水酸化ナトリウム溶液
13.0ml(26ミリモル、0.87当量)を35分間にわ
たって滴加することによりpHを5.80に上げた。次にテ
トラヒドロフラン555mlを加え、生じた溶液のpHを1
0℃で2N水酸化ナトリウム溶液1.9ml(3.8ミリモ
ル、0.13当量)の滴加により6.8にあげた。冷却浴を
除き、syn−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2−メトキシイミノ酢酸のHOBT活性エステル14.75
g(92.7ミリモル、1.5当量)を7.38gの2等部分
で各30分にわたって加えた。各添加の後に5〜10分
毎に2N水酸化ナトリウム溶液の滴加によりpHを6.5に
再調整した。残余反応時間中、15分毎に2N水酸化ナ
トリウム溶液の滴加によりpHを6.5に再調整した〔使用
した全2N水酸化ナトリウムは28.6ml(57.2ミリモ
ル、1.9当量)であった〕。反応の終結はHPLC分析
により決定した。
1.75時間後、暗色溶液をメチルイソブチルケトン36
5mlに注加し、下方水相を分離した。有機相を水(1×
30ml)で逆抽出した。水相を合せてけいそう土2.35
gとともに20〜25℃で10分間かくはんした。不溶
性物質を吸引濾過により除き、濾過ケークを水(1×5
ml)で洗浄した。こはく色水相を5mミリポアフィルタ
ーに通してポリッシュ濾過した。溶液のpHは17℃で6.
40であった。
4N硫酸合計6.7mlをよくかくはんしながら滴加すると
18℃でpH3.82の混濁溶液が得られた。よくかくはん
しながら生成物の結晶化を5分間進行させた。さらに4
N硫酸3.5mlを加えて20℃でpH3.09のスラリーを得
た。スラリーを0〜5℃に冷却し、4N硫酸合計30ml
を20分間にわたって滴加した。生じたスラリーを0〜
5℃で1時間かくはんした。沈殿を濾過し、0.5N硫酸
(1×30ml)で洗浄した。濾過ケークを吸引下に15
分間部分乾燥した。この時間後にケークをアセトン(2
×50ml)で洗浄し、再び吸引下に15分間部分乾燥し
た。ケークを再びアセトン200ml中に20〜25℃で
1時間スラリーにした。塩を濾過し、アセトン(2×5
0ml)で洗浄し、吸引下に15分間部分乾燥した。さら
に真空で40℃で恒量に乾燥すると結晶性の多少灰色の
表題の化合物12.41g(72%)がその硫酸塩として
得られた:HNMR(360MHz、DO、溶媒サ
プレッション)δ2.16〜2.33(エンベロープ、4H, 3.01(s,3H, 3.45-3.64(m,5H, -SCH2-),3.95(d,1H,J=17Hz,-SCH2-),4.04,(d,1H,J=14H
z, 4.08(s,3H,-OCH3),4.75(d,1H,J=14Hz, 5.37(d,1H,J=5Hz,C-6 β-ラクタム),5.86(d,1H,J-5H
z,C-7 β-ラクタム),7.16(s,1H,C-5チアゾール)。
元素分析:計算値(C19H24N6O5S2・H2SO4): C,39.43;H,4.53; N,14.53;S,16.63 測定値:C,39.40;H,4.47; N,14.39;S,16.60 実施例26 7−〔α−(2−アミノチアゾール−4−イル)−α−
(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕−3−〔(4−
メチル−4−モルホリニオ)メチル〕−3−セフエム−
4−カルボキシラート (6R、7R)−7−アミノ−3−(4−メチル−4−
モルホリニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート・一ヨウ化水素酸塩(実施例20において製造)
54.0g(122ミリモル)およびsyn−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシイミノ酢酸
HOBT活性エステル59.0g(184ミリモル、1.5
当量)から実施例25に記載した手順により表題の化合
物を製造した。この手順により結晶性、白色の表題の化
合物合計60.1g(84%)がその硫酸塩として製造さ
れた:1 HNMR(360MHz,D2O/NaDCO3)δ3.30(s,3H, 3.55(m,5H, 4.05(d,1H,J=16Hz,-SCH2-),4.10(s,3H,-OCH3),4.1(m,4
H, 4.21(d,1H,J=14Hz, 4.95(d,1H,J=14Hz, 5.47(d,1H,J=5Hz,C-6β−ラクタム),5.96(d,1H,J=5H
z,C-7−ラクタム),7.10(s,1H,C-5チアゾール)。
元素分析:計算値(C19H24N6O6S2・H2SO4): C,38.37;H,4.41; N,14.13;S,16.18 測定値:C,38.16;H,4.32; N,14.08;S,16.14 実施例27 次表に若干の本発明の実施例に対する結果の概要が示さ
