JPH05261867A - 型付け用離型材およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】エンボス時の型付け性が良好で、高温繰り返し
剥離性、転写光沢の良い型付け用離型材。 【構成】型付け用離型材において、表面に凹凸のエンボ
ス加工されている支持体と、該支持体の凹凸表面に沿っ
た形で放射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂からなる樹脂
組成物層が設けられ、該樹脂組成物層を構成する樹脂組
成物の重量比率の３〜３３％が珪素であることを特徴と
する型付け用離型材。 【効果】エンボス時に、シリコーン樹脂の自浄作用によ
りエンボスロールの凹凸が埋まることなく加工でき、長
時間均一な柄を型押しできる。アクリロイル基の重合に
より膜強度が高く、転写面に光沢があり、高温、溶剤に
侵されず、繰り返し剥離性が良好である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、キャスト紙、アート紙
やコート紙、微塗工紙、上質紙などの紙、あるいはポリ
エステル樹脂フィルムを支持体とした離型材に関するも
のであり、その中でも特に型付け製造用の離型材に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】型付け用の離型材は、上質紙やコーテッ
ド紙などの支持体上に、ポリプロピレン系樹脂、シリコ
ーン系樹脂、アルキド系樹脂からなる離型層が設けら
れ、合成皮革、カーボンファイバープレプリグ、床材、
マーキングフィルムなどの製造工程において、ウレタン
ペーストや塩化ビニルゾルなどをキャスティングする離
型材として使用されている。

【０００３】合成皮革製造用などに用いられる離型材の
役割は、ウレタンペーストなどの樹脂溶液が乾燥するま
での保持、および乾燥した樹脂被膜の離型であるが、キ
ャスティングの場合は離型材の表面形状が転写されるた
め、型付けの役目も兼ねる。離型材に必要な特性として
は、樹脂溶液を支持体に染み込ませないバリヤー性、乾
燥後は容易に樹脂被膜を剥せる離型性、乾燥時における
耐熱性、離型材は繰り返し使用されることが多いので、
適度な引っ張り強度、引き裂き強度、カールバランス、
支持体表面が割れないための柔軟性、耐スクラッチ性な
どである。

【０００４】平坦な表面性（エナメルやマットなど）を
有する合成皮革などの転写物を製造する場合は、コーテ
ッド紙やキャスト紙を支持体に用い、その上を剥離性樹
脂により処理すればよいが、型付けのある転写物を製造
する場合は、その型の特に微小部分の再現性、あるいは
鋭い凹凸による支持体の割れを防御する目的で、主にそ
れ自体がある程度の剥離性を有するポリプロピレン樹脂
を主成分とするラミネート層が支持体表面に設けられる
のが普通である。例えば、合成皮革を構成する樹脂がウ
レタンペーストである場合には、その乾燥温度はポリプ
ロピレンの融点よりも低いのが普通なので、ポリプロピ
レンのラミネートが多用される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような型付けの離
型材を作成する場合には、特公昭６４−１０６２６号公
報に記述されているように、ポリオレフィン樹脂ラミネ
ート基材は、軟化点を越す場合には使えないといった問
題や、ポリオレフィン樹脂ラミネート離型材を繰り返し
使用する場合にその型が崩れるという問題、ポリオレフ
ィン樹脂の紙などへの接着性の低さからくるポリオレフ
ィン樹脂層脱離、あるいはこのポリオレフィン樹脂の接
着性の低さをカバーするために低密度ポリエチレンなど
を混合することによる耐熱性の低下や型保持性の悪化な
どという問題があった。

【０００６】そのほかの樹脂、例えば、熱硬化性のアル
キッド樹脂や変性アルキッド樹脂、ポリフォスファゼン
樹脂などはエンボス加工できないといった問題点や、有
機シリコン化合物をコート層に用いた場合には、表面光
沢に欠け、且つ数度の使用でコート層が脱落するといっ
た問題点を有するものであった。

