JPH06116229A - イミド類及びそれらの塩類 - Google Patents

イミド類及びそれらの塩類

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JPH06116229A
JPH06116229A JP5144208A JP14420893A JPH06116229A JP H06116229 A JPH06116229 A JP H06116229A JP 5144208 A JP5144208 A JP 5144208A JP 14420893 A JP14420893 A JP 14420893A JP H06116229 A JPH06116229 A JP H06116229A
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mol
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cation
carbon atoms
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Klaus Pohmer
クラウス・ポーマー
Rainer Weber
ライナー・ベバー
Cornelia Doerzbach-Lange
コルネリア・デルツバツハ−ランゲ
Karlheinz Stachulla
カールハインツ・シユタフラ
Hans-Heinrich Moretto
ハンス−ハインリヒ・モレツト
Manfred Wienand
マンフレート・ビーナント
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Bayer AG
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 安価に界面活性剤を提供する。 【構成】 一般式(I) 【化1】 ここでRFは例えば炭素原子1から18個を有するフル
オロアルキル基であり、RHは例えば炭素原子1から3
0個を有するアルキル基であり、Y1およびY2は例えば
>C=O基を表わし、Xは例えば水素カチオンであり、
mは0から6であり、Zは1から7である、で表される
フルオロアルキルおよびフルオロアリール基含有のイミ
ド類及びそれらの塩類。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の背景】
1.発明の分野 本発明は新規なイミド類及びそれらの塩類並びに界面活
性剤としてのそれらの用途に関する。
【0002】2.関連技術の説明 高界面活性によりペルフルオロアルキル基含有の化学化
合物は、科学技術において数多く適用されている。典型
的適用は電気メッキにおける噴霧剤の抑制、ラッカー、
分散結合剤または床整備剤の流展特性および湿潤特性の
改良、さらに水膜を形成する消化剤使用の際の燃焼中の
無極性液体への水の散布である(J.N.MeuBdo
erfferおよびH.Niederpruem、Ch
emikerzeitung 104(1980)45
〜42参照)。
【0003】上記の様な化合物の例は次の通りである:
【0004】
【化3】[C817SO3]K [C715COO][Na] [C817SO2N(C25)CH2COO]K [C817SO3][N(CH2CH3)4] 上記化合物類の合成工程は同様に“J.N.MeuBd
oerfferおよびH.Niederpruem、C
hemikerzeitung 104(1980)4
5〜52”に記載されている。さらに、DE−A第22
39817号記載の一般式
【0005】
【化4】 のビス−ペルフルオロアルカンスルホンアミド類及びそ
れらの界面活性剤としての用途は公知である。
【0006】前述の化合物を製造するペルフルオロ化出
発化合物類は、それら自身3種の異なった合成工程によ
り製造される: a)電気化学フッ素化、 b)ペルフルオロオレフィン類特にテトラフルオロエチ
レンのテロマー化、 c)テトラフルオロエチレンのオリゴマー化。
【0007】ペルフルオロ化した出発物質製造のための
上述の方法は技術的に非常に要求過重であるため、ペル
フルオロアルキル基含有の所望化学化合物の製造の結果
生じた費用は高額である。
【0008】
【発明の説明】界面活性剤として使用でき、かつ製造の
ための費用がより安価であるさらに有効な化合物が得ら
れることが課題であった。
【0009】この課題は本発明によるイミド類およびそ
れらの塩類により解決された。
【0010】本発明の主題は一般式(I)
【0011】
【化5】
【0012】ここでRFは炭素原子1から18個を有す
るフルオロアルキル基、炭素原子6から12個を有する
フルオロアリール基または炭素原子7から18個を有す
る混成フルオロアルキルアリール基であり、ここで炭素
鎖は酸素原子により中断されることもできる、RHは炭
素原子1から30個を有するアルキル基、炭素原子6か
ら12個を有するアリール基または炭素原子7から30
個を有する混成アルキルアリール基であり、ここで該基
の炭素鎖は酸素、窒素または硫黄原子により中断される
こともできる、Y1およびY2は相互に独立して
【0013】
【化6】 基を有し、基を有し、Xは水素カチオンもしく一価また
は多価カチオンであり、mは0から6の全数字であり、
ZはカチオンXの電荷に対応する全数字である、のフル
オロアルキル及びフルオロアリール基含有のイミド類お
よびそれらの塩類である。
【0014】フルオロアルキルおよびフルオロアリール
基含有のイミド類およびそれらの塩類は、好ましくはR
Fが炭素原子3から10個を有するフルオロアルキル基
または炭素原子6から12個を有するフルオロアリール
基であるものである。
【0015】フルオロアルキルおよびフルオロアリール
基含有のイミド類およびそれらの塩類は、RFが3から
10個の炭素原子を有するペルフルオロアルキル基また
は炭素原子6から12個を有するペルフルオロアリール
基を表すものが好ましい。
【0016】イミド類およびそれらの塩類は、RHが炭
素原子6から20個を有するアルキル基、炭素原子6か
ら12個を有するアリール基または炭素原子7から20
個を有する混成アルキルアリール基を表すものが特に好
ましい。
【0017】イミド類およびそれらの塩類は、Y1およ
びY2が相互に独立して
【0018】
【化7】 基を表すものが特に好ましい。
【0019】mが0であるイミド類およびそれらの塩類
が特に好ましい。
【0020】カチオンXとして好ましく用いられるのは
アルカリまたはアルカリ土類カチオン類、アンモニウム
カチオン類もしくはモノまたはポリアルキルおよび/ま
たはアリール置換されたアンモニウムカチオン類または
ポリカチオン類である。
【0021】特に好ましいイミド類またはイミド塩類
は、たとえば次の構造
【0022】
【化8】 を有する。
【0023】本発明によるイミド類およびそれらの塩類
はフルオロスルホン酸、フルオロカルボン酸またはそれ
らの誘導体と、アンモニアおよびスルホン酸、カルボン
酸またはそれらの誘導体との多段反応により製造するこ
