JP3220582B2 - ポリエーテル置換イミド化合物およびそれらの使用 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】本発明は、イミド類の新規なポリエーテル
置換化合物および界面活性剤としてのそれらの使用に関
する。

【０００２】パーフルオロアルキル基を含んでいるポリ
エーテル界面活性剤は、高い表面活性を示すことから、
産業で数多くの用途を有している。典型的な用途は、ラ
ッカーまたは分散接着剤或は皿洗いまたは洗浄剤におけ
る洗い流し性（flow-out）および湿潤特性の改良である
（Ｈ．Ｇ．Ｋｌｅｉｎ、Ｊ．Ｎ．Ｍｅｕβｄｏｅｒｆｆ
ｅｒおよびＫ Ｎｉｅｄｅｒｐｒｕｅｍ、 Ｍｅｔａｌ
ｌｏｂｅｒｆｌａｅｃｈｅ ２９（１９７５）５５９か
ら５６７参照）。上記化合物の例は下記のものである：

【０００３】

【化７】Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ(ＣＨ₃)ＣＯ−(Ｏ−ＣＨ₂−Ｃ
Ｈ₂)_5.67−ＯＣ₄Ｈ₉ Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ(Ｃ₂Ｈ₅)−(Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂)₅−ＯＨ Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ(ＣＨ₃)ＣＯ−(Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂)_10.3
−ＯＣ₄Ｈ₉ Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ(Ｃ₂Ｈ₅)−(Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ₂)_11-14−Ｏ
Ｈ Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ(ＣＨ₃)ＣＯ−(Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂)_19.5
−ＯＣ₄Ｈ₉ Ｃ₈Ｆ₁₇ＳＯ₂Ｎ(ＣＨ₃)ＣＯ−(Ｏ−ＣＨ₂−ＣＨ₂)₁₄−
(ＯＣＨ[ＣＨ₃]−ＣＨ₂)₁₄−ＯＣ₄Ｈ₉。

【０００４】上に示した化合物への合成経路は、とりわ
けＤＥ−Ｂ １ １４０ １８８およびＨ．Ｇ．Ｋｌｅｉ
ｎ、Ｊ．Ｎ．ＭｅｕβｄｏｅｒｆｆｅｒおよびＫ．Ｎｉ
ｅｄｅｒｐｒｕｅｍ著「Ｍｅｔａｌｌｏｂｅｒｆｌａｅ
ｃｈｅ」２９（１９７５）５５９から５６７の論評の中
に記述されている。

【０００５】上述した化合物を用いた、出発完全フッ素
置換化合物の製造は、以下の異なる３つの合成経路に従
って進行する： ａ）電気化学的フッ素置換、 ｂ）パーフルオロオレフィン類、特にテトラフルオロエ
チレンのテロメリゼーション、 ｃ）テトラフルオロエチレンのオリゴマー化。

【０００６】出発完全フッ素置換化合物を製造するため
の上記方法は技術的に非常に複雑であることから、パー
フルオロ基を含んでいる所望の化学化合物を製造するの
は高価である。

【０００７】パーフルオロ基を含んでいる上記ポリエー
テル界面活性剤の製造は、通常、パーフルオロアルキル
スルホンアミド類と、 ａ）ホスゲン化ポリエーテル類または ｂ）エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドと
を反応させることによる多段階合成で進行する。

【０００８】上記方法は、例えばＵｌｌｍａｎｎ著「Ｅ
ｎｚｙｋｌｏｐａｅｄｉｅ ｄｅｒｔｅｃｈｎｉｓｃｈ
ｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ」、第４版、１９８２、２２巻、４
５５から５１５頁およびＨ．Ｇ．Ｋｌｅｉｎ、Ｊ．Ｎ．
Ｍｅｕβｄｏｅｒｆｆｅｒ、Ｎ．Ｎｉｅｄｅｒｐｒｕｅ
ｍおよびＭ．Ｗｅｃｈｓｂｅｒｇ著「Ｍｅｔａｌｌｏｂ
ｅｒｆｌａｅｃｈｅ」２９（１９７５）５５９から５６
７の中に記述されている。これらの方法の欠点は非常に
複雑な点である。