【０００７】特公昭６４−１０６２６号公報によれば、
電離放射線硬化膜をコート層に用いると繰り返し使用し
ても表面層が脱落したり、表面光沢が低下したりするこ
とがなく、塩化ビニルシートの成型を行っても剥離力が
充分に低いという事実が記載されているが、一般の電離
放射線硬化膜には、１回目の離型性（剥離力）と２回目
の離型性に大きな差があり、繰り返し使用の際の剥離力
変動が大きく実質上２回以上は使えないといった問題が
あった。即ち、ここでいう電離放射線硬化膜を形成す
る、エチレン性不飽和結合を有する化合物、例えば、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリ
レート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレー
ト、アクリルアミド、メタクリルアミド、メチロールア
クリルアミド、メチロールメタクリルアミド、ブトキシ
メチルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリルアミ
ド等の単官能モノマー、エチレングリコールジアクリレ
ート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペン
チルグリコールアクリレート、１、６−ヘキサンジオー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレ
ート等の２官能モノマー、トリメチロールプロパントリ
アクリレート等の３官能モノマー、ウレタンアクリレー
ト、ウレタンアクリレートエポキシアクリレート、エポ
キシメタクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリ
エーテルメタクリレート、ポリエステルアクリレート、
ポリエステルメタクリレート、エチレンアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−（オキシジメチレン）ビスメタクリルアミ
ド不飽和ポリエステル等の如きオリゴマーやプレポリマ
ー、或はこれらの樹脂の混合物などを電子線照射又は紫
外線照射して硬化した場合、樹脂表面に吸着した酸素の
影響と思われるが、極表面に薄く不完全硬化層が残る。
この不完全硬化層は、それ自体では液状、あるいはバイ
ンダー能力の弱いものであるから、塩化ビニルシートを
その上に形成し、剥離した場合に完全硬化した層から容
易に剥離してしまう。このため、１回目の剥離力は非常
に小さくなり、表面光沢の低下もなく、樹脂の脱落も無
いように見えるが、２回目の使用時には不完全硬化層が
ないため塩化ビニルシートとの剥離が極端に重くなるも
のであった。この傾向はウレタンペーストを用いた場合
にも同じである。

【０００８】更に、このような電離放射線硬化層を用い
る場合の問題は、その製造過程において安定生産性に欠
けるという点にある。即ち、電離放射線硬化層を形成す
る樹脂が液体であれ、固体であれ、エンボス時に加熱或
は加圧により形状変化できる状態でなければエンボス加
工できない。このため、常温ではエンボスロールに付着
しない樹脂でもエンボス加工時にはエンボスロールに微
量ながら付着することがある。一般の電離放射線硬化膜
を形成するような樹脂は、次第に熱硬化するものであ
り、特に熱エンボスの場合、エンボスロール表面で次第
に硬化膜を形成する。このことはエンボス加工された離
型材の凹凸が段々と浅くなることを意味し、結果として
製造する合成皮革などの柄がぼやけた状態になるという
致命的な問題があった。

【０００９】本発明者らは先に、アクリロイル基を含有
するシリコーン樹脂を用いればこのような繰り返し剥離
強度の変動が小さく、光沢があり、シリコーン樹脂の自
浄作用によりエンボス加工時にエンボスロールに残るこ
とがなく、従って、均一な型付け用離型材が得られると
いう特許出願をしている。しかしながら、この方法で得
られる型付け用離型材は、耐スクラッチ性にまだ難があ
った。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記のよ
うな問題点を解決する手段を鋭意研究した結果、以下の
ような発明を見いだすに至った。即ち、本発明の型付け
用離型材は、支持体の表面に凹凸のエンボス加工が施さ
れ、かつ該支持体の凹凸表面に沿った形で放射線硬化性
樹脂とシリコーン樹脂の混合物からなる樹脂組成物層が
設けられ、該樹脂組成物層を構成する樹脂組成物の重量
比率の３〜３３％が珪素であることを特徴とする型付け
用離型材の発明であり、その型付け用離型材を製造する
にあたって、支持体に、放射線硬化性樹脂とシリコーン
樹脂の混合物からなり、その重量比率の３〜３３％が珪
素である樹脂組成物を塗布する工程と、樹脂組成物を塗
布した支持体にエンボス加工する工程と、樹脂組成物層
を紫外線又は電子線、若しくはその両方を照射して硬化
させる工程よりなることを特徴とする型付け用離型材の
製造方法の発明である。