とができる。可能な合成工程を例により示す。
【0024】第1段階においてフルオロスルホン酸また
はフルオロカルボン酸アミドを製造する:
【0025】
【化9】 RF―(CH2)m―Y1―A1 + NH3 + 2N(CH2CH3)3 → [RF―(CH2)m―Y1―NH][HN(CH2CH3)3] + [HN(CH2CH3)3]A1 ここでRF、Y1およびmは上と同様の意味を有し、A1
は反応性脱離基、たとえばハロゲン原子またはヒドロキ
シル、アルコキシルまたはカルボキシル基である。
【0026】第2段階において、形成されたフルオロス
ルホン酸アミド塩またはフルオロカルボン酸アミド塩を
イミドのトリエチルアンモニウム塩に転換する:
【0027】
【化10】
【0028】ここでRHおよびY2は上と同様の意味を有
し、A2は反応性脱離基たとえばハロゲン原子もしくは
ヒドロキシル、アルコシキルまたはカルボキシル基であ
る。
【0029】第3段階においてトリエチルアンモニウム
塩を硫酸と反応させることができ、その結果遊離イミド
が形成される:
【0030】
【化11】
【0031】または塩基で任意の塩に転換する:
【0032】
【化12】
【0033】ここでXおよびZは上と同様の意味を有す
る。
【0034】前述の多段法のために次の出発化合物を用
いることができる: フルオロカルボン酸の例: ペルフルオロヘプタン酸 CF3(CF2)5COOH ペルフルオロオクタン酸 CF3(CF2)6COOH ペルフルオロノナン酸 CF3(CF2)7COOH ペルフルオロエーテルカルボン酸二量体 CF3(CF2)2OCF(CF3)COOH ペルフルオロエーテルカルボン酸三量体 CF3(CF2)[CF2OCF(CF3)]2COOH ペルフルオロエーテルカルボン酸四量体 CF3(CF2)[CF2OCF(CF3)]3COOH ペルフルオロ安息香酸 C6F5COOH 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7− ドデカフルオロヘプタン酸 H(CF2)6COOH 4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9− トリデカフルオロノナン酸 CF3(CF2)5(CH2)2COOH 4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,11− ヘプタデカフルオロウンデカン酸 CF3(CF2)7(CH2)2COOH 2−テトラフルオロエトキシ酢酸 H(CF2)2OCH2COOH 2−ヘキサフルオロプロポキシ酢酸 CF3CHFCF2OCH2COOH フルオロスルホン酸の例: ペルフルオロブタンスルホン酸 CF3(CF2)3SO3H ペルフルオロヘキサンスルホン酸 CF3(CF2)5SO3H ペルフルオロオクタンスルホン酸 CF3(CF2)7SO3H ペルフルオロベンゼンスルホン酸 C6H5SO3H ペルフルオロトルエンスルホン酸 CF3C6F4SO3H フルオロスルホン酸誘導体またはフルオロカルボン酸誘導体の例: 無水ペルフルオロ酪酸 [CF3(CF2)2CO]2O 塩化ペルフルオロブチリル CF3(CF2)2COCl ペルフルオロ酪酸エチル CF3(CF2)2COOC2H5 フッ化ペルフルオロブタンスルホニル CF3(CF2)3SO2F フッ化ペルフルオロヘキサンスルホニル CF3(CF2)5SO2F フッ化ペルフルオロオクタンスルホニル CF3(CF2)7SO2F 塩化ペルフルオロベンゾイル C6F5COCl 塩化ペルフルオロベンゼンスルホニル C6F5SO2Cl カルボン酸の例: n−酪酸 CH3CH2CH2COOH n−ペンタン酸 CH3(CH2)3COOH n−ヘキサン酸 CH3(CH2)4COOH n−ヘプタン酸 CH3(CH2)5COOH n−オクタン酸 CH3(CH2)6COOH n−ノナン酸 CH3(CH2)7COOH n−デカノン酸 CH3(CH2)8COOH n−ウンデカン酸 CH3(CH2)9COOH n−ドデカン酸 CH3(CH2)10COOH 2−メチルプロピオン酸 (CH3)2CHCOOH 3−メチル酪酸 (CH3)2CHCH2COOH 2,2−ジメチルプロピオン酸 (CH3)3CCOOH 2−メチル酪酸 CH3CH2CH(CH3)COOH 2−エチル酪酸 CH3CH2CH(C2H5)COOH 2−エチルヘキサン酸 CH3(CH2)3CH(C2H5)COOH 異性C8酸類 C7H15COOH 異性C9酸類 C8H17COOH 異性C13酸類 C12H25COOH モナデカン酸 C18H37COOH シクロヘキサンカルボン酸 C6H11COOH アクリル酸 CH2=CHCOOH 2−メタクリル酸 CH2=C(CH3)COOH トランス−3−メタクリル酸 CH3CH=CHCOOH シス−3−メタクリル酸 CH3CH=CHCOOH 2,3−ジメチルアクリル酸 CH3CH=C(CH3)COOH 2,4−ヘキサジエン酸 CH3CH=CHCH=CHCOOH 11−ウンデセン酸 CH2CH=(CH2)8COOH プロピオール酸 CH≡CCOOH 安息香酸 C6H5COOH トルイル酸 CH3C6H4COOH フェニル酢酸 C6H5CH2COOH ナフチル酢酸 C10H7CH2COOH スルホン酸の例: メタンスルホン酸 CH3SO3H エタンスルホン酸 CH3CH2SO3H プロパンスルホン酸 CH3(CH2)2SO3H ブタンスルホン酸 CH3(CH2)3SO3H ペンタンスルホン酸 CH3(CH2)4SO3H ヘキサンスルホン酸 CH3(CH2)5SO3H ビニルスルホン酸 CH2=CHSO3H メタリルスルホン酸 CH2=C(CH3)CH2SO3H ベンゼンスルホン酸 C6H5SO3H トルエンスルホン酸 CH3C6H4SO3H スルホン酸またはカルボン酸誘導体の例: ハロゲン化スルホニル/カルボニル スルホン酸/カルボン酸エステル 無水スルホン酸/カルボン酸 スルホン酸/カルボン酸塩 本発明によるイミド塩類において、Xは好ましくは一連
のアルカリまたはアルカリ土類カチオン類、アンモニウ
ムカチオンもしくはモノまたはポリアルキルおよび/ま
たはアリール置換されたアンモニウムカチオンからのカ
チオンを表す。上記カチオン類の例は次のものである:
Na+、Li+、K+、Ca2+、Mg2+およびテトラエチ
ルアンモニウムカチオン。
【0035】本発明のさらに主題となるものは本発明に
よるイミド類の用途および界面活性剤としてのそれらの
塩類である。
【0036】本発明によるイミド類及びそれらの塩類の
非常に高い表面活性、ある場合にはペルフルオロ基含有
の公知化学化合物類よりも高い表面活性に基づき、本発
明によるイミド類およびそれらの塩類は高活性の界面活
性剤として作用し、その活性はペルフルオロアルキル基
含有の公知化合物類のそれよりも迅速に展開することに
よりたとえば以下の適用分野において用いることができ
る:電解法において(たとえばクロム、銅およびニッケ
ルでの電気メッキ、陽極酸化および電解脱脂におい
て)、本発明による化合物類を噴霧剤を抑制し、流出損
失を防止するために加えることができる。
