JPS627494B2

JPS627494B2 -

Info

Publication number: JPS627494B2
Application number: JP53128419A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Nakajima; Norio Endo; Kensaku Takahashi
Original assignee: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 1978-10-20
Filing date: 1978-10-20
Publication date: 1987-02-17
Also published as: JPS5555206A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は、回転式走査方式による光学式面板走
査機構を用いて得られるウエハ面板等の表面欠陥
に対する欠陥信号から、ほぼ一定の微小単位面積
毎に欠陥の有無を検出し、かつ数段階の大きさ区
分を行なつて、その存在位置に対応して図形表示
する面板欠陥検査データ処理方式に関する。半導体製品に用いるシリコンウエハ（以下単に
ウエハという）などの面板表面に存在する汚損、
傷などの欠陥の検査は、従来、裸眼又は顕微鏡に
よる目視によつて行なわれているが、対象とする
欠陥の大きさが極めて微小であるため、非能率で
あるばかりでなく、個人差によるバラツキがあ
り、欠点が多い。これに対して、最近、光学的方
法による欠陥検出技術が開発され、この方法によ
れば能率がよく、個人差によるバラツキが少ない
信頼性のある検査を行なうことが可能であるもの
と期待されている。しかし、この光学的方法によ
る場合、光学的検出を正確に行なうと同様に、検
出された信号を迅速かつ合理的に処理し、ウエハ
の製造管理に有効にフイードバツクできる出力デ
ータを提供することにより、はじめて検査方法の
近代化が達成されることになる。面板表面の欠陥を検出するためには、面板の全
域に亘つて光スポツトを当て、これを走査するこ
とが必要である。第１図は先に提案した面板自動
検査装置における光学式面板走査機構の原理を示
す概略図で、ウエハ等の供試面板１は回転機構２
の上端にある真空チヤツク２ａに吸着されて回転
し、光学式欠陥検査部３（これには例えば先に提
案した特願昭53−90328号のものが用いられる）
でレーザ光を適当に絞つてスポツトを面板１上に
照射し、表面上の欠陥による散乱光を受光し、光
電変換して電気信号（以下欠陥信号という）を出
力するものである。そしてこの場合、光スポツト
の走査は、前記光学式欠陥検出部３を、面板１の
中心を通る半径Ｒの方向に移動させることによ
り、面板上を光スポツトがスパイラル状又は段階
的な円形に走査することによつて行なう。さて、上述の方式により、光学式欠陥検出部３
により欠陥の存在の検出の都度、離散した時系列
の欠陥信号が得られるが、これらより欠陥の大き
さ区分を行なつた上、存在位置と共に図形表示す
ることが作業を能率的に行なう上で好ましい。ま
た、多数の欠陥に対して、それぞれの位置を精密
に検出して表示することは必ずしも要望されず、
生産ラインにおいては、製造過程の管理上、むし
ろ欠陥の分布をマクロに捉えることが実用上有効
とされ、そのような図形表示が望まれる。このような背景のもとに、本発明は、第１図に
示した回転方式による光学式面板欠陥走査機構を
用いて得られる欠陥信号に対して、面板上をほぼ
一定面積の微小単位毎に欠陥信号の有無を信号処
理により求めてこれを図形表示できる面板欠陥検
査データ処理方式を提供することを目的としてな
されたものである。次に本発明の原理を第２図を用いて説明する。
第２図ａ，ｂは本発明によつて面板表面の全域を
微小面積に分割する方式を示すもので、面板の半
径Ｒに対して、Ｒ／2⁰、Ｒ／2¹…………Ｒ／２ⁿ
と順次1/2落しの半径をもつ円周を設定し、各円
周間、即ちＲとＲ／２、Ｒ／２とＲ／2²…………
の間を仮に領域（）、（）…………と呼ぶこと
