JPH0547101B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/043—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure
- G03G5/047—Photoconductive layers characterised by having two or more layers or characterised by their composite structure characterised by the charge-generation layers or charge transport layers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真感光体及びその画像形成法
に関し、詳しくはレーザビームを像様にライン走
査する方式の電子写真プリンタに適した電子写真
感光体及びその画像形成法に関するものである。
に関し、詳しくはレーザビームを像様にライン走
査する方式の電子写真プリンタに適した電子写真
感光体及びその画像形成法に関するものである。
これまで、レーザビームをライン走査する方式
の電子写真プリンタは、レーザビームとしてヘリ
ウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザやヘリ
ウム−ネオンレーザなどの比較的短波長のガスレ
ーザが使用され、しかもそれに用いる電子写真感
光体としては肉厚の感光層を形成するCdS−バイ
ンダ系感光層、電荷移動錯体(IBM Journal of
the Reseach and Development、1971年1月、
P.75〜P.89)が用いられていたので、感光層内で
レーザビームが多重反射を生じることがなく、従
つて実際上画像形成時に干渉縞模様の画像が現わ
れることがなかつた。
の電子写真プリンタは、レーザビームとしてヘリ
ウム−カドミウムレーザ、アルゴンレーザやヘリ
ウム−ネオンレーザなどの比較的短波長のガスレ
ーザが使用され、しかもそれに用いる電子写真感
光体としては肉厚の感光層を形成するCdS−バイ
ンダ系感光層、電荷移動錯体(IBM Journal of
the Reseach and Development、1971年1月、
P.75〜P.89)が用いられていたので、感光層内で
レーザビームが多重反射を生じることがなく、従
つて実際上画像形成時に干渉縞模様の画像が現わ
れることがなかつた。
ところが、前述のガスレーザに代つて、装置を
小型化、低コスト化に設計するために近年になつ
て半導体レーザが使用される様になつて来た。こ
の半導体レーザは一般的に750nm以上の長波長領
域で発振波長を有しているもので、このため長波
長領域で高感度特性をもつ電子写真感光体が必要
となり、このための電子写真感光体が開発されて
来た。
小型化、低コスト化に設計するために近年になつ
て半導体レーザが使用される様になつて来た。こ
の半導体レーザは一般的に750nm以上の長波長領
域で発振波長を有しているもので、このため長波
長領域で高感度特性をもつ電子写真感光体が必要
となり、このための電子写真感光体が開発されて
来た。
これまで知られている長波長光(例えば600nm
以上)に感光性をもつ感光体としては、例えば銅
フタロシアニン、アルミニウムクロライドフタロ
シアニンなどのフタロシアニン顔料を含有させた
感光層、とりわけ電荷発生層と電荷輸送層との積
層構造の感光層を有する積層型電子写真感光体あ
るいはセレン−テルルフイルムを用いた電子写真
感光体が知られている。
以上)に感光性をもつ感光体としては、例えば銅
フタロシアニン、アルミニウムクロライドフタロ
シアニンなどのフタロシアニン顔料を含有させた
感光層、とりわけ電荷発生層と電荷輸送層との積
層構造の感光層を有する積層型電子写真感光体あ
るいはセレン−テルルフイルムを用いた電子写真
感光体が知られている。
この様な長波長光に対して感光性をもつ感光体
をレーザビーム走査方式電子写真プリンタに取り
付けて、レーザビーム露光を行なうと、形成され
たトナー画像には干渉縞模様が現出し、良好な再
生画像が形成できない欠点を有していた。この理
由の1つとしては、例えば長波長レーザが感光層
内で完全に吸収されず、その透過光が基体表面で
正反射し、このため感光層内でレーザビームの多
重反射光を生じ、それが感光層表面の反射光との
間で干渉を生じることが原因とされている。
をレーザビーム走査方式電子写真プリンタに取り
付けて、レーザビーム露光を行なうと、形成され
たトナー画像には干渉縞模様が現出し、良好な再
生画像が形成できない欠点を有していた。この理
由の1つとしては、例えば長波長レーザが感光層
内で完全に吸収されず、その透過光が基体表面で
正反射し、このため感光層内でレーザビームの多
重反射光を生じ、それが感光層表面の反射光との
間で干渉を生じることが原因とされている。
この欠点を解消する方法としては、これまで電
子写真感光体で用いている導電性基体の表面を陽
極酸化法やサンドブラスト法などにより粗面化す
る方法、感光層と基体の間に光吸収層あるいは反
射防止層を用いる方法などにより感光層内で生じ
る多重反射を解消することが提案されて来ている
が、実際問題として画像形成時に現出する干渉縞
模様を完全に解消することができるものではなか
つた、特に、導電性基体の表面を粗面化する方法
では均一な粗さをもつ粗面が形成され難く、ある
割合で比較的大きな粗さ部を形成することがあ
る。このためこの大きな粗さ部が感光層内へのキ
ヤリア注入部として作用し、画像形成時の白ポチ
(あるいは反転現像方式を用いた場合では黒ポチ
となつて現われる)の原因となり、好ましい方法
ではなかつた。しかも、製造上同一ロツト内で均
一な粗面をもつ導電性基体の製造が困難で、改善
すべき点が数多く存在している。又、光吸収層あ
るいは反射防止層を用いる方法についても十分に
干渉縞模様を解消することができず、しかも製造
上コストが上昇するなどの欠点を有している。
子写真感光体で用いている導電性基体の表面を陽
極酸化法やサンドブラスト法などにより粗面化す
る方法、感光層と基体の間に光吸収層あるいは反
射防止層を用いる方法などにより感光層内で生じ
る多重反射を解消することが提案されて来ている
が、実際問題として画像形成時に現出する干渉縞
模様を完全に解消することができるものではなか
つた、特に、導電性基体の表面を粗面化する方法
では均一な粗さをもつ粗面が形成され難く、ある
割合で比較的大きな粗さ部を形成することがあ
る。このためこの大きな粗さ部が感光層内へのキ
ヤリア注入部として作用し、画像形成時の白ポチ
(あるいは反転現像方式を用いた場合では黒ポチ
となつて現われる)の原因となり、好ましい方法
ではなかつた。しかも、製造上同一ロツト内で均
一な粗面をもつ導電性基体の製造が困難で、改善
すべき点が数多く存在している。又、光吸収層あ
るいは反射防止層を用いる方法についても十分に
干渉縞模様を解消することができず、しかも製造
上コストが上昇するなどの欠点を有している。
本発明の目的は、前述の従来の問題点を解消し
た新規な電子写真感光体及びその画像形成法を提
供することにある。
た新規な電子写真感光体及びその画像形成法を提
供することにある。