【００１１】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
用いられるシリコーン樹脂は、紫外線硬化性又は電子線
硬化性樹脂（本特許では、まとめて放射線硬化性樹脂と
称する。）との相性から、アクリロイル基を含有するシ
リコーン樹脂であることが好ましく、一般的なシリコー
ン樹脂（主にポリジメチルシロキサン或はポリジアルキ
ルシロキサン）の分子主鎖の末端或は側鎖にアクリロイ
ル基を導入した樹脂、又はその誘導体である。商品名で
は、ＦＭ０７１１、ＦＭ０７２１、ＦＭ０７２５、ＰＳ
５８３（以上、チッソ（株））、ＫＮＳ−５０００２、
ＫＮＳ−５１００、ＫＮＳ−５３００、ＫＰ−６００、
Ｘ−６２−７０５２、Ｘ−６２−７１００、Ｘ−６２−
７１１２、Ｘ−６２−７１４０、Ｘ−６２−７１４４、
Ｘ−６２−７１５３、Ｘ−６２−７１５７、Ｘ−６２−
７１５８、ＫＮＳ−５２００、Ｘ−６２−７１６６、Ｘ
−６２−７１６８、Ｘ−６２−７１７７、Ｘ−６２−７
１８０、Ｘ−６２−７１８１、Ｘ−６２−７１９２、Ｘ
−６２−７２００、Ｘ−６２−７２０３、Ｘ−６２−７
２０５、Ｘ−６２−７９３１、ＫＭ−８７５、Ｘ−６２
−７２９６Ａ／Ｂ、Ｘ−６２−７３０５Ａ／Ｂ、Ｘ−６
２−７０２８Ａ／Ｂ、Ｘ−６２−５０３９Ａ／Ｂ、Ｘ−
６２−５０４０Ａ／Ｂ（以上、信越化学工業（株））、
ＲＣ１４９、ＲＣ３００、ＲＣ４５０、ＲＣ８０２、Ｒ
Ｃ７１０、ＲＣ７１５、ＲＣ７２０、ＲＣ７３０（以
上、ゴールドシュミット社）、ＥＢＥＣＲＹＬ３５０、
ＥＢＥＣＲＹＬ１３６０（以上、ダイセルＵＣＢ
（株））などが挙げられる。

【００１２】本発明の、特に紫外線硬化法を用いる場
合、光開始剤としては、ジ及びトリクロロアセトフェノ
ンのようなアセトフェノン類、ベンゾフェノン、ミヒラ
ーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインアルキル
エーテル、ベンジルジメチルケタール、テトラメチルチ
ウラムモノサルファイド、チオキサントン類、アゾ化合
物等があり、放射線硬化性樹脂の重合反応のタイプ、安
定性、及び紫外線照射装置との適性などの観点から選ば
れる。光開始剤の使用量は、放射線硬化性樹脂に対し
て、通常Ｏ．１〜５％の範囲である。又、光開始剤にハ
イドロキノンのような貯蔵安定剤が併用される場合もあ
る。

【００１３】本発明において、用いられる放射線硬化性
樹脂のうち代表的なもの挙げると、 （１）ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタク
リレート、例えば、アロニックスＭ−５３００、アロニ
ックスＭ−５４００、アロニックスＭ−５５００、アロ
ニックスＭ−５６００、アロニックスＭ−５７００、ア
ロニックスＭ−６１００、アロニックスＭ−６２００、
アロニックスＭ−６３００、アロニックスＭ−６５０
０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０
３０、アロニックスＭ−８０６０、アロニックスＭ−８
１００（以上、東亜合成化学工業（株）商品名）、ビス
コート７００、ビスコート３７００（以上、大阪有機化
学工業（株）商品名）、カヤラッドＨＸ−２２０、カヤ
ラッドＨＸ−６２０（以上、日本化薬（株）商品名）な
どが挙げられる。

【００１４】（２）ウレタンアクリレート、ウレタンメ
タクリレート、例えば、アロニックスＭ−１１００、ア
ロニックスＭ−１２００、アロニックスＭ−１２１０、
アロニックスＭ−１２５０、アロニックスＭ−１２６
０、アロニックスＭ−１３００、アロニックスＭ−１３
１０（以上、東亜合成化学工業（株）商品名）、ビスコ
ート８１２、ビスコート８２３、ビスコート８２３（以
上、大阪有機化学工業（株）商品名）、ＮＫエステル、
Ｕ−１０８−Ａ、ＮＫエステル、Ｕ−４ＨＡ（以上、新
中村化学（株）商品名）、ディックビームＱＡ１００、
ディックビームＱＡ３００（以上、大日本インキ化学工
業（株）商品名、イソシアネート化合物を含む）などが
挙げられる。