とする。第２図ｂではｎ＝６として、第領域ま
でに分割されている例を示している。さらに各領
域とも、第２図ａに示すように、半径Ｒ方向に微
小長さΔＲ毎に同心の円周を設定する。一方、回転角θ方向については、例えば最も半
径の大きい領域（）に対しては全周360゜を２^m
等分し、次の領域（）では２^m-1等分、領域
（）は２^m-2等分…………領域ｋでは２^m-k等分
（ｍ≧ｋ）の如く、順次２分の１減少する。第２
図ｂではｍ＝８をとり、分割された角度をΔθ
_１，Δθ_２，Δθ_３…………で示している。そして、第２図ａに示すように、半径方向に細
分された微小長さΔＲの直線部と、円周方向に等
分されたΔθに対する円弧ΔＣで囲まれた面積を
微小単位Δｄとし、その微小単位Δｄ中に欠陥信
号があるときはその個数に拘らず欠陥有と判定す
るのである。ただし、欠陥信号の検出において
は、その尖頭値の大きさにより、数段階に区分
し、微小単位Δｄ中に欠陥信号が１個のときには
その段階を、また２個以上あるときは、尖頭値が
最大のものに対する区分段階を付して表示するも
のである。元来、面板欠陥検査においては、多数存在する
個々の欠陥について、微視的な検出データも必要
であるが、本発明においては、当初に述べた理由
により、欠陥分布をマクロに捉えるため、上記の
如く微小単位をとり、各単位内に欠陥が存在する
場合、欠陥個数に拘らず一括して有とし、最大の
ものの段階を例えば色で表示する方法をとるもの
である。そして、実際上の欠陥の分布と個数を勘
案して微小単位の面積、即ち、半径方向の分割数
に関係するｎの値と、周方向の分割数に関係する
ｍの値とを適切に定めることにより、真実に近い
ものが得られ、前述のマクロ的な欠陥表示に対し
て有効なものである。いま、数値例として、直径５インチ（約125
mm）のウエハ面板をとり、直径（2R）を便宜口
上128mmとする。実際問題としても、走査範囲は
面板外周より若干外方にはみ出して走査を行なう
ので、このはみ出し部分を約1.5mmとするのであ
る。このような場合、第２図ａ，ｂに示した各領
域内おける微小単位Δｄの面積の最大、最小値の
比は２：１となる。具体例でいえば、ΔＲ＝１mm
とすると、第２図ｂの最外周側の微小単位Δd₁の
面積は、概算法により、 Δd₁＝ΔＲ×（２πＲ／2⁸）＝1.5706（mm²）となり、最内周側の微小単位Δd₂は、 Δd₂＝ΔＲ×（πＲ／2⁸）＝0.7853（mm²）となる。従つて、Δd₁／Δd₂＝２である。他の領域についても同様である。一方、上記例において、各領域の全周にわたる
微小単位の個数は、（）〜（）について、そ
れぞれ8192個、2048個、512個、128個、32個、８
個、４個で合計10924個である。この個数の算出
は、領域（）について説明すると、｛（Ｒ−Ｒ／２）／ΔＲ｝×2⁸＝｛（64−32）／１｝×256＝8192 から求められる。実用上のウエハ面板においては、欠陥の個数は
面板１枚当り、高々100個程度であり、これ以上
のものは使用に耐えないとされることが多く、微
小単位100個程度に対して欠陥が１個程度の分布
であり、上記の微小単位の大小は、欠陥をマクロ
に捉える場合には問題がないとされる。また、同
一微小単位中に２個以上の複数の欠陥が存在する
確率は極めて小さいものと推察できる。次に光スポツトによる前記微小単位の走査につ
いてみると、スポツト径は、対象とする欠陥の大
きさにより、種々の値がとられるものであるが、
光スポツトの有効径を10μｍとするときは、微小
単位のΔＲ＝１mmに対して円周方向に100回の走
査を必要とする。このような走査により得られる
欠陥信号につき、各微小単位毎に100個分の欠陥
信号がすべて論理和がとられ、同一微小単位内に
複数個の欠陥信号があるときも、それらのうちの
最大なものを代表として、その位置と大きさ区分
とを図形表示するものである。図形表示は、面板
に比例した相似形の図形とし、対応する位置に大
きさを示す色別により打点するのがよい。以上述べた本発明に係る処理は、マイクロコン
ピユータ（以下マイコンという）によることが適
当であるが、欠陥の個数が多いときには、マイコ
ンの能力の限界による処理が困難となることが多
いので、本発明においては、マイコンの前段に専
用の信号処理回路を設けて前処理を行なうもので
ある。次に本発明による金物構成について説明する。
第３図は本発明による面板欠陥検査データ処理方
式の系全体を示しており、光学式面板走査機構５
により得られた欠陥信号を信号処理回路６によつ
て前処理し、マイコン７により上記した処理を行
なつて、出力装置８により図形表示する。また、
このシステムにおいては、マイコン７が主導権を
持ち、信号処理回路６に必要な指令を与える。な
お別途設けられるシーケンス制御回路９は、光学
式面板走査機構５の駆動制御に必要なタイミング
パルスを与えるものであるが、本発明の要部はこ
のシーケンス制御回路９に存在するのではなく、
信号処理回路６にあり、以下その具体例を第４図
によつて説明する。１１は光学式面板走査機構５より前記した面板
１の半径方向の細分表ΔＲ＝１mm毎にデータを区
分するための信号パルス（以下１mmパルス）が入
力される端子である。この１mmパルスは、第１図
において、移動機構４の移動用のボールねじ（図
示せず）の回転角度測定用の例えばロータリーエ
ンコーダの如き角度測定器４ａにより、移動距離
ΔＲ毎に発生するものであり、十分に高い精度の
ものが得られる。１２は、光学式面板走査機構５の回転機構２に
設けられた回転角度検出センサ（図示せず）によ
り得られる基準角度（０度とする）における信号
パルス（以下０度パルスという）を入力する端子
で、このパルスとしては、前記１mmパルスと同様
に精度の高いものを得ることができる。１３，１５は、前記１mmパルス、０度パルスか
ら後述する信号処理のために同期パルスを作るた
めのフリツプフロツプ、１４はインバータであ
る。１６はフリツプフロツプ１５の出力パルスか
らマイコン７への割込信号を作るパルス修正回路
である。１７は光学式面板走査機構５にて得られた欠陥
信号が入力される端子であり、欠陥信号は比較器
１９ａ〜１９ｄの各一方の入力端子に共通に入力
され、他方の入力端子には、端子１８に印加され
る基準電圧を分圧する抵抗１８ａ〜１８ｄによつ
て得られるV₁〜V₄（V₁＜V₂＜V₃＜V₄）の電圧が
与えられる如くなつている。２２ａ〜２２ｄは各
比較器１９ａ〜１９ｄ対応に設けられ、対応する
比較器出力によりセツトされるフリツプフロツ
プ、２３ａ〜２３ｄは各フリツプフロツプ２２ａ
〜２２ｄに対応して設けられ、対応するフリツプ
フロツプの出力によりセツトされるフリツプフロ
ツプである。２６は、フリツプフロツプ２３ａ〜２３ｄの出
力を符号化するデコーダであり、フリツプフロツ
プ群の出力からマイコン処理に好適となるように
下記表の要領で２進数化するものである。

【表】２７ａ〜２７ｃは、デコーダ２６の各ビツト出
力を一方の入力として与え、他方の入力に、シフ
トレジスタ２９の出力及びフリツプフロツプ１５
の負論理出力のアンドをとるアンドゲート２８
の出力を共通に入力するオアゲートであり、各オ
アゲートの出力が対応するシフトレジスタ２９
（オアゲート２７ｂ，２７ｃの後段に設けられる
ものについては図示していない）に支えられ、後
述のパルス分割回路２５の出力であるシフトパル
スｓによつてシフト動作がなされるように構成さ
れ、各シフトレジスタはすべて１ビツト２^m（第
２図の例ではｍ＝８で256）段構成のものであつ
て、面板１の回転方向に対する基本微小単位（Δ
Ｒ＝１mm、Δθ＝２π／256の場合の微小単位）
の数２^mと等しくとられている。３０，３１はフリツプフロツプ１５の正論理Ｑ
出力がオンである時にシフトレジスタ２９の出力
を移して格納するためのアンドゲート及びバツフ
アレジスタである。２４は第１図に示す回転機構２の回転周期に同
期した周期のパルスの発生するパルス発生回路
で、２５は該パルスを２^m（＝256）に分割するパ
ルス分割回路で、基本微小単位の円周方向の区分
パルス（以下Δθパルスという）を得るものであ
る。このパルス分割回路２５には、端子１２ａか
ら回転角度センサからの信号が入力されることに
より、分割パルスは回転角度センサからの信号と
同期したものとなるように構成されている。２０は第１図の面板エツジ検知センサー１０の
エツジ検出信号を入力する端子、２１はエツジ有
に相当する基準電圧を加える端子であり、１９ｅ
は端子２０からの信号と端子２１からの信号を比
較する比較器、２２ｅは比較器１９ｅの出力でセ
ツトされるフリツプフロツプ、２３ｅは該フリツ
プフロツプの出力でセツトされるフリツプフロツ
プで、該フリツプフロツプの出力はマイコン７に
入力されるようになつている。前記パルス分割回路２５の出力パルス（Δθパ
ルス）は、前記各フリツプフロツプ２３ａ〜２３
ｅのトリガ端子に加えられると共に、シフトレジ
スタ２９にシフトパルスとして加えられ、かつア
ンドゲート３２、オアゲート３３を介してバツフ
アレジスタ３１にデータ読込み信号として加えら
れるようになつている。次に第４図の回路の動作を説明する。フリツプ
フロツプ１３に、まず１mmパルスが入力され、次
いで０度パルスが入力すると、（この場合０度パ
ルスの個数は１mmパルスのそれに比べて非常に多
く、ΔＲ＝１mm、光束スポツトが10μｍの場合約
100倍となる）、その時点でフリツプフロツプ１３
がまずセツトされ、続いてフリツプフロツプ１５
がセツトされる。ついで、次の０度パルスの入力
によりフリツプフロツプ１５はリセツトされるの
で、結局１mmパルスに続く２つの０度パルスの間
だけフリツプフロツプ１５がセツトされ、上記し
た同期操作が完了する。同期された該１mmパルス
を以下同期１mmパルスという。一方、端子１７から入力される欠陥信号が比較
器１９ａ〜１９ｄの各基準電圧V₁〜V₄と比較さ
れ、基準電圧を越えているものにおいてはパルス
が出力される。出力パルスの得られた比較器の後
段のフリツプフロツプ２２ａ〜２２ｄはセツトさ
れ、その出力がフリツプフロツプ２３ａ〜２３ｄ
に加えられ、面板の１回転当り256個発生するパ
ルス分割回路２５の出力パルスでこれらのフリツ
プフロツプ２３ａ〜２３ｄがトリガされることに
より、端子１７から入力される欠陥信号の大きさ
に応じたデータが２３ａ〜２３ｄからなるフリツ
プフロツプ群にセツトされる。このセツトされた
データはデコーダ２６で前記の表の如く２進数に
変換され、オアゲート２７ａ〜２７ｃを介して対
応するシフトレジスタ２９に入力される。なお、
各レジスタ２９の出力は、アンドゲート２８を介
し、オアゲート２７ａ〜２７ｃで論理和がとられ
てシフトレジスタ２９の初段に入力される。ここ
で、フリツプフロツプ１５の負論理の出力は、
当初の１mmパルスに続く２つの０度パルスの間だ
けオフとなり、この間だけシフトレジスタ２９の
出力のビツトの初段への帰還動作が中止される
が、他の期間中（即ち同期１mmパルスの出力があ
る期間中）は該帰還動作は持続される。従つて、
１mmパルスが入力された後、次の１mmパルスが入
力される期間中、欠陥信号はすべてシフトレジス
タの同一レジスタ段について論理和がとられ、結
局その間に、面板全周にわたる256に分割された
各領域における欠陥信号の最大値がレジスタ２９
の各段に記憶されることになる。一方、フリツプフロツプ１５の出力がオフと
なると、前記帰還動作が中断されＱ出力がオンと
なることにより、アンドゲート３０が開いてシフ
トパルスｓ（Δθパルス）により、シフトレジス
タ２９の各段のデータがバツフアレジスタ３１に
入力される。この時、Δθパルスがアンドゲート
３２およびオアゲート３３を介してバツフアレジ
スタ３１にデータ読込み信号として入力され、か
つパルス修正回路１６で同期１mmパルスが波形整
形され、マイコン７に割込み信号（INT）として
入力され、処理を捉す。これによつてマイコン７
はオアゲートを介してデータ読取り信号４０をバ
ツフアレジスタ３１に加えて該レジスタ内のデー
タを、マイコン７の所定の記憶エリアに格納す
る。ところで、面板１は一般には必ずしも円形でな
い場合もあり、またウエハにおいても特に図示し
ていないが完全な円形でなく、円周の一部を切り
欠いたものが一般的である。一方、光学式の欠陥
検出方法においては、欠陥による散乱光に類似し
て、面板のエツジにより散乱光が生ずるものであ
り、このようなエツジ散乱光も受光器に受光され
て上述した信号処理が行なわれて最終的には図形
表示される。しかしながら、真の欠陥情報でない
これらのエツジ情報は図形表示から除去する方が
製造管理上好ましいので、この実施例ではこれを
除去するものとしている。即ち、第１図の１０で
示すエツジ検知センサを面板１のエツジ付近でか
つレーザビームを受光できる位置におき、光学式
欠陥検出部３が半径Ｒの方向に移動するに伴なつ
て、面板１のエツジの投影によりエツジを検出す
るもので、これによつて得られるエツジ有の信号
を端子２０より比較器１９ｅに入力して一定電圧
と比較し、該一定電圧を越えるときにフリツプフ
ロツプ２２ｅをセツトし、これにより、Δθパル
スが出力された時点でフリツプフロツプ２３ｅを
セツトし、欠陥情報と同様のタイミングによりマ
イコン７に転送する。このエツジ有の情報は、勿
論基本微小単位毎に論理和がとられるもので、前
記した表の右欄のB₂ビツトに１、０を以て表わ
される。これにより、マイコン７に転送される欠
陥情報のビツト構成は４ビツトとなり、すべての
基本微小単位に対応した容量の一時記憶装置が必
要である。前述した通り、本発明においては、微小単位の
区分方法として、面板の中心部に近い程分割角度
Δθを大きくとり、微小単位の面積が全体におい
てほぼ均一となるように領域分割法をとつてい
る。このように、領域毎に変化する分割角度Δθ
に対して、前記した信号処理回路６において得ら
れた欠陥情報をさらに集約することが必要で、こ
れはマイコン７において行なわれる。第５図はこのマイコン７によるデータ処理の一
例を示すフロチヤートである。まずマイコン７に
は、供試面板１のサイズが読込まれ、これにより
自動的に定数Ｌ（これは面板サイズに対する半径
方向の細分ΔＲの数であり、真の半径よりやや大
きい半径を設定して決める）、定数M₁〜Ｍ_o+1
（各領域（）、（）…………における半径方向
のΔＲの数）を設定する。これらのＬ、M₁〜Ｍ_o
_＋１は、面板サイズに対応して、事前に定められて
いて、マイコン７に記憶されている。なお、定数
Ｍ_o+1の添字ｎは、前記のとおり、面板を同心円
状に分割する数を決める数である。次に変数ｌ、m₁…………ｍ_o+1初期値（ゼロ）
を設定し、続いて割込要求（INT）が有るか否か
が判別され、割込要求があるとき、即ち第４図の
パルス修正回路１６の出力がマイコン７に与えら
れた場合は、前記したデータの読込み信号４０が
バツフアレジスタ３１に加えられてその内容がマ
イコン７内の一時記憶装置RAM(A)のエリアに取
り込まれ、このような動作が面板全体（ｌ＝Ｌ）
について行なわれる。ついで、各領域においては、円周方向の分割数
２^m、２^m-1…………に対して、欠陥情報を所定数
合算する。即ち、例えば第２図ｂに示す領域に
おいては、連続した2³＝８個の上記記憶データに
ついてすべて論理和をとることにより、この領域
の微小単位に対する欠陥情報とするのである。こ
のような論理和の演算がすべての領域ついて行な
われ、RAMの別のエリアRAM(B)に格納される。
ただし、最外周の領域（）については、前記し
たエツジ情報が含まれているので、微小単位毎に
エツジ情報の有無をチエツクし、もしこれがある
ときは、当該微小単位及びその外側にある微小単
位の欠陥情報をすべて０値にセツトする。このよ
うにすれば、印字過程で欠陥情報は出力表示され
ない。このようにしてまとめられた欠陥情報の図形表
示には、色別に打点できる出力装置が用いられ、
面板上の欠陥位置に対応した位置に、欠陥の大き
さ段階に応じた色別で打点される。欠陥無し（比
較電圧０〜V₁）に対しては打点しない。上記したマイコン７におけるデータ処理は極め
て簡易なもので、またフレキシビリテイに富んで
いるので、信号処理回路とともに任意の大きさの
面板に適用できるものである。なお、第４図の信号処理回路６、及び第５図の
マイコン７のデータ処理はいずれも一実施例であ
り、細部においては種々の変形が考えられるが、
回転方式の走査により得られる欠陥信号を、半径
Ｒ方向を２のべき数分の１の複数の領域に分け、
さらに一定の微小長ΔＲに細分し、かつ円周方向
を各領域毎に異なる２のべき数分の１に区分した
微小単位毎に最大の欠陥で代表し、その大きさ段
階を付して図形表示する方式のものである限り、
本発明に含まれるものである。以上述べた如く、本発明による面板欠陥検査デ
ータ処理方式においては、供試体たる面板の表面
を、面板で形成される円の径の1/2、1/2²、1/2³
…………の半径を有する同心円で囲まれた複数の
領域に区分し、各領域について、面板の外方にあ
る領域から順次２^m、２^m-1…………個の半径を以
て円周方向を等分し、かつ各領域ともに一定方向
の微小長さで半径方向に細分することにより得ら
れる扇形面を微小単位とし、供試面板の表面に存
在する欠陥に応じて光学的欠陥検出部より得られ
る欠陥信号を微小単位毎に区分し、かつ区分され
た欠陥信号が同一の微小単位内に１個以上あると
きは、欠陥信号のうち最大の尖頭値を有するもの
をとつて尖頭値の大きさにより適当数の大きさ段
階に区分された欠陥情報を作成し、該欠陥情報に
より、面板表面の欠陥の存在位置に対応した位置
に、欠陥の大きさを識別しうるように図形表示す
るようにしたので、面板の全域に亘つてほぼ均一
な微小単一な面積が得られ、かつ微小単位の設定
及びデータ処理がデイジタル演算に適しているた
め、信号処理回路及びコンピユータにおける処理
が簡易なものとなる。また、本発明により、ウエ
ハ面板などの製造管理上有効な欠陥のマクロ的な
表示がえられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による面板欠陥検査データ処理
方式に適用する光学式面板走査機構の外観略図、
第２図ａ，ｂは本発明による面板欠陥検査データ
処理方式における面板表面の分割方法の説明図、
第３図は本発明による面板欠陥検査データ処理方
式のシステムブロツク図、第４図は第３図におけ
る信号処理回路の一例を示す回路図、第５図は第
３図におけるマイクロコンピユータによるデータ
処理の一例を示すフロチヤートである。１……面板、２……面板回転機構、３……光学
式欠陥検出部、４……移動機構、５……光学式面
板走査機構、６……信号処理回路、７……マイク
ロコンピユータ、８……出力装置、９……シーケ
ンス制御回路、１０……エツジ検知センサー、１
１……ΔＲ区分信号の入力端子、１２，１２ａ…
…基準角度信号の入力端子、１３，１５，２２ａ
〜２２ｅ，２３ａ〜２３ｅ……フリツプフロツ
プ、１６……パルス修正回路、１７……欠陥信号
入力端子、１８，２１……基準電圧印加端子、１
９ａ，１９ｅ……比較器、２４……パルス発生
器、２５……パルス分割回路、２６……デコー
ダ、２９……シフトレジスタ、３１……バツフア
レジスタ。

Claims

【特許請求の範囲】１供試体たるウエハ面板等の面板の表面を、面
板で形成される円の半径の1/2、1/2²、…………
1/2ⁿ（ｎは自然数）の半径を有する同心円で囲ま
れた複数の領域に区分し、該各領域について、面
板の外方にある領域から順次２^m、２^m-1…………
２^m-k（ｍ、ｋは自然数でｍ≧ｋ）個の半径を以
て円周方向に等分し、かつ各領域ともに一定方向
の微小長さで半径方向に細分することにより得ら
れる扇形面を微小単位とし、供試面板の表面に存
在する欠陥に応じて光学的欠陥検出部より得られ
る欠陥信号を微小単位毎に区分し、かつ区分され
た欠陥信号が同一の微小単位内に１個以上あると
きは、欠陥信号のうち最大の尖頭値を有するもの
をとつて尖頭値の大きさにより適当数の大きさ段
階に区分された欠陥情報を作成し、該欠陥情報に
より、面板表面の欠陥の存在位置に対応した位置
に、欠陥の大きさを識別しうるように図形表示す
ることを特徴とする面板欠陥検査データ処理方
式。２特許請求の範囲第１項において、前記図形表
示を、欠陥の大きさ段階毎に異なる色で行なうこ
とを特徴とする面板欠陥検査データ処理方式。３特許請求範囲第１項において、供試体面板の
周辺部より生ずる欠陥信号に類似したエツジ信号
を欠陥信号より分離除去し、真の欠陥のみに対す
る欠陥情報を得ることを特徴とする面板欠陥検査
データ処理方式。