JPH052264B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH052264B2 JPH052264B2 JP61270492A JP27049286A JPH052264B2 JP H052264 B2 JPH052264 B2 JP H052264B2 JP 61270492 A JP61270492 A JP 61270492A JP 27049286 A JP27049286 A JP 27049286A JP H052264 B2 JPH052264 B2 JP H052264B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- face plate
- scanning
- radius
- laser spot
- angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 17
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 4
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000032823 cell division Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9501—Semiconductor wafers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Description
ンウエハなどの面板の表面欠陥を検出するため
の、レーザスポツトによる面板走査方法および面
板走査制御装置に関するものである。
陥の検出には、従来からレーザビームを照射して
表面にスポツトを形成し、欠陥による散乱光を受
光器により捉える方法が行われている。この場
合、レーザスポツトの走査方法としてXおよびY
軸方向に走査する形式と、面板を回転して中心ま
たは外周より半径方向にスポツトを移動する回転
形式がある。回転形式は、光学系の走査機構が簡
単であり、サイズの大きい面板を処理する場合に
優れた点がある。なお、いずれの形式において
も、欠陥データは、数値表示のほか、利用に便利
なマツプ表示が併用されている。
に伴つて、シリコンウエハの欠陥の管理は厳密さ
が加重されており、欠陥の検出能力の向上ととも
に、データの数値表示およびマツプ表示が高精度
であることが要求されている。これらに対応する
ためには、合理的な走査と従来以上に密度の高い
サンプリングを行い、次に述べるセルの分割を従
来以上に細かく設定することが必要である。
は、面板の表面を適当な微小面積のセルに分割
し、セル単位にデータの処理および表示を行うこ
とが種々の点で好都合である。たとえば、1個の
欠陥を複数回サンプリングしたとき、欠陥を1個
と判断する処理などにおいて、このセル単位が有
効に使用される。このようなセルに分割する場
合、X,Y走査形式は大きさの一定したセルとす
ることが容易である。これに対して、回転形式で
行われている従来の方法は、回転中心より外方に
スパイラル状に走査を行ない、この走査線を一定
の回転角度の間隔でサンプリングするものであ
る。しかしこの方法では、面板の回転とともに、
半径が連続的に変化するため、セルの座標の角度
θとともに半径rも同時に変化して、データ処理
が複雑となる。また一定の回転角度のサンプリン
グは面板の外周ほど距離間隔が大きいので、大き
さの一定したセルを構成するには工夫を要する。
さらに回転形式において、回転速度を一定とする
と、面板の外周付近で走査速度が非常に高速とな
り、欠陥検出およびサンプリング上好ましくな
い。そこで、内周に対する外周の走査速度の変化
を可能な程度に小さくする、すなわち、回転角速
度を外周に向かつて漸次低下することが必要とな
る。以上の実情に対し、回転形式において、安定
に欠陥検出を行い、合理的なセルを設定できる走
査方法が要請されている。
走査の難点を解消し、走査速度の変化を可能な限
り小さくし、セルの設定に好都合な走査を行うこ
とできる、レーザスポツトによる面板走査方法と
走査制御装置を提供することを目的とするもので
ある。
方法においては、レーザスポツトとして断面が楕
円形で、長軸方向の有効半径がΔrのものを使用
する。走査としては、面板表面を円周方向にP個
の等角度Φに分割し、角度Φ回転する毎に、レー
ザスポツトを面板の半径方向にΔrのP分の1移
動する。レーザスポツトの走査の軌跡は1回転に
つきΔrのピツチで、円弧を段階的に接続したス
パイラル状である。なおこの場合、レーザスポツ
トの長軸は面板の半径方向に一致させている。
定範囲においては、回転角速度を一定として走査
し、また該一定範囲より外周においては、走査速
度を一定とするものである。
発明の方法を実現するもので、面板の回転するス
ピンドルに直結されたロータリエンコーダより、