【０００９】従って、本発明の目的は、界面活性剤とし
て用いることが可能であると共に簡潔かつ低コストで製
造可能なフルオロ基含有ポリエーテル界面活性剤を提供
することにあった。

【００１０】本発明に従うポリエーテル置換イミド化合
物を用いることで、上記目的を達成することができた。

【００１１】本発明は、一般式（Ｉ）

【００１２】

【化８】 ［式中、Ｒ_Fは、１から１８個の炭素原子を有する線状
もしくは分枝フルオロアルキル残基、６から１２個の炭
素原子を有するフルオロアリール残基、７から１８個の
炭素原子を有する混合フルオロアルキルアリール残基、
または２から１８個の炭素原子を有するフッ素置換され
ているモノもしくはポリエーテルであり、Ｒは、１から
２４個の炭素原子を有する線状もしくは分枝アルキル残
基、６から１２個の炭素原子を有するアリール残基、ま
たは７から２４個の炭素原子を有する混合アルキルアリ
ール残基であり、ここで、この炭素鎖には酸素、窒素ま
たは硫黄原子が割り込んでいてもよく、或は更に上で定
義した如き残基Ｒ_Fであるが、ここで、この２つのＲ_F残
基は同一もしくは異なっていてもよく、Ｙ₁とＹ₂の各々
は、相互に独立して、

【００１３】

【化９】 基を表し、ｍは、０から６（０と６の間）の整数であ
り、ｎは、０から６（０と６の間）の整数であり、そし
てＰＥは、５から５０個のエチレンオキサイド単位か或
は５から５０個のプロピレンオキサイド単位か或は５か
ら５０個のエチレンオキサイドとプロピレンオキサイド
単位混合物を含んでいるポリエーテル鎖であり、そして
Ｒ_Hは、水素原子であるか、或は１から１０個の炭素原
子を有する線状もしくは分枝アルキル残基である］で表
される、フルオロアルキルおよび／またはフルオロアリ
ール基を含んでいるイミド化合物を提供するものであ
る。

【００１４】フルオロアルキルおよび／またはフルオロ
アリール基を含んでいるイミド化合物は、好適には、Ｒ
_Fが３から１０個の炭素原子を有する線状もしくは分枝
フルオロアルキル残基または６から１２個の炭素原子を
有するフルオロアリール残基である化合物である。

【００１５】Ｒ_Fが３から１０個の炭素原子を有する線
状もしくは分枝パーフルオロアルキル残基または６から
１２個の炭素原子を有するパーフルオロアリール残基を
表す、フルオロアルキルおよび／またはフルオロアリー
ル基を含んでいるイミド化合物が好適である。

【００１６】特に好適なものは、Ｒが６から１４個の炭
素原子を有する線状もしくは分枝アルキル残基、６から
１２個の炭素原子を有するアリール残基、７から１４個
の炭素原子を有する混合アルキルアリール残基、または
３から１０個の炭素原子を有する線状もしくは分枝パー
フルオロアルキル残基を表すイミド化合物である。

【００１７】特に好適なものは、Ｙ₁とＹ₂が相互に独立
して

【００１８】

【化１０】 基を表すイミド化合物である。

【００１９】ｍとｎが０であるイミド化合物が特に好適
である。

【００２０】好適には末端Ｒ_H基として２から４個の炭
素原子を有する線状アルキル残基を用いる。

【００２１】特に好適なイミド化合物は、例えば下記の
構造：

【００２２】

【化１１】 を表す。

【００２３】本発明に従うイミド化合物は、アミン化ポ
リエーテル類と、 ― フルオロカルボン酸類 ― フルオロスルホン酸類 ― フルオロカルボン酸またはフルオロスルホン酸誘導
体と、任意に ― カルボン酸類 ― スルホン酸類 ― カルボン酸またはスルホン酸誘導体 とを反応させることによって製造され得る。

【００２４】可能な合成経路は、例として以下：

【００２５】

【化１２】 R_F―(CH₂)_m―Y₁―A₁ + H₂N―PE―R_H + N(CH₂CH₃)₃ → RF―(CH₂)_m―Y₁―N(H)―PE―R_H + [HN((CH₂CH₃)₃]A₁ で描写され、ここで、Ｒ_F、Ｒ、Ｙ₁、Ｙ₂、ｍ、ｎ、Ｐ
ＥおよびＲ_Hは、上と同じ意味を有し、そしてＡ₁および
Ａ₂は、相互に独立して、反応性を示す脱離基、例えば
ハロゲン原子、ヒドロキシ、アルコキシまたはカルボキ
シ基などである。