【００１５】（３）単官能アクリレート、単官能メタク
リレート、ビニルピロリドン、アクリロイル化合物、ア
クリルアミド化合物 例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブ
チルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェノキ
シエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、
シクロヘキシルメタクリレート、アクリロイルモルフォ
リン、ベンジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ、
Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ、Ｎ−ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、ブトキシエチルア
クリレート、ビニルピロリドン、アクリルアミドエーテ
ル化合物など。エチレンオキシド変性フェノキシ化りん
酸アクリレートエチレンオキシド変性ブトキシ化りん酸
アクリレート、この他に東亜合成化学工業（株）の商品
名でいえばアロニックスＭ−１０１、アロニックスＭ−
１０２、アロニックスＭ−１１１、アロニックスＭ−１
１３、アロニックスＭ−１１４、アロニックスＭ−１１
７、アロニックスＭ−１５２、アロニックスＭ−１５４
などが挙げられる。

【００１６】エポキシアクリレート、エポキシメタクリ
レート 例えばビスコート５４０、ビスコート６００（以上、大
阪有機化学工業（株）商品名）、ＮＫエステルＥＡ８０
０、ＮＫエステルＥＰＡ８００（以上、新中村化学
（株）商品名）、フォトマー３０１６、フォトマー３０
８２（以上、サンノプコ（株）商品名）などが挙げられ
る。

【００１７】（４）多官能アクリレート、多官能メタク
リレート、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、イソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸トリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチ
レンオキシド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、プロピレンオキシド変性ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、プロピレンオキシド変性ジペンタエ
リスリトールポリアクリレート、エチレンオキシド変性
ジペンタエリスリトールポリアクリレート、ペンタエリ
スリトールアクリル酸付加物のアクリレートエステル、
アクリロイルポリホスファゼンなどが挙げられる。東亜
合成化学工業（株）の商品名でいえばアロニックスＭ−
２１０、アロニックスＭ−２１５、アロニックスＭ−２
２０、アロニックスＭ−２３０、アロニックスＭ−２３
３、アロニックスＭ−２４０、アロニックスＭ−２４
５、アロニックスＭ−３０５、アロニックスＭ−３０
９、アロニックスＭ−３１０、アロニックスＭ−３１
５、アロニックスＭ−３２０、アロニックスＭ−３２
５、アロニックスＭ−３３０、アロニックスＭ−４０
０、アロニックスＭ−４５０などが挙げられる。

【００１８】これらの放射線硬化性樹脂は、単独若しく
は２つ以上混合して使うことができる。

【００１９】本発明において、離型性を発現するのは放
射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂の混合物からなる樹脂
組成物層であり、該樹脂組成物層を構成する樹脂組成物
の重量比率のうち、３〜３３％がシリコーン樹脂由来の
珪素であることが必要である。珪素の比率が、この範囲
未満であると、得られる離型材の剥離性、特に繰り返し
剥離性に問題があり、この範囲を超えても離型性に影響
がなく、且つ樹脂組成物層の強度が低下し、耐スクラッ
チ性が悪くなる傾向にある。放射線重合性樹脂とシリコ
ーン樹脂の混合は、３本ロール、ペイントコンディショ
ナー、攪拌機、自動乳鉢等、如何なる方法を用いても良
く、混合にあたって溶媒を用いることも差し支えない。

【００２０】放射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂からな
る樹脂組成物の塗布量は限定されるものではないが、好
ましくは０．５〜５０ｇ／ｍ² の範囲内である。塗布量
がこの範囲未満では、エンボス加工の凹凸を覆いきれず
剥離が重くなることがあるし、この範囲を超えても剥離
性の向上に寄与しないばかりか、電子線照射又は紫外線
照射の効率が低下することがある。本発明の樹脂組成物
を塗布する方法としては、グラビアロール、トランスフ
ァロールコーター、バーコーター、ロールコーター、エ
アナイフコーター、Ｕコンマコーター、ＡＫＫＵコータ
ー、スムージングコーター、マイクログラビアコータ
ー、エアナイフコーター、リバースロールコーター、４
本或は５本ロールコーター、ブレードコーター、ディッ
プコーター、バーコーター、ロッドコーター、キスコー
ター、ゲートロールコーター、スクイズコーター、落下
カーテンコーター、スライドコーター、ダイコーター、
などいかなるコーターを用いてもよい。

【００２１】電子線の照射方式としては、スキャニング
方式、ブロードビーム方式、カ−テンビ−ム方式、イオ
ンプラズマ方式等が採用され、電子線を照射する加速電
圧は、１００〜３００ＫＶ程度が適当である。γ線を用
いても電子線照射と同様な処理を行うことができるが、
一般に線量密度が低く、製造方法としては好ましくな
い。又、紫外線照射を使用する場合には、光開始剤、必
要に応じて増感剤を配合して用いることができる。紫外
線を用いる場合の光源としては、例えば、低圧水銀灯、
中圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ、タングステ
ンランプ等が好適に使用される。