等角度の角度信号と回転角度の基準点を示す0゜信
号を出力する。外部よりのスタート信号によりス
ピンドルが回転を開始して、一定の角速度に達し
た後、スタート同期部において角度信号を角度パ
ルスとして出力し、また0゜信号を該角度パルスに
同期した0゜パルスとして出力する。分周器におい
ては、角度パルスを分周して、上記の分割数Pに
対応する駆動パルスpを出力する。この駆動パル
スpをスポツト移動機構に入力して、レーザスポ
ツトを面板の半径方向にΔrのP分の1づつ移動
する。この場合、レーザスポツトは、その長軸の
方向を移動方向に一致させておくものである。
ウントすることにより、走査位置に対する面板の
半径rのデータを出力し、ωROMにおいてこの
rデータに対応する回転数データωを出力して、
スピンドル回転機構の角速度制御が行われる。
として、面板の回転中心Oの近傍で、半径rが小
さい値r0の範囲内では一定のω0とし、半径r>r0
に対しては、半径rに反比例するωとするもので
ある。
断面が楕円形で、その長軸の方向を面板の半径方
向としているので、円形のスポツトに比してピツ
チが大きく、従つて検査時間が短縮されると同時
に、円周方向の分解能が向上する。
1ピツチで、円弧が段階的に接続されたスパイラ
ル状に行われ、面板の全域について、スポツトの
強度の変化の少ない走査が達成される。さらに、
走査線が円弧の連続であるので、別途、面板をセ
ルに分割するとき、各円弧についてセルの半径r
の値が一定となり、データ処理、欠陥のマツプ表
示に好都合である。
板の中心付近では一定の回転角速度とするが、そ
れより外周部では、走査速度が一定とされるの
で、外周付近においても、適切な速度で走査が行
われ、欠陥検出およびサンプリングにおいて安定
な動作が行われうるものである。
ては、上記した走査方式を実現するもので、ロー
タリエンコーダより出力される角度信号は、スピ
ンドルの回転が一定速度となつた後、角度パルス
として出力され、これを分周した駆動パルスpは
安定してレーザスポツトを移動し、1回転につき
P個の円弧を段階的に接続して、半径方向のピツ
チΔrの走査をなす。このピツチはレーザスポツ
トの有効半径Δrと等しいので、面板の全域はほ
ぼ均等な強度のスポツトで正確に走査され、走査
漏れを生ずることが全くない。また0゜パルスはカ
ウントされて、半径rのデータがえられ、
ωROMよりこのrの値に対する回転数のデータ
ωが出力されて、スピンドルが所定の角速度で回
転する。この場合、中心付近の半径が一定のr0の
範囲では一定の角速度ω0で回転するが、半径r
がr0より大きい範囲では、半径rに反比例する回
転数データωにより回転し、走査速度が一定に保
たれるもので、欠陥検出およびサンプリングを安
定正確に行いうるものである。なお、上記の角度
パルスは、別途、欠陥検出信号のサンプリングパ
ルスとして使用されるものである。
るレーザスポツトによる面板走査方法の説明図で
ある。
るレーザスポツトの断面形状と面板における断面
の方向を示すもので、レーザスポツト1として図
示のごとき断面が楕円形のものとし、その長軸の
方向を面板2の半径rの方向に一致させて走査
し、円弧をなす走査線3を形成する。このような
楕円形スポツトは、同一断面積の円形スポツトと
ほぼ同一の強度であり、半径方向のピツチを大き
くして検査時間を短縮するとともに、円周方向の
分解能を向上できるものである。なお、実例とし
ては、楕円の長短の半径の比を10対1程度とする
ことができる。
レーザスポツト1の強度分布を示す曲線図で、レ
ーザスポツトの特性により、曲線は指数関数で表
され、半径Δrは、強度が中心値の1/e2の点で
定義されており、この発明においてはΔrをレー
ザスポツトの有効半径とする。図aにおいて、走
査線3のピツチを、レーザスポツトの半径Δrと
等しくとることにより、隣接する走査線3と3′
では図bに示すように、レーザスポツト1と1′
がオーバラツプして、ある程度均一な強度で走査
が行われる。なお、オーバラツプの点iの強度
は、中心値に対して約80%程度である。
ーザスポツト1の描く走査線3の形状を示すもの
である。面板2が矢印Aの方向に回転し、角度Φ
=2π/P回転する毎に、レーザスポツト1はδ
=Δr/Pだけ半径rの方向に移動する。この場
合、回転速度に比較して移動速度が遅いときは、
第2図bに示すように、走査線3の接続部3aの
傾斜が緩やかとなり、これが極端な場合は、通常
のスパイラル走査と同じこととなるので、できる
限り移動速度を速くするものである。
す曲線図で、面板2の回転中心Oに近い半径r0ま
では角速度を一定のω0とし、r>r0の範囲ではω
を半径rに反比例するものとし、最外周の半径R
では、ωeとしている。ただし、図では滑らかな
曲線であるが、実際は、段階的に変化するもので
ある。
ポツトによる面板走査方法および面板走査制御装
置における、実施例のブロツク構成を示す図であ