れる。実施例19および20の化合物を除いて、示した
データはメタノール失活から得られたスラリーの濾過に
より分離した粗HI塩に対するものである。実施例19
および20の化合物は水性3N−HIでメタノールスラ
リーを失活した後分離した。
実施例28 (6R、7R)−7−アミノ−3−(1−メチル−1−
ピロリジニオ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシ
ラート・一ヨウ化水素酸塩 オーブン乾燥フラスコおよびフリードリッヒ冷却器を正
窒素流下に室温に冷却した。フラスコに7−ACA10.
0g(36.7ミリモル)および1,1,1−トリクロロ
トリフルオロエタン(分子ふるい上で乾燥)80mlを装
入した。よくかくはんしながらHMDS合計9.3ml(4
4.1ミリモル、1.2当量)をシリンジにより一度に加え
た。その後直ちにTMSI0.16ml(1.1ミリモル、0.0
3当量)をシリンジにより一度に加えた。生じたスラリ
ーをよんかくはんしながら湿気を防いで6.0時間激しく
加熱還流した。NMR(CD2Cl2)による部分標本の試験で
所望の7−(トリメチルシリル)アミノ−3−アセトキ
シメチルセフ−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシ
リルへの95%以上の転化が示された。
上記のシリル化混合物を室温に冷却した。次にTMSI
6.0ml(42.2ミリモル、1.15当量)をシリンジによ
り2〜3分間にわたりゆっくりした流れで加えた。生じ
たスラリーを室温で1.0時間かくはんした。この時間
後、NMRによる部分標本の試験で所望の3−ヨードメ
チルセフエムへの95%以上の転化が示された。1.25
時間後にスラリーを0〜5℃に冷却し、この温度で15
分間保持した。スラリーを正窒素圧下にシュレンク漏斗
に通して氷水冷却受器フラスコ中へ濾過した。捕集した
固体を新1,1,1−トリクロロトリフルオロエタン
(1×17ml)で洗浄した。
7−(トリメチルシリル)アミノ−3−ヨードメチルセ
フ−3−エム−4−カルボン酸トリメチルシリルを含む
濾液に0〜5℃で乾燥窒素の不活性雰囲気下に97%N
−メチルピロリジン(分子ふるい上で乾燥)3.82ml
(36.7ミリモル、1.0当量)をシリンジにより10℃
未満の反応温度が維持されるような速さで滴加した。生
じたスラリーを0〜5℃でさらに15分間かくはんし
た。この時間後、メタノール5.0ml(123ミリモル、
3.35当量)を10℃未満の反応温度を維持しながら滴加
した。生じた薄いスラリーを0〜5℃でさらに15分間
かくはんした。固体を吸引濾過し、フレオンTF(1×
100ml)で洗浄し、吸引下に15分間部分乾燥した。
さらに真空で室温で恒量に乾燥すると(6R、7R)−
7−アミノ−3−(1−メチル−1−ピロリジニオ)メ
チルセフ−3−エム−4−カルボキシラート・一ヨウ化
水素酸塩10.27g(66%)が得られた。この粗物質
の360MHzHNMRスペクトル(D2O)は5.4/1
のΔ/Δ異性体比を示し;塩のHPLCクロマトグ
ラムは8.1/1のΔ/Δ面積%比を示した。7−A
CAの7−アミノ−3−(1−メチル−1−ピロリジニ
オ)メチルセフ−3−エム−4−カルボキシラートへの
転化に対する活性収率は43.5%であった。(所望のΔ
異性体の参照標準に対する塩のHPLC定量により決
定した)。
他の変形は当業者に明らかであろう。従って、本発明の
範囲は請求の範囲により規定されるべきである。
フロントページの続き (72)発明者 サピノ チエツト ジユニア アメリカ合衆国 ニユ−ヨ−ク州 13057 イースト シラキユース フエザント ロード 6451 (72)発明者 シン クン マオ アメリカ合衆国 ニユ−ヨ−ク州 13057 イースト シラキユース サウス コヴ エントリー ロード 5811 (72)発明者 ウオーカー ドナルド ジー アメリカ合衆国 ニユ−ヨ−ク州 13088 リヴアプール レイス バーク レーン 8423

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】式、 (式中、XはHCl又はHIである) を有するΔ異性体を実質的に含まない安定な結晶性化
    合物を製造する方法であって、 式、 の化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
    (フレオンTF)または1,1,1−トリクロロトリフ
    ルオロエタン中で、(低級)アルカノールで処理してシ
    リル基を除き、次いでHClまたはHIで酸性化して式Iの
    化合物の塩酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成させること
    を含む方法。
  2. 【請求項2】(低級)アルカノールがメタノールである