【００２２】なお、電子線照射に際しては、酸素濃度が
高いとオゾン発生の危険性を伴うことと、放射線硬化性
樹脂とシリコーン樹脂の樹脂組成物の硬化を阻害するこ
とがあるため、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性
ガスによる置換を行い、酸素濃度を６００ppm 以下、好
ましくは４００ppm 以下に抑制した雰囲気中で照射する
ことが好ましい。

【００２３】本発明において、高温繰り返し使用におけ
る型付け時に、剥離性が保持されるのは、樹脂組成物層
に含まれるシリコーン樹脂の影響である。特に、アクリ
ロイル基を含有するシリコーン樹脂は、放射線硬化性樹
脂との共重合が可能で、紫外線照射或は電子線照射によ
り硬化した場合に、重合収縮が小さく、表面が平滑なま
ま硬化する。特に、樹脂組成物中の珪素重量比率が３〜
３３％であれば、放射線硬化性樹脂の高い光沢性、平滑
性を損なうことなく、得られる樹脂組成物層表面は平滑
であり、高い光沢を有するばかりでなく、この光沢の高
さは、合成皮革などの転写面においても現われる。更
に、放射線硬化性樹脂に含まれるアクリロイル基と、シ
リコーン樹脂に含まれるアクリロイル基が３次元的に架
橋するためと思われるが、高温で繰り返し使用した場合
において、剥離力がほとんど変化せず、良好な剥離強度
を維持する。又、アクリロイル基の３次元的な重合が大
きく寄与するものと思われるが、合成皮革などの作成時
に高温で溶剤を用いて繰り返し使用しても流動性、軟化
性、溶解性が小さく、即ちエンボス加工した型が崩れな
い。更に、多分、紫外線照射又は電子線照射時におい
て、支持体表面と放射線硬化性樹脂及びシリコーン樹脂
の間に化学的な結合が出来ることによると思われるが、
得られた離型材を繰り返し使用しても、シリコーン樹脂
を含む樹脂組成物層が脱落することがない。

【００２４】又、放射線硬化性樹脂を含有するシリコー
ン樹脂は、型付け用離型材の製造工程、即ちエンボス加
工時にエンボスロールに付着することはあるが、硬化す
る前のシリコーン樹脂の高い延展性、剥離性から自浄作
用があり、次々に支持体側に移り、エンボスロールの凹
凸を埋めることがない。このため、エンボス加工時にエ
ンボスの凹凸が変化することがなく、均一な深さの柄を
型押しすることができ、柄がぼやけることがない。

【００２５】本発明において、放射線硬化性樹脂とシリ
コーン樹脂の樹脂組成物と支持体の接着性と濡れ性を良
くするために、支持体表面にコロナ処理等の表面処理を
行なっても、サブコート等の表面処理を行なってもよ
い。又、本発明の離型材の裏面には、カール防止、帯電
防止、或は剥離層などのバックコート層を設けることが
出来、バックコート層には帯電防止剤、親水性バインダ
ー、ラテックス、硬膜剤、顔料、界面活性剤、粘着剤等
を適宜組み合わせて含有することができる。

【００２６】型付け加工（エンボス加工）に関しては、
一般のマッチトスチールエンボス、スチール／スチール
エンボス、ペーパー／スチールエンボス、ゴム／スチー
ルエンボス、平版スチールエンボス、高圧エンボス、熱
エンボスなど如何なる型付け方法を用いても差し支えな
い。

【００２７】本発明に用いられる支持体としては、普通
紙原紙の他、片艶紙、グラシン紙、上質紙、アート紙、
コート紙、キャスト紙等のコーテッド紙や合成樹脂フィ
ルム、合成紙、金属箔と紙との貼り合わせ品などが使用
されるが、針葉樹パルプ、広葉樹パルプ、針葉樹広葉樹
混合パルプの木材パルプを主成分とする天然パルプ紙が
有利に用いられる。原紙の厚みに関しては、特に制限は
ないが、平滑なものが好ましく、その坪量は３０〜３０
０ｇ／ｍ²が好ましい。

【００２８】本発明の方法において、有利に用いられる
天然パルプを主成分とする原紙には、各種高分子化合
物、添加剤を含有せしめることができる。例えば、デン
プン、デンプン誘導体（カチオン化デンプン、リン酸エ
ステル化デンプン、酸化デンプン等）、ポリアクリルア
ミド、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール誘
導体（完全ケン化、部分ケン化、カルボキシ変性、カチ
オン変性、その他の各種変性ポリビニルアルコール）、
ゼラチン（アルカリ処理、酸処理、各種変性ゼラチン）
等の乾燥紙力増強剤、スターガムやアルギン酸誘導体な
どの天然高分子多糖類、高級脂肪酸金属塩、ロジン誘導
体、ジアルキルケトン、アルケニルまたはアルキルコハ
ク酸無水物、エポキシ化高級脂肪酸アミド、有機フルオ
ロ化合物、ジアルキルケテンダイマー乳化物等のサイズ
剤、ポリアミドポリアミンエピクロルヒドリン樹脂、メ
ラミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ化ポリアミド樹脂等の
湿潤紙力増強剤、安定剤、顔料、染料、酸化防止剤、蛍
光増白剤、各種ラテックス、無機電解質（塩化ナトリウ
ム、硫酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、塩化カルシウ
ム、塩化リチウム、塩化マグネシウム、硫酸マグネシウ
ム、塩化バリウム等）、ｐＨ調整剤、硫酸バンドや塩化
アルミ等の定着剤、炭酸カルシウム、カオリン、タル
ク、クレー等の填料、有機導電剤等の添加剤を適宜組み
合わせて含有せしめることができる。これらの含有物
は、抄紙段階においてパルプスラリー中に分散させても
よいし、抄紙後タブサイズにおいて添加させてもよく、
また各種コーターで溶液を塗布してもよい。

【００２９】

【作用】本発明の型付け用離型材においては、放射線硬
化性樹脂に含まれるアクリロイル基と、シリコーン樹脂
に含まれるアクリロイル基が３次元的に架橋するため、
型付け用離型材を繰り返し使用した場合に剥離力がほと
んど変化せず、且つシリコーン樹脂層が脱落することも
なく、高温繰り返し使用における型付け時に良好な剥離
性、型付け性が保持される。又、放射線硬化性樹脂と混
合使用したシリコーン樹脂は、重合収縮が小さく、表面
が平滑なまま硬化し、光沢感のある転写面を与え、且つ
放射線硬化性樹脂の高い耐傷性により耐スクラッチ性が
良好である。放射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂からな
る樹脂組成物は、エンボスロールに付着してもシリコー
ン樹脂の高い延展性、剥離性から自浄作用があり、エン
ボスロールの凹凸を埋めることがなく、均一な深さの柄
を型押しすることができ、型保持性が高く、製造安定性
が良い。

【００３０】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳しく説明する
が、本発明の内容は実施例に限られるものではない。

【００３１】実施例１ 離型材用の支持体として、市販の工程紙原紙（三菱製紙
製、工程紙原紙、１００ｇ／ｍ² 、クレイコート層を有
する）を使用した。この支持体の上に、放射線硬化性樹
脂として、トリメチロールプロパントリアクリレートと
アクリロイル基を含有するシリコーン樹脂（信越化学工
業製、商品名Ｘ−６２−７２００）の混合物を比率を変
えて３本ローラーでよく混練して樹脂組成物とし、マル
チロールコーターで４ｇ／ｍ² で塗布した。この樹脂組
成物中に含まれる珪素の重量比率は、硬化後、熱重量分
析により求めた結果、２％、３％、５％、１０％、１５
％、２０％、２５％、３０％、３３％、３５％であっ
た。次いで、このシリコーン樹脂を塗布した支持体に、
メタル／ペーパーエンボスロールにより８０℃の熱エン
ボス加工を施し、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ）
中で、２００ｋｖの加速電圧で、吸収線量が３Mradとな
るように電子線照射（エレクトロンカーテン、ＥＳＩ社
製）を行って、アクリロイル基を含有するシリコーン樹
脂を硬化させ、型付け用離型材を得た。

【００３２】実施例２ 剥離材用の支持体として、コロナ処理を施したＰＥＴフ
ィルム（厚み８０μｍ、ダイアホイル製）を用いた。放
射線硬化性樹脂として、トリシクロホスファゼントリア
クリレート（出光化学工業製）とシリコーン樹脂（ゴー
ルドシュミット社製、商品名ＲＣ７２０）を３本ローラ
ーでよく混練して樹脂組成物とし、マルチロールコータ
ーで４ｇ／ｍ²で塗布した。この樹脂組成物中に含まれ
る珪素の重量比率は、硬化後、熱重量分析により求めた
結果、２５％であった。この樹脂組成物を塗布した支持
体に、メタル／ペーパーエンボスロールにより１３０℃
の熱エンボス加工を施し、窒素雰囲気（酸素濃度２００
ｐｐｍ）中で、２００ｋｖの加速電圧で、吸収線量が３
Mradとなるように電子線照射（エレクトロンカーテン、
ＥＳＩ社製）を行って、アクリロイル基を含有するシリ
コーン樹脂を硬化させ、型付け用離型材を得た。

【００３３】実施例３ 離型材用の支持体として、実施例１と同様な工程紙原紙
を使用した。光開始剤（樹脂に対し、２重量％のチバガ
イギー社製イルガキュア９０５）を混合したアクリロイ
ル基を含有するシリコーン樹脂（信越化学工業製、商品
名ＫＮＳ５３００）と、放射線硬化性樹脂としてエポキ
シアクリレート（昭和高分子製、リポキシＵＲ−９０）
を３本ローラーでよく混練し樹脂組成物とした。この樹
脂組成物中に含まれる珪素の重量比率は、硬化後、熱重
量分析により求めた結果、１５％であった。この樹脂組
成物を支持体に８ｇ／ｍ²で塗布し、メタル／ペーパー
エンボスロールにより８０℃の熱エンボス加工を施し、
１２０ｗ／ｃｍの高圧水銀紫外線照射ランプ２灯を用い
て硬化して型付け用離型材を得た。

【００３４】実施例４ 離型材用の支持体として、実施例１と同様な工程紙原紙
を使用した。光開始剤（樹脂に対し、２重量％のチバガ
イギー社製イルガキュア９０５）を混合したアクリロイ
ル基を含有するシリコーン樹脂（信越化学工業製、商品
名ＫＮＳ５３００）と、放射線硬化性樹脂（東亜合成化
学工業製、アロニックスＭー１２１０）の混合樹脂組成
物を８ｇ／ｍ²で塗布し、メタル／ペーパーエンボスロ
ールにより８０℃の熱エンボス加工を施し、１２０ｗ／
ｃｍの高圧水銀紫外線照射ランプ１灯を用いて部分硬化
し、次に２００ｋｖの加速電圧で、吸収線量が３Mradと
なるように電子線照射（エレクトロンカーテン、ＥＳＩ
社製）を行って、アクリロイル基を含有するシリコーン
樹脂を硬化させ、型付け用離型材を得た。この樹脂組成
物中に含まれる珪素の重量比率は、硬化後、熱重量分析
により求めた結果、１０％であった。

【００３５】比較例１ 離型材用の支持体紙として、実施例１と同様な坪量１０
０ｇ／ｍ²のクレイコートした紙を使用した。次に示す
樹脂組成物成物をロールコーターで１５ｇ／ｍ²の塗布
量で塗布した。 ［樹脂組成物成物］エポキシアクリレート（昭和高分子
製、リポキシＵＲ−９０）１００重量部、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート１０重量部、ベンゾイルメ
チルエーテル３重量部、メチルエチルケトン２５０重量
部。塗布後、メチルエチルケトンを蒸発させ、６０℃に
加温したエンボスロールによりエンボス加工を行い、４
ＫＷの紫外線照射装置により硬化させ、型付け用離型材
を得た。

【００３６】比較例２ 実施例１の樹脂組成物からベンゾイルメチルエーテルを
除いたものを、同様に塗布、メチルエチルケトンを蒸発
させた後、同様にエンボス加工を行い、電子線照射装置
（エレクトロンカーテン、ＥＳＩ社製）により５Mradの
電子線を照射して硬化させ、型付け用離型材を得た。

【００３７】比較例３ 樹脂組成物中に含まれる珪素の重量比率が、硬化後、熱
重量分析により求めた結果、２％であった以外は実施例
１と同様にして型付け用離型材を得た。

【００３８】比較例４ 樹脂組成物中に含まれる珪素の重量比率が、硬化後、熱
重量分析により求めた結果、３５％であった以外は実施
例１と同様にして型付け用離型材を得た。