【００２６】上述した方法では下記の出発化合物が用い
られ得る。

【００２７】フルオロカルボン酸類の例： パーフルオロヘプタン酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₅−ＣＯＯＨ パーフルオロカプリル酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₆−ＣＯＯＨ パーフルオロノナン酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₇−ＣＯＯＨ パーフルオロエーテルカルボン酸二量体 ＣＦ₃−(ＣＦ
₂)₂−Ｏ−ＣＦ(ＣＦ₃)−ＣＯＯＨ パーフルオロエーテルカルボン酸三量体 ＣＦ₃−ＣＦ₂
−[ＣＦ₂−Ｏ−ＣＦ(ＣＦ₃)]₂−ＣＯＯＨ パーフルオロエーテルカルボン酸四量体 ＣＦ₃−ＣＦ₂
−[ＣＦ₂−Ｏ−ＣＦ(ＣＦ₃)]₃−ＣＯＯＨ パーフルオロ安息香酸 Ｃ₆Ｆ₅−ＣＯＯＨ ２,２,３,３,４,４,５,５,６,６,７,７−ドデカフルオ
ロヘプタン酸 Ｈ(ＣＦ₂)₆−ＣＯＯＨ ４,４,５,５,６,６,７,７,８,８,９,９,９−トリデカフ
ルオロノナン酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₅(ＣＨ₂)₂−ＣＯＯＨ ４,４,５,５,６,６,７,７,８,８,９,９,１０,１０,１
１,１１,１１−ヘプタデカフルオロウンデカン酸 ＣＦ
₃−(ＣＦ₂)₇(ＣＨ₂)₂ＣＯＯＨ ２−テトラフルオロエトキシエタン酸 Ｈ(ＣＦ₂)₂−Ｏ
−ＣＨ₂−ＣＯＯＨ ２−ヘキサフルオロプロポキシエタン酸 ＣＦ₃−ＣＨ
Ｆ−ＣＦ₂−Ｏ−ＣＨ₂−ＣＯＯＨ。

【００２８】フルオロスルホン酸の例： パーフルオロブタンスルホン酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₃−Ｓ
Ｏ₃Ｈ パーフルオロヘキサンスルホン酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₅−
ＳＯ₃Ｈ パーフルオロオクタンスルホン酸 ＣＦ₃−(ＣＦ₂)₇−
ＳＯ₃Ｈ パーフルオロベンゼンスルホン酸 Ｃ₆Ｆ₅−ＳＯ₃Ｈ パーフルオロトルエンスルホン酸 ＣＦ₃−Ｃ₆Ｆ₄−Ｓ
Ｏ₃Ｈ。

【００２９】フルオロスルホン酸またはフルオロカルボ
ン酸誘導体の例： 無水パーフルオロ酪酸 [ＣＦ₃(ＣＦ₂)₂ＣＯ]₂Ｏ 塩化パーフルオロ酪酸 ＣＦ₃(ＣＦ₂)₂ＣＯＣｌ パーフルオロ酪酸エチルエステル ＣＦ₃(ＣＦ₂)₂ＣＯ
ＯＣ₂Ｈ₅ フッ化パーフルオロブタンスルホン酸 ＣＦ₃(ＣＦ₂)₂
ＳＯ₂Ｆ フッ化パーフルオロヘキサンスルホン酸 ＣＦ₃(ＣＦ₂)
₅ＳＯ₂Ｆ フッ化パーフルオロオクタンスルホン酸 ＣＦ₃(ＣＦ₂)
₇ＳＯ₂Ｆ 塩化パーフルオロ安息香酸 Ｃ₆Ｆ₅ＣＯＣｌ 塩化パーフルオロベンゼンスルホン酸 Ｃ₆Ｆ₅ＳＯ₂Ｃ
ｌ。

【００３０】カルボン酸の例： ｎ−酪酸 ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＨ ｎ−ペンタン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₃ＣＯＯＨ ｎ−カプロン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₄ＣＯＯＨ ｎ−ヘプタン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₅ＣＯＯＨ ｎ−カプリル酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₆ＣＯＯＨ ｎ−ノナン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₇ＣＯＯＨ ｎ−デカン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₈ＣＯＯＨ ｎ−ウンデカン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₉ＣＯＯＨ ｎ−ドデカン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₁₀ＣＯＯＨ ２−メチルプロピオン酸 (ＣＨ₃)₂ＣＨ−ＣＯＯＨ ３−メチル酪酸 (ＣＨ₃)₂ＣＨ−ＣＨ₂ＣＯＯＨ ２,２−ジメチルプロピオン酸 (ＣＨ₃)₃Ｃ−ＣＯＯＨ ２−メチル酪酸 ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ(ＣＨ₃)−ＣＯＯＨ ２−エチル酪酸 ＣＨ₃ＣＨ₂ＣＨ(Ｃ₂Ｈ₅)−ＣＯＯＨ ２−エチルカプロン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₃ＣＨ(Ｃ₂Ｈ₅)−
ＣＯＯＨ 異性体Ｃ₈酸類 Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯＨ 異性体Ｃ₉酸類 Ｃ₈Ｈ₁₇ＣＯＯＨ 異性体Ｃ₁₃酸類 Ｃ₁₂Ｈ₂₅ＣＯＯＨ ノナデカン酸 Ｃ₁₈Ｈ₃₇ＣＯＯＨ シクロヘキサンカルボン酸 Ｃ₆Ｈ₁₁ＣＯＯＨ プロペン酸 ＣＨ₂＝ＣＨ−ＣＯＯＨ ２−メチルプロペン酸 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)−ＣＯＯＨ トランス−３−メチルプロペン酸 ＣＨ₃ＣＨ＝ＣＨ−
ＣＯＯＨ シス−３−メチルプロペン酸 ＣＨ₃ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ
ＯＨ ２,３−ジメチルプロペン酸 ＣＨ₃ＣＨ＝Ｃ(ＣＨ₃)−
ＣＯＯＨ ヘキサンジエンカルボン酸 ＣＨ₃ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝Ｃ
Ｈ−ＣＯＯＨ １１−ウンデセン酸 ＣＨ₂＝ＣＨ(ＣＨ₂)₈ＣＯＯＨ アセチレン酸 ＣＨ≡Ｃ−ＣＯＯＨ 安息香酸 Ｃ₆Ｈ₅−ＣＯＯＨ メチル安息香酸 ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄−ＣＯＯＨ フェニル酢酸 Ｃ₆Ｈ₅ＣＨ₂−ＣＯＯＨ ナフチル酢酸 Ｃ₁₀Ｈ₇−ＣＨ₂−ＣＯＯＨ。

【００３１】スルホン酸の例： メタンスルホン酸 ＣＨ₃ＳＯ₃Ｈ エタンスルホン酸 ＣＨ₃ＣＨ₂ＳＯ₃Ｈ プロパンスルホン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₂ＳＯ₃Ｈ ブタンスルホン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₃ＳＯ₃Ｈ ペンタンスルホン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₄ＳＯ₃Ｈ ヘキサンスルホン酸 ＣＨ₃(ＣＨ₂)₅ＳＯ₃Ｈ ビニルスルホン酸 ＣＨ₂＝ＣＨＳＯ₃Ｈ メタリルスルホン酸 ＣＨ₂＝Ｃ(ＣＨ₃)−ＣＨ₂−ＳＯ₃
Ｈ ベンゼンスルホン酸 Ｃ₆Ｈ₅ＳＯ₃Ｈ トルエンスルホン酸 ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₄ＳＯ₃Ｈ。

【００３２】スルホン酸またはカルボン酸誘導体の例： スルホン酸／カルボン酸のハロゲン化物 スルホン酸／カルボン酸のエステル スルホン酸／カルボン酸の無水物 スルホン酸／カルボン酸の塩。

【００３３】本発明はまた、界面活性剤としての本発明
に従うイミド類およびそれらの塩類の使用を提供する。

【００３４】本発明に従うイミド化合物は高い表面活性
を示すことから、これらのイミド化合物は、例えば以下
に示す用途分野で用いられ得る。

【００３５】電解過程（例えばクロム、銅およびニッケ
ルを用いた電気メッキ、陽極酸化および電解脱脂）にお
いて、本発明に従う化合物を添加することでスプレーミ
ストを抑制し、そして放電損失を防止することができ
る。

【００３６】非電解浴過程（例えば化学的銅またはニッ
ケルメッキ、化学的脱脂またはさび除去、エッチングま
たはエングレービング、光沢浸漬、酸洗い、黒仕上げま
たは不動態化、陽極酸化または脱メッキ）において、本
発明に従う化合物はスプレーミスト抑制剤および洗浄助
剤として添加され得る。

【００３７】洗浄および維持製品（例えばガラス、オー
ブン、自動車、ビィルディング、被覆または金属表面の
クリーナー、さび除去、シャンプー、家具および自動車
などの艶だし、自己艶だしエマルジョンまたはワック
ス）において、本発明に従う化合物は、流れ調節、展着
剤および湿潤剤として、そして汚れが再び堆積するのを
防止する特性を支持する目的で添加され得る。

【００３８】本発明に従う化合物は、そのまま用いられ
得るか、或はかぶり防止または錆止め剤（例えばガラ
ス、金属またはプラスチック用）として調合物中で用い
られ得る。

【００３９】本発明に従う化合物は、そのまま用いられ
るか、或は腐食抑制剤または腐食保護コーティング物
（例えば重合反応におけるか、或は充填材、繊維、塩ま
たは磁気固体のためか、或はラッカーまたは血液交換に
おける）として調合物中で用いられ得る。

【００４０】本発明に従う化合物は気密バリヤー層を形
成する傾向を示し、従って液体の蒸発または気化を防止
することから、これらはまた消火剤への添加剤として適
切である。

【００４１】本発明に従う化合物は離型剤としても用い
られ得る。

【００４２】塗料およびラッカーに本発明に従う化合物
を添加すると、洗い流し、湿潤および接着特性が改良さ
れる。更に、これらは脱気を促進することから、表面に
欠陥（例えばへこみまたは脱離）が生じるのを防止す
る。更に、それらを添加すると、顔料の分配が改良され
る。本発明に従う化合物が示す泡を生じさせない安定化
作用は、水希釈可能ラッカー製造における調合物で特に
有利である。

【００４３】本発明に従う化合物は疎水性および疎油性
を示すバリヤー層を生じる傾向を示すことから、これら
を建築保護剤中で用いることができる（例えば環境の影
響から保護する目的で）。

【００４４】本発明に従う化合物は流動もしくはスリッ
プ剤として用いられ得る（例えば鉱石または塩類中、磁
気テープ上、または建築材料中）。

【００４５】本発明に従う化合物は潤滑剤、切削油、添
加剤または作動油として適切である。

【００４６】本発明に従う化合物は掘削助剤として用い
られ得る（例えばオイル掘削の性能を上昇させる）。

【００４７】本発明に従う化合物は写真化学品またはフ
ィルム製造で用いられ得る（例えば湿潤もしくは帯電防
止剤として）。

【００４８】本発明に従う化合物はプラント保護製品の
中で用いられ得る（例えば湿潤および流動調節剤とし
て）。

【００４９】本発明に従う化合物を織物、レザーまたは
紙用仕上げ剤に添加すると、これは例えばこの仕上げ剤
の湿潤もしくは浸透を助長するか、消泡効果を示すか、
或は仕上げ剤が示す疎水／疎油作用を支持し得る。

【００５０】以下に示す実施例を用いて本発明を更に詳
しく説明する。

【００５１】

【実施例】実施例１ 撹拌機が備わっている３つ口フラスコの中で、式Ｈ₂Ｎ
(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_19.6Ｃ₄Ｈ₉で表されるポリエーテルの
０．３モル（２７３.９ｇ）とトリエチルアミンの０.３
モル（３０.３ｇ）を５０℃に加熱し、フッ化パーフル
オロオクチルスルホニルの０.３モル（１５０.６ｇ）を
１５分間かけて加えた後、この混合物を、撹拌しながら
４時間３０分還流させる。

【００５２】冷却後、更に０.３モル（３０.３ｇ）のト
リエチルアミンを加え、この混合物を５０℃に加熱し、
０.３モル（９０.６ｇ）のフッ化パーフルオロブチルス
ルホニルを１５分間かけて加えた後、撹拌しながら２時
間還流させる。

【００５３】所望のＮ−パーフルオロブチルスルホン−
Ｎ−パーフルオロオクチルスルホンイミド化合物の収量
は４９１ｇ（理論値の９８％に相当）である。０.１％
水溶液の表面張力は２８.１ｍＮ／ｍであり、そして相
当する１％溶液のそれは２６.０ｍＮ／ｍである（Ｌａ
ｕｄａ製リングテンシオメーターを用いて測定）。

【００５４】実施例２ 撹拌機が備わっている３つ口フラスコの中で、式Ｈ₂Ｎ
(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_19.6Ｃ₄Ｈ₉で表されるポリエーテルの
０.３モル（２７３.９ｇ）とトリエチルアミンの０.６
モル（６０.６ｇ）を５０℃に加熱し、フッ化パーフル
オロブチルスルホニルの０.６モル（１８１.２ｇ）を１
５分間かけて加えた後、この混合物を、撹拌しながら１
０時間還流させる。

【００５５】所望のビス−パーフルオロブチルスルホン
イミド化合物の収量は４２１ｇ（理論値の９５％に相
当）である。０.１％水溶液の表面張力は３６.６ｍＮ／
ｍであり、そして相当する１％溶液のそれは２６.５ｍ
Ｎ／ｍである（Ｌａｕｄａ製リングテンシオメーターを
用いて測定）。

【００５６】実施例３ 撹拌機が備わっている３つ口フラスコの中で、式Ｈ₂Ｎ
(ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ)_19.6Ｃ₄Ｈ₉で表されるポリエーテルの
０.３モル（２７３.９ｇ）とトリエチルアミンの０.３
モル（３０.３ｇ）を５０℃に加熱し、フッ化パーフル
オロブチルスルホニルの０.３モル（９０.６ｇ）を１５
分間かけて加えた後、この混合物を、撹拌しながら２時
間還流させる。

【００５７】冷却後、更に０.３モル（３０.３ｇ）のト
リエチルアミンを加え、この混合物を５０℃に加熱し、
０.３モル（５８.８ｇ）のオクチルスルホニルフルオラ
イドを１５分間かけて加えた後、撹拌しながら２４時間
還流させる。

【００５８】冷却後、この混合物を１５０ｍＬの水で洗
浄し、そして４０℃および５０ミリバールで乾燥する。
所望のＮ−パーフルオロブチルスルホン−Ｎ−オクチル
スルホンイミド化合物の収量は２７６ｇ（理論値の６７
％に相当）である。０.１％水溶液の表面張力は４１.６
ｍＮ／ｍであり、そして相当する１％溶液のそれは３
０.７ｍＮ／ｍである（Ｌａｕｄａ製リングテンシオメ
ーターを用いて測定）。

【００５９】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。

【００６０】１．一般式（Ｉ）

【００６１】

【化１３】 ［式中、Ｒ_Fは、１から１８個の炭素原子を有する線状
もしくは分枝フルオロアルキル残基、６から１２個の炭
素原子を有するフルオロアリール残基、７から１８個の
炭素原子を有する混合フルオロアルキルアリール残基、
または２から１８個の炭素原子を有するフッ素置換され
ているモノもしくはポリエーテルであり、Ｒは、（ｉ）
１から２４個の炭素原子を有する線状もしくは分枝アル
キル残基、６から１２個の炭素原子を有するアリール残
基、または７から２４個の炭素原子を有する混合アルキ
ルアリール残基であり、ここで、この炭素鎖には酸素、
窒素または硫黄原子が割り込んでいてもよく、或は（ｉ
ｉ）更に上で定義した如き残基Ｒ_Fであるが、ここで、
この２つのＲ_F残基は同一もしくは異なっていてもよ
く、Ｙ₁とＹ₂の各々は、独立して、

【００６２】

【化１４】 基を表し、ｍは、０から６の整数であり、ｎは、０から
６の整数であり、そしてＰＥは、５から５０個のエチレ
ンオキサイド単位か或は５から５０個のプロピレンオキ
サイド単位か或は５から５０個のエチレンオキサイドと
プロピレンオキサイド単位混合物を含んでいるポリエー
テル鎖であり、そしてＲ_Hは、水素原子であるか、或は
１から１０個の炭素原子を有する線状もしくは分枝アル
キル残基である］で表される、フルオロアルキルおよび
フルオロアリール基の少なくとも１つを含んでいるイミ
ド化合物。

【００６３】２．Ｒ_Fが、３から１０個の炭素原子を有
する線状もしくは分枝フルオロアルキル残基、または６
から１２個の炭素原子を有するフルオロアリール残基で
ある、第１項記載の、フルオロアルキルおよびフルオロ
アリール基の少なくとも１つを含んでいるイミド化合
物。

【００６４】３．Ｒ_Fが、３から１０個の炭素原子を有
する線状もしくは分枝パーフルオロアルキル残基、また
は６から１２個の炭素原子を有するパーフルオロアリー
ル残基である、第１項記載の、フルオロアルキルおよび
フルオロアリール基の少なくとも１つを含んでいるイミ
ド化合物。

【００６５】４．Ｒが、６から１４個の炭素原子を有す
る線状もしくは分枝アルキル残基、６から１２個の炭素
原子を有するアリール残基、７から１４個の炭素原子を
有する混合アルキルアリール残基、または３から１０個
の炭素原子を有する線状もしくは分枝パーフルオロアル
キル残基である、第１項記載のイミド化合物。

【００６６】５．Ｙ₁とＹ₂が、互いに独立して、

【００６７】

【化１５】 基を表す、第１項記載のイミド化合物。

【００６８】６．ｍとｎが０である第１項記載のイミド
化合物。

【００６９】７．Ｒ_Hが２から４個の炭素原子を有する
線状アルキル残基である、第１項記載のイミド化合物。

【００７０】８．フルオロアルキルまたはフルオロアリ
ール基を含んでいる式（ＩＩ）

【００７１】

【化１６】 Ｒ_F−(ＣＨ₂)_m−Ｙ₁−Ａ₁ （ＩＩ） ［式中、Ｒ_F、ｍ、Ｙ₁は、第１項と同じ意味を有し、そ
してＡ₁は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基およびカルボキシ基から成る群から選択される反応
性を示す脱離基を表す］で表される化合物と、式（ＩＩ
Ｉ）

【００７２】

【化１７】 Ｈ₂Ｎ−ＰＥ−Ｒ_H （ＩＩＩ） ［式中、ＰＥおよびＲ_Hは、第１項と同じ意味を有す
る］で表されるアミンとを、第三級アミンの存在下で反
応させることにより、式（ＩＶ）

【００７３】

【化１８】 Ｒ_F−(ＣＨ₂)_m−Ｙ₁−Ｎ(Ｈ)−ＰＥ−Ｒ_H （ＩＶ） で表される化合物を含んでいる反応生成物を生じさせ、
そして更にここで、式（ＩＶ）で表される上記化合物
を、次に、式（Ｖ）

【００７４】

【化１９】 Ｒ−(ＣＨ₂)_n−Ｙ₂−Ａ₂ （Ｖ） ［式中、Ｒ、ｎおよびＹ₂は、第１項と同じ意味を有
し、そしてＡ₂は、Ａ₁と同じ意味を有する］で表される
化合物と、第三級アミンの存在下で反応させる、第１項
記載のフルオロアルキルおよびフルオロアリール基の少
なくとも１つを含んでいるイミド化合物の製造方法。