【0037】非電解浴法において(たとえば化学銅メッ
キまたはニッケルメッキ、化学脱脂または除錆、エッチ
ングまたは彫刻、浸し研磨、浸酸、黒色仕上げまたは不
動態化、陽極酸化または剥皮において)、本発明による
化合物類を噴霧抑制剤および清浄補助剤として加えるこ
とができる。
【0038】清浄および保護剤において(たとえばガラ
ス、ストーブ、自動車、ビルディング、建物の正面また
は金属表面の清浄剤、しみ除去剤、シャンプー、家具、
自動車等の研磨剤、自己研磨乳剤またはワックスにおい
て)、本発明による化合物類を流展剤、散布剤および湿
潤剤として、並びに再汚損を防止する特性を促進するた
めに加えることができる。
【0039】本発明による化合物類はそれのみでもしく
は抗凝結剤または艶消防止剤(たとえばガラス、金属ま
たはプラスチック類のための)としての調製物の形態で
用いることができる。
【0040】本発明による化合物類はまたそれのみもし
くは腐蝕防止剤または抗腐蝕コーティング(たとえば重
合反応における充填剤、繊維、塩または磁性固体のため
の;ラッカーまたは代用血液中への)としての調製物の
形態で用いることができる。耐ガス堰層を形成し、その
結果液体の蒸発または揮発を防止するという傾向に基づ
き、本発明による化合物類はまた消火器剤への添加物と
しても適している。本発明による化合物類は金型離型剤
として用いることができる。
【0041】塗料およびラッカー中に本発明による化合
物類を添加することは流展性、湿潤性および粘着性の諸
特性を改良する。また脱気の促進によりそれらは表面欠
損の形成(たとえば凹みの形成、ふちの後退)を防止す
る。該化合物類の添加によりさらにピグメントの分布が
改良される。特に有利なのは水で希釈できるラッカーの
製法における本発明による化合物類の泡沫不安定化作用
である。
【0042】本発明による化合物類の疎水性および疎油
性堰層形成の傾向によりビルディング保護剤(たとえば
環境的影響からの絶縁のための)への添加が可能とな
る。
【0043】本発明による化合物類は流動剤またはスリ
ップ添加物(たとえば鉱物、鉱石または鉱物塩、磁気テ
ープまたはビルディング材料中への)として用いること
ができる。
【0044】本発明による化合物類は滑剤、切削油添加
物または作動油に適している。
【0045】本発明による化合物類は穿孔添加物(たと
えば油井穿孔における効率増加のため)として用いるこ
とができる。
【0046】本発明による化合物類は写真化学またはフ
ィルム製造において(たとえば湿潤剤または帯電防止剤
として)用いることができる。
【0047】本発明による化合物類は植物保護剤中(た
とえば湿潤および分散剤として)に用いることができ
る。
【0048】本発明による化合物類の繊維、皮革または
紙の仕上剤への添加は仕上剤の湿潤または浸透を促進
し、消泡またはその親水/親油作用を助ける結果とな
る。
【0049】本発明による化合物類は防火剤(たとえば
プラスチック中に)として用いることができる。
【0050】本発明による化合物類は液晶としての使用
もまた可能である。
【0051】酸強度に基づき、本発明による化合物類の
触媒としての(たとえばけん化もしくはスルホン化反応
または重合反応における)使用が可能である。
【0052】以下の実施例により本発明をさらに詳しく
説明する。
【0053】
【実施例】実施例1 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、ペルフル
オロブチルスルホンアミド0.4mol(119.6
g)およびトリエチルアミン0.8mol(80.8
g)を発熱反応で反応させた。充填物を加熱して還流
し、塩化ラウロイル0.4mol(87.6g)を加
え、次に該混合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に
冷却後、pH値を20%HClで6に調節した。
【0054】水でくり返し洗浄した後、生成物相を60
℃および24mbarで乾燥した。N−ウンデシルカル
ボニルペルフルオロブチルスルホンイミドトリエチルア
ンモニウムの収率は180g(理論量の77%)だっ
た。
【0055】実施例2 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.10mol
(4.2g)をN−ウンデシルカルボニルペルフルオロ
ブチルスルホンイミドトリエチルアンモニウムに加え
た。続いて該混合物を加熱して還流した。
【0056】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−ウンデシルカルボ
ニルペルフルオロブチルスルホンイミドのリチウム塩の
収率は46.6g(理論量の93%)だった。
【0057】実施例3 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、ペルフル
オロオクチルスルホンアミド0.1mol(53.4
g)およびトリエチルアミン0.2mol(20.2
g)を発熱反応で反応させた。充填物を加熱して還流
し、塩化ラウロイル0.1mol(21.9g)を加
え、次に該混合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に
冷却後、pH値を20%HClで6に調節した。
【0058】水でくり返し洗浄した後、生成物相を60
℃および24mbarで乾燥した。N−ウンデシルカル
ボニルペルフルオロオクチルスルホンイミドトリエチル
アンモニウムの収率は68g(理論量の87%)だっ
た。
【0059】実施例4 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.03mol
(1.26g)をN−ウンデシルカルボニルペルフルオ
ロオクチルスルホンイミドトリエチルアンモニウムに加
えた。続いて該混合物を加熱して還流した。
【0060】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−ウンデシルカルボ
ニルペルフルオロオクチルスルホンイミドのリチウム塩
の収率は20.6g(理論量の100%)だった。
【0061】実施例5 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、ペルフル
オロブチルスルホンアミドトリエチルアンモニウム0.
5mol(200g)およびトリエチルアンモニウム
0.5mol(50.5g)を発熱反応で反応させた。
充填物を加熱して還流し、塩化オクタノイル0.5mo
l(81.3g)を入れ、該混合物をさらに1時間撹拌
した。約50℃に冷却後、pH値を20%HClで6に
調節した。水でくり返し洗浄した後、単離した生成物相
を60℃および24mbarで乾燥した。N−ヘプチル
カルボニルペルフルオロブチルスルホンイミドトリエチ
ルアンモニウムの収率は222g(理論量の84%)だ
った。
【0062】実施例6 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.1mol(4.
2g)をN−ヘプチルカルボニルペルフルオロブチルス
ルホンイミドトリエチルアンモニウム0.1mol(5
2.6g)に加えた。続いて該混合物を加熱して還流し
た。
【0063】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−ヘプチルカルボニ
ルペルフルオロブチルスルホンイミドのリチウム塩の収
率は43.2g(理論量の100%)だった。
【0064】実施例7 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリエチ
ルアンモニウムペルフルオロオクチルスルホンイミド
0.5mol(300g)およびトリエチルアミン0.
5mol(50.5g)を発熱反応で反応させた。充填
物を加熱して還流し、塩化オクタノイル0.5mol
(81.3g)を入れ、該混合物をさらに1時間撹拌し
た。約50℃に冷却後、pH値を20%HClで6に調
節した。
【0065】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−ヘプチ
ルカルボニルペルフルオロオクチルスルホンイミドトリ
エチルアンモニウムの収率は323g(理論量の89
%)だった。
【0066】実施例8 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.1mol(4.
2g)をN−ヘプチルカルボニルペルフルオロオクチル
スルホンイミドトリエチルアンモニウム0.1mol
(72.6g)に加えた。続いて該混合物を加熱して還
流した。
【0067】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−ヘプチルカルボニ
ルペルフルオロオクチルスルホンイミドのリチウム塩の
収率は56.4g(理論量の89%)だった。
【0068】実施例9 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリエチ
ルアンモニウムペルフルオロブチルスルホンアミド0.
5mol(200g)およびトリエチルアミン0.5m
ol(50.5g)を発熱反応で反応させた。充填物を
加熱して還流し、塩化ペラルゴノイル0.5mol(8
8.35g)を入れ、該混合物をさらに1時間撹拌し
た。約50℃に冷却後、pH値を20%HClで6に調
節した。
【0069】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−オクチ
ルカルボニルペルフルオロブチルスルホンイミドトリエ
チルアンモニウムの収率は218g(理論量の81%)
だった。
【0070】実施例10 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.1mol(4.
2g)をN−オクチルカルボニルペルフルオロブチルス
ルホンイミドトリエチルアンモニウム0.1mol(5
4g)に加えた。続いて該混合物を加熱して還流した。
【0071】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−オクチルカルボニ
ルペルフルオロブチルスルホンイミドのリチウム塩の収
率は45.6g(理論量の100%)だった。
【0072】実施例11 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、ペルフル
オロプロピルカルボキシアミド0.30mol(63.
9g)およびトリエチルアミン0.60mol(60.
6g)を発熱反応で反応させた。充填物を加熱して還流
し、塩化ヘプタノイル0.30mol(44.6g)を
入れ、該混合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に冷
却後、pH値を20%HClで6に調節した。
【0073】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−ヘキシ
ルカルボニルペルフルオロプロピルカルボキシイミドト
リエチルアンモニウムの収率は89.7g(理論量の7
0%)だった。
【0074】実施例12 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.15mol
(6.12g)をN−ヘキシルカルボニルペルフルオロ
プロピルカルボキシイミドトリエチルアンモニウム0.
15mol(62.5g)に加えた。続いて該混合物を
加熱して還流した。
【0075】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−ヘキシルカルボニ
ルペルフルオロプロピルカルボキシイミドのリチウム塩
の収率は56.6g(理論量の100%)だった。
【0076】実施例13 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、ペルフル
オロプロピルカルボキシアミド0.30mol(63.
9g)およびトリエチルアミン0.60mol(60.
6g)を発熱反応で反応させた。充填物を加熱して還流
し、塩化オクタノイル0.30mol(48.0g)を
入れ、該混合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に冷
却後、pH値を20%HClで6に調節した。
【0077】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−ヘプチ
ルカルボニルペルフルオロプロピルカルボキシイミドト
リエチルアンモニウムの収率は102g(理論量の7
7.1%)だった。
【0078】実施例14 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.20mol
(8.5g)をN−ヘプチルカルボニルペルフルオロプ
ロピルカルボキシイミドトリエチルアンモニウム0.2
0mol(89g)に加えた。続いて該混合物を加熱し
て還流した。
【0079】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−ヘプチルカルボニ
ルペルフルオロプロピルカルボキシイミドのリチウム塩
の収率は70g(理論量の100%)だった。
【0080】実施例15 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリフル
オロアセトアミド0.50mol(56.5g)および
トリエチルアミン1.0mol(101g)を発熱反応
で反応させた。充填物を加熱して還流し、塩化オクタノ
イル0.5mol(81.35g)を入れ、該混合物を
さらに1時間撹拌した。約50℃に冷却後、pH値を2
0%HClで6に調節した。
【0081】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−ヘプチ
ルカルボニルトリフルオロメチルカルボキシイミドトリ
エチルアンモニウムの収率は66.2g(理論量の3
6.6%)だった。
【0082】実施例16 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリフル
オロアセトアミド0.50mol(56.5g)および
トリエチルアミン1.0mol(101g)を発熱反応
で反応させた。充填物を加熱して還流し、塩化オクチル
スルホニル0.5mol(106.3g)を入れ、該混
合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に冷却後、pH
値を20%HClで6に調節した。
【0083】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−オクチ
ルスルホニルトリフルオロメチルカルボキシイミドの収
率は195g(理論量の100%)だった。
【0084】実施例17 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、ヘプタフ
ルオロブチルアミド0.4mol(85.2g)および
トリエチルアミン0.8mol(80.8g)を発熱反
応で反応させた。充填物を加熱して還流し、フッ化オク
チルスルホニル0.4mol(78.4g)を入れ、該
混合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に冷却後、p
H値を20%HClで6に調節した。
【0085】熱水でくり返し洗浄した後、単離した生成
物相を60℃および24mbarで乾燥した。N−オク
チルスルホニルフルオロプロピルカルボキシイミドの収
率は169g(理論量の86%)だった。
【0086】実施例18 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.25mol(1
0.5g)をN−オクチルスルホニルペルフルオロプロ
ピルカルボキシイミドトリエチルアンモニウム0.25
mol(122.5g)に加えた。続いて該混合物を加
熱して還流した。
【0087】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−オクチルスルホニ
ルペルフルオロプロピルカルボキシイミドのリチウム塩
の収率は99.5g(理論量の100%)だった。
【0088】実施例19 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリエチ
ルアンモニウムペルフルオロオクチルスルホンアミド
0.20mol(120g)およびトリエチルアミン
0.20mol(20.2g)を発熱反応で反応させ
た。充填物を加熱して還流し、フッ化オクチルスルホニ
ル0.2mol(39.2g)を入れ、該混合物をさら
に1時間撹拌した。約50℃に冷却後、pH値を20%
HClで6に調節した。
【0089】水でくり返し洗浄した後、単離した生成物
相を60℃および24mbarで乾燥した。N−オクチ
ルスルホニルペルフルオロオクチルスルホンイミドの収
率は129g(理論量の83%)だった。
【0090】実施例20 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水30g
に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.1mol(4.