【００３９】実施例１〜３及び比較例１〜４で得られた
離型材について、以下に示す試験を行い、その結果を表
１に示した。

【００４０】［型保持性、製造安定性］各実施例、比較
例の製造条件により５００ｍの量を製造して、製造初期
（サンプル１と称す）と、製造終了時（サンプル２と称
す）の型付け用離型材をサンプルとして使用した。各サ
ンプルについて、同じ柄部分の２ｃｍ四方をＸ方向５０
０点サンプリング、Ｙ方向５００線サンプリングの条件
で３次元粗さ測定器により解析し、中心面平均粗さＳＲ
ａ、十点平均粗さＳＲｚ、最大高さＳＲｍａ、最大谷高
さＳＲｖを求めた。サンプル１に対するサンプル２の３
次元表面粗さのパラメータに対する比率（％）を求め
た。型保持性としては、この４つのパラメーターの比率
の平均値をもって表わし、この数値が高いほど型保持
性、製造安定性が良好である。９０％以上を優、８０％
以上９０％未満を並、８０％未満を劣で表わした。

【００４１】［初期剥離力］各サンプルに、下記の樹脂
組成物として、ポリ塩化ビニル（ペーストレジン）１０
０重量部、ジオクチルフタレート６０重量部、発泡剤
（アゾジカーボンアミド）３重量部、酸化防止剤（共同
薬品社製、ＫＦ−８０Ａ−８）３重量部、炭酸カルシウ
ム１０重量部の混合物を２０ｇ／ｍ²の厚さで塗布し
た。塗布後、２１０℃の温度で２分間加熱硬化した。剥
離力は１５ｍｍ幅の試験片の発泡ポリ塩化ビニルシート
と型付け用離型材の剥離強度で表わした。

【００４２】［繰り返し剥離力］初期剥離力に用いた各
サンプルに、同じポリ塩化ビニルシートを作成する操作
を５回繰り返し、５回目の剥離強度を測定した。

【００４３】［層強度］初期剥離力の試験を終えた各サ
ンプルと、繰り返し剥離力の試験を終えた各サンプルを
比較し、表面層の脱落の程度を目視で判定し、層強度と
して表わした。全く剥離のないものを優、許容できる範
囲の剥離を並、許容できない範囲の剥離を劣と判定し
た。

【００４４】［光沢］初期剥離力の試験により得られた
ポリ塩化ビニルシートの光沢を測定した。表面光沢の優
れているものを優、ある程度表面光沢のあるものを並、
表面に曇りが見られるものを劣とした。

【００４５】［耐スクラッチ性］初期剥離力の試験に使
用した型付け用離型材をスポンジで軽く擦り、剥離面の
傷の付き方を観察した。傷のつかないものを優、軽く傷
のつくものを並、転写面に残るくらいに傷のつくものを
劣とした。

【００４６】

【表１】

【００４７】評価・・実施例において作成した離型材
は、放射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂の樹脂組成物の
働きにより、繰り返し使用した場合に剥離力がほとんど
変化せず、且つアクリロイル基の重合によりシリコーン
樹脂層が脱落することがなく、型付け時に良好な繰り返
し型付け性が得られる。シリコーン樹脂中にアクリロイ
ル基を含有するため表面が平滑で光沢があり、光沢感の
ある転写面を与える。型付け用離型材の製造工程におい
て、アクリロイル基を含有するシリコーン樹脂は、エン
ボスロールに付着してもシリコーン樹脂の高い延展性、
剥離性から自浄作用があり、エンボスロールの凹凸を埋
めることがなく、均一な深さの柄を型押しすることがで
き、型保持性、製造安定性が良好である。

【００４８】

【発明の効果】本発明の評価からも明かなように、本発
明の型付け用離型材は、型付け性、製造安定性、高温使
用における型保存性、繰り返し性に優れており、実用的
価値が大である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 型付け用離型材において、支持体の表面
   に凹凸のエンボス加工が施され、且つ該支持体の凹凸表
   面に沿った形で放射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂の混
   合物からなる樹脂組成物層が設けられ、該樹脂組成物層
   を構成する樹脂組成物の重量比率の３〜３３％が珪素で
   あることを特徴とする型付け用離型材。
2. 【請求項２】 型付け用離型材の製造方法において、支
   持体に、放射線硬化性樹脂とシリコーン樹脂の混合物か
   らなり、その重量比率の３〜３３％が珪素である樹脂組
   成物を塗布する工程と、該樹脂組成物を塗布した支持体
   にエンボス加工する工程と、樹脂組成物層を紫外線又は
   電子線、若しくはその両方を照射して硬化させる工程よ
   りなることを特徴とする型付け用離型材の製造方法。