さらに、本発明の主な目的は画像形成時に現出
する干渉縞模様と反転現像時の黒斑点の現出を同
時にしかも完全に解消した電子写真感光体及びそ
の画像形成法を提供することにある。
する干渉縞模様と反転現像時の黒斑点の現出を同
時にしかも完全に解消した電子写真感光体及びそ
の画像形成法を提供することにある。
本発明の上記目的は、導電性基体上に感光層を
有する電子写真感光体であつて、前記感光層の表
面が非鏡面とされていることを特徴とする本発明
の電子写真感光体並びにかかる特徴を有する電子
写真感光体を用い、光源として可干渉光を用いて
画像形成を行なうことを特徴とする本発明の画像
形成法によつて達成される。
有する電子写真感光体であつて、前記感光層の表
面が非鏡面とされていることを特徴とする本発明
の電子写真感光体並びにかかる特徴を有する電子
写真感光体を用い、光源として可干渉光を用いて
画像形成を行なうことを特徴とする本発明の画像
形成法によつて達成される。
本発明の電子写真感光体は、所謂単層型の感光
層を有する電子写真感光体(以下、単層型感光体
という)であつてもよく、あるいは電荷発生層と
電荷輸送層との2種の層に機能分離した積層構造
の感光層を有する電子写真感光体(以下、積層型
感光体という)であつてもよく、感光層の表面が
非鏡面とされているとは、感光層乃至は感光層を
構成する電荷発生層及び電荷輸送層の何れか少な
くとも1つの界面が非鏡面とされていることを意
味し、例えば単層型感光体においては、感光層の
導電性基体から遠い側の界面、積層型感光体にお
いては電荷発生層の導電性基体から遠い側の界面
などが非鏡面とされていることを意味する。
層を有する電子写真感光体(以下、単層型感光体
という)であつてもよく、あるいは電荷発生層と
電荷輸送層との2種の層に機能分離した積層構造
の感光層を有する電子写真感光体(以下、積層型
感光体という)であつてもよく、感光層の表面が
非鏡面とされているとは、感光層乃至は感光層を
構成する電荷発生層及び電荷輸送層の何れか少な
くとも1つの界面が非鏡面とされていることを意
味し、例えば単層型感光体においては、感光層の
導電性基体から遠い側の界面、積層型感光体にお
いては電荷発生層の導電性基体から遠い側の界面
などが非鏡面とされていることを意味する。
以下、積層型感光体を例にとつて、感光層表面
を非鏡面とすることの作用効果並びに構成例を説
明する。
を非鏡面とすることの作用効果並びに構成例を説
明する。
積層型感光体の構成で、可干渉光による電子写
真的画像形成時に発生する干渉縞は、感光体構成
層の積層による界面において隣折する層の屈折率
差から生ずるフレネル反射成分による干渉により
入射光量の変化に応じて発生するものである。特
に、電荷発生層及び電荷輸送層から構成される積
層型感光体の場合、電荷発生層と電荷輸送層との
境界面での反射に起因する干渉縞の発生が最も著
しい。従つて、この境界面における干渉防止対策
が最も効果的である。そこで本発明の効果が最も
顕著なのはかかる境界面を非鏡面化することによ
り、感光体内部の光学的距離を微視的にランダム
にし、可干渉光に位相差を積極的に設けて干渉性
をとり除くことである。
真的画像形成時に発生する干渉縞は、感光体構成
層の積層による界面において隣折する層の屈折率
差から生ずるフレネル反射成分による干渉により
入射光量の変化に応じて発生するものである。特
に、電荷発生層及び電荷輸送層から構成される積
層型感光体の場合、電荷発生層と電荷輸送層との
境界面での反射に起因する干渉縞の発生が最も著
しい。従つて、この境界面における干渉防止対策
が最も効果的である。そこで本発明の効果が最も
顕著なのはかかる境界面を非鏡面化することによ
り、感光体内部の光学的距離を微視的にランダム
にし、可干渉光に位相差を積極的に設けて干渉性
をとり除くことである。
尚、干渉防止にのために光拡散性基板の上に感
光層を設けるという技術思想があるが、光拡散性
と干渉防止とはまつたく異質なものであり、光拡
散性を付与することは、基本的には全く干渉防止
に効果のないものである。即ち、干渉とは反射光
により発生するものであり、基本的に反射光に位
相差を設けることが必要である。即ち光拡散性で
は界面によるフレネル反射成分の位相差は取除け
ず、干渉防止にはなりえないのである。即ち、本
発明によつて、はじめて干渉防止を十分に効果的
に実施することができる。
光層を設けるという技術思想があるが、光拡散性
と干渉防止とはまつたく異質なものであり、光拡
散性を付与することは、基本的には全く干渉防止
に効果のないものである。即ち、干渉とは反射光
により発生するものであり、基本的に反射光に位
相差を設けることが必要である。即ち光拡散性で
は界面によるフレネル反射成分の位相差は取除け
ず、干渉防止にはなりえないのである。即ち、本
発明によつて、はじめて干渉防止を十分に効果的
に実施することができる。
基本的に干渉防止は、感光体内部の光学的位相
差が可干渉光の1/2波長未満であると、干渉成分
が十分に取除けないため、干渉防止効果が不十分
である。それ故十分な干渉防止効果を得るために
は感光体内部の光学的位相差、即ち界面で形成さ
れる位相差が1/2波長以上であることが望ましい。
差が可干渉光の1/2波長未満であると、干渉成分
が十分に取除けないため、干渉防止効果が不十分
である。それ故十分な干渉防止効果を得るために
は感光体内部の光学的位相差、即ち界面で形成さ
れる位相差が1/2波長以上であることが望ましい。
界面で形成される位相差は、厳密には隣接層の
屈折率等が若干影響するが、幾何学的は成分すな
わち境界面の表面粗さによつて大部分規定される
ものである。
屈折率等が若干影響するが、幾何学的は成分すな
わち境界面の表面粗さによつて大部分規定される
ものである。
従つて干渉縞防止に必要とする位相差は、例え
ば画像形成用光源の波長λに対し1/2λ以上の位
相差があれば十分であり、完全に干渉防止の目的
を達成できる。そこで、境界面の表面粗さを1/2
λ以上とすることが特に有効である。しかしなが
ら本発明によれば、電荷発生層と電荷輸送層との
境界面において干渉防止の効果を達成する場合に
は、電荷発生層による光吸収の効果があり、干渉
防止の効果が高く1/2λよりもはるかに小さな表
面粗さで実質的に干渉防止が可能になる。具体的
には表面粗さRzが0.15μm以上であれば十分な効
果が得られる。
ば画像形成用光源の波長λに対し1/2λ以上の位
相差があれば十分であり、完全に干渉防止の目的
を達成できる。そこで、境界面の表面粗さを1/2
λ以上とすることが特に有効である。しかしなが
ら本発明によれば、電荷発生層と電荷輸送層との
境界面において干渉防止の効果を達成する場合に
は、電荷発生層による光吸収の効果があり、干渉
防止の効果が高く1/2λよりもはるかに小さな表
面粗さで実質的に干渉防止が可能になる。具体的
には表面粗さRzが0.15μm以上であれば十分な効
果が得られる。
尚、本発明で使用する表面粗さRzは、例えば
日本工業規格JIS B0601−1982に規定された表面
粗さであり、基準長さ2.5mmでの十点平均粗さで
あり、測定はテーラーホブソンネ製表面アラサ計
もしくは小坂研究所製万能表面試験機等でで測定
される。界面を非鏡面化するに当つては、電荷発
生層形成後、表面を機械的に研摩する方法、例え
ばブラスト処理等が考えられるが、機械的研摩に