【００７５】９．上記イミド化合物またはそれらの塩類
を界面活性剤として組成物に添加する、第１項記載のイ
ミド化合物またはそれらの塩類の使用方法。

【００７６】１０．式

【００７７】

【化２０】 或は式

【００７８】

【化２１】 で表されるイミド化合物。

【００７９】１１．Ｙ₁とＹ₂の各々が独立して

【００８０】

【化２２】 を表す、第１項記載のイミド化合物。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コルネリア・デルツバツハ−ランゲ ドイツ連邦共和国デー51515キユルテン −ベヘン・アマーベーク31 (72)発明者 ラインハルト・ハイダ ドイツ連邦共和国デー51467ベルギツシ ユグラートバツハ・バツハシユトラーセ ５ (72)発明者 ハンス−ハインリヒ・モレツト ドイツ連邦共和国デー51375レーフエル クーゼン・ズユルダーシユトラーセ50 (56)参考文献 特開 昭57−14698（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−55623（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−180861（ＪＰ，Ａ) 特公 昭50−30608（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 65/32 - 65/338 C07C 307/02 C07C 311/48 - 311/53 ＣＡ（ＳＴＮ)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、 Ｒ_Fは、１から１８個の炭素原子を有する線状もしくは
   分枝フルオロアルキル残基、６から１２個の炭素原子を
   有するフルオロアリール残基、７から１８個の炭素原子
   を有する混合フルオロアルキルアリール残基、または２
   から１８個の炭素原子を有するフッ素置換されているモ
   ノもしくはポリエーテルであり、 Ｒは、（ｉ）１から２４個の炭素原子を有する線状もし
   くは分枝アルキル残基、６から１２個の炭素原子を有す
   るアリール残基、または７から２４個の炭素原子を有す
   る混合アルキルアリール残基であり、ここで、この炭素
   鎖には酸素、窒素または硫黄原子が割り込んでいてもよ
   く、或は（ｉｉ）更に上で定義した如き残基Ｒ_Fである
   が、ここで、この２つのＲ_F残基は同一もしくは異なっ
   ていてもよく、 Ｙ₁とＹ₂の各々は、独立して、 【化２】 基を表し、 ｍは、０から６の整数であり、 ｎは、０から６の整数であり、そしてＰＥは、５から５
   ０個のエチレンオキサイド単位か或は５から５０個のプ
   ロピレンオキサイド単位か或は５から５０個のエチレン
   オキサイドとプロピレンオキサイド単位混合物を含んで
   いるポリエーテル鎖であり、そしてＲ_Hは、水素原子で
   あるか、或は１から１０個の炭素原子を有する線状もし
   くは分枝アルキル残基である］で表される、フルオロア
   ルキルおよびフルオロアリール基の少なくとも１つを含
   んでいるイミド化合物。
2. 【請求項２】 フルオロアルキルまたはフルオロアリー
   ル基を含んでいる式（ＩＩ） 【化３】 Ｒ_F−（ＣＨ₂）_m−Ｙ₁−Ａ₁ （ＩＩ） ［式中、 Ｒ_F、ｍ、Ｙ₁は、請求項１と同じ意味を有し、そしてＡ
   ₁は、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基お
   よびカルボキシ基から成る群から選択される反応性を示
   す脱離基を表す］で表される化合物と、式（ＩＩＩ） 【化４】 Ｈ₂Ｎ−ＰＥ−Ｒ_H （ＩＩＩ） ［式中、 ＰＥおよびＲ_Hは、請求項１と同じ意味を有する］で表
   されるアミンとを、第三級アミンの存在下で反応させる
   ことにより、式（ＩＶ） 【化５】 Ｒ_F−（ＣＨ₂）_m−Ｙ₁−Ｎ（Ｈ）−ＰＥ−Ｒ_H （ＩＶ） で表される化合物を含んでいる反応生成物を生じさせ、
   そして更にここで、式（ＩＶ）で表される上記化合物
   を、次に、式（Ｖ） 【化６】 Ｒ−（ＣＨ₂）_n−Ｙ₂−Ａ₂ （Ｖ） ［式中、 Ｒ、ｎおよびＹ₂は、請求項１と同じ意味を有し、そし
   てＡ₂は、Ａ₁と同じ意味を有する］で表される化合物
   と、第三級アミンの存在下で反応させる、請求項１記載
   のフルオロアルキルおよびフルオロアリール基の少なく
   とも１つを含んでいるイミド化合物の製造方法。
3. 【請求項３】 上記イミド化合物またはそれらの塩類を
   界面活性剤として組成物に添加する、請求項１記載のイ
   ミド化合物またはそれらの塩類の使用方法。