る。図aにおいて、面板欠陥検出装置の走査部4
はスポツト移動機構4aとスピンドル回転機構4
bより構成され、Rドライバ9およびθドライバ
12は、それぞれスポツト移動機構4aおよびス
ピンドル回転機構4bを駆動する回路である。ス
ピンドル回転機構4bにはロータリエンコーダ5
が直結されており、円周を等角度に分割した角度
信号と、回転角度の基準点を示す0゜信号の出力す
る。スタート同期部6では、スピンドルの角速度
が一定に達してから、角度パルスとこれに同期し
た0゜パルスとして出力する。分周器7は角度パル
スを分周して、面板の円周の分割数Pに等しい数
の駆動パルスpを出力する。この場合、角度パル
スは駆動パルスpに対して分周に都合のよい整数
倍の大きいものとすることが必要である。実例と
して、角度パルスを1回転4000個、駆動パルスp
を10個とし、400分周している。
ト移動機構4aに移動方向を指示する方向信号d
とともにRドライバ9に与えられる。この移動方
向は、端子14よりR駆動制御回路8に入力した
リセツト信号の条件により定まるものである。
部6よりの0゜パルスをカウントする。このカウン
ト数は、面板の1回転毎にP個の駆動パルスpに
よりレーザスポツトが移動したピツチΔrの数に
相当する、すなわち走査位置の半径rを示すもの
である。ωROM11においては、このrの値に
対する回転数のデータωをθドライバ12に与え
る。この場合必要により、方向信号dをθドライ
バ12に与えて回転を逆方向とすることができ
る。
数のデータωは、第3図で説明した中心付近の半
径r0以内では一定のω0とし、半径rがr0を越えた
範囲ではrに反比例するものである。なお、回転
を開始する最初の時点では、rの入力がないが、
端子13よりのスタート信号により起動用の回転
数データω0が出力されて回転が始まる。
を示すものである。ロータリエンコーダ5の出力
する0゜信号は、かならずしも角度信号と同期して
いないので、各部における処理に支障する。そこ
で、フリツプフロツプ6aにおいて、入力した0゜
信号を次の角度信号によりリセツトして、両者の
同期化を行うものである。一方、フリツプフロツ
プ6aはスタート信号によりセツトされており、
0゜信号がカウンタ6cで一定数に達するとフリツ
プフロツプ6bがトリガされて、Q端子よりのセ
ツト信号により、ANDゲート6dおよび6eが
開いて、角度パルスおよび0゜パルスがそれぞれ出
力される。
ス、および回転に伴つて変化する走査位置の半径
rと回転数データまたは角速度ωのタイムチヤー
トで、スタート信号が与えられると角速度ωが上
昇し、図の場合、4回転すると一定のω0に達す
る。以後0゜パルスおよび角度パルスがスタート同
期部より出力される。ついで、角度パルスは分周
されて駆動パルスpとなりレーザスポツトを移動
する。回転が進むに従つて、Rカウンタのrの値
は漸次増加し、一定値r0以後においては、角速度
ωが反比例して減少し、終了時点でωeとなる。
検査終了後、リセツト信号によりスポツト移動機
構が反対方向に動作して、レーザスポツトは中心
位置に復旧するが、詳細は省略する。
よるレーザスポツトによる面板走査方法および面
板走査制御装置によれば、従来の回転走査方法に
おける難点を解消するもので、ほぼ一定の強度
で、ピツチ幅の大きいレーザスポツトにより、面
板の全域を漏れなく走査する。走査線は円弧が段
階的に接続されたスパイラル状であるが、円弧の
間隔はすべて正確にΔrであるので、面板を均等
なセルに分割することが容易であり、また1つの
円弧については、半径が一定しているので、セル
を単位としてのデータ処理を効率的に行うことが
できるなど効果が大きいものである。
レーザスポツトによる面板走査方法および面板走
査制御装置における、レーザスポツトの断面と走
査の間隔ピツチおよび強度分布を示す説明図、第
2図aおよびbは、それぞれこの発明によるレー
ザスポツトによる面板走査方法および面板走査制
御装置による面板上の走査線の形状を示す説明
図、第3図はこの発明によるレーザスポツトによ
る面板走査方法および面板走査制御装置における
面板の単位時間当たりの回転数を示す曲線図、第
4図aおよびbは、それぞれこの発明による面板
走査制御装置の回路構成ブロツク図、第5図は第
4図aおよびbに対する、各信号、各パルスおよ
び走査位置の半径rと面板の回転角速度ωを示す
タイムチヤートである。 1…レーザスポツト、2…面板、3…走査線、
4…走査部、4a…スポツト移動機構、4b…ス
ピンドル回転機構、5…ロータリエンコーダ、6
…スタート同期部、6a,6b…フリツプフロツ
プ、6c…カウンタ、6d,6e…ANDゲート、
7…分周器、8…R駆動制御回路、9…Rドライ
バ、10…Rカウンタ、11…ωROM、12…
θドライバ、13,14…端子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 レーザスポツトによりシリコンウエハなどの