    請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 【請求項3】式、 (式中、XはHCl又はHIである) を有するΔ異性体を実質的に含まない安定な結晶性化
    合物を製造する方法であって、 (a)式IIIa、 の化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
    (フレオンTF)または1,1,1−トリクロロトリフ
    ルオロエタン中で、式、 の化合物と反応させて式II、 の化合物を生成させる工程、および (b)式IIの化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオ
    ロエタン(フレオンTF)または1,1,1−トリクロ
    ロトリフルオロエタン中で、(低級)アルカノールで処
    理してシリル基を除き、次いでHClまたはHIで酸性化し
    て式Iの化合物の塩酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成さ
    せる工程、 を含む方法。
  4. 【請求項4】式、 (式中、XはHCl又はHIである) のΔ異性体を実質的に含まない安定な結晶性化合物を
    製造する方法であって、 (a)式、 の化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
    (フレオンTF)または1,1,1−トリクロロトリフ
    ルオロエタン中で、化合物IVaの当量当り少なくとも1
    当量のヨードトリメチルシランで処理して式IIIa、 の化合物を生成させる工程、 (b)式IIIaの化合物を1,1,2−トリクロロトリフル
    オロエタン(フレオンTF)または1,1,1−トリク
    ロロトリフルオロエタン中で、式、 の化合物と反応させて式、 の化合物を生成させる工程、及び (c)式IIの化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオ
    ロエタン(フレオンTF)または1,1,1−トリクロ
    ロトリフルオロエタン中で、(低級)アルカノールで処
    理してシリル基を除き、次いでHClまたはHIで酸性化し
    て式Iの化合物の塩酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成さ
    せる工程を含む方法。
  5. 【請求項5】式I、 (式中、XはHCl又はHIである) のΔ異性体を実質的に含まない安定な結晶性化合物を
    製造する方法であって、 (a)式V、 の化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
    (フレオンTF)または1,1,1−トリクロロトリフ
    ルオロエタン中で、化合物Vの当量当り少くとも1当量
    のヘキサメチルジシラザンと触媒量のヨードトリメチル
    シランで処理して式IVa、 の化合物を生成させる工程、 (b)式IVaの化合物を1,1,2−トリクロロトリフル
    オロエタン(フレオンTF)又は1,1,1−トリクロ
    ロトリフルオロエタン中で、化合物IVaの当量当り少な
    くとも1当量のヨードトリメチルシランで処理して、式
    IIIa、 の化合物を生成させる工程、 (c)式IIIaの化合物を1,1,2−トリクロロトリフル
    オロエタン(フレオンTF)または1,1,1−トリク
    ロロトリフルオロエタン中で、式、 の化合物と反応させて式、 の化合物を生成させる工程、及び (d)式IIの化合物を1,1,2−トリクロロトリフルオ
    ロエタン(フレオンTF)または1,1,1−トリクロ
    ロトリフルオロエタン中で、(低級)アルカノールで処
    理してシリル基を除き、次いでHClまたはHIで酸性化し
    て式Iの化合物の塩素酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成
    させる工程を含む方法。
  6. 【請求項6】式I、 (式中、XはHCl又はHIである) のΔ異性体を実質的に含まない安定で結晶性化合物を
    製造する方法であって、 式IVa、 の化合物の1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
    (フレオンTF)又は1,1,1−トリクロロトリフル
    オロエタン中の溶液を少くとも1当量の式、 の化合物、次いで化合物IVaの当量当り少くとも1当量
    のヨードトリメチルシランで処理し、次いで(低級)ア
    ルカノールで処理してシリル基を除き、HClまたはHIで
    酸性化して式Iの化合物の塩酸塩またはヨウ化水素酸塩
    を形成させることを含む方法。
  7. 【請求項7】式I、 (式中、XはHCl又はHIである) のΔ異性体を実質的に含まない安定な結晶性化合物を
    製造する方法であって、1,1,2−トリクロロトリフ
    ルオロエタン(フレオンTF)又は1,1,1−トリク
    ロロトリフルオロエタン中で、式IVa、 の化合物を、または1,1,2−トリクロロトリフルオ
    ロエタン(フレオンTF)又は1,1,1− トリクロロトリフルオロエタン中で式、 の化合物で処理し、次いで(低級)アルカノールで処理
    してシリル基を除き、HClまたはHIで酸性化して式Iの
    化合物の塩酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成させること
    を含む方法。
  8. 【請求項8】式I、 (式中、XはHClまたはHIである) の、Δ異性体を実質的に含まない安定な結晶性化合物
    を製造する方法であって、1,1,2−トリクロロトリ
    フルオロエタン(フレオンTF)又は1,1,1−トリク
    ロロトリフルオロエタン中で、式V、 の化合物を、化合物Vの当量当り少くとも1当量のヘキ
    サメチルジシラザンと触媒量のヨードトリメチルシラン
    で、次いで1,1,2−トリクロロトリフルオロエタン
    (フレオンTF)又は1,1,1−トリクロロトリフル
    オロエタン中で、式、 の化合物で処理し、次いで(低級)アルカノールで処理
    してシリル基を除き、HClまたはHIで酸性化して式Iの
    化合物の塩酸塩またはヨウ化水素酸塩を形成させること
    を含む方法。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0827520B2 (ja) * 1986-07-12 1996-03-21 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法
IL90660A0 (en) * 1988-06-22 1990-01-18 Lilly Co Eli Intermiediate for 1-carba(dethia)cephalosporin
US4935508A (en) * 1988-08-23 1990-06-19 Bristol-Myers Company Process for cephem prodrug esters
IL103110A (en) * 1991-09-10 1997-04-15 Bristol Myers Squibb Co Anhydrous process for preparing cefepime dihydrochloride hydrate
YU81692A (sh) * 1991-09-10 1995-03-27 Bristol-Myers Co. Postupak za proizvodnju cefalosporinskog antibiotika
CA2099692C (en) * 1992-07-24 2003-09-30 Gary M. F. Lim Process for preparing cephalosporin intermediates
WO1997039002A1 (en) * 1996-04-12 1997-10-23 Takeda Chemical Industries, Ltd. Production of 7-aminocephalosporanic acid derivative
WO2006008749A1 (en) * 2004-07-16 2006-01-26 Hetero Drugs Limited Process for preparing pure cephalosporine intermediates
JP2008526944A (ja) * 2005-01-17 2008-07-24 オーキッド ケミカルズ アンド ファーマシューティカルズ リミテッド セファロスポリン抗生物質中間体を製造するための改善された方法
ITMI20051684A1 (it) * 2005-09-13 2007-03-14 Harvest Lodge Ltd Procedimento per la produzione del dicloridrato di amminoacidi
ITMI20060422A1 (it) * 2006-03-09 2007-09-10 Harvest Lodge Ltd Procedimento diretto per la produzione del dicloridrato di un amminoacido
CN102391288B (zh) * 2011-12-03 2013-09-18 齐鲁安替制药有限公司 头孢匹罗中间体及头孢匹罗的制备方法
CN102391289B (zh) * 2011-12-03 2013-09-18 齐鲁安替制药有限公司 头孢他啶中间体及头孢他啶的合成方法
CN102627659A (zh) * 2012-04-17 2012-08-08 黑龙江豪运精细化工有限公司 一种头孢哌酮中间体7-tmca的制备方法
CN102633813A (zh) * 2012-04-17 2012-08-15 黑龙江豪运精细化工有限公司 一种头孢唑林钠中间体tda的制备方法
CN107201391B (zh) * 2017-07-04 2020-07-07 吉林省爱诺德生物工程有限公司 一种盐酸头孢吡肟的合成方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4182863A (en) * 1974-09-03 1980-01-08 Bristol-Myers Company 7-Amino-3-(1-carboxymethyltetrazol-5-ylthiomethyl)-3-cephem-4-carboxylic acid
US4093723A (en) * 1976-05-19 1978-06-06 Smithkline Corporation 7-Acyl-3-(sulfonic acid and sulfamoyl substituted tetrazolyl thiomethyl) cephalosporins
US4029655A (en) * 1975-04-11 1977-06-14 Eli Lilly And Company Method of preparing stable sterile crystalline cephalosporins for parenteral administration
GB1591439A (en) * 1976-10-01 1981-06-24 Glaxo Operations Ltd 7-syn (oxyimino -acylamido) cephalosporins
FR2457295A1 (fr) * 1979-05-25 1980-12-19 Glaxo Group Ltd Composes intermediaires pour la preparation de cephalosporines
EP0051824B1 (en) * 1980-11-11 1986-01-15 Takeda Chemical Industries, Ltd. Improvement in the method for producing 7-aminocephem compounds
IT8026945A0 (it) * 1980-12-24 1980-12-24 Isf Spa Chetoidrossiimminocefalosporine.
US4336253A (en) * 1981-03-11 1982-06-22 Eli Lilly And Company Cephalosporin antibiotics
DE3118732A1 (de) * 1981-05-12 1982-12-02 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
IL66726A0 (en) * 1981-09-08 1982-12-31 Lilly Co Eli Improvements in or relating to thieno and furopyridinium-substituted cephalosporin derivatives
US4406899A (en) * 1982-03-04 1983-09-27 Bristol-Myers Company Cephalosporins
US4499088A (en) * 1983-01-04 1985-02-12 Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Cephem compounds
DE3316798A1 (de) * 1983-05-07 1984-11-08 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung von cephemverbindungen
US4540779A (en) * 1983-06-20 1985-09-10 Eli Lilly And Company Crystalline 7-(R)-amino-3-(1'pyridiniummethyl)-ceph-3-em-4-carboxylate monohydrochloride monohydrate compound
US4659812A (en) * 1985-08-20 1987-04-21 Bristol-Myers Company Cephalosporin intermediates

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