より電子的欠陥が発生しやすく白ポチ、黒ポチ等
の画像欠陥を発生することがある。
日本工業規格JIS B0601−1982に規定された表面
粗さであり、基準長さ2.5mmでの十点平均粗さで
あり、測定はテーラーホブソンネ製表面アラサ計
もしくは小坂研究所製万能表面試験機等でで測定
される。界面を非鏡面化するに当つては、電荷発
生層形成後、表面を機械的に研摩する方法、例え
ばブラスト処理等が考えられるが、機械的研摩に
より電子的欠陥が発生しやすく白ポチ、黒ポチ等
の画像欠陥を発生することがある。
本発明においては、コスト面、および画像上の
欠陥を少なくするために電荷発生層形成時に非鏡
面化を行なうことが有利である。更に具体的には
電荷発生物質の粒子群により、もしくは電荷発生
層中に非鏡面形成のために非電荷発生物質の粒子
群を添加し該粒子により非鏡面を形成するもので
ある。非鏡面を形成するための電荷発生物質粒子
群乃至は非電荷発生物質粒子群の粒子径は、重量
平均粒子径が必要とする界面の表面粗さ以上であ
ることが望ましい。尚、重量平均粒子径は、遠心
分離型光透過式粒度分布計(CAPA−500堀場製
作所製)等で測定される。
欠陥を少なくするために電荷発生層形成時に非鏡
面化を行なうことが有利である。更に具体的には
電荷発生物質の粒子群により、もしくは電荷発生
層中に非鏡面形成のために非電荷発生物質の粒子
群を添加し該粒子により非鏡面を形成するもので
ある。非鏡面を形成するための電荷発生物質粒子
群乃至は非電荷発生物質粒子群の粒子径は、重量
平均粒子径が必要とする界面の表面粗さ以上であ
ることが望ましい。尚、重量平均粒子径は、遠心
分離型光透過式粒度分布計(CAPA−500堀場製
作所製)等で測定される。
本発明の電子写真感光体は、例えば第1図に示
した様な構成とすることができる。
した様な構成とすることができる。
第1図中1は導電性基体、2はバリヤー層で接
着性の強化と基体1の電子的欠陥の除去などを企
図して必要に応じて設けられる。3は電荷発生
層、4は電荷輸送層であり、電荷発生層3と電荷
輸送層4との境界面が、例えばRzが0.15μm以上
の非鏡面とされている。また、導電性基体1とバ
リヤー層2との間に、更に導電層(不図示)を設
けることができる。
着性の強化と基体1の電子的欠陥の除去などを企
図して必要に応じて設けられる。3は電荷発生
層、4は電荷輸送層であり、電荷発生層3と電荷
輸送層4との境界面が、例えばRzが0.15μm以上
の非鏡面とされている。また、導電性基体1とバ
リヤー層2との間に、更に導電層(不図示)を設
けることができる。
第2図は第1図に示した電子写真感光体に、例
えば画像形成のため像露光を行う際の光源からの
光に対する干渉防止効果を説明するための図であ
る。
えば画像形成のため像露光を行う際の光源からの
光に対する干渉防止効果を説明するための図であ
る。
入射光Iは電荷発生層3と電荷輸送層4の界面
により位相基を発生する。従つて各層中での入射
光I2,I3および各界面での反射光R1,R2,R3はそ
れぞれ位相差に差を生ずる。すなわち位相的には
R0=R1≠R2≠R3となり、干渉縞防止の効果とし
ての必要十分条件を満たすことになる。
により位相基を発生する。従つて各層中での入射
光I2,I3および各界面での反射光R1,R2,R3はそ
れぞれ位相差に差を生ずる。すなわち位相的には
R0=R1≠R2≠R3となり、干渉縞防止の効果とし
ての必要十分条件を満たすことになる。
本発明で使用する前記導電性基体1としては、
アルミニウム、真ちゆう、銅、ステンレスなどの
金属あるいはアルミニウム、酸化錫、酸化インジ
ウムをポリエステルなどのプラスチツクの上に蒸
着したフイルムなどを用いることができる。ま
た、導電性基体1とバリヤー層2との間に更に導
電層を設ける場合は、例えばアルミニウム、錫や
金などの導電性金属の蒸着膜又は樹脂中に導電性
粉体を分散含有せしめた被膜を用いることができ
る。この際に用いる導電性粉体としては、アルミ
ニウム、錫、銀などの金属粉体、カーボン粉体や
酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛や酸化錫な
どの金属酸化物を主体とした導電性顔料などを挙
げることができる。又、この導電層に光吸収剤を
含有させることもできる。
アルミニウム、真ちゆう、銅、ステンレスなどの
金属あるいはアルミニウム、酸化錫、酸化インジ
ウムをポリエステルなどのプラスチツクの上に蒸
着したフイルムなどを用いることができる。ま
た、導電性基体1とバリヤー層2との間に更に導
電層を設ける場合は、例えばアルミニウム、錫や
金などの導電性金属の蒸着膜又は樹脂中に導電性
粉体を分散含有せしめた被膜を用いることができ
る。この際に用いる導電性粉体としては、アルミ
ニウム、錫、銀などの金属粉体、カーボン粉体や
酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛や酸化錫な
どの金属酸化物を主体とした導電性顔料などを挙
げることができる。又、この導電層に光吸収剤を
含有させることもできる。
導電性粉体を分散含有する樹脂は、(1)基体に対
する密着性が強固であること、(2)粉体の分散性が
良好であること、(3)耐溶剤性が十分であること、
などの条件を満たすものであれば使用できるが、
特に、硬化性ゴム、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、シリコ
ーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂等の熱硬化性
樹脂が好適である。導電性顔料を分散した樹脂の
体積抵抗率は1013Ωcm以下、好ましくは1012Ωcm
以下が適している。そのため、塗膜において、導
電性顔料は塗膜中10〜60重量%の割合で含有され
ていることが好ましい。
する密着性が強固であること、(2)粉体の分散性が
良好であること、(3)耐溶剤性が十分であること、
などの条件を満たすものであれば使用できるが、
特に、硬化性ゴム、ポリウレタン樹脂、エポキシ
樹脂、アルキド樹脂、ポリエステル樹脂、シリコ
ーン樹脂、アクリル−メラミン樹脂等の熱硬化性
樹脂が好適である。導電性顔料を分散した樹脂の
体積抵抗率は1013Ωcm以下、好ましくは1012Ωcm
以下が適している。そのため、塗膜において、導
電性顔料は塗膜中10〜60重量%の割合で含有され
ていることが好ましい。
更に導電層には、シリコーンオイルや各種界面
活性剤などの表面エネルギー低下剤を含有させる
ことができ、これにより塗膜欠陥が小さい均一塗
膜面を得ることができる。導電性粉体を樹脂中に
分散させる方法としては、ロールミル、ボールミ
ル、振動ボールミル、アトライター、サンドミ
ル、コロイドミルなどの常法によることができ、
基体がシート状である場合には、ワイヤーバーコ
ート、ブレードコート、ナイフコート、ロールコ
ート、スクリーンコートなどが適しており、基体
が円筒状である場合には、浸漬塗布法が適してい
る。
活性剤などの表面エネルギー低下剤を含有させる
ことができ、これにより塗膜欠陥が小さい均一塗
膜面を得ることができる。導電性粉体を樹脂中に
分散させる方法としては、ロールミル、ボールミ
ル、振動ボールミル、アトライター、サンドミ
ル、コロイドミルなどの常法によることができ、
基体がシート状である場合には、ワイヤーバーコ
ート、ブレードコート、ナイフコート、ロールコ
ート、スクリーンコートなどが適しており、基体
が円筒状である場合には、浸漬塗布法が適してい
る。
導電層は、一般に1μm〜50μm、好ましくは
5μm〜30μm程度の膜厚で被膜形成することによ
つて、導電性基体1の突起体の高さhが100μm以
下の場合で、その表面欠陥を十分に隠ぺいするこ
とができる。
5μm〜30μm程度の膜厚で被膜形成することによ
つて、導電性基体1の突起体の高さhが100μm以
下の場合で、その表面欠陥を十分に隠ぺいするこ
とができる。
導電性基体1もしくは導電層と感光層3,4と
の中間に、バリヤー機能と接着機能をもつバリヤ
ー層2を設ける。バリヤー層2は、カゼイン、ポ
リビニルアルコール、フエノール樹脂、塩素化ゴ
ム、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コ
ポリマー、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン
66、ナイロン610、共重合ナイロン、アルコキシ
メチル化ナイロンなど)、ポリウレタン、ゼラチ
ン、などによつて形成できる。
の中間に、バリヤー機能と接着機能をもつバリヤ
ー層2を設ける。バリヤー層2は、カゼイン、ポ
リビニルアルコール、フエノール樹脂、塩素化ゴ
ム、ニトロセルロース、エチレン−アクリル酸コ
ポリマー、ポリアミド(ナイロン6、ナイロン
66、ナイロン610、共重合ナイロン、アルコキシ
メチル化ナイロンなど)、ポリウレタン、ゼラチ
ン、などによつて形成できる。
バリヤー層2の層厚は、0.1μm〜5μm、好まし
くは0.5μm〜3μmが適当である。
くは0.5μm〜3μmが適当である。
本発明における電荷発生層3は、スーダンレツ
ド、ダイアンブルー、ジエナスグリーンBなどの
アゾ顔料、アルゴールイエロー、ピレンキノン、
インダンスレンブリリアント−バイオレツト
RRPなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペ
リレン顔料、インジゴ、チオインジゴ等のインジ
ゴ顔料、インドフアーストオレンジトナーなどの
ビスベンゾイミダゾール顔料、キナクリドン顔料
や特願昭57−165263号に記載のアズレン化合物、
もしくはα型、β型、τ型、x型等の無金属フタ
ロシアニン(metal−free phthalocyanine)ま
たは銅、銀、ベリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、亜銅、カドミウム、バリウム、水銀、アルミ
ニウム、ガリウム、インジウム、ランタン、ネオ
ジウム、サマリウム、ユーロピウム、カドリニウ
ム、ジスプロシウム、ホルシウム、フルビウム、
ツリウム、イツテルピウム、ルテチウム、チタ
ン、ススハニウム、鉛、トリウム、バナジウム、
アンチモン、クロム、モリブデン、ウラン、マン
ガン、鉄、コバルト、ニツケル、ロジウム、バラ
ジウム、オスミウムおよび白金等の金属イオンを
含む各フタロシアニン錯塩等、乃至はこれらフタ
ロシアニンのフタロシアニン基がハロゲン化物、
酸化物等であるフタロシアニン顔料の1種もしく
は2種以上を電荷発生物質とし、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルピロリドン、ノケルセルロール、ポリアクリル
酸エステル類、セルロースエステルなどの結着剤
樹脂にメタトル、エタトル等のアルコール類、メ
チルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケト
ン類、メチルエチルエステル、メチルブチルエス
テル等のエステル類、シクロヘキサノン等の溶剤
の1種もしくは2種以上の有機溶剤を用いて分散
して形成される。組成は電荷発生物質100重量部
に対し結着剤樹脂20〜300重量部が望ましい。電
荷発生物質を分散させる方法としてはロールミ
ル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター
サンドミル、コロイドミル等を用いた常設によ
る。電荷発生物質の分散時の粒子径は平均粒子径
で0.01〜1.0μが望ましい該分散液を、ワイヤバー
コート、ブレードコート、ナイフコート、ロール
コート、スクリーンコート、スプレーコート、浸
漬塗布等により塗布を形成し、加熱乾燥等の常温
により有機溶剤を揮発し電荷発生層とする。膜厚
は0.01〜1.0μmの範囲が望ましい。尚粒子径は遠
心分離型光透過式粒度分布計(CAPA−500堀場
製作所製)等で測定される。
ド、ダイアンブルー、ジエナスグリーンBなどの
アゾ顔料、アルゴールイエロー、ピレンキノン、
インダンスレンブリリアント−バイオレツト
RRPなどのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペ
リレン顔料、インジゴ、チオインジゴ等のインジ
ゴ顔料、インドフアーストオレンジトナーなどの
ビスベンゾイミダゾール顔料、キナクリドン顔料
や特願昭57−165263号に記載のアズレン化合物、
もしくはα型、β型、τ型、x型等の無金属フタ
ロシアニン(metal−free phthalocyanine)ま
たは銅、銀、ベリウム、マグネシウム、カルシウ
ム、亜銅、カドミウム、バリウム、水銀、アルミ
ニウム、ガリウム、インジウム、ランタン、ネオ
ジウム、サマリウム、ユーロピウム、カドリニウ
ム、ジスプロシウム、ホルシウム、フルビウム、
ツリウム、イツテルピウム、ルテチウム、チタ
ン、ススハニウム、鉛、トリウム、バナジウム、
アンチモン、クロム、モリブデン、ウラン、マン
ガン、鉄、コバルト、ニツケル、ロジウム、バラ
ジウム、オスミウムおよび白金等の金属イオンを
含む各フタロシアニン錯塩等、乃至はこれらフタ
ロシアニンのフタロシアニン基がハロゲン化物、
酸化物等であるフタロシアニン顔料の1種もしく
は2種以上を電荷発生物質とし、ポリエステル、
ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリビニ
ルピロリドン、ノケルセルロール、ポリアクリル
酸エステル類、セルロースエステルなどの結着剤
樹脂にメタトル、エタトル等のアルコール類、メ
チルエチルケトン、メチルブチルケトン等のケト
ン類、メチルエチルエステル、メチルブチルエス
テル等のエステル類、シクロヘキサノン等の溶剤
の1種もしくは2種以上の有機溶剤を用いて分散
して形成される。組成は電荷発生物質100重量部
に対し結着剤樹脂20〜300重量部が望ましい。電
荷発生物質を分散させる方法としてはロールミ
ル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター
サンドミル、コロイドミル等を用いた常設によ
る。電荷発生物質の分散時の粒子径は平均粒子径
で0.01〜1.0μが望ましい該分散液を、ワイヤバー
コート、ブレードコート、ナイフコート、ロール
コート、スクリーンコート、スプレーコート、浸
漬塗布等により塗布を形成し、加熱乾燥等の常温
により有機溶剤を揮発し電荷発生層とする。膜厚
は0.01〜1.0μmの範囲が望ましい。尚粒子径は遠
心分離型光透過式粒度分布計(CAPA−500堀場
製作所製)等で測定される。
粒度分布としては、例えばRzを0.15μm以上と
するのであれば、重量平均粒子径で0.15μm以上
であることが好ましく粒度分布を調整する目的
で、複数の電荷発生物質を混合する場合もあり得
る。更に電荷発生層表面を非鏡面化するために非
鏡面形成用の非電荷発生物質粒子を添加する場合
は、電荷発生物質の粒子径は、前述の0.15μm以
下でも干渉防止の効果は得られる。非鏡面形成粒
子としては、重量平均度分布において0.15μm以
上である。非鏡面形成粒子の添加量は、使用する
物質の電子的性質に依つて決められる。電荷発生
層としての機能を招かないためにかつ干渉防止効
果を得るために電荷発生物質100重量部に対し10
〜30重量部が好ましい。尚、電荷発生物質とは、
像形成露光において電荷発生機能を有するものを
意味し、一般的に電荷発生機能を有するが電荷発
生波長領域外の波長で像露光を行なう場合には、
当然のことながら電荷発生物質とはいえない。従
つてこの種の場合には、本発明では非鏡面形成用
の非電荷発生物質粒子の範中に考える。非鏡面形
成用の非電荷発生物質としては以下のものが可能
である。即ち、スーダンレツド、ダイアンブル
ー、ジエナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴ
ールイエロー、ピレンキノン、インダンスレンブ
リリアントバイオレツトRRPなどのキノン顔料、
キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ、チ
オインジゴ等のインジゴ顔料、インドフアースト
オレンジトナーなどのビスベンゾイミダゾール顔
料、キナクドリン顔料等がある。あるいはポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフエン重合
体粉末、ポリフツ化エチレン、ポリフツ化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニリデン等の含ハロゲン系重合
体粉末あるいは各種重合体粉末である。あるいは
TiO2,Cr2O3,V2O3,SiO2,Fe2O3,CoO,
Cu2O,SeO2,Cr2O3,ZuO,BuO,Al2O3,
MgO等の各種金属酸化物の粉末などである。あ
るいはZuS,CdS,GeS等の金属硫化物の粉末な
どである。
するのであれば、重量平均粒子径で0.15μm以上
であることが好ましく粒度分布を調整する目的
で、複数の電荷発生物質を混合する場合もあり得
る。更に電荷発生層表面を非鏡面化するために非
鏡面形成用の非電荷発生物質粒子を添加する場合
は、電荷発生物質の粒子径は、前述の0.15μm以
下でも干渉防止の効果は得られる。非鏡面形成粒
子としては、重量平均度分布において0.15μm以
上である。非鏡面形成粒子の添加量は、使用する
物質の電子的性質に依つて決められる。電荷発生
層としての機能を招かないためにかつ干渉防止効
果を得るために電荷発生物質100重量部に対し10
〜30重量部が好ましい。尚、電荷発生物質とは、
像形成露光において電荷発生機能を有するものを
意味し、一般的に電荷発生機能を有するが電荷発
生波長領域外の波長で像露光を行なう場合には、
当然のことながら電荷発生物質とはいえない。従
つてこの種の場合には、本発明では非鏡面形成用
の非電荷発生物質粒子の範中に考える。非鏡面形
成用の非電荷発生物質としては以下のものが可能
である。即ち、スーダンレツド、ダイアンブル
ー、ジエナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴ
ールイエロー、ピレンキノン、インダンスレンブ
リリアントバイオレツトRRPなどのキノン顔料、
キノシアニン顔料、ペリレン顔料、インジゴ、チ
オインジゴ等のインジゴ顔料、インドフアースト
オレンジトナーなどのビスベンゾイミダゾール顔
料、キナクドリン顔料等がある。あるいはポリエ
チレン、ポリプロピレン等のポリオレフエン重合
体粉末、ポリフツ化エチレン、ポリフツ化ビニリ
デン、ポリ塩化ビニリデン等の含ハロゲン系重合
体粉末あるいは各種重合体粉末である。あるいは
TiO2,Cr2O3,V2O3,SiO2,Fe2O3,CoO,
Cu2O,SeO2,Cr2O3,ZuO,BuO,Al2O3,
MgO等の各種金属酸化物の粉末などである。あ
るいはZuS,CdS,GeS等の金属硫化物の粉末な
どである。
あるいは各種フエライト系粉末などである。
あるいは炭酸バリウム、炭酸カルシウム等の炭
酸金属塩等の粉末などである。
酸金属塩等の粉末などである。
また、電荷輸送層4は主鎖又は側鎖にアントラ
セン、ピレン、フエナントレン、コロネンなどの
多環芳香族化合物又はインドール、カルバゾー
ル、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾー
ル、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾー
ル、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾール
などの含窒素環式化合物を有する化合物、ヒドラ
ゾン化合物等の正孔輸送物質を成膜性のある樹脂
に溶解させて形成される。これは電荷輸送物質が
一般的に低分子量で、それ自身では成膜性に乏し
いためである。そのような樹脂としては、ポリカ
ーボネート、ポリメタクリル酸エステル類、ポリ
アリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ
サルホン、スチレン−アクリロトリルコポリマ
ー、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー等
が挙げられる。
セン、ピレン、フエナントレン、コロネンなどの
多環芳香族化合物又はインドール、カルバゾー
ル、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾー
ル、イミダゾール、ピラゾール、オキサジアゾー
ル、ピラゾリン、チアジアゾール、トリアゾール
などの含窒素環式化合物を有する化合物、ヒドラ
ゾン化合物等の正孔輸送物質を成膜性のある樹脂
に溶解させて形成される。これは電荷輸送物質が
一般的に低分子量で、それ自身では成膜性に乏し
いためである。そのような樹脂としては、ポリカ
ーボネート、ポリメタクリル酸エステル類、ポリ
アリレート、ポリスチレン、ポリエステル、ポリ
サルホン、スチレン−アクリロトリルコポリマ
ー、スチレン−メタクリル酸メチルコポリマー等
が挙げられる。
電荷輸送層4の厚さは5〜20μmである。又、
前述の電荷発生層3を電荷輸送層4の上に積層し
た構造の感光層とすることができる。
前述の電荷発生層3を電荷輸送層4の上に積層し
た構造の感光層とすることができる。
又、前述の感光層としては前述の形式のものに
限らず、例えば前掲のIBM Journal of the
Reseach and Development、1971年1月、P.75
〜P.89に開示されたポリビニルカルバゾールとト
リニトロフルオレノンからなる電荷移動錯体、米
国特許第4315983号公報、米国特許第4327169号公
報などに記載されたピリリウム系化合物を用いた
感光層あるいはよく知られている酸化亜鉛や硫化
カドミウムなどの無機光導電性物質を樹脂中に分
散含有させた感光層やキレン、セレン−テルルな
どの蒸着フイルムを使用することも可能である。
限らず、例えば前掲のIBM Journal of the
Reseach and Development、1971年1月、P.75
〜P.89に開示されたポリビニルカルバゾールとト
リニトロフルオレノンからなる電荷移動錯体、米
国特許第4315983号公報、米国特許第4327169号公
報などに記載されたピリリウム系化合物を用いた
感光層あるいはよく知られている酸化亜鉛や硫化
カドミウムなどの無機光導電性物質を樹脂中に分
散含有させた感光層やキレン、セレン−テルルな
どの蒸着フイルムを使用することも可能である。
本発明の電子写真感光体は、比較的長波長(例
えば750μm以上)の半導体レーザを使用した電子
写真方式プリンタに使用することができるが、そ
の他のレーザビーム例えばヘリウム−ネオンレー
ザ、ヘリウム−カドミウムレーザやアルゴンレー
ザなどを用いた電子写真方式プリンタにも適して
いる。本発明は、この様なレーザビームなどの可
干渉光を光源として使用した際に従来の方法で現
出していた画像形成時の干渉縞模様を完全に解消
することができる他に、黒ポチ(黒斑点)をも有
効に解消することができる利点を有している。
えば750μm以上)の半導体レーザを使用した電子
写真方式プリンタに使用することができるが、そ
の他のレーザビーム例えばヘリウム−ネオンレー
ザ、ヘリウム−カドミウムレーザやアルゴンレー
ザなどを用いた電子写真方式プリンタにも適して
いる。本発明は、この様なレーザビームなどの可
干渉光を光源として使用した際に従来の方法で現
出していた画像形成時の干渉縞模様を完全に解消
することができる他に、黒ポチ(黒斑点)をも有
効に解消することができる利点を有している。
すなわち、一般にレーザビームを使用した電子
写真方式プリンタは、電子写真感光体を帯電した
後にレーザビームを画像信号に応じたポジ像様ス
キヤン露光(イメージスキヤン露光)を与えてバ
ツクイメージに静電潜像を形成し、次いでこの静
電潜像がもつている極性と同一極性のトナーを有
する現像剤を静電潜像画に与えることによりイメ
ージスキヤンされたポジ像様露光部にトナーを付
着させる反転現像方式が採用されているが、この
反転現像方式の場合では形成画像中に黒斑点状の
不要トナー付着が生じていた。これは、前述した
様にサンドブラスト法により形成した粗面では小
さい高さの突起体から大きい高さの突起体の間の
分布状態が大きく、均一な粗面が形成されず、こ
のため不必要に大きい突起部から電荷発生層中に
キヤリアが注入され、帯電時には突起部から注入
されたキヤリアが帯電電荷と静電気的に中和さ
れ、電気的には既に像露光された状態となり、ト
ナー現像時にはトナーの付着を惹き起し、これが
黒斑点を形成する原因となつている。
写真方式プリンタは、電子写真感光体を帯電した
後にレーザビームを画像信号に応じたポジ像様ス
キヤン露光(イメージスキヤン露光)を与えてバ
ツクイメージに静電潜像を形成し、次いでこの静
電潜像がもつている極性と同一極性のトナーを有
する現像剤を静電潜像画に与えることによりイメ
ージスキヤンされたポジ像様露光部にトナーを付
着させる反転現像方式が採用されているが、この
反転現像方式の場合では形成画像中に黒斑点状の
不要トナー付着が生じていた。これは、前述した
様にサンドブラスト法により形成した粗面では小
さい高さの突起体から大きい高さの突起体の間の
分布状態が大きく、均一な粗面が形成されず、こ
のため不必要に大きい突起部から電荷発生層中に
キヤリアが注入され、帯電時には突起部から注入
されたキヤリアが帯電電荷と静電気的に中和さ
れ、電気的には既に像露光された状態となり、ト
ナー現像時にはトナーの付着を惹き起し、これが
黒斑点を形成する原因となつている。
これに対して、本発明の電子写真感光体では前
述した様に導電性基体の表面からのキヤリア注入
部がなく前述の如き反転現像方式を採用しても全
く黒斑点が現われない。この点については下述の
実施例で詳述する。勿論、本発明では前述の反転
現像方式に限らず、各種の現像法、例えばカスケ
ード現像法、磁気ブラシ現像法、パウダークラウ
ド現像法、ジヤンピング現像法や液体現像法など
を採用することもできる。
述した様に導電性基体の表面からのキヤリア注入
部がなく前述の如き反転現像方式を採用しても全
く黒斑点が現われない。この点については下述の
実施例で詳述する。勿論、本発明では前述の反転
現像方式に限らず、各種の現像法、例えばカスケ
ード現像法、磁気ブラシ現像法、パウダークラウ
ド現像法、ジヤンピング現像法や液体現像法など
を採用することもできる。
以下、本発明を実施例に従つて説明する。
実施例 1
アルミニウムインゴツトを外径60φ、長さ258
mm、肉厚0.8mmのシリンダー状にDi成形加工後表
面を施盤にて0.2ζの表面粗さに仕上げた。
mm、肉厚0.8mmのシリンダー状にDi成形加工後表
面を施盤にて0.2ζの表面粗さに仕上げた。
次に共重合ナイロン樹脂(商品名:マミラン
CM−8000、東レ(株)製)10重量部をメタノール60
重量部、ブタノール30重量部から成る混合溶剤に
希釈し粘度10センチポアズなる塗布液を調整し
た。先のアルミ基板上に塗布速度10cm/分にて浸
漬塗布し100℃、10分乾燥にて膜厚1μmのポリア
ミド樹脂層をもうけた。尚、表面粗さRzは0.1μm
であつた。
CM−8000、東レ(株)製)10重量部をメタノール60
重量部、ブタノール30重量部から成る混合溶剤に
希釈し粘度10センチポアズなる塗布液を調整し
た。先のアルミ基板上に塗布速度10cm/分にて浸
漬塗布し100℃、10分乾燥にて膜厚1μmのポリア
ミド樹脂層をもうけた。尚、表面粗さRzは0.1μm
であつた。
次にε型銅フタロシアニン(商品名:リオノー
ルブルES東洋インキ(株)製)二重量部、ブチラー
ル樹脂(商品名:エスレツクBM−2積水化学(株)
製)1重量部をシクロヘキサノン30重量部、メチ
ルエチルケトン67重量部を1mmφガラスビーズを
入れたサンドミル分散機で1時間分散し、重量平
均粒子径0.3μmの調合液を得た。この液を先に形
成したポリアミド樹脂層の上に塗布速度10cm/分
で浸漬塗布し100℃で10分乾燥後表面粗さ
Rz0.3μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を得た。
ルブルES東洋インキ(株)製)二重量部、ブチラー
ル樹脂(商品名:エスレツクBM−2積水化学(株)
製)1重量部をシクロヘキサノン30重量部、メチ
ルエチルケトン67重量部を1mmφガラスビーズを
入れたサンドミル分散機で1時間分散し、重量平
均粒子径0.3μmの調合液を得た。この液を先に形
成したポリアミド樹脂層の上に塗布速度10cm/分
で浸漬塗布し100℃で10分乾燥後表面粗さ
Rz0.3μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を得た。
次いで、下記構造式のヒドラゾン化合物10重量
部 およびスチレン−メタクリル酸メチル共重合樹脂
(商品名:MS200;製鉄化学(株)製)15重量部をト
ルエン80重量部に溶解し粘度120cpsの塗布液を調
合した。この液を先の電荷発生層上に塗布速度10
cm/分で浸漬塗布し100℃/60分乾燥し膜厚16μm
の電荷輸送層を得た。
部 およびスチレン−メタクリル酸メチル共重合樹脂
(商品名:MS200;製鉄化学(株)製)15重量部をト
ルエン80重量部に溶解し粘度120cpsの塗布液を調
合した。この液を先の電荷発生層上に塗布速度10
cm/分で浸漬塗布し100℃/60分乾燥し膜厚16μm
の電荷輸送層を得た。
比較例 1
実施例1における電荷発生層と同一の構成で調
合時におけるサンドミル分散機の分散を20時間お
こない重量平均粒子径0.06μmの調合液を得た。
同一の塗布乾燥条件で、表面粗さRz0.06μm、膜
厚0.15μmの電荷発生層を得た。尚基体、中間層、
電荷輸送層は、実施例1に従つて同一にもうけ
た。この様に作成した実施例1、比較例1を発振
波長778nmの半導体レーザを備えた反転現像方式
の電子写真方式プリンタであるキヤノンレーザビ
ームプリンタLBP−CX(キヤノン(株)製)(一次帯
電および現像剤の帯電極性は負極性)にて画像を
形成したところ実施例1は、干渉縞の認め濃度一
様の画像が得られたが、比較例1は干渉縞により
濃度の不均一な画像しか得られなかつた。
合時におけるサンドミル分散機の分散を20時間お
こない重量平均粒子径0.06μmの調合液を得た。
同一の塗布乾燥条件で、表面粗さRz0.06μm、膜
厚0.15μmの電荷発生層を得た。尚基体、中間層、
電荷輸送層は、実施例1に従つて同一にもうけ
た。この様に作成した実施例1、比較例1を発振
波長778nmの半導体レーザを備えた反転現像方式
の電子写真方式プリンタであるキヤノンレーザビ
ームプリンタLBP−CX(キヤノン(株)製)(一次帯
電および現像剤の帯電極性は負極性)にて画像を
形成したところ実施例1は、干渉縞の認め濃度一
様の画像が得られたが、比較例1は干渉縞により
濃度の不均一な画像しか得られなかつた。
尚実施例1の電荷発生層の構成において、電荷
発生物質の分散時間を種々変えて電荷発生物質の
分散粒子径をコントロールし電荷発生層の表面粗
さRzを種々変えたところ、干渉防止の認められ
る表面粗さRzは0.15μm以上であつた。(実施例2
以降及び第3図参照)。
発生物質の分散時間を種々変えて電荷発生物質の
分散粒子径をコントロールし電荷発生層の表面粗
さRzを種々変えたところ、干渉防止の認められ
る表面粗さRzは0.15μm以上であつた。(実施例2
以降及び第3図参照)。
尚評価方法は、最大黒化度が得られる像露光光
量(9.5μJ/cm2)にて均一に露光したときの濃度
差をもつて干渉縞消去の効果を評価した。
量(9.5μJ/cm2)にて均一に露光したときの濃度
差をもつて干渉縞消去の効果を評価した。
実施例 2
実施例1における電荷発生剤をアルミニウムク
ロルフタロシアニンとし重量平均粒子径0.2μm、
表面粗さRz0.2μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を
形成した。尚基体、中間層、電荷輸送層は実施例
1に従つて同一にもうけた。
ロルフタロシアニンとし重量平均粒子径0.2μm、
表面粗さRz0.2μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を
形成した。尚基体、中間層、電荷輸送層は実施例
1に従つて同一にもうけた。
実施例 3
実施例1における電荷発生剤をτ型フタロシア
ニンとし重量平均粒子径0.35μm、表面粗さ
Rz0.35μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を形成し
た。尚基体、中間層、電荷輸送層は実施例1に従
つて同一にもうけた。
ニンとし重量平均粒子径0.35μm、表面粗さ
Rz0.35μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を形成し
た。尚基体、中間層、電荷輸送層は実施例1に従
つて同一にもうけた。
実施例 4
実施例1における電荷発生剤をアズレニウム化
合物(特願昭57−165263号に記載のもの) とし重量平均粒子径0.40μm、表面粗さRz0.4μm、
膜厚0.30μmの電荷発生層を形成した。
合物(特願昭57−165263号に記載のもの) とし重量平均粒子径0.40μm、表面粗さRz0.4μm、
膜厚0.30μmの電荷発生層を形成した。
尚基体、中間層、電荷輸送層は実施例1に従つ
て同一にもうけた。実施例2、3、4の電子写真
感光体を実施例1と同一のレーザビームプリンタ
ーで画像を形成したところ、均一な濃度の画像が
得られ実施例1と同様に干渉防止の効果が認めら
れた。
て同一にもうけた。実施例2、3、4の電子写真
感光体を実施例1と同一のレーザビームプリンタ
ーで画像を形成したところ、均一な濃度の画像が
得られ実施例1と同様に干渉防止の効果が認めら
れた。
実施例 5
比較例1における電荷発生剤を分散した調合液
(重量平均粒子径0.06μm)95重量部に酸化アルミ
ニウム粉末(#8000)3重量部をシクロヘキサノ
ン30重量部、メチルエチルケトン67重量部を1mm
φガラスビーズを入れたサンドミル分散機で1時
間分散し、重量平均粒子径1.5μmの調合液5重量
部を添加し均一に混合した。この液を塗布速度10
cm/分で浸漬塗布し100℃/10分乾燥し表面粗さ
Rz1.5μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を設けた。
尚、基体、中間層、電荷輸送層は実施例1に従つ
て同一にもうけた。実施例1と同一のレーザビー
ムプリンターで画像を形成したところ、均一な濃
度の画像が得られ干渉防止の効果が認められた。
(重量平均粒子径0.06μm)95重量部に酸化アルミ
ニウム粉末(#8000)3重量部をシクロヘキサノ
ン30重量部、メチルエチルケトン67重量部を1mm
φガラスビーズを入れたサンドミル分散機で1時
間分散し、重量平均粒子径1.5μmの調合液5重量
部を添加し均一に混合した。この液を塗布速度10
cm/分で浸漬塗布し100℃/10分乾燥し表面粗さ
Rz1.5μm、膜厚0.15μmの電荷発生層を設けた。
尚、基体、中間層、電荷輸送層は実施例1に従つ
て同一にもうけた。実施例1と同一のレーザビー
ムプリンターで画像を形成したところ、均一な濃
度の画像が得られ干渉防止の効果が認められた。
実施例 6
実施例1で用いたのと同一のアルミニウムシリ
ンダー上に、ε型銅フタロシアニン(商品名リオ
トルブルーES東洋インキ(株)製)5重量部、ブチ
ラール樹脂(商品名エスレツクBM−2積水化学
(株)製)20重量部をシクロヘキサノン25重量部、メ
チルエチルケトン50重量部を1mmφガラスビーズ
を入れたサンドミル分散機で1時間分散し粘度
100センチポアズ重量平均粒子径0.3μmの調合液
を得た。この液を塗布速度10cm/分で浸漬塗布し
100℃/60分乾燥後、表面粗さ0.2μm、膜厚16μm
の感光層を得た。
ンダー上に、ε型銅フタロシアニン(商品名リオ
トルブルーES東洋インキ(株)製)5重量部、ブチ
ラール樹脂(商品名エスレツクBM−2積水化学
(株)製)20重量部をシクロヘキサノン25重量部、メ
チルエチルケトン50重量部を1mmφガラスビーズ
を入れたサンドミル分散機で1時間分散し粘度
100センチポアズ重量平均粒子径0.3μmの調合液
を得た。この液を塗布速度10cm/分で浸漬塗布し
100℃/60分乾燥後、表面粗さ0.2μm、膜厚16μm
の感光層を得た。
キヤノンレーザビームプリンターLBP−CX
(キヤノン(株)製)を改造し(一次帯電および現像
剤の帯電極性は正極性)画像を得たところ、干渉
縞のない濃度一様の画像が得られた。
(キヤノン(株)製)を改造し(一次帯電および現像
剤の帯電極性は正極性)画像を得たところ、干渉
縞のない濃度一様の画像が得られた。
本発明の電子写真感光体及びその画像形成法に
よれば、画像形成時に現出する干渉縞模様と反転
現像時の黒斑点の現出を同時にしかも完全に消去
することができ、均一濃度の画像を形成すること
ができる。
よれば、画像形成時に現出する干渉縞模様と反転
現像時の黒斑点の現出を同時にしかも完全に消去
することができ、均一濃度の画像を形成すること
ができる。
第1図は本発明の電子写真感光体の構成例とし
て、積層型感光体の構成を示した横断面図であ
る。第2図は、第1図の積層型感光体に像露光を
行う際の光源からの光に対する干渉防止効果を説
明するための説明図である。第3図は、実施例で
作製した積層型感光体における電荷発生層と電荷
輸送層との境界面の表面粗さRzと得られる画像
の濃度差との関係を示した曲線図である。 1……導電性基体、2……バリヤー層、3……
電荷発生層、4……電荷輸送層。
て、積層型感光体の構成を示した横断面図であ
る。第2図は、第1図の積層型感光体に像露光を
行う際の光源からの光に対する干渉防止効果を説
明するための説明図である。第3図は、実施例で
作製した積層型感光体における電荷発生層と電荷
輸送層との境界面の表面粗さRzと得られる画像
の濃度差との関係を示した曲線図である。 1……導電性基体、2……バリヤー層、3……
電荷発生層、4……電荷輸送層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 導電性基体上に感光層を有し、該感光層が電
荷発生層と電荷輸送層との積層構造を有し、少な
くとも前記電荷発生層と前記電荷輸送層との境界
面の表面粗さが、基準長さ2.5mmにおける十点平
均粗さRzで0.15μm以上であることを特徴とする
電子写真感光体。 2 前記電荷発生層が、電荷発生物質の粒子群と
結着剤とを主構成分とし、前記電荷発生物質粒子
群によつて、前記電荷発生層表面の表面粗さRz
が0.15μm以上とされている特許請求の範囲第1
項記載の電子写真感光体。 3 前記電荷発生物質粒子群の重量平均分子径が
0.15μm以上である特許請求の範囲第2項記載の
電子写真感光体。 4 前記電荷発生層が、電荷発生物質、結着剤及
び非電荷発生物質の粒子群を主構成分とし、前記
非電荷発生物質粒子群によつて、前記電荷発生層
表面の表面粗さ(Rz)が0.15μm以上とされてい
る特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体。 5 前記非電荷発生物質粒子群の重量平均粒子径
が0.15μm以上である特許請求の範囲第4項記載
の電子写真感光体。 6 導電性基体上に感光層を有する電子写真感光
体であつて、前記感光層の表面粗さが、基準長さ
2.5mmにおける十点平均粗さ(Rz)で0.15μm以上
である電子写真感光体を用い、光源として可干渉
光を用いて画像形成を行なうことを特徴とする画
像形成法。 7 前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層との積
層構造を有し、少なくとも前記電荷発生層と前記
電荷輸送層との境界面の表面粗さが、基準長さ
2.5mmにおける十点平均粗さ(Rz)で0.15μm以上
である特許請求の範囲第6項記載の画像形成法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7921885A JPS61238060A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 電子写真感光体及びその画像形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7921885A JPS61238060A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 電子写真感光体及びその画像形成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61238060A JPS61238060A (ja) | 1986-10-23 |
JPH0547101B2 true JPH0547101B2 (ja) | 1993-07-15 |
Family
ID=13683783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7921885A Granted JPS61238060A (ja) | 1985-04-16 | 1985-04-16 | 電子写真感光体及びその画像形成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61238060A (ja) |
Families Citing this family (3)
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---|---|---|---|---|
JP3020501B2 (ja) * | 1988-02-26 | 2000-03-15 | 株式会社リコー | 電子写真装置 |
JP4049693B2 (ja) | 2003-03-20 | 2008-02-20 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、及び画像形成装置 |
JP2008276055A (ja) | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Fuji Xerox Co Ltd | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 |
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JPS60189753A (ja) * | 1984-03-12 | 1985-09-27 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPS6163850A (ja) * | 1984-09-05 | 1986-04-02 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
-
1985
- 1985-04-16 JP JP7921885A patent/JPS61238060A/ja active Granted
Patent Citations (21)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS61238060A (ja) | 1986-10-23 |
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