面板の表面を走査して、前記表面に存在する欠陥
を検出する方法において、前記面板の表面に対し
て、断面が楕円形で、長軸方向の有効半径がΔr
のレーザスポツトを照射し、前記面板の表面を円
周方向にP個(Pは正の整数)の等角度Φに分割
して前記角度Φを回転する毎に、前記レーザスポ
ツトを、前記面板の半径方向で、かつ前記レーザ
スポツトの長軸方向に、前記有効半径ΔrのP分
の1に等しい距離を移動して1回転につきΔrの
ピツチで、円弧を段階的に接続したスパイラル状
に走査することを特徴とする、レーザスポツトに
よる面板走査方法。 2 前記面板の回転中心の近傍の一定範囲におい
て、回転の角速度を一定とし前記走査を行い、前
記一定範囲より外周において、走査速度を一定と
して前記走査を行うことを特徴とする、特許請求
の範囲第1項記載のレーザスポツトによる面板走
査方法。 3 面板を回転させるスピンドルに結合され、等
角度の角度信号および回転角度の基準点を示す0゜
信号を出力する信号発生部と、前記スピンドルが
回転を開始して、一定の角速度に達した時点以後
において、前記角度信号を受けて角度パルスと
し、かつ前記0゜信号を受けて前記角度パルスと同
期した0゜パルスとして、それぞれを出力するスタ
ート同期部と、前記角度パルスを分周して、前記
面板の円周の分割数P(Pは正の整数)に対応す
る駆動パルスpを出力する分周回路と、前記駆動
パルスpが入力されて前記レーザスポツトを面板
の半径の方向に、前記レーザスポツトの前記有効
半径ΔrのP分の1移動するスポツト移動機構と、
前記0゜パルスをカウントして、前記レーザスポツ
トの走査位置に対する半径rのデータを出力する
カウンタと、前記半径rのデータが入力されて半
径rに対応する、前記スピンドルの角速度を制御
するための回転数データを出力するメモリとによ
り構成されたことを特徴とする、面板走査制御装
置。 4 前記面板の回転中心の近傍で、半径rが小さ
い値r0の範囲内において、一定の回転数データを
出力し、半径r>r0に対して半径rに反比例する
回転数データを出力するROMを前記メモリとし
て有することを特徴とする、特許請求の範囲第3
項記載の面板走査制御装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27049286A JPS63122937A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | レーザスポットによる面板走査方法および面板走査制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27049286A JPS63122937A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | レーザスポットによる面板走査方法および面板走査制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63122937A JPS63122937A (ja) | 1988-05-26 |
JPH052264B2 true JPH052264B2 (ja) | 1993-01-12 |
Family
ID=17487033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27049286A Granted JPS63122937A (ja) | 1986-11-13 | 1986-11-13 | レーザスポットによる面板走査方法および面板走査制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63122937A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0427848A (ja) * | 1990-05-23 | 1992-01-30 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 異物検査装置の試料走査方式 |
CN111727369B (zh) * | 2018-02-28 | 2022-12-20 | 株式会社日立高新技术 | 检查装置及其检查方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5555206A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Inspection data processing system for defect on face plate |
JPS55133551A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-17 | Hitachi Ltd | Device for driving circular face plate |