2g)をN−オクチルスルホニルペルフルオロオクチル
スルホンイミドトリエチルアンモニウム0.1mol
(77.6g)に加えた。続いて該混合物を加熱して還
流した。
【0091】1時間撹拌した後、水およびトリエチルア
ミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃
および24mbarで乾燥した。N−オクチルスルホニ
ルペルフルオロオクチルスルホンイミドのリチウム塩の
収率は67.5g(理論量の100%)だった。
【0092】実施例21 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリエチ
ルアンモニウムペルフルオロオクチルスルホンアミド
0.1mol(60g)およびジイソプロピルエーテル
150ml中のトリエチルアミン0.1mol(10
g)を発熱反応で反応させた。充填物を加熱して還流
し、塩化トシル0.1mol(19.1g)を入れ、該
混合物をさらに1時間撹拌した。約50℃に冷却後、p
H値を20%HClで6に調節した。
【0093】エーテル相を水でくり返し洗浄した。続い
てエーテルを20℃および24mbarで蒸留除去し
た。N−トシルペルフルオロオクチルスルホンイミドト
リエチルアンモニウムの収率は20g(理論量の26.
5%)だった。
【0094】実施例22 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリエチ
ルアンモニウムペルフルオロブチルスルホンアミド0.
1mol(40g)およびジイソプロピルエーテル15
0ml中のトリエチルアミン0.1mol(10g)を
発熱反応で反応させた。充填物を加熱して還流し、塩化
トシル0.1mol(19.1g)を入れ、該混合物を
さらに1時間撹拌した。約50℃に冷却後、pH値を2
0%HClで6に調節した。
【0095】エーテル相を水でくり返し洗浄した。続い
てエーテルを60℃および24mbarで蒸留除去し
た。N−トシルペルフルオロブチルスルホンイミドトリ
エチルアンモニウムの収率は20g(理論量の36.1
%)だった。
【0096】実施例23 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、トリエチ
ルアンモニウムペルフルオロブチルスルホンアミド0.
25mol(100g)およびトリエチルアミン0.2
5mol(25g)を発熱反応で反応させた。充填物を
加熱して還流し、フッ化オクチルスルホニル0.25m
ol(49g)を入れ、該混合物をさらに1時間撹拌し
た。約50℃に冷却後、pH値を20%HClで6に調
節した。水でくり返し洗浄した後、生成物相を60℃お
よび24mbarで乾燥した。N−オクチルスルホニル
ペルフルオロブチルスルホンイミドトリエチルアンモニ
ウムの収率は135.9g(理論量の94.4%)だっ
た。
【0097】実施例24 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水60g
に溶解させた水酸化ナトリウム0.236mol(9.
4g)をN−オクチルスルホニルペルフルオロブチルス
ルホンイミドトリエチルアンモニウム0.236mol
(135.9g)に加えた。続いて該混合物を加熱して
還流した。1時間撹拌した後、水およびトリエチルアミ
ンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃お
よび24mbarで乾燥した。N−オクチルスルホニル
ペルフルオロブチルスルホンイミドのナトリウム塩の収
率は117.3g(理論量の100%)だった。
【0098】実施例25 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水60g
と混合した水酸化カリウム0.236mol(13.2
g)をN−オクチルスルホニルペルフルオロブチルスル
ホンイミドトリエチルアンモニウム0.236mol
(135.9g)に加えた。続いて該混合物を加熱して
還流した。1時間撹拌した後、水およびトリエチルアミ
ンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を60℃お
よび24mbarで乾燥した。N−オクチルスルホニル
ペルフルオロブチルスルホンイミドのカリウム塩の収率
は121.0g(理論量の100%)だった。
【0099】実施例26 機械的にかき混ぜたガラスフラスコ中室温で、水60g
中に溶解させた水酸化リチウム−水塩0.236mol
(9.9g)をN−オクチルスルホニルペルフルオロブ
チルスルホンイミドトリエチルアンモニウム0.236
mol(135.9g)に加えた。続いて該混合物を加
熱して還流した。1時間撹拌した後、水およびトリエチ
ルアミンを90℃で蒸留除去した。得られた生成物を6
0℃および24mbarで乾燥した。N−オクチルスル
ホニルペルフルオロブチルスルホンイミドのリチウム塩
の収率は113.5g(理論量の100%)だった。
【0100】実施例27 本実施例においては本発明によるN−オクチルスルホニ
ルペルフルオロブチルスルホンイミドリチウムの界面活
性剤としての有効性を、2種の公知ペルフルオロ界面活
性剤(リチウムビス(ペルフルオロブチル)スルホンイ
ミドおよびペルフルオロオクチルスルホン酸テトラエチ
ルアンモニウム)との比較により試験した。この目的の
ため、表面張力を20℃で水中の界面活性剤濃度の作用
として表面張力計(Lauda社のTEIC型)で測定
した。結果は図1に示した。
【0101】図1によれば公知化合物類の場合よりも明
らかに低い適用濃度で本発明の化合物は表面張力約20
mN/mに既に到達している。
【0102】本発明の主なる特徴および態様は以下のと
おりである。
【0103】1.一般式(I)
【0104】
【化13】
【0105】ここでRFは炭素原子1から18個を有す
るフルオロアルキル基、炭素原子6から12個を有する
フルオロアリール基または炭素原子7から18個を有す
る混成フルオロアルキルアリール基であり、ここで炭素
鎖は酸素原子により中断されることもできる、RHは炭
素原子1から30個を有するアルキル基、炭素原子6か
ら12個を有するアリール基または炭素原子7から30
個を有する混成アルキルアリール基であり、ここで該基
の炭素鎖は酸素、窒素または硫黄原子により中断される
こともできる、Y1およびY2は相互に独立して
【0106】
【化14】 基を有し、Xは水素カチオンもしく一価または多価カチ
オンであり、mは0から6の全数字であり、Zはカチオ
ンXの電荷に対応する1から7の全数字である、で表さ
れるフルオロアルキル及びフルオロアリール基含有のイ
ミド類およびそれらの塩類。
【0107】2.炭素原子3から10個を有するフルオ
ロアルキル基、炭素原子6から12個を有するフルオロ
アリール基、炭素原子3から10個を有するペルフルオ
ロアルキル基および炭素原子6から12個を有するペル
フルオロアリール基から成る基よりRFが選択された、
上記1記載のフルオロアルキルおよびフルオロアリール
基含有のイミド類およびそれらの塩類。
【0108】3.RHが炭素原子6から20個を有する
アルキル基、炭素原子6から12個を有するアリール基
または炭素原子7から20個を有する混成アルキルアリ
ール基である。上記1記載のイミド類およびそれらの塩
類。
【0109】4.RHが炭素原子6から20個を有する
アルキル基、炭素原子6から12個を有するアリール基
または炭素原子7から20個を有する混成アルキルアリ
ール基である、上記2記載のイミド類およびそれらの塩
類。
【0110】 載のイミド類およびそれらの塩類。
【0111】 載のイミド類およびそれらの塩類。
【0112】 載のイミド類およびそれらの塩類。
【0113】 載のイミド類およびそれらの塩類。
【0114】9.mが0である上記1記載のイミド類お
よびそれらの塩類。
【0115】10.mが0である上記2記載のイミド類
およびそれらの塩類。
【0116】11.mが0である上記3記載のイミド類
およびそれらの塩類。
【0117】12.mが0である上記5記載のイミド類
およびそれらの塩類。
【0118】13.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記1記載のイミド塩類。
【0119】14.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記2記載のイミド塩類。
【0120】15.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記3記載のイミド塩類。
【0121】16.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記5記載のイミド塩類。
【0122】17.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記9記載のイミド塩類。
【0123】18.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記10記載のイミド塩類。
【0124】19.Xがアルカリカチオン類、アルカリ
土類カチオン類、アンモニウムカチオン、モノアルキル
置換されたアンモニウムカチオン、ポリアルキル置換さ
れたアンモニウムカチオン、モノアリール置換されたア
ンモニウムカチオン、ポリアリール置換されたアンモニ
ウムカチオン、モノアルキルおよびモノアリール置換さ
れたアンモニウムカチオン並びにポリアルキルおよびポ
リアリール置換されたアンモニウムカチオンから選択さ
れたカチオンである、上記12記載のイミド塩類。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例27の化合物および2種の公知ペルフル
オロ界面活性剤に対する水の表面張力への界面活性剤濃
度の効果を図式的に表したものである。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01F 17/26 C07C 233/90 7106−4H 233/91 7106−4H 275/02 7188−4H 311/48 7419−4H 311/51 7419−4H C09B 67/46 B 7306−4H C11D 1/02 // C07B 61/00 300 C09G 1/10 7188−4H C09K 3/14 X 15/22 21/10 8318−4H C10M 133/16 9159−4H 135/10 C23C 18/34 18/40 C23F 1/14 8414−4K C25D 3/04 3/12 3/38 11/02 C25F 1/00 A 8414−4K D06M 13/322 D21H 17/07 C10N 40:36 (72)発明者 コルネリア・デルツバツハ−ランゲ ドイツ連邦共和国デー5067キユルテン−ベ ヘム・アマーベーク31 (72)発明者 カールハインツ・シユタフラ ドイツ連邦共和国デー5090レーフエルクー ゼン1・ヨハネス−ドツト−シユトラーセ 5 (72)発明者 ハンス−ハインリヒ・モレツト ドイツ連邦共和国デー5090レーフエルクー ゼン1・ズユルダーシユトラーセ50 (72)発明者 マンフレート・ビーナント ドイツ連邦共和国デー5060ベルギツシユグ ラートバツハ2・シユネツプルーテ85

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 ここでRFは炭素原子1から18個を有するフルオロア
    ルキル基、炭素原子6から12個を有するフルオロアリ
    ール基または炭素原子7から18個を有する混成フルオ
    ロアルキルアリール基であり、ここで炭素鎖は酸素原子
    により中断されることもできる、 RHは炭素原子1から30個を有するアルキル基、炭素
    原子6から12個を有するアリール基または炭素原子7
    から30個を有する混成アルキルアリール基であり、こ
    こで該基の炭素鎖は酸素、窒素または硫黄原子により中
    断されることもできる、 Y1およびY2は相互に独立して 【化2】 基を有し、 Xは水素カチオンもしく一価または多価カチオンであ
    り、 mは0から6の全数字であり、 ZはカチオンXの電荷に対応する1から7の全数字であ
    る、で表されるフルオロアルキル及びフルオロアリール
    基含有のイミド類およびそれらの塩類。
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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09104686A (ja) * 1995-10-09 1997-04-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 有機スルホニルイミドリチウム
JP2001525844A (ja) * 1997-05-16 2001-12-11 ローディア シミ ペルフルオロスルホンアミド、ペルスルホンイミド及びそれらの塩の合成方法並びにスルホニル化試薬
JP2006505654A (ja) * 2002-11-04 2006-02-16 ソリユテイア・インコーポレイテツド 侵食防止剤を含有する機能性流体組成物
JP2008138008A (ja) * 1997-05-01 2008-06-19 3M Co フッ素化スルホンアミド及びスルホン誘導体
JP2008144206A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Kobe Steel Ltd チタンまたはチタン合金用酸洗液、およびこれを用いた酸洗方法
JP2009515335A (ja) * 2005-11-04 2009-04-09 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 多結晶シリコン膜を研磨するための化学機械研磨用スラリー組成物およびその製造方法
JP2009105341A (ja) * 2007-10-25 2009-05-14 Micro Process:Kk エッチング剤組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法
JP2009274963A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー
JP2010509753A (ja) * 2006-11-07 2010-03-25 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 化学機械研磨スラリー組成物、その製造方法、およびその使用方法
JP2010070801A (ja) * 2008-09-18 2010-04-02 Dnp Fine Chemicals Co Ltd ディスプレイマスク用エッチング液およびディスプレイマスクの製造方法
JP2010139623A (ja) * 2008-12-10 2010-06-24 Dnp Fine Chemicals Co Ltd エッチング液およびブラックマトリックスの製造方法
JP2011190423A (ja) * 2010-02-16 2011-09-29 Ricoh Co Ltd 液体吐出装置及びインクカートリッジ用洗浄液兼充填液、該洗浄液兼充填液を収容したカートリッジ
JP2011230401A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Ricoh Co Ltd 画像形成方法及び画像記録物
JP4880616B2 (ja) * 2004-12-30 2012-02-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー モノマーフルオロ界面活性剤の組成物
JP2012188435A (ja) * 2012-05-17 2012-10-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 化合物の製造方法、新規化合物
US8512593B2 (en) 2005-11-04 2013-08-20 Cheil Industries, Inc. Chemical mechanical polishing slurry compositions, methods of preparing the same and methods of using the same
WO2014133187A1 (en) * 2013-03-01 2014-09-04 Fujifilm Corporation Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, electronic device and compound
WO2020084854A1 (ja) * 2018-10-24 2020-04-30 三菱マテリアル電子化成株式会社 含フッ素イミド塩化合物及び界面活性剤
JP2020515558A (ja) * 2017-03-27 2020-05-28 ハイドロ−ケベック 電解質組成物中でまたは電極の添加剤として使用される塩

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3117369B2 (ja) * 1994-09-12 2000-12-11 セントラル硝子株式会社 スルホンイミドの製造方法
JP3250777B2 (ja) * 1995-02-13 2002-01-28 セントラル硝子株式会社 イミド類、その塩類およびそれらの製造法
US5514493A (en) * 1995-03-06 1996-05-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Perfluoroalkylsulfonates, sulfonimides, and sulfonyl methides, and electrolytes containing them
US5874616A (en) * 1995-03-06 1999-02-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Preparation of bis (fluoroalkylenesulfonyl) imides and (fluoroalkysulfony) (fluorosulfonyl) imides
US5652072A (en) * 1995-09-21 1997-07-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Battery containing bis(perfluoroalkylsulfonyl)imide and cyclic perfluoroalkylene disulfonylimide salts
US5691081A (en) * 1995-09-21 1997-11-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Battery containing bis(perfluoroalkylsulfonyl)imide and cyclic perfluoroalkylene disulfonylimide salts
JP4070244B2 (ja) 1996-12-30 2008-04-02 イドロ−ケベック 表面変性された炭化物質
WO1999028292A1 (fr) 1997-12-01 1999-06-10 Acep Inc. Sels de sulfones perfluores, et leurs utilisations comme materiaux a conduction ionique
JP2001526451A (ja) 1997-12-10 2001-12-18 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 電気化学系中のビス(ペルフルオロアルキルスルホニル)イミド界面活性剤塩
JP3763958B2 (ja) * 1998-01-20 2006-04-05 株式会社ニデック 眼科装置
US6063522A (en) * 1998-03-24 2000-05-16 3M Innovative Properties Company Electrolytes containing mixed fluorochemical/hydrocarbon imide and methide salts
US6372829B1 (en) 1999-10-06 2002-04-16 3M Innovative Properties Company Antistatic composition
DE60042561D1 (de) * 1999-10-27 2009-08-27 3M Innovative Properties Co Fluorochemische sulfonamide tenside
US20030054172A1 (en) * 2001-05-10 2003-03-20 3M Innovative Properties Company Polyoxyalkylene ammonium salts and their use as antistatic agents
US6555510B2 (en) 2001-05-10 2003-04-29 3M Innovative Properties Company Bis(perfluoroalkanesulfonyl)imides and their salts as surfactants/additives for applications having extreme environments and methods therefor
US20050050803A1 (en) * 2001-10-31 2005-03-10 Jin Amanokura Polishing fluid and polishing method
US6924329B2 (en) * 2001-11-05 2005-08-02 3M Innovative Properties Company Water- and oil-repellent, antistatic compositions
US6740413B2 (en) 2001-11-05 2004-05-25 3M Innovative Properties Company Antistatic compositions
FR2836144B1 (fr) * 2002-02-20 2004-04-09 Rhodia Chimie Sa Procede de traitement d'une solution organique d'imide porteur de groupe sulfonyle
US7147767B2 (en) * 2002-12-16 2006-12-12 3M Innovative Properties Company Plating solutions for electrochemical or chemical deposition of copper interconnects and methods therefor
US7495118B2 (en) * 2004-12-30 2009-02-24 3M Innovative Properties Company Compositions containing C4-swallow tail silanes
US7776983B2 (en) * 2004-12-30 2010-08-17 3M Innovative Properties Company Fluorochemical polymeric surfactants
EP1846593A1 (de) * 2005-02-04 2007-10-24 Siemens Aktiengesellschaft Oberfl[che mit einer die benetzbarkeit vermindernden mikrostruktur und verfahren zu deren herstellung
KR100813240B1 (ko) * 2005-02-18 2008-03-13 삼성에스디아이 주식회사 유기 전해액 및 이를 채용한 리튬 전지
US7547732B2 (en) * 2005-08-30 2009-06-16 3M Innovative Properties Company Compositions of fluorochemical surfactants
US7164041B1 (en) 2005-11-17 2007-01-16 3M Innovative Properties Company Fluorinated Gemini surfactants
US7629298B2 (en) * 2006-02-21 2009-12-08 3M Innovative Properties Company Sandstone having a modified wettability and a method for modifying the surface energy of sandstone
US7569715B2 (en) * 2006-07-05 2009-08-04 3M Innovative Properties Company Compositions containing silanes
US7684332B2 (en) * 2006-08-22 2010-03-23 Embarq Holdings Company, Llc System and method for adjusting the window size of a TCP packet through network elements
KR20100016163A (ko) * 2007-04-13 2010-02-12 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 정전기 방지성의 광학적으로 투명한 감압 접착제
KR20100017848A (ko) * 2007-05-23 2010-02-16 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 플루오르화 계면활성제의 수성 조성물 및 그의 사용 방법
WO2008154345A1 (en) * 2007-06-06 2008-12-18 3M Innovative Properties Company Fluorinated ether compositions and methods of using the same
US7728163B2 (en) * 2007-08-06 2010-06-01 E.I. Du Pont De Nemours And Company Mixed fluoroalkyl-alkyl surfactants
CN102149674A (zh) * 2008-07-18 2011-08-10 3M创新有限公司 氟化醚化合物及其使用方法
EP2358779A4 (en) * 2008-11-25 2012-05-09 3M Innovative Properties Co Fluorinated ethurethenes and methods for their use
WO2010080473A1 (en) 2008-12-18 2010-07-15 3M Innovative Properties Company Method of contacting hydrocarbon-bearing formations with fluorinated ether compositions
CN102959026B (zh) 2010-06-30 2014-12-24 3M创新有限公司 (甲基)丙烯酰压敏泡沫粘合剂
CN102351755B (zh) * 2011-08-15 2014-04-02 华中师范大学 含氟亚胺型阳离子表面活性剂的制备方法与用途
EP2836563B1 (en) 2012-04-13 2016-07-06 3M Innovative Properties Company Pressure sensitive adhesive foams and articles therefrom
JP2020067547A (ja) * 2018-10-24 2020-04-30 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH 半導体水溶性組成物およびその使用

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR858596A (fr) * 1938-08-03 1940-11-28 Deutsche Hydrierwerke Ag Substances à activité capillaire et procédé de préparation de ces substances
US3041374A (en) * 1960-03-10 1962-06-26 Du Pont Novel n-acylsulfonamides
DE1249259B (de) * 1966-04-14 1967-09-07 Farbenfabriken Bayer Aktiengesellschaft, Leverkusen Verfahren zur Herstellung von N'-substituierten N-(Amidosulfonyl)-sulfonsäureamiden
US3637845A (en) * 1969-04-14 1972-01-25 Minnesota Mining & Mfg Fluoroalkanesulfonamides
US3705185A (en) * 1969-04-14 1972-12-05 Minnesota Mining & Mfg N-aroyl sulfonamides
US3661990A (en) * 1970-04-13 1972-05-09 Riker Laboratories Inc N-alkylsulfonyl benzoylhaloalkylsulfonanilides
DE2239817A1 (de) * 1972-08-12 1974-02-21 Bayer Ag Bis-perfluoralkansulfonsaeureimide sowie verfahren zu ihrer herstellung
US4266078A (en) * 1979-04-20 1981-05-05 Stauffer Chemical Company N-Acylsulfonamide herbicidal antidotes
US4307170A (en) * 1980-06-18 1981-12-22 James River Graphics, Inc. Negative-working diazo type photoreproduction having improved pH control

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09104686A (ja) * 1995-10-09 1997-04-22 Asahi Chem Ind Co Ltd 有機スルホニルイミドリチウム
JP2008138008A (ja) * 1997-05-01 2008-06-19 3M Co フッ素化スルホンアミド及びスルホン誘導体
JP2001525844A (ja) * 1997-05-16 2001-12-11 ローディア シミ ペルフルオロスルホンアミド、ペルスルホンイミド及びそれらの塩の合成方法並びにスルホニル化試薬
JP4865115B2 (ja) * 1997-05-16 2012-02-01 ローディア シミ (ペルフルオロ)スルホニル化方法
JP2006505654A (ja) * 2002-11-04 2006-02-16 ソリユテイア・インコーポレイテツド 侵食防止剤を含有する機能性流体組成物
JP4880616B2 (ja) * 2004-12-30 2012-02-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー モノマーフルオロ界面活性剤の組成物
JP2009515335A (ja) * 2005-11-04 2009-04-09 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 多結晶シリコン膜を研磨するための化学機械研磨用スラリー組成物およびその製造方法
JP4863524B2 (ja) * 2005-11-04 2012-01-25 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 多結晶シリコン膜を研磨するための化学機械研磨用スラリー組成物およびその製造方法
US8512593B2 (en) 2005-11-04 2013-08-20 Cheil Industries, Inc. Chemical mechanical polishing slurry compositions, methods of preparing the same and methods of using the same
JP2010509753A (ja) * 2006-11-07 2010-03-25 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド 化学機械研磨スラリー組成物、その製造方法、およびその使用方法
JP2008144206A (ja) * 2006-12-07 2008-06-26 Kobe Steel Ltd チタンまたはチタン合金用酸洗液、およびこれを用いた酸洗方法
JP2009105341A (ja) * 2007-10-25 2009-05-14 Micro Process:Kk エッチング剤組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法
JP2009274963A (ja) * 2008-05-12 2009-11-26 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および該化合物からなるクエンチャー
JP2010070801A (ja) * 2008-09-18 2010-04-02 Dnp Fine Chemicals Co Ltd ディスプレイマスク用エッチング液およびディスプレイマスクの製造方法
JP2010139623A (ja) * 2008-12-10 2010-06-24 Dnp Fine Chemicals Co Ltd エッチング液およびブラックマトリックスの製造方法
JP2011190423A (ja) * 2010-02-16 2011-09-29 Ricoh Co Ltd 液体吐出装置及びインクカートリッジ用洗浄液兼充填液、該洗浄液兼充填液を収容したカートリッジ
JP2011230401A (ja) * 2010-04-28 2011-11-17 Ricoh Co Ltd 画像形成方法及び画像記録物
JP2012188435A (ja) * 2012-05-17 2012-10-04 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 化合物の製造方法、新規化合物
WO2014133187A1 (en) * 2013-03-01 2014-09-04 Fujifilm Corporation Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, electronic device and compound
CN105008996A (zh) * 2013-03-01 2015-10-28 富士胶片株式会社 图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法、电子元件及化合物
US9523912B2 (en) 2013-03-01 2016-12-20 Fujifilm Corporation Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, electronic device and compound
CN105008996B (zh) * 2013-03-01 2019-10-15 富士胶片株式会社 图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法以及化合物
JP2020515558A (ja) * 2017-03-27 2020-05-28 ハイドロ−ケベック 電解質組成物中でまたは電極の添加剤として使用される塩
WO2020084854A1 (ja) * 2018-10-24 2020-04-30 三菱マテリアル電子化成株式会社 含フッ素イミド塩化合物及び界面活性剤
JPWO2020084854A1 (ja) * 2018-10-24 2021-09-09 三菱マテリアル電子化成株式会社 含フッ素イミド塩化合物及び界面活性剤
EP3872064A4 (en) * 2018-10-24 2022-08-03 Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. FLUORINATED IMIDE SALT COMPOUND AND TENSIDE
US11414381B2 (en) 2018-10-24 2022-08-16 Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd. Fluorinated imide salt compound and surfactant

Also Published As

Publication number Publication date
EP0571832B1 (de) 1996-01-17
DE59301437D1 (de) 1996-02-29
KR930023336A (ko) 1993-12-18
EP0571832A3 (ja) 1994-01-05
CA2096816A1 (en) 1993-11-27
ES2085075T3 (es) 1996-05-16
DE4217366A1 (de) 1993-12-02
DK0571832T3 (da) 1996-05-13
EP0571832A2 (de) 1993-12-01
US5502251A (en) 1996-03-26

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