JPS60113938A (ja) * | 1983-11-26 | 1985-06-20 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
JPS61133843A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-21 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 表面検査装置 |
-
1986
- 1986-11-13 JP JP27049286A patent/JPS63122937A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5555206A (en) * | 1978-10-20 | 1980-04-23 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | Inspection data processing system for defect on face plate |
JPS55133551A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-17 | Hitachi Ltd | Device for driving circular face plate |
JPS60113938A (ja) * | 1983-11-26 | 1985-06-20 | Toshiba Corp | 表面検査装置 |
JPS61133843A (ja) * | 1984-12-05 | 1986-06-21 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 表面検査装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS63122937A (ja) | 1988-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5438209A (en) | Apparatus for detecting position of a notch in a semiconductor wafer | |
EP0111642A2 (en) | Method and apparatus for measuring a displacement of one member relative to another | |
US4751383A (en) | Method and apparatus for detection of position with correction of errors caused by errors in scale pitch | |
JPS627494B2 (ja) | ||
JPH052264B2 (ja) | ||
US3532887A (en) | Measuring by means of the infrared emission therefrom the length of a moving hot metal slab | |
KR930002719B1 (ko) | 인코더 출력의 정확도를 증가시키는 방법 및 장치 | |
TW200848700A (en) | Measurement apparatus for measuring surface map | |
JPH08145620A (ja) | 回転体上異物位置測定装置 | |
US2829824A (en) | Automatic computer | |
JPH052263B2 (ja) | ||
JP2731144B2 (ja) | 自動化学分析装置 | |
JPS61276229A (ja) | ウエハ位置検出装置 | |
JP3584066B2 (ja) | 回転体上の異物の位置座標測定装置 | |
JPH10221021A (ja) | 寸法測定及び形状検査装置と検査方法 | |
JPS6245145A (ja) | 円板物体の位置決め装置 | |
JPH03120640A (ja) | 偏心測定方法 | |
JPH01267405A (ja) | 環状部品の多項目同時測定装置 | |
JPH05280999A (ja) | 多回転位置検出装置 | |
JPH08178699A (ja) | 位置検出装置 | |
JPS6245143A (ja) | 円板物体の位置決め装置 | |
JPH0734333Y2 (ja) | 角度測定装置 | |
JPS6245142A (ja) | 円板物体の位置決め装置 | |
JPS6321541A (ja) | 表面欠陥検査方法 | |
JP2653560B2 (ja) | 孔位置検出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |